JPH043601Y2 - - Google Patents
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- JPH043601Y2 JPH043601Y2 JP1986046943U JP4694386U JPH043601Y2 JP H043601 Y2 JPH043601 Y2 JP H043601Y2 JP 1986046943 U JP1986046943 U JP 1986046943U JP 4694386 U JP4694386 U JP 4694386U JP H043601 Y2 JPH043601 Y2 JP H043601Y2
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- solvent
- helium
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- tank
- gas
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- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 77
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 40
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 40
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 28
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002371 helium Chemical class 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は、液体クロマトグラフイで移動相とし
て使用される溶媒中に溶存している空気などの気
体を脱気するための装置に関するものである。
て使用される溶媒中に溶存している空気などの気
体を脱気するための装置に関するものである。
溶媒中の溶存空気などを脱気する方法として
は、溶存気体をヘリウムで置換する方法、減圧に
して脱気する方法、又は加温して脱気する方法な
どがある。本考案はこのうちヘリウム置換により
脱気する方法を用いた装置に関するものである。
は、溶存気体をヘリウムで置換する方法、減圧に
して脱気する方法、又は加温して脱気する方法な
どがある。本考案はこのうちヘリウム置換により
脱気する方法を用いた装置に関するものである。
(従来の技術)
従来の液体クロマトグラフでは移動相としての
溶媒は大気に開放された溶媒槽に収容されてお
り、その溶媒をポンプによりカラムに供給される
ようになつている。
溶媒は大気に開放された溶媒槽に収容されてお
り、その溶媒をポンプによりカラムに供給される
ようになつている。
そして、従来のヘリウム脱気装置では、その溶
媒槽中の溶媒に流量が一定になるように調整され
たヘリウムガスを連続して吹き込み、その溶媒か
ら出るガスはそのまま外部に排出するようになつ
ている。
媒槽中の溶媒に流量が一定になるように調整され
たヘリウムガスを連続して吹き込み、その溶媒か
ら出るガスはそのまま外部に排出するようになつ
ている。
(考案が解決しようとする問題点)
(1) 従来のヘリウム脱気装置では、ヘリウムが連
続して吹き込まれ外部に排出されるため、ヘリ
ウムの消費量が多く不経済的である。
続して吹き込まれ外部に排出されるため、ヘリ
ウムの消費量が多く不経済的である。
(2) 溶媒として混合溶媒を使用することがある
が、もし混合溶媒の成分中に揮発性の溶媒が含
まれている場合、従来のように連続してヘリウ
ムを吹き込み排出させていくと溶媒の成分比が
徐々に変化していく。その結果、液体クロマト
グラフの検出器として溶媒の成分比に敏感な検
出器を使用している場合には、ベースラインの
ドリフトが生じる問題がある。
が、もし混合溶媒の成分中に揮発性の溶媒が含
まれている場合、従来のように連続してヘリウ
ムを吹き込み排出させていくと溶媒の成分比が
徐々に変化していく。その結果、液体クロマト
グラフの検出器として溶媒の成分比に敏感な検
出器を使用している場合には、ベースラインの
ドリフトが生じる問題がある。
(3) また、溶媒として人体に有害な揮発性溶媒を
使用することもあるが、従来のヘリウム脱気装
置ではその揮発性溶媒の気化ガスが室内に排出
され、閉めきつた室内で長時間作業すると人体
に害を及ぼす危険性がある。また、その揮発性
溶媒が悪臭を放つ場合には、作業者に不快感を
与えることになる。もし、この弊害を除くため
に、溶媒の気化ガスを室外に排出しようとすれ
ば、ダクトなどの設備を設けなければならなく
なる。
使用することもあるが、従来のヘリウム脱気装
置ではその揮発性溶媒の気化ガスが室内に排出
され、閉めきつた室内で長時間作業すると人体
に害を及ぼす危険性がある。また、その揮発性
溶媒が悪臭を放つ場合には、作業者に不快感を
与えることになる。もし、この弊害を除くため
に、溶媒の気化ガスを室外に排出しようとすれ
ば、ダクトなどの設備を設けなければならなく
なる。
(4) さらに、従来のヘリウム脱気装置では溶媒槽
の溶媒が大気に開放されているので、溶媒に空
気が再溶解したり、溶媒中の溶存気体量が変化
したりすることを防ぐことができない。そのた
め、液体クロマトグラフの検出器として溶媒に
敏感な検出器を使用している場合には、ベース
ラインが不安定になる。
の溶媒が大気に開放されているので、溶媒に空
気が再溶解したり、溶媒中の溶存気体量が変化
したりすることを防ぐことができない。そのた
め、液体クロマトグラフの検出器として溶媒に
敏感な検出器を使用している場合には、ベース
ラインが不安定になる。
本考案は以上のような問題点を解決することの
できるヘリウム脱気装置を提供することを目的と
するものである。
できるヘリウム脱気装置を提供することを目的と
するものである。
(問題点を解決するための手段)
本考案のヘリウム脱気装置は、一実施例を示す
図に示されるように、溶媒4を収容し溶媒4を取
り出すことのできる気密構造の溶媒槽1と、調圧
弁16をもち一定圧力で溶媒槽1内の溶媒4中に
ヘリウムガスを供給するヘリウム供給手段12,
14,16,24,18,20,22と、溶媒槽
1内の溶媒4の上部のガスを排出する排出口に接
続された開閉弁30とを備え、ヘリウムが供給さ
れて溶媒4中の溶媒溶存気体が排出口から追い出
された後、開閉弁30が閉じられ、溶媒槽1内の
内部圧力が一定に保たれるようになつている。
図に示されるように、溶媒4を収容し溶媒4を取
り出すことのできる気密構造の溶媒槽1と、調圧
弁16をもち一定圧力で溶媒槽1内の溶媒4中に
ヘリウムガスを供給するヘリウム供給手段12,
14,16,24,18,20,22と、溶媒槽
1内の溶媒4の上部のガスを排出する排出口に接
続された開閉弁30とを備え、ヘリウムが供給さ
れて溶媒4中の溶媒溶存気体が排出口から追い出
された後、開閉弁30が閉じられ、溶媒槽1内の
内部圧力が一定に保たれるようになつている。
(実施例)
図は本考案の一実施例を表わす。
1は溶媒槽であり、蓋2により気密が保たれる
構造になつている。溶媒槽1中には溶媒4が収容
される。
構造になつている。溶媒槽1中には溶媒4が収容
される。
溶媒4には溶媒取出し管6が浸され、取出し管
6の溶媒4中の基端にはフイルタ8が設けられて
いる。取出し管6の外部の先端は液体クロマトグ
ラフのポンプ10に接続され、ポンプ10により
溶媒4が液体クロマトグラフのカラムに供給され
るようになつている。
6の溶媒4中の基端にはフイルタ8が設けられて
いる。取出し管6の外部の先端は液体クロマトグ
ラフのポンプ10に接続され、ポンプ10により
溶媒4が液体クロマトグラフのカラムに供給され
るようになつている。
12はヘリウムガスボンベであり、減圧弁1
4、調圧弁16及び抵抗管18を経てヘリウム供
給手段20から溶媒槽1内の溶媒4中にヘリウム
ガスが供給されるようになつている。ヘリウムガ
ス供給管20の溶媒4中の先端にはバブリング用
フイルタ22が設けられている。ヘリウムガス供
給管20は溶媒に対して耐蝕性のある、例えばポ
リ四フツ化エチレンのような材料が使用される。
4、調圧弁16及び抵抗管18を経てヘリウム供
給手段20から溶媒槽1内の溶媒4中にヘリウム
ガスが供給されるようになつている。ヘリウムガ
ス供給管20の溶媒4中の先端にはバブリング用
フイルタ22が設けられている。ヘリウムガス供
給管20は溶媒に対して耐蝕性のある、例えばポ
リ四フツ化エチレンのような材料が使用される。
ヘリウムガス供給管20は抵抗管26を介して
大気に開放されている。抵抗管26の抵抗値は抵
抗管18の抵抗値に比べて充分に大きくなるよう
に設定されている。
大気に開放されている。抵抗管26の抵抗値は抵
抗管18の抵抗値に比べて充分に大きくなるよう
に設定されている。
溶媒槽1内の溶媒4の上部の空間には排気用チ
ユーブ28が取りつけられ、その排気用チユーブ
28の外部先端はストツプバルブ又はニードルバ
ルブのような開閉弁30を介して排気用チユーブ
32から大気中に排気されるようになつている。
排気用チユーブ28,32及び開閉弁30として
は溶媒に対して耐蝕性のあるものが使用される。
ユーブ28が取りつけられ、その排気用チユーブ
28の外部先端はストツプバルブ又はニードルバ
ルブのような開閉弁30を介して排気用チユーブ
32から大気中に排気されるようになつている。
排気用チユーブ28,32及び開閉弁30として
は溶媒に対して耐蝕性のあるものが使用される。
次に、本実施例の動作について説明する。
最初、開閉弁30を閉じた状態で、調圧弁16
により圧力計24の指示が溶媒槽1の耐圧以下の
圧力になるように調整する。その状態で開閉弁3
0を開くと、調圧弁16による圧力(圧力計24
の指示)と抵抗管18によつて定まる一定量のヘ
リウムガスが溶媒槽8内に流れ、溶媒4中の溶存
気体が排気用チユーブ28,開閉弁30及び排気
用チユーブ32を経て外部へ追い出される。
により圧力計24の指示が溶媒槽1の耐圧以下の
圧力になるように調整する。その状態で開閉弁3
0を開くと、調圧弁16による圧力(圧力計24
の指示)と抵抗管18によつて定まる一定量のヘ
リウムガスが溶媒槽8内に流れ、溶媒4中の溶存
気体が排気用チユーブ28,開閉弁30及び排気
用チユーブ32を経て外部へ追い出される。
溶媒槽1内が完全にヘリウムガスで置き換わつ
た時点で開閉弁30を閉じる。溶媒槽1は気密構
造であるので、開閉弁30を閉じることにより溶
媒槽1内への外部からの空気の侵入がなくなり、
溶媒槽1内が圧力計24で設定された圧力にほぼ
等しい圧力に保たれ、溶媒4中の溶存ヘリウムガ
ス量も一定に保たれる。
た時点で開閉弁30を閉じる。溶媒槽1は気密構
造であるので、開閉弁30を閉じることにより溶
媒槽1内への外部からの空気の侵入がなくなり、
溶媒槽1内が圧力計24で設定された圧力にほぼ
等しい圧力に保たれ、溶媒4中の溶存ヘリウムガ
ス量も一定に保たれる。
溶媒4がポンプ10で吸引されてカラムに供給
されると、取り出された溶媒量を補うだけのヘリ
ウムガスが常時溶媒槽1に送り込まれる。
されると、取り出された溶媒量を補うだけのヘリ
ウムガスが常時溶媒槽1に送り込まれる。
抵抗管26は、ヘリウムガス供給管20からの
ヘリウムガス供給を止めたときの溶媒4の逆流防
止と、調圧弁16を正常に作動させるための役目
を果す。
ヘリウムガス供給を止めたときの溶媒4の逆流防
止と、調圧弁16を正常に作動させるための役目
を果す。
(考案の効果)
本考案によれば次のような効果を達成すること
ができる。
ができる。
(1) 本考案では溶媒中の空気などをヘリウムで置
換した後は開閉弁30を閉じて溶媒槽1を密閉
状態とするので、ヘリウムガスの消費量が少な
くて済み、経済的である。開閉弁30を閉じた
後のヘリウム消費量は、溶媒4がポンプ10に
より取り出されて減少した量を補うための量
と、抵抗管26を通して外部へ排出される量で
ある。このうち、抵抗管26を経て外部へ排出
されるヘリウムガス量の方が溶媒4の減少量を
補う量よりも大きくなるのが普通であるが、抵
抗管26の抵抗を大きくすることによつてこの
ヘリウムガス消費量も少なくすることができ
る。
換した後は開閉弁30を閉じて溶媒槽1を密閉
状態とするので、ヘリウムガスの消費量が少な
くて済み、経済的である。開閉弁30を閉じた
後のヘリウム消費量は、溶媒4がポンプ10に
より取り出されて減少した量を補うための量
と、抵抗管26を通して外部へ排出される量で
ある。このうち、抵抗管26を経て外部へ排出
されるヘリウムガス量の方が溶媒4の減少量を
補う量よりも大きくなるのが普通であるが、抵
抗管26の抵抗を大きくすることによつてこの
ヘリウムガス消費量も少なくすることができ
る。
(2) ヘリウムで置換後開閉弁30を一旦閉じてし
まえば、溶媒が揮発性の混合溶媒の場合でも最
早その成分比が刻々と変化することがなくな
り、ベースラインの安定した分析を行なうこと
ができる。
まえば、溶媒が揮発性の混合溶媒の場合でも最
早その成分比が刻々と変化することがなくな
り、ベースラインの安定した分析を行なうこと
ができる。
(3) 開閉弁30を閉じた後は、有毒な揮発性溶媒
を使用している場合でも外部にその気化ガスを
排出することはなくなるので、快適な環境で作
業をすることができる。
を使用している場合でも外部にその気化ガスを
排出することはなくなるので、快適な環境で作
業をすることができる。
(4) 一旦開閉弁30を閉じると溶媒4に外部から
空気が再溶解してくることがなく、また、溶媒
槽1内の圧力を一定に保つので、溶媒4中のヘ
リウムの溶存量も安定に保つことができ、ベー
スラインの安定した分析を行なうことが可能に
なる。
空気が再溶解してくることがなく、また、溶媒
槽1内の圧力を一定に保つので、溶媒4中のヘ
リウムの溶存量も安定に保つことができ、ベー
スラインの安定した分析を行なうことが可能に
なる。
図は本考案の一実施例を示す概略図である。
1……溶媒槽、4……溶媒、16……調圧弁、
18……抵抗管、20……ヘリウム供給管、28
……排気用チユーブ、30……開閉弁。
18……抵抗管、20……ヘリウム供給管、28
……排気用チユーブ、30……開閉弁。
Claims (1)
- 溶媒を収容し、その溶媒を取り出すことのでき
る気密構造の溶媒槽と、調圧弁をもち、後記開閉
弁が開いている状態のときだけでなく、閉じてい
る状態のときにも一定圧力で前記溶媒槽内の溶媒
中にヘリウムガスを供給するヘリウム供給手段
と、前記溶媒槽内の溶媒上部のガスを排出する排
出口に接続され、前記ヘリウム供給手段からのヘ
リウムにより置換されて追い出された溶媒溶存気
体を排出した後に閉じられる開閉弁と、前記溶媒
槽内の溶媒上部の空間を大気に開放する抵抗管
と、を備えたヘリウム脱気装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986046943U JPH043601Y2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986046943U JPH043601Y2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62160608U JPS62160608U (ja) | 1987-10-13 |
JPH043601Y2 true JPH043601Y2 (ja) | 1992-02-04 |
Family
ID=30867077
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1986046943U Expired JPH043601Y2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH043601Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022158247A1 (ja) * | 2021-01-21 | 2022-07-28 | サントリーホールディングス株式会社 | 炭酸ガス注入装置及び注入方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5846326A (ja) * | 1981-09-14 | 1983-03-17 | Sharp Corp | カラ−液晶表示装置のセル構造 |
JPS5831024B2 (ja) * | 1981-04-08 | 1983-07-02 | 工業技術院長 | 抄録検索装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5831024U (ja) * | 1981-08-19 | 1983-03-01 | 株式会社島津製作所 | 溶媒混合装置 |
-
1986
- 1986-03-28 JP JP1986046943U patent/JPH043601Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5831024B2 (ja) * | 1981-04-08 | 1983-07-02 | 工業技術院長 | 抄録検索装置 |
JPS5846326A (ja) * | 1981-09-14 | 1983-03-17 | Sharp Corp | カラ−液晶表示装置のセル構造 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022158247A1 (ja) * | 2021-01-21 | 2022-07-28 | サントリーホールディングス株式会社 | 炭酸ガス注入装置及び注入方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62160608U (ja) | 1987-10-13 |
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