JPH0239254Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は溶媒混合装置に関し、特に各溶媒中
の溶解空気ヘリウムガスで置換して後、各溶媒を
混合送液する装置において、ヘリウムガス供給流
路の負圧時に外気を導入可能にすることによつ
て、溶媒の逆流を防止するものである。

溶媒に空気が溶解していると、溶媒混合時に発
泡（空気）することがあり、送液ポンプによる移
送がさまたげられることがあつた。このような発
泡を防止するためには、通常溶媒混合前にヘリウ
ムガスを吹き込んで溶解空気と置換する方法がと
られている。

ところが、ヘリウムガスは透過性がきわめて強
く、プラスチツク製パイプを、溶媒リザーバ（容
器）へヘリウムガスを供給する流路として用いる
と、ヘリウムガス源（ボンベ元栓）を閉じたり、
途中のストツプ弁を閉じた時に、それらより溶媒
側の流路（プラスチツク製パイプ部分）からヘリ
ウムガスが透過によつて外気側へ逃散し、従つて
溶媒側のヘリウム供給流路が負圧になり、溶媒を
逆流させるおそれがあつた。

この考案は主としてこれらの事情に鑑みなされ
たもので、その具体的構成は、２個以上の溶媒リ
ザーバと、これらの溶接リザーバにヘリウムガス
を供給するためのヘリウムガス供給流路と、各溶
媒リザーバから送液ポンプを介して溶媒を分析系
へ混合送液するための混合送液流路とを備え、各
溶液中の溶解空気をヘリウムガスで置換して後、
各溶媒を混合送液できるよう構成してなる装置に
おいて、ヘリウムガス供給流路に、このヘリウム
ガス供給流路の負圧時に外気を導入可能な外気導
入流路を設け、かつその外気導入流路の外気から
ヘリウムガス供給流路に通じる連通部にフイルタ
からなる、又はキヤピラリチユーブとフイルタか
らなる流路抵抗を介在させたことを特徴とする溶
媒混合装置である。

すなわち、この考案は、ヘリウムガス供給流路
に、負圧時に外気を導入してその負圧を解消可能
な特定の流路抵抗を有する外気導入口を設けるこ
とによつて、溶媒の逆流を防止するわけである。

以下図に示す従来例及び実施例に基づいてこの
考案を詳述する。

まず従来例を示す第１図において、液体クロマ
トグラフ用溶媒混合装置Eaはヘリウムガス供給
流路Aaと溶媒リザーバ群Baと、溶媒混合送液流
路Caとから主として構成されている。

ヘリウムガス供給流路Aaはヘリウムガス源１
ａ、減圧弁２ａ及び圧力計３ａを備えた流路から
分岐し、ストツプ弁４ａ，４ｂ，４ｃ、抵抗５
ａ，５ｂ，５ｃ及び先端にデイフユーザ７ａ，７
ｂ，７ｃを備え溶媒リザーバ８ａ，８ｂ，８ｃ中
に延びる接続パイプ６ａ，６ｂ，６ｃを備えた三
つの流路で構成され、各接続パイプは耐食性のプ
ラスチツク製パイプ（例えばテフロン製：ポリフ
ツ化エチレン系樹脂製パイプ）を用いている。

溶媒リザーバ群Baは前記溶媒リザーバ８ａ，
８ｂ，８ｃより構成され、９ａ，９ｂ，９ｃはキ
ヤリア溶媒である。

溶媒混合送液流路Caは溶媒吸入口１６ａ，１
６ｂ，１６ｃ、時間比例弁１１ａ，１１ｂ，１１
ｃを経て一本の流路となり更に送液ポンプ１２ａ
から分析部（図示省略）へ延びている。

液体クロマトグラフ用溶媒混合装置Eaは以上
の構成よりなるので、ヘリウムガスが各溶媒リザ
ーバ８ａ，８ｂ，８ｃのキヤリア溶媒９ａ，９
ｂ，９ｃ中へバブリングさせて（デイフユーザに
よる）供給され、各溶媒中に溶け込んでいる空気
はヘリウムガスと置換される。従つて溶媒混合送
液流路Caでの溶媒混合時の空気の発泡をなくし、
送液ポンプ１２ａによる溶媒の混合送液を可能に
する。

ところが、溶媒送液休止時に、ヘリウムガス源
１ａのボンベ元栓を閉じた時又は、ストツプ弁４
ａ，４ｂ，４ｃのいずれかを閉じた時には、ヘリ
ウムガス供給流路の接続パイプ６ａ，６ｂ，６ｃ
としてプラスチツク製パイプを用いているので、
ヘリウムガスがそのパイプを透過して大気中に逃
散する。

従つて、ヘリウムガス供給流路の該当接続パイ
プ、例えば６ａ内の圧力が大気圧より低下し、リ
ザーバ８ａ中の溶媒が逆流して接続パイプ６ａ内
に入り込むことになる。このように接続パイプに
溶媒が入り込むと、特に減圧弁と抵抗との間の流
路が溶媒の液面レベルより低い場合、入り込んだ
溶媒が更に減圧弁と抵抗の間の流路に至り、再使
用時まで残留して不都合をまねく。更に抵抗とし
て、２〜３mmφ（内径）×10cm位の金属パイプにガ
ラスビーズ等の微粒子を充填した〓抵抗カラム″
を用いることが多く、このような場合に、溶媒が
流入すると、ヘリウムガスで置き換えるまでに長
時間を要す。またこのように減圧弁２ａ、圧力計
３ａ、ストツプ弁４ａ，４ｂ，４ｃ等に溶媒が浸
入することになれば、もちろん材料として耐食性
のものを用いる必要があり、きわめて高価な装置
となる。

これに対して、この考案の実施例では、第２図
において、液体クロマトグラフ用溶媒混合装置Ｅ
のヘリウムガス供給流路Ａの各接続パイプ、例え
ば６に空気導入流路１３が設けられている。

この空気導入流路１３は、接続パイプ６の流路
１７を備え、且つその途中からバィパス流路１８
を有する本体１９と、そのバイパス流路１８の開
口部に当接設置されたポーラスステンレス製フイ
ルタ１５と、このフイルタを保持するためパイパ
ス流路１８と同軸に本体１９に螺着されたナツト
１４とから構成されている。なお２０はナツト１
４に設けられた空気取入口で、この空気取入口よ
り入つた空気はフイルタ１５及びバィパス流路１
８を介して接続パイプ６の流路１７に連通する。
２４はパツキングである。

従つて、ヘリウムガスが、接続パイプ６のプラ
スチツク製パイプから外気側へ透過して流路内を
負圧にしても、ただちに前記空気導入流路１３か
ら空気が導入され、負圧が解消される。この負圧
の解消は、溶媒の逆流を防止し、従つてヘリウム
ガス供給流路の材質及び溶媒リザーバとの配置に
制約を受けず、安価な装置に構成できるという実
用的効果をもたらす。

なお、フイルタ１５は、デイフユーザ７ａに用
いたフイルタエレメントの面積の1/10の面積を持
つ同質（同多孔）のものを用いた。一般的には、
空気導入流路のフイルタは、デイフユーザのエレ
メントと同質（同多孔）のものであれば、デイフ
ユーザのエレメントの面積の1/5以下の面積に設
定するのが好ましい。

以上の実施例とは異なり、空気導入流路に、第
３図のごとく、キヤピラリチユーブ２２ａとフイ
ルタ２１ａとからなる流路抵抗を装着することも
できる。なお、２３ａはキヤピラリチユーブ２２
ａに溶接されたフランジ、２５ａはパツキンであ
る。このキヤピラリチユーブ２２ａの具体例とし
ては内径0.1mmφ、長さ30cmのもの、フイルタ２
１ａとしては10μｍφ程度の細孔径で板厚１mmの
ステンレス製ポーラスフイルタが挙げられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は溶媒混合装置の従来例の機能説明図、
第２図はこの考案の溶媒混合装置の一実施例を示
す要部拡大機能説明図、第３図は他の実施例を示
す第２図相当図である。 Ｅ……液体クロマトグラフ用溶媒混合装置、Ａ
……ヘリウムガス供給流路、１３……空気導入流
路。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ２個以上の溶媒リザーバと、これらの溶媒リザ
   ーバにヘリウムガスを供給するためのヘリウムガ
   ス供給流路と、各溶媒リザーバから送液ポンプを
   介して溶媒を分析系へ混合送液するための混合送
   液流路とを備え、各溶媒中の溶解空気をヘリウム
   ガスで置換して後、各溶媒を混合送液できるよう
   構成してなる装置において、ヘリウムガス供給流
   路に、このヘリウムガス供給流路の負圧時に外気
   を導入可能な外気導入流路を設け、かつその外気
   導入流路の外気からヘリウムガス供給流路に通じ
   る連通部にフイルタからなる、又はキヤピラリチ
   ユーブとフイルタからなる流路抵抗を介在させた
   ことを特徴とする溶媒混合装置。