JPH02162347A - 感光材料処理装置 - Google Patents
感光材料処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、感光材料に湿式処理を施すための感光材料処
理装置に関する。
理装置に関する。
〈従来の技術〉
感光材料の湿式処理は、処理槽内に貯留されている処理
液(現像液、定着液、洗浄水等)中に感光材料を搬送し
て浸漬することにより行われる。
液(現像液、定着液、洗浄水等)中に感光材料を搬送し
て浸漬することにより行われる。
従来、このような処理を行う感光材料処理装置を用いて
感光材料を連続的に現像処理する場合、処理液の液面が
開放しているため、処理液が蒸発し、または、空気との
接触により液温の低下や酸化等の変質、劣化を生じると
いう問題がある。
感光材料を連続的に現像処理する場合、処理液の液面が
開放しているため、処理液が蒸発し、または、空気との
接触により液温の低下や酸化等の変質、劣化を生じると
いう問題がある。
処理液の蒸発が生じると、液面付近と処理槽底部での処
理液の濃度に差異が生じ、均一な現像を阻害するおそれ
があり、しかも処理液の滅少が著しくなるため、処理液
を余分に補給しなければならない。 さらに、蒸発した
処理液が処理装置の各所に付着して汚れの原因となり、
また、処理装置を設置した室内の環境に変化(例えば昇
温、昇温、悪臭放散)を与えるという欠点もある。
理液の濃度に差異が生じ、均一な現像を阻害するおそれ
があり、しかも処理液の滅少が著しくなるため、処理液
を余分に補給しなければならない。 さらに、蒸発した
処理液が処理装置の各所に付着して汚れの原因となり、
また、処理装置を設置した室内の環境に変化(例えば昇
温、昇温、悪臭放散)を与えるという欠点もある。
また、処理液が変質、劣化を生じれば、現像特性に悪影
響を及ぼすことは明らかである。
響を及ぼすことは明らかである。
特に、大気中の02ガス、COzガスの混入により現像
液のpHの変化が生じると、処理された感光材料は、濃
度、階調等の写真性が変化し不安定となる。
液のpHの変化が生じると、処理された感光材料は、濃
度、階調等の写真性が変化し不安定となる。
また、例えば処理液は適正な現像を行うために20〜6
0℃程度に保持される必要があるが、熱の放散が著しい
と、前記適正温度に保持するために多くの熱量を必要と
する。
0℃程度に保持される必要があるが、熱の放散が著しい
と、前記適正温度に保持するために多くの熱量を必要と
する。
そこで、このような処理液の蒸発、劣化等を防止するた
めに、処理槽の上部空間を実質的に密閉しうるカバーを
設置することが考えられる。
めに、処理槽の上部空間を実質的に密閉しうるカバーを
設置することが考えられる。
この場合、カバーで囲まれる空間の雰囲気は高温となる
ため、カバーの内側に結露し、凝集水による液滴(水滴
)が生じる。
ため、カバーの内側に結露し、凝集水による液滴(水滴
)が生じる。
しかるに、この液滴が搬送中の感光材料表面に落下する
と、その落下部分の乳剤層が膨潤し、または含浸した処
理液が液滴により希釈され、感光材料に処理ムラが生じ
る。
と、その落下部分の乳剤層が膨潤し、または含浸した処
理液が液滴により希釈され、感光材料に処理ムラが生じ
る。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、処
理液の蒸発、温度の低下および変質、劣化を防止すると
ともに、液滴の落下による感光材料の処理ムラを防止す
ることができる感光材料処理装置を提供することにある
。
理液の蒸発、温度の低下および変質、劣化を防止すると
ともに、液滴の落下による感光材料の処理ムラを防止す
ることができる感光材料処理装置を提供することにある
。
〈課題を解決するための手段〉
このような目的は、以下の本発明により達成される。
即ち、本発明は、処理液が入った処理槽内を感光材料を
所定経路で搬送して搬送する感光材料処理装置であって
、 前記処理槽の上部空間を含む空間を実質的に密閉しうる
カバーを設置するとともに、該カバーの内側に付着した
液滴が前記搬送経路と交差するような軌跡で落下するの
を防止する液滴落下防止手段を設けたことを特徴とする
感光材料処理装置である。
所定経路で搬送して搬送する感光材料処理装置であって
、 前記処理槽の上部空間を含む空間を実質的に密閉しうる
カバーを設置するとともに、該カバーの内側に付着した
液滴が前記搬送経路と交差するような軌跡で落下するの
を防止する液滴落下防止手段を設けたことを特徴とする
感光材料処理装置である。
また、感光材料の前記処理槽への搬入口および/または
搬出口に、これらを開閉しうるシャッター手段を設置し
た感光材料処理装置であるのが好ましい。
搬出口に、これらを開閉しうるシャッター手段を設置し
た感光材料処理装置であるのが好ましい。
〈作用〉
このような構成の感光材料処理装置によれば、処理液が
入った処理槽の上方に設置されたカバーにより、該処理
槽の上部空間を含む空間を外気より実質的に密閉するた
め、処理液からの水蒸気の蒸散や熱の放散が抑制され、
また処理液の酸化、劣化の原因となる外気中の02やC
O2の処理液への混入も阻止される。 さらに、カバー
に設けられた液滴落下防止手段により、感光材料の表面
に液滴が落下するのを防止し、処理ムラを防止する。
入った処理槽の上方に設置されたカバーにより、該処理
槽の上部空間を含む空間を外気より実質的に密閉するた
め、処理液からの水蒸気の蒸散や熱の放散が抑制され、
また処理液の酸化、劣化の原因となる外気中の02やC
O2の処理液への混入も阻止される。 さらに、カバー
に設けられた液滴落下防止手段により、感光材料の表面
に液滴が落下するのを防止し、処理ムラを防止する。
また、これら液滴を回収し、もとの処理槽に必要に応じ
てもどすことにより、蒸発による処方の変化を防止する
ことができる。
てもどすことにより、蒸発による処方の変化を防止する
ことができる。
〈実施例〉
以下、本発明の感光材料処理装置を、添付図面に示す好
適実施例について詳細に説明する。
適実施例について詳細に説明する。
第1図、第2図、第3図および第4図は、それぞれ本発
明の感光材料処理装置の構成例を示す断面図である。
なお、各図において、同様の部材は同符号を用い、また
同様の事項についてはその説明を省略する。
明の感光材料処理装置の構成例を示す断面図である。
なお、各図において、同様の部材は同符号を用い、また
同様の事項についてはその説明を省略する。
第1図に示すように、感光材料処理装置1aは、処理槽
の一例である現像槽2を有し、その内部に、感光材料S
を所定経路で搬送するための搬送手段5が設置された構
成となってぃる。
の一例である現像槽2を有し、その内部に、感光材料S
を所定経路で搬送するための搬送手段5が設置された構
成となってぃる。
現像槽2内には、現像機能を有する処理液としての現像
液20が、所定の液面レベルまで渦だされている。
液20が、所定の液面レベルまで渦だされている。
、搬送手段5は、以下に説明する搬送ローラ51、ガイ
ド53および反転ガイド54等で構成されている。
ド53および反転ガイド54等で構成されている。
現像槽2内には、感光材料をU字状(1ターン)に搬送
するような配置で対をなす搬送ローラ51が設置されて
おり、また、各搬送ローラ51間には、感光材料Sを搬
送経路の下流側にあるローラへ適正に誘導するためのガ
イド53.54が設置されている。
するような配置で対をなす搬送ローラ51が設置されて
おり、また、各搬送ローラ51間には、感光材料Sを搬
送経路の下流側にあるローラへ適正に誘導するためのガ
イド53.54が設置されている。
このうち、現像槽2の底部、搬入口65および搬出−6
6の近傍に設置された反転ガイド54は、円弧状の湾曲
面を有し、該湾曲面に沿って感光材料の進行方向を約9
0°または180°転換するガイドである。
6の近傍に設置された反転ガイド54は、円弧状の湾曲
面を有し、該湾曲面に沿って感光材料の進行方向を約9
0°または180°転換するガイドである。
搬送ローラ51は、現像液20に対する耐薬品性を有す
る材料として、例えば塩化ビニル、フェノール樹脂、ナ
イロン等のプラスチック、もしくは金属等で構成され、
これらの全部または一部が駆動回転して感光材料Sを挟
持、搬送するようになっている。
る材料として、例えば塩化ビニル、フェノール樹脂、ナ
イロン等のプラスチック、もしくは金属等で構成され、
これらの全部または一部が駆動回転して感光材料Sを挟
持、搬送するようになっている。
なお、各搬送ローラ51の駆動回転は、モータ、ギア等
で構成される所定の駆動系(図示せず)により行われる
。
で構成される所定の駆動系(図示せず)により行われる
。
第1図に示すように、現像槽2の上方には、現像槽2の
上部空間(または上部空間を含む空間)3を囲むカバー
6が設置されている。 このカバー6の図中左右の側壁
60.60の下端には、それぞれ嵌合部62.62が形
成され、これらの嵌合部62と現像槽2の左右槽壁の頂
部とが気密状態で嵌合することにより、上部空間3が、
実質的に密閉され、よって、現像液20の蒸発、液温の
低下、変質、劣化等が防止される。
上部空間(または上部空間を含む空間)3を囲むカバー
6が設置されている。 このカバー6の図中左右の側壁
60.60の下端には、それぞれ嵌合部62.62が形
成され、これらの嵌合部62と現像槽2の左右槽壁の頂
部とが気密状態で嵌合することにより、上部空間3が、
実質的に密閉され、よって、現像液20の蒸発、液温の
低下、変質、劣化等が防止される。
カバー6の図中左側の側壁60には、感光材料Sを現像
槽2内へ搬入するための搬入口65が形成され、一方、
図中右側の側壁60には、感光材料Sを現像槽2外へ搬
出するための搬出166が形成されている。 これら搬
入口65および搬出口66には、その開口を開閉しうる
シャッター手段7が設置されている。
槽2内へ搬入するための搬入口65が形成され、一方、
図中右側の側壁60には、感光材料Sを現像槽2外へ搬
出するための搬出166が形成されている。 これら搬
入口65および搬出口66には、その開口を開閉しうる
シャッター手段7が設置されている。
このシャッター手段の具体的な構成例を第5図〜第8図
に基づいて説明する。 なお、搬入口65側のシャッタ
ー手段について代表的に説明するが、搬出口66側につ
いても同様である。
に基づいて説明する。 なお、搬入口65側のシャッタ
ー手段について代表的に説明するが、搬出口66側につ
いても同様である。
第5図に示すシャッター手段7は、カバー6の搬入口6
5の内側に向って円弧状断面の溝650.650が対向
して形成され、これらの溝650内に円柱状(溝の径よ
り若干小径)の遮蔽部材70が回動可能に収納された構
成のものである。 この遮蔽部材70には感光材料Sが
通過するためのスリット71が形成されている。 この
スリット71の幅は、搬入口35の幅にほぼ等しいもの
とするのが好ましい。
5の内側に向って円弧状断面の溝650.650が対向
して形成され、これらの溝650内に円柱状(溝の径よ
り若干小径)の遮蔽部材70が回動可能に収納された構
成のものである。 この遮蔽部材70には感光材料Sが
通過するためのスリット71が形成されている。 この
スリット71の幅は、搬入口35の幅にほぼ等しいもの
とするのが好ましい。
遮蔽部材70は、通常はスリット71が搬入口65の感
光材料通過方向に対し所定角度θ傾斜した状態(第5図
中の点線で示す位置)で停止し、よって搬入口65を閉
止した状態となっている。 また、感光材料Sが搬入口
65を通過する際には、遮蔽部材70は、スリット71
が感光材料通過方向と平行になる状態まで回動しく第5
図中の実線で示す位置)、よって搬入口65が開放した
状態となり、感光材料Sの通過が可能となる。
光材料通過方向に対し所定角度θ傾斜した状態(第5図
中の点線で示す位置)で停止し、よって搬入口65を閉
止した状態となっている。 また、感光材料Sが搬入口
65を通過する際には、遮蔽部材70は、スリット71
が感光材料通過方向と平行になる状態まで回動しく第5
図中の実線で示す位置)、よって搬入口65が開放した
状態となり、感光材料Sの通過が可能となる。
このような遮蔽部材70の回動は、第6図に示す駆動手
段73により行われる。 遮蔽部材70の回転軸72の
一端は、駆動源であるロータリーソレノイド74のロー
ター回転軸に連結されている。
段73により行われる。 遮蔽部材70の回転軸72の
一端は、駆動源であるロータリーソレノイド74のロー
ター回転軸に連結されている。
ロータリーソレノイド74の端子はリレースイッチ75
を介して電源76に接続されている。 また、搬入−6
5の近傍には感光材料Sの存在を検出するセンサー(例
えば、タッチリミットスイッチ)77が設置され、該セ
ンサー77はマイクロコンピュータ等を内蔵する制御部
78に接続されている。 この制御部78はリレースイ
ッチ75とも接続されている。
を介して電源76に接続されている。 また、搬入−6
5の近傍には感光材料Sの存在を検出するセンサー(例
えば、タッチリミットスイッチ)77が設置され、該セ
ンサー77はマイクロコンピュータ等を内蔵する制御部
78に接続されている。 この制御部78はリレースイ
ッチ75とも接続されている。
ロータリーソレノイド74は、通電時には内部のロータ
ーが所定角度、即ち前記スリット71の傾斜角θだけ回
動してその状態を維持しつづけ(搬入口65が開放状態
)、切電すると元の位置(搬入口65が閉止状態)に復
帰するよう作動するものである。
ーが所定角度、即ち前記スリット71の傾斜角θだけ回
動してその状態を維持しつづけ(搬入口65が開放状態
)、切電すると元の位置(搬入口65が閉止状態)に復
帰するよう作動するものである。
センサー77により感光材料Sの存在(搬入口65への
接近)が検出されているときには、制御部78によりリ
レースイッチ75がONとなるように制御し、これによ
りロータリーソレノイド74に通電されて遮蔽部材7o
が第5図の実線で示す状態となり、搬入口65が開放す
る。 逆にセンサー77により感光材料Sの存在が検出
されていないときには、制御部78によりリレースイッ
チ75がOFFとなるように制御し、これによりロータ
リーソレノイド74は切電されて遮蔽部材7oが第5図
の点線で示す状態となり、搬入口65が閉止する。
接近)が検出されているときには、制御部78によりリ
レースイッチ75がONとなるように制御し、これによ
りロータリーソレノイド74に通電されて遮蔽部材7o
が第5図の実線で示す状態となり、搬入口65が開放す
る。 逆にセンサー77により感光材料Sの存在が検出
されていないときには、制御部78によりリレースイッ
チ75がOFFとなるように制御し、これによりロータ
リーソレノイド74は切電されて遮蔽部材7oが第5図
の点線で示す状態となり、搬入口65が閉止する。
このような構成とすることにより、感光材料Sの搬送と
シャッター手段7による搬入口65の開閉を同期的に行
うことができる。
シャッター手段7による搬入口65の開閉を同期的に行
うことができる。
なお、遮蔽部材70を回動させるための駆動手段と前述
した感光材料搬送用の駆動系を共用した構成のものでも
よい。
した感光材料搬送用の駆動系を共用した構成のものでも
よい。
第7図は、遮蔽部材を回動するための駆動手段73を必
要としないシャッター手段の構成例を示す。
要としないシャッター手段の構成例を示す。
同図に示すシャッター手段8は、カバー6の搬入口65
の内側に向って円弧状断面の溝651が形成されており
、この溝651内には、断面がほぼ半円形(溝の径より
若干小径)の遮蔽部材80が収納された構成のものであ
る。 この遮蔽部材80は、回転軸81を有し、この回
転軸81の両端は、それぞれ軸受(図示せず)を介して
カバー6に軸支され、これにより遮蔽部材8oが溝65
1内で回動し得るようになっている。
の内側に向って円弧状断面の溝651が形成されており
、この溝651内には、断面がほぼ半円形(溝の径より
若干小径)の遮蔽部材80が収納された構成のものであ
る。 この遮蔽部材80は、回転軸81を有し、この回
転軸81の両端は、それぞれ軸受(図示せず)を介して
カバー6に軸支され、これにより遮蔽部材8oが溝65
1内で回動し得るようになっている。
遮蔽部材80は自由に回動することが可能となっており
、通常(感光材料Sの非通過時)はストッパ一部68に
当接した状態(第7図中の実線で示す位置)で停止し、
よって搬入口65を閉止した状態となっている。
、通常(感光材料Sの非通過時)はストッパ一部68に
当接した状態(第7図中の実線で示す位置)で停止し、
よって搬入口65を閉止した状態となっている。
また、図中矢印方向へ進行する感光材料Sが搬入口65
を通過する際には、遮蔽部材8゜は、その感光材料Sに
押圧されて図中反時計回りに所定角度回動しく第7図中
の点線で示す位置)、よって搬入口65が開放した状態
となり、感光材料Sの通過が可能となる。
を通過する際には、遮蔽部材8゜は、その感光材料Sに
押圧されて図中反時計回りに所定角度回動しく第7図中
の点線で示す位置)、よって搬入口65が開放した状態
となり、感光材料Sの通過が可能となる。
なお、カバー6の搬入口65付近には、感光材料Sを導
入し易いようにするためのテーパを設け、または、その
他のガイド等(図示せず)を設けておくのがよい。
入し易いようにするためのテーパを設け、または、その
他のガイド等(図示せず)を設けておくのがよい。
遮蔽部材80を回動させる手段、特に感光材料の非通過
時に遮蔽部材80をストッパ一部68に当接した状態に
維持しておく手段としては、遮蔽部材80の回転軸81
の一端部にアーム82を固着し、該アーム82の先端に
重り83を取り付けた構造とし、これにより回転軸81
に図中時計回りのトルクを与え、遮蔽部材80の平坦面
端部をストッパ一部68に当接、密着させる。
時に遮蔽部材80をストッパ一部68に当接した状態に
維持しておく手段としては、遮蔽部材80の回転軸81
の一端部にアーム82を固着し、該アーム82の先端に
重り83を取り付けた構造とし、これにより回転軸81
に図中時計回りのトルクを与え、遮蔽部材80の平坦面
端部をストッパ一部68に当接、密着させる。
感光材料Sが搬入口65を通過する際には、感光材料S
の押圧により回転軸81に付与されたトルクに抗して遮
蔽部材80が図中反時計回りに回動し、搬入口65が開
放する。
の押圧により回転軸81に付与されたトルクに抗して遮
蔽部材80が図中反時計回りに回動し、搬入口65が開
放する。
感光材料Sが搬入口65を通過した後は、回転軸81に
付与された重り83によるトルクにより、再び遮蔽部材
80が図中時計回りに回動し、ストッパ一部68に当接
して搬入口65が閉止される。
付与された重り83によるトルクにより、再び遮蔽部材
80が図中時計回りに回動し、ストッパ一部68に当接
して搬入口65が閉止される。
なお、遮蔽部材80を回動させる手段は、上記構成に限
らず、バネ等の付勢手段により回転軸81に回転力を与
えるような構成としてもよい。
らず、バネ等の付勢手段により回転軸81に回転力を与
えるような構成としてもよい。
第8図は、変形可能な遮蔽部材で構成されたシャッター
手段9を示す。 同図に示すように、カバー6に形成さ
れた搬入口65には、この搬入口の長さ(感光材料Sの
幅方向の長さ)とほぼ等しい長さを有する一対の遮蔽部
材90.90が装着されている。
手段9を示す。 同図に示すように、カバー6に形成さ
れた搬入口65には、この搬入口の長さ(感光材料Sの
幅方向の長さ)とほぼ等しい長さを有する一対の遮蔽部
材90.90が装着されている。
遮蔽部材90は、実質的に変形しないフランジ部91と
、先端へ向って厚さが漸減し、感光材料Sの進入によっ
て容易に変形可能な薄肉部92とで構成され、遮蔽部材
90は、そのフランジ部91にて例えばボルト93等の
固定具により搬入口65の対向する両縁部69.69に
取り付けられている。
、先端へ向って厚さが漸減し、感光材料Sの進入によっ
て容易に変形可能な薄肉部92とで構成され、遮蔽部材
90は、そのフランジ部91にて例えばボルト93等の
固定具により搬入口65の対向する両縁部69.69に
取り付けられている。
この遮蔽部材90は、例えばNR,lR1SBR,BR
,CR,NBR,NIR。
,CR,NBR,NIR。
NBIRのようなジエン系ゴム、IIRlEPM、EP
DM、U、Q、CM等の非ジエン系ゴム等の各種ゴム、
フッソ樹脂、シリコーン樹脂、テフロン等の軟質樹脂等
の弾性材料(エラストマー)、またはこれらのうち2以
上を組み合せたもので構成されており、感光材料Sの非
搬送時には、薄肉部92の先端部同士が密着し、搬入口
65を遮蔽する。 なお、通常、薄肉部92同士の密着
力は、薄肉部の弾性力により与えられているが、薄肉部
92内に磁性材料を配合しく例えば、ゴム磁石のような
もの)、薄肉部同士を吸引させて密着力を与え、または
高めることも可能である。
DM、U、Q、CM等の非ジエン系ゴム等の各種ゴム、
フッソ樹脂、シリコーン樹脂、テフロン等の軟質樹脂等
の弾性材料(エラストマー)、またはこれらのうち2以
上を組み合せたもので構成されており、感光材料Sの非
搬送時には、薄肉部92の先端部同士が密着し、搬入口
65を遮蔽する。 なお、通常、薄肉部92同士の密着
力は、薄肉部の弾性力により与えられているが、薄肉部
92内に磁性材料を配合しく例えば、ゴム磁石のような
もの)、薄肉部同士を吸引させて密着力を与え、または
高めることも可能である。
第8図に示すように、感光材料Sが搬入口65を通過す
る際には、感光材料Sが遮蔽部材90.90の薄肉部9
2.92間に進入し、密着していた薄肉部92.92が
感光材料Sの厚さ分だけ押し広げられる。 この状態で
感光材料Sは、その両面が薄肉部92.92の内側面に
接触しつつ図中矢印方向へ通過する。 このとき、感光
材料Sは、その両薄肉部の内側面に接触しつつ通過する
ため、感光材料の通過中においても、搬入口65を界い
に空間3と外部とが連通せず、よって、処理液の蒸発、
温度低下および変質、劣化を防止する効果が高い。 な
お、感光材料Sの乳剤面は、薄肉部92との摺動による
もキズ付き等の悪影響はほとんど生じないが、これが無
視できない場合、または、摺動抵抗の減少を図る場合に
は、薄肉部92の内側面に平滑化処理を施し、または内
側面にシリコーン、テフロン等の潤滑剤をコーティング
する等の表面処理を施すことで対応すればよい。
る際には、感光材料Sが遮蔽部材90.90の薄肉部9
2.92間に進入し、密着していた薄肉部92.92が
感光材料Sの厚さ分だけ押し広げられる。 この状態で
感光材料Sは、その両面が薄肉部92.92の内側面に
接触しつつ図中矢印方向へ通過する。 このとき、感光
材料Sは、その両薄肉部の内側面に接触しつつ通過する
ため、感光材料の通過中においても、搬入口65を界い
に空間3と外部とが連通せず、よって、処理液の蒸発、
温度低下および変質、劣化を防止する効果が高い。 な
お、感光材料Sの乳剤面は、薄肉部92との摺動による
もキズ付き等の悪影響はほとんど生じないが、これが無
視できない場合、または、摺動抵抗の減少を図る場合に
は、薄肉部92の内側面に平滑化処理を施し、または内
側面にシリコーン、テフロン等の潤滑剤をコーティング
する等の表面処理を施すことで対応すればよい。
感光材料Sが搬入口65を通過した後は、遮蔽部材90
は元の状態に復帰し、薄肉部材92同士が密着して、再
び搬入口65を遮蔽する。
は元の状態に復帰し、薄肉部材92同士が密着して、再
び搬入口65を遮蔽する。
なお、図示の構成例では、搬入口65に対し対の遮蔽部
材90を装着した構成となっているが、本発明では搬入
口65に対し感光材料Sの進行方向に沿って二対以上の
遮蔽部材を多段に設置することもできる。 この場合に
は、搬入口65の遮蔽効果が増す。
材90を装着した構成となっているが、本発明では搬入
口65に対し感光材料Sの進行方向に沿って二対以上の
遮蔽部材を多段に設置することもできる。 この場合に
は、搬入口65の遮蔽効果が増す。
なお、第7図および第8図に示すシャッター手段は、第
5図のものと比べ、遮蔽部材を回動するための駆動源や
その制御手段等が不要であるため、装置の構造をより簡
素化することができる。
5図のものと比べ、遮蔽部材を回動するための駆動源や
その制御手段等が不要であるため、装置の構造をより簡
素化することができる。
なお、シャッター手段の構成は、上述したものに限定さ
れないことは言うまでもない。 また、本発明では、シ
ャッター手段の設置は必須ではない。 ただし、シャッ
ター手段を設置しない場合には、処理液の蒸発等を防止
するために、搬入口65を狭幅のスリット状とする等、
搬入口65の開口面積を可能な限り小さ(する必要があ
る。
れないことは言うまでもない。 また、本発明では、シ
ャッター手段の設置は必須ではない。 ただし、シャッ
ター手段を設置しない場合には、処理液の蒸発等を防止
するために、搬入口65を狭幅のスリット状とする等、
搬入口65の開口面積を可能な限り小さ(する必要があ
る。
上述のごときシャッター手段7.8または9を設置した
としても、上部空間3は完全に密閉されるわけではない
。
としても、上部空間3は完全に密閉されるわけではない
。
そこで、本発明では、上部空間3の密閉度を次のように
するのが好ましい。
するのが好ましい。
カバー6により囲まれる空間(上部空間3)の体積をV
、その空間と外部とが連通ずる部分(主に搬入口65お
よび搬出口66)の実質開口面積をSとしたとき、その
空間の密閉度S (cm2)/V (cm”)は、S
(cm2)/V (cm3)≦0.060、より好まし
くはO≦S (cm21/V (cm3)≦0.006
とする。
、その空間と外部とが連通ずる部分(主に搬入口65お
よび搬出口66)の実質開口面積をSとしたとき、その
空間の密閉度S (cm2)/V (cm”)は、S
(cm2)/V (cm3)≦0.060、より好まし
くはO≦S (cm21/V (cm3)≦0.006
とする。
また観点を変えれば、カバー6により囲まれる空間(上
部空間3)の密閉度は、その空間の処理体止時における
1時間当りの空気交換率が、250X100%以下、よ
り好ましくは0〜10×100%とする。
部空間3)の密閉度は、その空間の処理体止時における
1時間当りの空気交換率が、250X100%以下、よ
り好ましくは0〜10×100%とする。
密閉度を上記いずれかの範囲とすることにより、処理液
の蒸発、劣化防止等の効果を十分に得ることができる。
の蒸発、劣化防止等の効果を十分に得ることができる。
さて、カバー6には、該カバーの内側にイ」着しだ液滴
が感光材料Sの搬送経路と交差するような軌跡で落下す
るのを防止する機能を有する液滴落下防止手段が設けら
れている。 以下、その構成について説明する。
が感光材料Sの搬送経路と交差するような軌跡で落下す
るのを防止する機能を有する液滴落下防止手段が設けら
れている。 以下、その構成について説明する。
第1図に示すように、カバー6の上部は、両側壁60.
60の上端より延長された傾斜部63.63による逆v
字状の屋根で構成されている。
60の上端より延長された傾斜部63.63による逆v
字状の屋根で構成されている。
なお、傾斜部63の傾斜角度θが小さすぎると、液滴が
傾斜部63の内面に沿って流れている途中で落下するこ
とがあり、また傾斜角度θが大きすぎると、処理槽の寸
法によってはカバー頂部の高さが高くなり装置が大型化
する傾向となる。 従って、傾斜部63の傾斜角度θは
、通常、15°〜85°程度とするのが好ましい。 た
だし、傾斜角度θはこの範囲に限定されるものではなく
、次のような条件により、その好適な範囲は変動しうる
。
傾斜部63の内面に沿って流れている途中で落下するこ
とがあり、また傾斜角度θが大きすぎると、処理槽の寸
法によってはカバー頂部の高さが高くなり装置が大型化
する傾向となる。 従って、傾斜部63の傾斜角度θは
、通常、15°〜85°程度とするのが好ましい。 た
だし、傾斜角度θはこの範囲に限定されるものではなく
、次のような条件により、その好適な範囲は変動しうる
。
凝集水による液滴が傾斜部63の内面に沿って円滑に流
れるようにするために、傾斜部63の内面に例えば親水
化処理または撥水化処理のような表面処理を施すことが
でき、この場合には、上記傾斜角度θの好適な範囲、特
に下限値は変動する。
れるようにするために、傾斜部63の内面に例えば親水
化処理または撥水化処理のような表面処理を施すことが
でき、この場合には、上記傾斜角度θの好適な範囲、特
に下限値は変動する。
また、処理液の蒸発量、上部空間3と外気との温度差等
によって傾斜部63の内面への液滴の付着量が増減する
ので、これらの条件によっても上記傾斜角度θの好適な
範囲は変動する。
によって傾斜部63の内面への液滴の付着量が増減する
ので、これらの条件によっても上記傾斜角度θの好適な
範囲は変動する。
両傾斜部63.63の下端(=l近であって、搬入口6
5および搬出口66の上方には、いわゆる樋のような液
滴受け4.4が設置されている。
5および搬出口66の上方には、いわゆる樋のような液
滴受け4.4が設置されている。
液滴受け4には、排液管41の一端が接続され、液滴受
け4内に流入した液体を現像槽2の外部等へ排出するよ
うになっている。
け4内に流入した液体を現像槽2の外部等へ排出するよ
うになっている。
上部空間3は、カバー6により密閉されているため、そ
の雰囲気は、湿度が高い状態となっている。 そのため
、外気との温度差により傾斜部63の内側に結露し、凝
集水による液滴が生じる。 この液滴は、傾斜部63の
内面に沿って流下し、傾斜部63の下端へ達した後、液
滴受け4内に流入する。 そして、液滴受け4内に溜っ
た液体は、排液管41を通じて外部へ排出される。 な
お、排液管4を迂回させ、その他端を現像液20内に入
れ、液滴受け4内に溜った液体を現像液2o内へ戻すよ
うな構成としてもよい。
の雰囲気は、湿度が高い状態となっている。 そのため
、外気との温度差により傾斜部63の内側に結露し、凝
集水による液滴が生じる。 この液滴は、傾斜部63の
内面に沿って流下し、傾斜部63の下端へ達した後、液
滴受け4内に流入する。 そして、液滴受け4内に溜っ
た液体は、排液管41を通じて外部へ排出される。 な
お、排液管4を迂回させ、その他端を現像液20内に入
れ、液滴受け4内に溜った液体を現像液2o内へ戻すよ
うな構成としてもよい。
このように、液滴の流下は、液滴受け4により搬入口6
5および搬出口66の上方で阻止されるため、その流下
経路は感光材料Sの搬送経路と交差しない。
5および搬出口66の上方で阻止されるため、その流下
経路は感光材料Sの搬送経路と交差しない。
第2図に示す感光材料処理装置1bは、前記感光材料処
理装置1aとカバー上部の構造が異なっている。 即ち
、カバー6の上部は、湾曲部64によるアーチ状の屋根
で構成されている。
理装置1aとカバー上部の構造が異なっている。 即ち
、カバー6の上部は、湾曲部64によるアーチ状の屋根
で構成されている。
この場合にも、湾曲部64の内側に生じた液滴は、その
湾曲面に沿って流下し、湾曲部64の下端へ達した後、
液滴受け4内に流入し、前記と同様に外部へ排出される
かまたは現像液20内へ戻される。
湾曲面に沿って流下し、湾曲部64の下端へ達した後、
液滴受け4内に流入し、前記と同様に外部へ排出される
かまたは現像液20内へ戻される。
第3図は、本発明の感光材料処理装置の他の構成例を示
す断面側面図である。 同図に示す感光材料処理装置1
cは、そのカバー6の上部が感光材料の幅方向(図中左
右方向)に傾斜する傾斜部67.67による逆V字状の
屋根で構成されている。
す断面側面図である。 同図に示す感光材料処理装置1
cは、そのカバー6の上部が感光材料の幅方向(図中左
右方向)に傾斜する傾斜部67.67による逆V字状の
屋根で構成されている。
この場合傾斜部67の内側に生じた液滴は、傾斜部67
の内面に沿って流下し、傾斜部67の下端へ達した後、
さらにカバー6の側壁61の内面および現像槽2の槽壁
21の内面に沿って流下し、現像液20内へ戻される。
の内面に沿って流下し、傾斜部67の下端へ達した後、
さらにカバー6の側壁61の内面および現像槽2の槽壁
21の内面に沿って流下し、現像液20内へ戻される。
従って、液滴は、感光材料Sの幅方向端部の両脇を通っ
て流下するため、その流下経路は、感光材料Sの搬送経
路と交差しない。
て流下するため、その流下経路は、感光材料Sの搬送経
路と交差しない。
このような感光材料処理装置ICでは、前記液滴受け4
および排液管41の設置を必要としないため、構造の簡
素化が図れるという利点がある。
および排液管41の設置を必要としないため、構造の簡
素化が図れるという利点がある。
第1図〜第3図に示す構成例は、現像槽単独によるもの
であるが、本発明では、処理槽の構成、用途、配置、設
置数等は、これらに限定されない。
であるが、本発明では、処理槽の構成、用途、配置、設
置数等は、これらに限定されない。
例えば、処理槽は、現像槽の他に、漂白槽、定着槽、漂
白・定着槽、洗浄槽、安定化槽、反転槽または水洗槽と
して使用することができ、また、これらのうち適宜のも
のを適宜数組み合せたものも可能である。
白・定着槽、洗浄槽、安定化槽、反転槽または水洗槽と
して使用することができ、また、これらのうち適宜のも
のを適宜数組み合せたものも可能である。
例えば、第4図に示す感光材料処理装置1dは、現像槽
2、定着槽(または漂白・定着槽)10および水洗槽1
5がこの順に並設され、これら各処理槽の内部および外
部に、搬送手段5°が設置された構成となっている。
2、定着槽(または漂白・定着槽)10および水洗槽1
5がこの順に並設され、これら各処理槽の内部および外
部に、搬送手段5°が設置された構成となっている。
現像槽2内には、現像液20が、定着槽10内には、定
着機能を有する処理液としての定着液(または漂白・定
着液)10が、水洗槽15内には、洗浄機能を有する処
理液としての洗浄水150がそれぞれ所定の液面レベル
まで満たされている。
着機能を有する処理液としての定着液(または漂白・定
着液)10が、水洗槽15内には、洗浄機能を有する処
理液としての洗浄水150がそれぞれ所定の液面レベル
まで満たされている。
搬送手段5°は、隣接する処理槽2.10問および10
.15間にそれぞれ対をなすクロスオーバローラ52が
設置されている以外は前記搬送手段5とほぼ同様である
。
.15間にそれぞれ対をなすクロスオーバローラ52が
設置されている以外は前記搬送手段5とほぼ同様である
。
現像槽2の上方には、現像槽2の上部空間を含む空間3
°を囲むカバー6°が設置されている。 カバー〇゛の
上部は、前記と同様の傾斜部63で構成されている。
°を囲むカバー6°が設置されている。 カバー〇゛の
上部は、前記と同様の傾斜部63で構成されている。
また、カバー6°の図中右端は、定着槽10の中央部付
近まで延長され、その下方へ延びる側壁60の下端は定
着液100の液面下に没入している。 これにより、空
間3゛は、実質的に密閉され、処理液、特に現像液20
の蒸発、劣化等が防止される。 なお、このような構成
では、搬出口66が存在しないため、空間3′の密閉度
を高くすることができる。
近まで延長され、その下方へ延びる側壁60の下端は定
着液100の液面下に没入している。 これにより、空
間3゛は、実質的に密閉され、処理液、特に現像液20
の蒸発、劣化等が防止される。 なお、このような構成
では、搬出口66が存在しないため、空間3′の密閉度
を高くすることができる。
このような構成の感光材料処理装置1dでは、図中左側
の傾斜部63の内側に生じた液滴は、その傾斜部の内面
に沿って流下し、液滴受け4および排液管41を経て外
部へ排出されるかまたは処理槽内へ戻される。 図中右
側の傾斜部63の内側に生じた液滴は、その傾斜部の内
面および側壁60の内面に沿って順次流下し、定着液1
00内へ導入される。
の傾斜部63の内側に生じた液滴は、その傾斜部の内面
に沿って流下し、液滴受け4および排液管41を経て外
部へ排出されるかまたは処理槽内へ戻される。 図中右
側の傾斜部63の内側に生じた液滴は、その傾斜部の内
面および側壁60の内面に沿って順次流下し、定着液1
00内へ導入される。
本発明の感光材料処理装置において、使用される処理液
の具体例としては、次のようなものが挙げられる。
の具体例としては、次のようなものが挙げられる。
現像液は、カラー用、黒白用のいずれでもよい。
黒白現像液としては、ジヒドロキシベンゼン類(例えば
ハイドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例
えばN−メチル−p−アミノフェノール)等の現像主薬
を単独あるいは組合わせて用いることができる。
ハイドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例
えばN−メチル−p−アミノフェノール)等の現像主薬
を単独あるいは組合わせて用いることができる。
黒白現像処理の中でも、本発明の処理装置は米国特許筒
4,224,401号、同第4゜168.977号、同
第4,166.742号、同第4,311,781号、
同第4,272.606号、同第4,211,857号
、同第4,243,739号等に記載されているヒドラ
ジン誘導体を用いて超硬調の画像を得る方法に適用する
のが特に好適である。
4,224,401号、同第4゜168.977号、同
第4,166.742号、同第4,311,781号、
同第4,272.606号、同第4,211,857号
、同第4,243,739号等に記載されているヒドラ
ジン誘導体を用いて超硬調の画像を得る方法に適用する
のが特に好適である。
この超硬調画像形成方法においては、現像主薬としてジ
ヒドロキシベンゼン系現像主薬を用い、補助現像主薬と
してp−アミノフェノール系現像主薬または3−ピラゾ
リドン系現像主薬を用いるのが好ましい。
ヒドロキシベンゼン系現像主薬を用い、補助現像主薬と
してp−アミノフェノール系現像主薬または3−ピラゾ
リドン系現像主薬を用いるのが好ましい。
ジヒドロキシベンゼン系現像主薬は、通常0.05〜0
.8モル/Cの量で用いられるのが好ましい。 また、
ジヒドロキシベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリ
ドン類またはpアミノ−フェノール類との組合わせを用
いる場合には、前者を0.05〜0.5モル/℃、後者
を0.06モル712以下の量で用いるのが好ましい。
.8モル/Cの量で用いられるのが好ましい。 また、
ジヒドロキシベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリ
ドン類またはpアミノ−フェノール類との組合わせを用
いる場合には、前者を0.05〜0.5モル/℃、後者
を0.06モル712以下の量で用いるのが好ましい。
上記超硬調画像形成方法に用いられる現像液の特長の1
つは、従来のリス現像液に比べて多量の亜硫酸塩保恒剤
の添加を許容しうることである。
つは、従来のリス現像液に比べて多量の亜硫酸塩保恒剤
の添加を許容しうることである。
亜硫酸塩保恒剤としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カ
リウム、亜硫酸リチウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重
亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム
等がある。 亜硫酸塩は03モル/β以上用いられるが
、余りに多量添加すると現像液中で沈殿して酸汚染を引
き起こすので、上限は1.2モル/f2とするのが好ま
しい。
リウム、亜硫酸リチウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重
亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム
等がある。 亜硫酸塩は03モル/β以上用いられるが
、余りに多量添加すると現像液中で沈殿して酸汚染を引
き起こすので、上限は1.2モル/f2とするのが好ま
しい。
また、この現像液には現像促進剤として第一級アミン化
合物、特に米国特許筒4.269929号に記載の化合
物を含有することができる。
合物、特に米国特許筒4.269929号に記載の化合
物を含有することができる。
現像液にはその他、ホウ酸、ホウ砂、第三リン酸ナトリ
ウム、第三リン酸カリウムの如きpH緩衝剤、それ以外
に特開昭60−93433号に記載のpH緩衝剤を用い
ることができる。
ウム、第三リン酸カリウムの如きpH緩衝剤、それ以外
に特開昭60−93433号に記載のpH緩衝剤を用い
ることができる。
臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ、
ヘキシレングリコール、エタノール、メタノールの如き
有機溶剤、5−ニトロインダゾール等のインダゾール系
化合物、2−メルカプトベンツイミダゾルー5−スルホ
ン酸ナトリウム、5−メチルベンツトリアゾールなどの
ベンツトリアゾール系化合物等のカブリ防止剤ないしは
黒ボッ(blackpepper)防止剤、を含んでも
よく、特に5−ニトロインダゾール等の化合物を用いる
ときは、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬や亜硫酸塩保
恒剤を含む部分とは別の部分にあらかじめ溶解しておき
使用時に画部分を混合して水を加えること等が一般的で
ある。 さらに、5−ニトロインダゾールの溶解せしめ
る部分をアルカリ性にしておくと黄色く着色し取扱い等
に便利である。
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ、
ヘキシレングリコール、エタノール、メタノールの如き
有機溶剤、5−ニトロインダゾール等のインダゾール系
化合物、2−メルカプトベンツイミダゾルー5−スルホ
ン酸ナトリウム、5−メチルベンツトリアゾールなどの
ベンツトリアゾール系化合物等のカブリ防止剤ないしは
黒ボッ(blackpepper)防止剤、を含んでも
よく、特に5−ニトロインダゾール等の化合物を用いる
ときは、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬や亜硫酸塩保
恒剤を含む部分とは別の部分にあらかじめ溶解しておき
使用時に画部分を混合して水を加えること等が一般的で
ある。 さらに、5−ニトロインダゾールの溶解せしめ
る部分をアルカリ性にしておくと黄色く着色し取扱い等
に便利である。
さらに、必要に応じて色調剤、界面活性剤、硬水軟化剤
、硬膜剤などを含んでもよい。 現像液のpHとしては
、好ましくはpH9,5以上の高pHのもの、より好ま
しくは10〜12.3である。
、硬膜剤などを含んでもよい。 現像液のpHとしては
、好ましくはpH9,5以上の高pHのもの、より好ま
しくは10〜12.3である。
定着液としては、一般に用いられている組成のものを用
いることができる。 定着剤としては、チオ硫酸塩、チ
オシアン酸塩の他、定着剤としての効果が知られている
有機硫黄化合物を用いることができる。 定着液には硬
膜剤として水溶性アルミニウム塩、例えば硫酸アルミニ
ウム、明パンなどを含んでもよい。 ここで水溶性アル
ミニウム塩の量としては通常0〜3.0gAβ/I2で
ある。 また酸化剤としてエチレンジアミン四酢酸Fe
(Ill)錯塩を用いてもよい。
いることができる。 定着剤としては、チオ硫酸塩、チ
オシアン酸塩の他、定着剤としての効果が知られている
有機硫黄化合物を用いることができる。 定着液には硬
膜剤として水溶性アルミニウム塩、例えば硫酸アルミニ
ウム、明パンなどを含んでもよい。 ここで水溶性アル
ミニウム塩の量としては通常0〜3.0gAβ/I2で
ある。 また酸化剤としてエチレンジアミン四酢酸Fe
(Ill)錯塩を用いてもよい。
カラー現像液は、一般に、発色現像主薬な含むアルカリ
性水溶液から構成される。
性水溶液から構成される。
発色現像主薬は一級芳香族アミン現像剤、例えばフェニ
レンジアミン類(例えば4−アミノ−N、N−ジエチル
アニリン、3−メチル4−アミノ−N、N−ジエチルア
ニリン、4アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキシエ
チルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル−
N−β−ヒドロキシエチルアニリン、3−メチル−4−
アミノ−N−エチル−N−β−メタンスルホンアミドエ
チルアニリン、4−アミノ−3−メチル−N−エチル−
Nβ−メトキシエチルアニリン等)を用いることができ
る。
レンジアミン類(例えば4−アミノ−N、N−ジエチル
アニリン、3−メチル4−アミノ−N、N−ジエチルア
ニリン、4アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキシエ
チルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル−
N−β−ヒドロキシエチルアニリン、3−メチル−4−
アミノ−N−エチル−N−β−メタンスルホンアミドエ
チルアニリン、4−アミノ−3−メチル−N−エチル−
Nβ−メトキシエチルアニリン等)を用いることができ
る。
発色現像液は、そのほかpH緩衝剤、現像抑制剤ないし
カブリ防止剤等を含むことができる。
カブリ防止剤等を含むことができる。
また必要に応じて、硬水軟化剤、保恒剤、有機溶剤、現
像促進剤、色素形成カプラー、競争カプラー、かぶらせ
剤、補助現像薬、粘性付与剤、ポリカルボン酸系キレー
ト剤、酸化防止剤、アルカリ剤、溶解助剤、界面活性剤
、消泡剤等を含んでいてもよい。
像促進剤、色素形成カプラー、競争カプラー、かぶらせ
剤、補助現像薬、粘性付与剤、ポリカルボン酸系キレー
ト剤、酸化防止剤、アルカリ剤、溶解助剤、界面活性剤
、消泡剤等を含んでいてもよい。
漂白液としては、漂白剤として、ポリカルボン酸の鉄塩
、赤血塩、ブロメート化合物、コバルトへキサミン等を
含むものが挙げられる。
、赤血塩、ブロメート化合物、コバルトへキサミン等を
含むものが挙げられる。
これらのうちフェリシアン化カリ、エヂレンジアミン四
酢酸鉄(III )ナトリウムおよびエヂレンジアミン
四酢酸鉄(Ill )アンモニウムは特に有用である。
酢酸鉄(III )ナトリウムおよびエヂレンジアミン
四酢酸鉄(Ill )アンモニウムは特に有用である。
また、上記漂白剤および定着剤の双方を含む漂白・定着
液とすることもできる。
液とすることもできる。
定着液(漂白・定着液)には、定着剤の他に、通常、亜
硫酸ナトリウム等の保恒剤、酸剤、緩衝剤、硬膜剤など
の定着助剤を含有させることができる。
硫酸ナトリウム等の保恒剤、酸剤、緩衝剤、硬膜剤など
の定着助剤を含有させることができる。
また、漂白液(漂白・定着液)には、米国特許筒3,0
42,520号、同第3,241゜966号、特公昭4
5−8506号、特公昭45−8636号などに記載の
漂白促進剤、特開昭53−65732号に記載のチオー
ル化合物の他、種々の添加剤を加えることもできる。
42,520号、同第3,241゜966号、特公昭4
5−8506号、特公昭45−8636号などに記載の
漂白促進剤、特開昭53−65732号に記載のチオー
ル化合物の他、種々の添加剤を加えることもできる。
洗浄水としては、水(水道水、蒸留水、イオン交換水等
)またはこの水に必要に応じて添加剤を含有させること
ができる。
)またはこの水に必要に応じて添加剤を含有させること
ができる。
この添加剤は、例えば、無機リン酸、アミノポリカルボ
ン酸、有機リン酸等のキレート剤、各種バクテリアや藻
の増殖を防止する殺菌剤、防ばい剤、マグネシウム塩、
アルミニウム塩等の硬膜剤、乾燥負荷、ムラを防止する
ための界面活性剤等が挙げられる。 または、L、EW
est、 ”Water Quality Cr1te
ria”Phot、Sci、andEng、、vol、
9 No、6 P344−359(1965)等に記載
の化合物を用いることもできる。
ン酸、有機リン酸等のキレート剤、各種バクテリアや藻
の増殖を防止する殺菌剤、防ばい剤、マグネシウム塩、
アルミニウム塩等の硬膜剤、乾燥負荷、ムラを防止する
ための界面活性剤等が挙げられる。 または、L、EW
est、 ”Water Quality Cr1te
ria”Phot、Sci、andEng、、vol、
9 No、6 P344−359(1965)等に記載
の化合物を用いることもできる。
安定液としては、色素画像を安定化する処理液が用いら
れる。 例えば、pH3〜6の緩衝能を有する液、アル
デヒド(例えば、ホルマリン)を含有した液などを用い
ることができる。 安定液には、必要に応じて蛍光増白
剤、キレート剤、殺菌剤、防ばい剤、硬膜剤、界面活性
剤等を用いることができる。
れる。 例えば、pH3〜6の緩衝能を有する液、アル
デヒド(例えば、ホルマリン)を含有した液などを用い
ることができる。 安定液には、必要に応じて蛍光増白
剤、キレート剤、殺菌剤、防ばい剤、硬膜剤、界面活性
剤等を用いることができる。
本発明の感光材料処理装置に適用される感光材料の種類
は特に限定されず、例えば、カラーネガフィルム、カラ
ー反転フィルム、カラー印画紙、カラーポジフィルム、
カラー反転印画紙、製版用写真感光材料、X線写真感光
材料、黒白ネガフィルム、黒白印画紙、マイクロ用感光
材料等、各種感光材料が挙げられる。
は特に限定されず、例えば、カラーネガフィルム、カラ
ー反転フィルム、カラー印画紙、カラーポジフィルム、
カラー反転印画紙、製版用写真感光材料、X線写真感光
材料、黒白ネガフィルム、黒白印画紙、マイクロ用感光
材料等、各種感光材料が挙げられる。
なお、本発明の感光材料処理装置は、例えば、湿式の複
写機、自動現像機、プリンタープロセッサー、ビデオプ
リンタープロセッサー写真プリント作成コインマシーン
、検版用カラーペーパー処理機等の各種感光材料処理装
置に適用することができる。
写機、自動現像機、プリンタープロセッサー、ビデオプ
リンタープロセッサー写真プリント作成コインマシーン
、検版用カラーペーパー処理機等の各種感光材料処理装
置に適用することができる。
以上、本発明の構成例を挙げて説明したが、本発明は、
これらに限定されるものではないことは言うまでもない
。
これらに限定されるものではないことは言うまでもない
。
〈発明の効果〉
本発明の感光材料処理装置によれば、処理液の蒸発、温
度低下および変質、劣化を防止することができるととも
に、感光材料表面への液滴の落下による処理ムラを防止
することができる。
度低下および変質、劣化を防止することができるととも
に、感光材料表面への液滴の落下による処理ムラを防止
することができる。
また、構造が簡易であり、しかもカバーの着脱が容易で
あるため、処理槽のメインテナンスを行う等の際の作業
性が向上する。
あるため、処理槽のメインテナンスを行う等の際の作業
性が向上する。
第1図および第2図は、それぞれ本発明の感光材料処理
装置の構成例を示す断面正面図である。 第3図は、本発明の感光材料処理装置の他の構成例を示
す断面側面図ある。 第4図は、本発明の感光材料処理装置の他の構成例を模
式的に示す断面正面図である。 第5図および第6図は、それぞれ本発明の感光材料処理
装置に用いられるシャッター手段の構成例を示す断面側
面図および正面図である。 第7図および第8図は、それぞれシャッター手段の他の
構成例を示す断面側面図である。 符号の説明 1a〜1d・・・感光材料処理装置 2・・・現像槽 20・・・現像液 21・・・槽壁 3・・・上部空間 3゛・・・空間 4・・・液滴受け 41・・・排液管 5.5°・・・搬送手段 51・・・搬送ローラ 52・・・クロスオーバローラ 53・・・ガイド 54・・・反転ガイド 6.6°・・・カバー 60.61・・・側壁 62・・・嵌合部 63.67・・・傾斜部 64・・・湾曲部 65・・・搬入口 650.651・・・溝 6G・・・搬出口 68・・・ストッパ一部 69・・・縁部 7.8.9・・・シャッター手段 70.80.90・・・遮蔽部材 71・・・スリット 72・・・回転軸 73・・・駆動手段 74・・・ロータリーソレノイド 75・・・リレースイッチ 76・・・電源 77・・・センサー 78・・・制御部 81・・回転軸 82・・・アーム 83・・・重り 91・・・フランジ部 92・・・薄肉部 93・・・ボルト S・・・感光材料 F I G、2 FIG、5 FfG、3 FIG、7 FIG、8
装置の構成例を示す断面正面図である。 第3図は、本発明の感光材料処理装置の他の構成例を示
す断面側面図ある。 第4図は、本発明の感光材料処理装置の他の構成例を模
式的に示す断面正面図である。 第5図および第6図は、それぞれ本発明の感光材料処理
装置に用いられるシャッター手段の構成例を示す断面側
面図および正面図である。 第7図および第8図は、それぞれシャッター手段の他の
構成例を示す断面側面図である。 符号の説明 1a〜1d・・・感光材料処理装置 2・・・現像槽 20・・・現像液 21・・・槽壁 3・・・上部空間 3゛・・・空間 4・・・液滴受け 41・・・排液管 5.5°・・・搬送手段 51・・・搬送ローラ 52・・・クロスオーバローラ 53・・・ガイド 54・・・反転ガイド 6.6°・・・カバー 60.61・・・側壁 62・・・嵌合部 63.67・・・傾斜部 64・・・湾曲部 65・・・搬入口 650.651・・・溝 6G・・・搬出口 68・・・ストッパ一部 69・・・縁部 7.8.9・・・シャッター手段 70.80.90・・・遮蔽部材 71・・・スリット 72・・・回転軸 73・・・駆動手段 74・・・ロータリーソレノイド 75・・・リレースイッチ 76・・・電源 77・・・センサー 78・・・制御部 81・・回転軸 82・・・アーム 83・・・重り 91・・・フランジ部 92・・・薄肉部 93・・・ボルト S・・・感光材料 F I G、2 FIG、5 FfG、3 FIG、7 FIG、8
Claims (1)
- (1)処理液が入った処理槽内を感光材料を所定経路で
搬送して搬送する感光材料処理装置であって、 前記処理槽の上部空間を含む空間を実質的に密閉しうる
カバーを設置するとともに、該カバーの内側に付着した
液滴が前記搬送経路と交差するような軌跡で落下するの
を防止する液滴落下防止手段を設けたことを特徴とする
感光材料処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31792088A JPH02162347A (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 感光材料処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31792088A JPH02162347A (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 感光材料処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02162347A true JPH02162347A (ja) | 1990-06-21 |
Family
ID=18093520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31792088A Pending JPH02162347A (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 感光材料処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02162347A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5422698A (en) * | 1992-09-30 | 1995-06-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing apparatus |
-
1988
- 1988-12-16 JP JP31792088A patent/JPH02162347A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5422698A (en) * | 1992-09-30 | 1995-06-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing apparatus |
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