JPH04359968A - ピロロトリアゾールアゾメチン色素 - Google Patents
ピロロトリアゾールアゾメチン色素Info
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
方式、感熱転写方式等、新しいカラー画像形成方法が提
案されるようになり、また一方では、エレクトロニック
イメージングの発展と相俟って、固体撮像管やカラー液
晶テレビ用フィルターの需要が増大して、アゾメチン色
素がカラー写真用のみならず様々なシステムあるいは、
商品において応用、検討されるようになった。これらに
用いられるシアン色のアゾメチン色素としては、フェノ
ール及びナフトールアゾメチン色素が特開平1−249
860号、同1−110985号、同2−59395号
、同2−98492号などに開示されている。又、イミ
ダゾールアゾメチン色素が特開昭63−113077号
、特開平2−668号、同2−53865号、同2−2
8264号、同2−155693号、同2−53866
号、同2−181747号、同1−110565号に開
示されている。又、特願平1−240968号にヒドロ
キシピリジンアゾメチン色素が開示されている。更に、
ピラゾロアゾールアゾメチン色素が特開昭63−145
281号、特開平3−51188号に開示されている。 また、ピラゾロピリミジン−5−オンアゾメチン色素が
特開平2−178088号に開示されている。ピラゾロ
キナゾロンアゾメチン色素が特開平2−175190号
に開示されている。また、ピラゾロトリアジンアゾメチ
ン色素が特開平2−310087号に開示されている。 また、特開平2−172793号、同2−172792
号、同2−67187号にもシアン色を有するアゾメチ
ン色素が開示されている。
アゾメチン色素には、種々の欠点があった。例えば、フ
ェノール、ナフトールアゾメチン色素は、画像形成用あ
るいはフィルター用色素としては、吸収がブロードであ
った。又、イミダゾールアゾメチン色素は、光堅牢性が
低いという欠点を持っていた。又、ピラゾロピリミジン
−5−オンアゾメチン色素、ピラゾロキナゾロンアゾメ
チン色素、ピラゾロトリアジンアゾメチン色素は、吸収
がブロードであった。又、ピラゾロトリアゾールアゾメ
チン色素は、光堅牢性が低かった。更にヒドロキシピリ
ジンアゾメチン色素は、合成が難しく、かつ光堅牢性が
低かった。このように、従来公知のアゾメチン色素には
、シアン色として適した吸収波形を有し、かつ光、熱堅
牢性のよい色素はなかった。そのため、シャープな吸収
を有し、堅牢性の高いアゾメチン色素の開発が強く望ま
れていた。上記の問題を解決するため、本発明者は、新
規なアゾメチン色素の研究を行った。その結果、これま
でに知られていない特定の構造を持ったピロロトリアゾ
ールアゾメチン色素がシャープな吸収を有し光堅牢性が
高いことを見い出し、本発明を完成するに至った。ここ
で従来の技術との関係についてふれておく。特開昭62
−279340号及び同62−278552号にピロロ
トリアゾール系のカプラーが記載されている。上記技術
が公知であっても、本発明は何ら制限されるものではな
い。上記公知のカプラーは、発色現像によりアゾメチン
色素を与えると考えられるが、上記文献によれば、その
生成色素の色は、マゼンタ色である。本発明者の検討に
よれば、ピロロトリアゾールアゾメチン色素は、カプラ
ー部分のR7 のハメットの置換基定数σp が0.1
5以上でかつ、R7 とR8 のハメットの置換基定数
σp の和が0.65以上の時にシアン色になる。又、
R7 が−CONHR10であるときは、R7 とR8
のハメットの置換基定数σp の和が0.65以下で
あっても、シアン色を呈する。上記文献には、これらシ
アン色を呈するアゾメチン色素を与えるであろうカプラ
ーは、全く記載されていない。又、シアン色を呈する特
定の構造を予想させる記載もない。すなわち、本発明の
新規なピロロトリアゾールアゾメチン色素が良好なシア
ン色を呈することは、R7 およびR8 の置換基と色
素の吸収特性の関係を研究した本発明者によって初めて
明らかにされたもので、上記文献から予想することは、
極めて困難であった。
、光、熱堅牢性の高いピロロトリアゾールアゾメチン色
素を提供することにある。
記一般式(I)および(II)で表わされるピロロトリ
アゾールアゾメチン色素によって達成された。
、R3 およびR4 は、各々独立に、水素原子又は
非金属の原子団を表わす。R5 およびR6 は、各々
独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ
環基を表わす。 R7 は、ハメットの置換基定数σp が0.15以上
の電子吸引性基を表わす。R8 およびR9 は、各々
独立に、水素原子又は非金属の原子団を表わす。ただし
、R7 が−CONHR10以外である場合はR7 と
R8 のハメットの置換基定数σp 値の和が0.65
以上である。R10は、水素原子又は置換基である。R
1 とR2 、および/又はR2 とR5 、および/
又はR5 とR6 、および/又はR6 とR3 、お
よび/又はR3 とR4 は、互いに結合して環構造を
形成していてもよい。R7 とR8 は、互いに結合し
て、環構造を形成していてもよい。
て詳しく述べる。
の置換基定数について若干説明する。ハメット則はベン
ゼン誘導体の反応または平衡に及ぼす置換基の影響を定
量的に論ずるために1935年L.P.Hammett
により提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当
性が認められている。ハメット則により求められた置換
基定数にはσp 値とσm 値があり、これらの値は多
くの一般的な成書に見出すことができるが、例えば、J
.A.Dean編、「Lange’s Handbo
ok of Chemistry」第12版、19
79年(McGraw−Hill)や「化学の領域」増
刊、122号、96〜103頁、1979年(南光堂)
に詳しい。なお、本発明において各置換基をハメットの
置換基定数σp により限定したり、説明したりするが
、これは上記の成書で見出せる、文献既知の値がある置
換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文
献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合に
その範囲内に含まれるであろう置換基をも含むことはい
うまでもない。今後、σp 値はこの意味を表わす。
各々独立に、水素原子又は非金属の原子団を表わし、非
金属の原子団としては、ハロゲン原子、アルキル基、ア
リール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニト
ロ基、カルボキシ基、スルホン酸基、アミノ基(置換ア
ミノ基を含む)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、スルファモ
イルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アル
コキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、カル
バモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アルコ
キシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、アゾ基、アシル
オキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、ア
リールオキシカルボニル基、イミド基、ヘテロ環チオ基
、スルフィニル基、ホスホリル基、アシル基、アゾリル
基等を表わす。
体例としては、水素原子、アルキル基(好ましくは炭素
数1〜30、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル
)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30、例えば
メトキシ、エトキシ、メトキシエトキシ、イソプロポキ
シ)、ハロゲン原子(例えば臭素、フッ素、塩素)、ア
シルアミノ基〔好ましくは炭素数1〜30のアルキルカ
ルボニルアミノ基(例えばホルミルアミノ、アセチルア
ミノ、プロピオニルアミノ、シアノアセチルアミノ)、
好ましくは炭素数7〜30のアリールカルボニルアミノ
基(例えばベンゾイルアミノ、p−トルイルアミノ、ペ
ンタフルオロベンゾイルアミノ、m−メトキシベンゾイ
ルアミノ)〕、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭
素数2〜30、例えばメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル)、シアノ基、スルホニルアミノ基(好ましく
は炭素数1〜30、メタンスルホニルアミノ、エタンス
ルホニルアミノ、N−メチルメタンスルホニルアミノ)
、カルバモイル基〔好ましくは炭素数2〜30のアルキ
ルカルバモイル基(例えばメチルカルバモイル、ジメチ
ルカルバモイル、ブチルカルバモイル、イソプロピルカ
ルバモイル、t−ブチルカルバモイル、シクロペンチル
カルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、メトキシ
エチルカルバモイル、クロロエチルカルバモイル、シア
ノエチルカルバモイル、エチルシアノエチルカルバモイ
ル、ベンジルカルバモイル、エトキシカルボニルメチル
カルバモイル、フルフリルカルバモイル、テトラヒドロ
フルフリルカルバモイル、フェノキシメチルカルバモイ
ル、アリルカルバモイル、クロチルカルバモイル、プレ
ニルカルバモイル、2,3−ジメチル−2−ブテニルカ
ルバモイル、ホモアリルカルバモイル、ホモクロチルカ
ルバモイル、ホモプレニルカルバモイル)、好ましくは
炭素数7〜30のアリールカルバモイル基(例えばフェ
ニルカルバモイル、p−トルイルカルバモイル、m−メ
トキシフェニルカルバモイル、4,5−ジクロロフェニ
ルカルバモイル、p−シアノフェニルカルバモイル、p
−アセチルアミノフェニルカルバモイル、p−メトキシ
カルボニルフェニルカルバモイル、m−トリフルオロメ
チルフェニルカルバモイル、o−フルオロフェニルカル
バモイル、1−ナフチルカルバモイル)、好ましくは炭
素数4〜30のヘテリルカルバモイル基(例えば2−ピ
リジルカルバモイル、3−ピリジルカルバモイル、4−
ピリジルカルバモイル、2−チアゾリルカルバモイル、
2−ベンズチアゾリルカルバモイル、2−ベンズイミダ
ゾリルカルバモイル、2−(4−メチルフェニル)1,
3,4−チアジアゾリルカルバモイル)〕、スルファモ
イル基(好ましくは炭素数0〜30、例えばメチルスル
ファモイル、ジメチルスルファモイル)、アミノカルボ
ニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30、例えばメチ
ルアミノカルボニルアミノ、ジメチルアミノカルボニル
アミノ)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは
炭素数2〜30、例えばメトキシカルボニルアミノ、エ
トキシカルボニルアミノ)、ヒドロキシ基、カルボキシ
基(その塩)、スルホン酸基(その塩)、アミノ基(好
ましくは炭素数0〜30、例えばアミノ、メチルアミノ
、ジメチルアミノ、アニリノ)、アリール基(好ましく
は炭素数6〜30、例えばフェニル、m−アセチルフェ
ニル、p−メトキシフェニル)、ヘテロ環基(好ましく
は炭素数3〜30、例えば2−ピリジル、2−フリル、
2−テトラヒドロフリル)、ニトロ基、アリールオキシ
基(好ましくは炭素数6〜30、例えばフェノキシ、p
−メトキシフェノキシ、o−クロロフェノキシ)、スル
ファモイルアミノ基(好ましくは炭素数0〜30、例え
ばメチルスルファモイルアミノ、ジメチルスルファモイ
ルアミノ)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜3
0、例えばメチルチオ、エチルチオ)、アリールチオ基
(好ましくは炭素数6〜30、例えばフェニルチオ、p
−メトキシフェニルチオ、o−クロロフェニルチオ)、
スルホニル基(好ましくは炭素数1〜30、例えばメタ
ンスルホニル、p−トルエンスルホニル)、アシル基(
好ましくは炭素数1〜30、例えばホルミル、アセチル
、ベンゾイル、p−トルイル)、ヘテロ環オキシ基(好
ましくは炭素数3〜30)、アゾ基(好ましくは炭素数
3〜30、例えばp−ニトロフェニルアゾ)、アシルオ
キシ基(好ましくは炭素数1〜30、例えばアセチルオ
キシ、ベンゾイルオキシ)、カルバモイルオキシ基(好
ましくは炭素数1〜30、例えばメチルカルバモイルオ
キシ)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数3〜30、
例えばトリメチルシロキシ)、アリールオキシカルボニ
ル基(好ましくは炭素数7〜30、例えばフェノキシカ
ルボニル)、イミド基(好ましくは炭素数4〜30、例
えばフタルイミド)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素
数3〜30)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜
30、例えばジエチルアミノスルフィニル)、ホスホリ
ル基(好ましくは炭素数0〜30、例えばジアミノホス
ホリル)、アゾリル基(好ましくは炭素数2〜30、例
えば2−ピラゾリル)が挙げられる。
いものは、水素原子である。R1 の中で好ましいもの
は、水素原子、炭素数1〜30のアルキル基、炭素数1
〜30のアルコキシ基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、
臭素)、炭素数1〜30のアシルアミノ基、炭素数1〜
30のスルホニルアミノ基、炭素数1〜30のアミノカ
ルボニルアミノ基、炭素数2〜30のアルコキシカルボ
ニルアミノ基である。その中でも、R1は、水素原子、
アルキル基、アシルアミノ基が最も好ましい。
原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、2
−メトキシエチル、3−メトキシプロピル、エトキシエ
チル、2−フェニルエチル、2−シアノエチル、シアノ
メチル、2−クロロエチル、3−ブロモプロピル、2−
メトキシカルボニルエチル、3−エトキシカルボニルプ
ロピル、2−(N−メチルアミノカルボニル)エチル、
3−(N,N−ジメチルアミノカルボニル)プロピル、
2−アセチルアミノエチル、3−(エチルカルボニルア
ミノ)プロピル、アリル、ホモアリル、プレニル、n−
ドデシル、2−アセチルオキシエチル)、アリール基(
好ましくは炭素数6〜30、例えばフェニル、p−トリ
ル、p−メトキシフェニル、2,4−ジクロロフェニル
、p−ニトロフェニル、2,4−ジシアノフェニル、2
−ナフチル)またはヘテロ環基(置換基を有するものを
含む。好ましくは炭素数3〜30、例えば、下記化3で
表わされる基)を表わす。
炭素数1〜30の置換されてもよいアルキル基(例えば
メチル、エチル、プロピル、2−シアノエチル、2−ア
セチルオキシエチル、2−エトキシカルボニルエチル、
2−メトキシエチル、アリル、ホモアリル、プレニル)
である。また、R5 とR6 が結合して形成してもよ
い環としては、例えば、下記化4で表される基があり、
また、R2 とR5 および/またはR3 とR6 が
結合して形成してもよい環としては、例えば、下記化5
で表される基があり、好ましい例として挙げることがで
きる。
0.15以上の電子吸引性基である。R7 の例として
は、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シ
アノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリール
ホスホノ基、ジアリールホスフィニル基、アルキルスル
フィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スル
ファモイル基、イソシアネート基、チオシアネート基、
チオカルボニル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化
アルコキシ基、ハロゲン化アリールオキシ基、ハロゲン
化アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキルチオ基、σp
0.15以上の他の電子吸引性基で置換されたアリー
ル基、複素環基、ハロゲン原子、又はセレノシアネート
基があげられる。
ば、アセチル、3−フェニルプロパノイル、ベンゾイル
、4−ドデシルオキシベンゾイル)、アシルオキシ基(
例えば、アセトキシ)、カルバモイル基(例えば、N−
エチルカルバモイル、N,N−ジブチルカルバモイル、
N−(2−ドデシルオキシエチル)カルバモイル、N−
メチル−N−ドデシルカルバモイル、N−{3−(2,
4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピル}カルバモイ
ル)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカル
ボニル、ブチルオキシカルボニル、ドデシルオキシカル
ボニル、オクタデシルオキシカルボニル)、アリールオ
キシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル)、
シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基(例えば、
ジメチルホスホノ)、ジアリールホスホノ基(例えば、
ジフェニルホスホノ)、ジアリールホスフィニル基(例
えば、ジフェニルホスフィニル)、アルキルスルフィニ
ル基(例えば、3−フェノキシプロピルスルフィニル)
、アリールスルフィニル基(例えば、3−ペンタデシル
フェニルスルフィニル)、アルキルスルホニル基(例え
ば、メタンスルホニル、オクタンスルホニル)、アリー
ルスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、トルエ
ンスルホニル)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ
、オクチルチオ、テトラデシルチオ、2−フェノキシエ
チルチオ、3−フェノキシプロピルチオ、3−(4−t
−ブチルフェノキシ)プロピルチオ)、アリールチオ基
(例えば、フェニルチオ、2−ブトキシ−5−t−オク
チルフェニルチオ、3−ペンタデシルフェニルチオ、2
−カルボキシフェニルチオ、4−テトラデカンアミドフ
ェニルチオ)、スルホニルオキシ基(メタンスルホニル
オキシ、トルエンスルホニルオキシ)、アシルチオ基(
例えば、アセチルチオ、ベンゾイルチオ)、スルファモ
イル基(例えば、N−エチルスルファモイル、N,N−
ジプロピルスルファモイル、N−(2−ドデシルオキシ
エチル)スルファモイル、N−エチル−N−ドデシルス
ルファモイル、N,N−ジエチルスルファモイル)、イ
ソシアネート基、チオシアネート基、チオカルボニル基
(例えば、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボ
ニル)、ハロゲン化アルキル基(例えば、トリフロロメ
タン、ヘプタフロロプロパン)、ハロゲン化アルコキシ
基(例えばトリフロロメチルオキシ)、ハロゲン化アリ
ールオキシ基(例えばペンタフロロフェニルオキシ)、
ハロゲン化アルキルアミノ基(例えば、N,N−ジ−(
トリフロロメチル)アミノ)、ハロゲン化アルキルチオ
基(例えば、ジフロロメチルチオ、1,1,2,2−テ
トラフロロエチルチオ)、σp 0.15以上の他の電
子吸引性基で置換されたアリール基(例えば、2,4−
ジニトロフェニル、2,4,6−トリクロロフェニル、
ペンタクロロフェニル)、複素環基(例えば、2−ベン
ゾオキサゾリル、2−ベンゾチアゾリル、1−フェニル
−2−ベンズイミダゾリル、5−クロロ−1−テトラゾ
リル、1−ピロリル)、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子)、またはセレノシアネート基を表わす。 これらの置換基のうち更に置換基を有することが可能な
基は、炭素原子、酸素原子、窒素原子又はイオウ原子で
連結する置換基又はハロゲン原子を更に有してもよい。
ては、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
シアノ基、ニトロ基、アルキルスルフィニル基、アリー
ルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、スルファモイル基、ハロゲン化アルキル基
、ハロゲン化アルキルオキシ基、ハロゲン化アルキルチ
オ基、ハロゲン化アリールオキシ基、2つ以上のσp
0.15以上の他の電子吸引性基で置換されたアリール
基、及び複素環基を挙げることができる。
原子又は非金属の原子団を表わす。更に詳しくは、R8
およびR9 は、各々独立に、水素原子、アリール基
、ヘテロ環基、アルキル基、シアノ基、カルボキシル基
、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基
、アリールオキシカルボニル基、アシルアミノ基、アル
コキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニル
アミノ基、スルホニルアミノ基、アミノカルボニルアミ
ノ基、スルファモイルアミノ基、アミノ基(アニリノ基
を含む)、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオ
キシ基、ヘテリルオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、ヘテリルチオ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基
、ニトロ基、スルファモイル基、スルホニル基、アゾ基
、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、イミド基、
スルフィニル基、ホスホリル基またはアゾリル基を表わ
す。
ては、水素原子、アリール基(好ましくは炭素数6〜3
0、例えばフェニル、m−アセチルアミノフェニル、p
−メトキシフェニル)、アルキル基(好ましくは炭素数
1〜30、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−
ブチル、n−オクチル、n−ドデシル)、シアノ基、カ
ルボキシル基、アシル基(好ましくは炭素数1〜30、
例えば、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、フロイル
、2−ピリジルカルボニル)、カルバモイル基(好まし
くは炭素数1〜30、例えばメチルカルバモイル、エチ
ルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、n−オクチル
カルバモイル)、アルコキシカルボニル基(好ましくは
炭素数1〜30、例えばメトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニル)、アリールオ
キシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜30、例えば
フェノキシカルボニル、p−メトキシフェノキシカルボ
ニル基、m−クロロフェノキシカルボニル、o−メトキ
シフェノキシカルボニル)、アシルアミノ基〔好ましく
は炭素数1〜30のアルキルカルボニルアミノ基(例え
ば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルア
ミノ、シアノアセチルアミノ)、好ましくは炭素数7〜
30のアリールカルボニルアミノ基(例えば、ベンゾイ
ルアミノ、p−トルイルアミノ、ペンタフルオロベンゾ
イルアミノ、m−メトキシベンゾイルアミノ)、好まし
くは炭素数4〜30のヘテリルカルボニルアミノ基(例
えば、2−ピリジルカルボニルアミノ、3−ピリジルカ
ルボニルアミノ、フロイルアミノ)〕、アルコキシカル
ボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30、例えばメ
トキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、
メトキシエトキシカルボニルアミノ)、アリールオキシ
カルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜30、例え
ばフェノキシカルボニルアミノ、p−メトキシフェノキ
シカルボニルアミノ、p−メチルフェノキシカルボニル
アミノ、m−クロロフェノキシカルボニルアミノ、o−
クロロフェノキシカルボニルアミノ)、スルホニルアミ
ノ基(好ましくは炭素数1〜30、例えばメタンスルホ
ニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ、トルエンスル
ホニルアミノ)、アミノカルボニルアミノ基(好ましく
は炭素数1〜30、例えばメチルアミノカルボニルアミ
ノ、エチルアミノカルボニルアミノ、アニリノカルボニ
ルアミノ、ジメチルアミノカルボニルアミノ)、スルフ
ァモイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30、例えば
メチルアミノスルホニルアミノ、エチルアミノスルホニ
ルアミノ、アニリノスルホニルアミノ)、アミノ基(ア
ニリノ基を含む、好ましくは炭素数0〜30、例えばア
ミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、
ジエチルアミノ、n−ブチルアミノ、アニリノ)、アル
コキシ基(好ましくは炭素数1〜30、例えばメトキシ
、エトキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、メトキシ
エトキシ、n−ドデシルオキシ)、アリールオキシ基(
好ましくは炭素数6〜30、例えばフェノキシ、m−ク
ロロフェノキシ、p−メトキシフェノキシ、o−メトキ
シフェノキシ)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数3
〜30、例えばトリメチルシリルオキシ、t−ブチルジ
メチルシリルオキシ、セシルジメチルシリルオキシ、フ
ェニルジメチルシリルオキシ)、ヘテリルオキシ基(好
ましくは炭素数3〜30、例えばテトラヒドロピラニル
オキシ、3−ピリジルオキシ、2−(1,3−ベンゾイ
ミダゾリル)オキシ)、アルキルチオ基(好ましくは炭
素数1〜30、例えば、メチルチオ、エチルチオ、n−
ブチルチオ、t−ブチルチオ)、アリールチオ基(好ま
しくは炭素数6〜30、例えば、フェニルチオ)、ヘテ
リルチオ基(好ましくは炭素数3〜30、例えば2−ピ
リジルチオ、2−(1,3−ベンゾオキサゾリル)チオ
、1−ヘキサデシル−1,2,3,4−テトラゾリル−
5−チオ、1−(3−N−オクタデシルカルバモイル)
フェニル−1,2,3,4−テトラゾリル−5−チオ)
、ヘテロ環基(好ましくは炭素数3〜30、例えば2−
ベンゾオキサゾリル、2−ベンゾチアゾリル、1−フェ
ニル−2−ベンズイミダゾリル、5−クロロ−1−テト
ラゾリル、1−ピロリル、2−フラニル、2−ピリジル
、3−ピリジル)、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素
)、ヒドロキシ基、ニトロ基、スルファモイル基(好ま
しくは炭素数0〜30、例えばメチルスルファモイル、
ジメチルスルファモイル)、スルホニル基(好ましくは
炭素数1〜30、例えばメタンスルホニル、ベンゼンス
ルホニル、トルエンスルホニル)、アゾ基(好ましくは
炭素数3〜30、例えばp−ニトロフェニルアゾ)、ア
シルオキシ基(好ましくは炭素数1〜30、例えばホル
ミルオキシ、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ)、カ
ルバモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜30、例え
ばメチルカルバモイルオキシ、ジエチルカルバモイルオ
キシ)、イミド基(好ましくは炭素数4〜30、例えば
、こはく酸イミド、フタルイミド)、スルフィニル基(
好ましくは炭素数1〜30、例えばジエチルアミノスル
フィニル)、ホスホリル基(好ましくは炭素数0〜30
、例えばジアミノホスホリル)、アゾリル基(好ましく
は炭素数2〜30、例えば3−ピラゾリル)などが挙げ
られる。
例中の色素は、本発明を詳しく説明するためのものであ
り、これによって本発明は限定されない。
像主薬Cとを酸化カップリングさせて合成する。
ング反応中に脱離する脱離基である。もちろん、カプラ
ーAおよびBはその互変異性体でもよい。あるいは、本
発明の色素は、上記カプラーAまたはBと下記化合物D
とを脱水縮合させて合成する。
を説明する。 (合成例1) 例示化合物(2)の合成
4−トリアゾール(化合物a)1.5g(12.3mm
ol)を30mlのテトラヒドロフランに溶解し、これ
に水素化ナトリウム(60% in oil)1.
0g(24.6mmol)を加え、50℃に加熱した。 それにブロモピルビン酸エチル1.9ml(14.7m
mol)を加え、さらに2時間加熱還流した。室温まで
冷却後、食塩水と2N塩酸溶液を加えて、液性を酸性に
した後、酢酸エチルで2回抽出し、乾燥した後酢酸エチ
ルを減圧留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製することにより化合物(b)を1.20g
(45%)得ることができた。尚、化合物(a)の合成
は、「ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティー
(Journal of the Chemic
al Society),5149,(1962)に
記載の方法にて合成した。化合物(b)を1.0g、酢
酸エチル20cc、エタノール20cc、水24cc、
炭酸ナトリウム6.6g、化合物(c)を3.1gを攪
拌しているところへ、過硫酸アンモニウム4.6gを水
5ccに溶解したものを加えた。20℃で1時間反応さ
せた後、酢酸エチルで抽出し、有機層を2回水洗し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去した。粗
結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精
製し、更にメタノールを用いて再結晶を行い、例示化合
物(2)を0.82g得た。(収率37%) m.p. 223〜224℃
に比較用色素aの吸収特性も図1に示す。図1において
、実線は本発明の色素2の吸収特性を示し、点線は比較
用色素aの吸収特性を表わす。また本発明の色素2およ
び比較用色素aの最大吸収波長(λmax )および半
値巾は、以下のとおりである。 本発明の色素2 λmax : 602.3nm(酢酸エチル中)半値
巾: 94.9nm 比較用色素 λmax : 562.6nm(酢酸エチル中)半値
巾: 88.1nm 比較用として以下の比較用色素aを用いた。
収を有しており且つイエロー部の不要吸収が少く、また
シアン色素として適した吸収極大を持っていることがわ
かる。一方、カプラー部分R7 の置換基が、フェニル
基(σp が0.15より小さい)である比較用色素a
はシアン色になっていないことがわかる。
x )を記した。 化合物22 618nm 化合物4 606nm 化合物7 619nm 化合物10 616nm
験を行った色素および結果について表1に示した。 条 件:メリーゴーランドタイプキセノン照射器(同
潤光機株式会社製) (出力 500W、10万ルクス) セ ル:石英セル 溶 媒:アセトニトリル 濃 度:3.0×10−5(モル/リットル)残存率
:強制褪色試験の前後でλmax での濃度の変化(単
位%)で表わした。
ために、下記のモデルフィルターを作製し、その光堅牢
性を調べた。支持体として裏面に耐熱滑性処理が施され
た厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィル
ム(帝人製)を使用し、フィルムの表面上に下記組成の
色素分散層用塗料組成物をワイヤーバーコーティングに
より塗布し、モデルフィルターを作製した。塗布厚みを
調製し、乾燥後の濃度が2.0になるようにした。
1.0g ポリビニルブチラール樹脂
(電気化学製デンカブチラール
5000−A)
3.0g トルエン
50 c
c メチルエチルケトン
50 cc ポリイソシアネート(武田薬品製
タケネートD110N) 0.2cc
63】次に、上記色素1を表2に記載の他の色素に変え
た以外は、上記と同様にしてモデルフィルターを作製し
た。作製したモデルフィルターを14日間、17000
ルクスの蛍光灯に照射し、色素の安定性を調べた。照射
の前後で濃度を測定し、その比で安定度を評価した。結
果を表2に示した。
色素に比べて、著しく光堅牢性が高いことが明らかであ
る。
−アクリル酸エステル共重合物の中空微粒子(粒子径0
.3〜0.4μm)43部(固形分重量部、以下同じ)
、気相法無水シリカ(粒子径12nm)17部、スチレ
ン−ブタジエン共重合物ラテックス12部、ポリ酢酸ビ
ニルラテックス18部、ポリメチルメタクリレート微粒
子(粒子径約8μm)10部よりなる塗布液を、固形分
量が10g/m2 となるようにワイヤーバーを使用し
て塗布し、インクジェット記録用紙を調製した。この記
録用紙に、下記成分より作られたインク液Aを、ノズル
孔径50μmのヘッドを設置した静電加速型インクジェ
ット装置を用いて、ドット本数8本/mmにてインクジ
エット記録を行った。
6g フタル酸ジエチル
30g アジピン酸ジイソプロピル
44g N,N−ジエチルドデカンアミド
20g
、鮮明で濃度の高いシアンの画像が得られた。インク液
Aの色素1に変えて、当g数の色素7、10を用いて、
同様の記録を行った。その結果、いずれの色素も、イン
ク液の吐出性は良好であり、鮮明で濃度の高い、シアン
の画像が得られた。この画像を室内光に3ケ月放置して
おいた後の濃度以下率は1%以下であった。
て滑性耐熱保護層用塗工液をつくった。 塗工液の組成: メチルメタクリレート
10
g n−ブチルアクリレート
2g ベンゾイルパーオキサイド
0.1g シリカ
2.5g トルエン
35g イ
ソプロピルアルコール(IPA)
15gこの塗工液にトル
エンとIPAの混合液を適度に加え希釈して、基体であ
る厚さ6μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(
以下PETと略する)にワイヤーバーで塗工し、100
℃で1分間乾燥して、厚さ約1.5μmの滑性耐熱保護
層を形成した。
。 熱溶融インキの組成: 色素1
10g ラノリン脂肪酸バリウム塩
30g カルナバワックス
20g パラフィンワックス
20g 分散剤
0.5g
流動パラフィン
5g上記組成のインキを68℃でメチルエチルケトン
100ccとトルエン130ccの混合液とともにボー
ルミルで約48時間充分分散させた。次いで20重量%
の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂溶液(樹脂10
部、トルエン20部、メチルエチルケトン20部)30
0gを上記インキ分散液に加え、約1時間ボールミルに
よって分散し、感熱転写組成物の塗剤を作成した。この
塗剤をワイヤーバーを用いて裏面に前記滑性耐熱保護層
を設けた前記PETフィルムの表面に塗布し、乾燥温度
100℃で1分間乾燥して、厚さ約5μmの熱溶融イン
キ層を形成した。
料として普通紙を用い、熱転写材料の転写層(熱溶融イ
ンキ層)と普通紙を重ね合わせ、熱転写材料の支持体側
からサーマルヘッドで印字し、転写を行ったところ、鮮
明なシアン色の記録を得ることができた。更に、前記熱
溶融インキの色素1に変えて、当g数の色素7、10を
用いて、同様のインキを作成し、熱転写材料を作製した
。この熱転写材料を用いて、上記と同様に転写を行った
ところ、鮮明なシアン色の記録を得ることができた。 またこれら記録済シートの光画像安定性を調べたところ
、非常に安定性のよい結果が得られた。
メチン色素は、インクジェット、感熱転写等における画
像形成用色素として用いると、その著しく優れた光堅牢
性により、褪色や変色のない高濃度の画像が得られた。 また、本発明のアゾメチン色素を種々のフィルター用染
料として用いた時も、優れた光堅牢性により、濃度低下
が著しく少なく、安定性の優れたフィルターを得ること
ができた。
チル溶液の吸収スペクトルである。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(I)および(II)で表
わされるピロロトリアゾールアゾメチン色素【化1】 式(I)および(II)中、R1 、R2 、R3 お
よびR4 は、各々独立に、水素原子又は非金属の原子
団を表わす。R5 およびR6 は、各々独立に、水素
原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表わす
。R7 は、ハメットの置換基定数σp が0.15以
上の電子吸引性基を表わす。R8 およびR9 は、各
々独立に、水素原子又は非金属の原子団を表わす。ただ
し、R7 が−CONHR10以外である場合はR7
とR8 のハメットの置換基定数σp 値の和が0.6
5以上である。R10は、水素原子又は置換基である。 R1 とR2 、および/又はR2 とR5 、および
/又はR5 とR6 、および/又はR6 とR3 、
および/又はR3 とR4 は、互いに結合して環構造
を形成していてもよい。R7 とR8 は、互いに結合
して、環構造を形成していてもよい。
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Cited By (3)
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EP1582919A1 (en) | 2004-03-23 | 2005-10-05 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Silver halide photosensitive material and photothermographic material |
EP1635216A1 (en) | 2004-09-14 | 2006-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photothermographic material |
-
1991
- 1991-06-07 JP JP3162324A patent/JP2676656B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP1582919A1 (en) | 2004-03-23 | 2005-10-05 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Silver halide photosensitive material and photothermographic material |
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