JPH0435765A - 塗布方法 - Google Patents

塗布方法

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JPH0435765A
JPH0435765A JP13935690A JP13935690A JPH0435765A JP H0435765 A JPH0435765 A JP H0435765A JP 13935690 A JP13935690 A JP 13935690A JP 13935690 A JP13935690 A JP 13935690A JP H0435765 A JPH0435765 A JP H0435765A
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克典 五井
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、押出し型塗布方法に係り、写真感光材料、感
熱記録材料、より好適には磁性記録媒体の製造に際し、
高粘度の磁性塗布液を高速、かつ安定的に重層塗布する
際に適用される塗布方法に関する。
〔従来の技術〕
一般に、コーティング方式としては、ロールコート、グ
ラビアコート、エクストルージョンコート、スライドビ
ートコート、カーテンコート等種々の方式が知られてい
る。
磁気記録媒体は、可撓性支持体(以下、ウェブともいう
)上に磁性塗布液を塗布することによって得られるが、
その塗布方式としては、ロールコート、グラビアコート
、エクストルージョンコートが一般的である。前記ロー
ルコート、グラビアコートでは、ロールから塗布液が飛
散してウェブ、塗布機周辺を汚したり、またロールの回
転により液溜め部に空気を巻き込み、泡、スジ等を発生
させる場合があった。
この欠点を解消するために、背面を支持しない押出し塗
布方法、すなわちエクストルージョンコート塗布方法が
用いられており、この方法に関する基本技術は、たとえ
ば特開昭50〜138036号公報、特公昭54−73
06号公報等に開示されている。この方法によれば均一
な塗布膜厚が得られる点で優れている。しかし、このエ
クストルージョンコート方式のあっても、塗布速度が高
速になるに従い、塗布膜厚の可能領域が狭くなったり、
あるいは塗布液の粘度が上がるにつれ、薄膜高速操業が
困難となる欠点があった。
この問題を解決するために、たとえば特開昭62117
666号公報、特開昭63−164023号公報におい
ては、塗布ヘッドから吐出する塗布液の液圧をコントロ
ールすることにより、前記塗布ヘットとウェブとの液溜
りを保持しながら塗布する方法が開示されている。
一方、近年磁気記録媒体の高密度化および薄層化の指向
、あるいはデータ保存量の増大化に伴って、多層化が図
られるようになっており、これに対応してエクストルー
ジョンコートに用いる塗布装置として、たとえば特開昭
63−88080号公報においては2つのスリットを有
する塗布ヘッドの形状を特定した2層塗布装置が開示さ
れている。また、前記特開昭63−164023号公報
においても、塗布ヘッドに形成された2つのスリットよ
り独立的に2種の塗布液を吐出させるとともに、ウェブ
間での液溜りを保持しながら2層塗布する装置が開示さ
れている。
〔発明が解決しようとする課題〕
前述した液溜り保持の塗布方法の原理を考えると液圧の
発生は、液溜り部の形状と密接に関係し、その形状いか
んによって、その塗布性能が大きく左右されるものと考
えられる。しかしながら、前記方法においては液溜りを
保持すること、および液溜りの液圧については具体的に
記載されているものの、液溜りの形状について、特にセ
ンターエツジおよびバックェツジ面の形状についてなん
ら考慮がなされておらず、そのため、特に高速時におい
ては安定的に塗布することができないことを本発明者ら
は知見した。
そこで本発明の課題は、前述した2スリット型連続重層
塗布に関し、前記公知技術の欠点を補うべく、特に高速
塗布時においても薄膜で安定的に塗布を可能とし、もっ
て生産性の向上を図り得る塗布方法を提供することにあ
る。
〔課題を解決するための手段〕
上記課題は、フロントエツジ面、センターエツジ面およ
びバックェツジ面に沿って連続的に走行する可撓性支持
体表面の背面を支持しない部分に、前記フロントエツジ
とセンターエツジとの間の第1スリット、前記センター
エツジとバックェツジとの間の第2スリットのそれぞれ
から塗布液を連続的に押し出して前記支持体表面に重層
塗布する方法において、 前記センターエツジ面と可撓性支持体との間、並びにバ
ックェツジ面と可撓性支持体との間で塗布液の液溜りを
連続して形成保持するとともに、前記センターエツジ面
の始端部から可撓性支持体までの塗布液押出し方向の離
間距離L1が塗布液膜厚hwの1〜10倍の範囲内であ
り、かつ前記センターエツジ面の終端部から可撓性支持
体までの塗布液押出し方向の離間距離L3が前記し1寸
法以内でかつ塗布液膜厚hwの1〜3.5倍の範囲内で
あり、また前記バックェツジ面の始端部から可撓性支持
体までの塗布液押出し方向の離間距離L2が塗布液膜厚
hwの1〜5倍の範囲内であり、さらに可撓性支持体5
00m幅当りの張力が10〜50kgfであることで解
決できる。
〔作用〕
センターエツジ部およびバックェツジ部で液溜りを保持
しつつ塗布を行う場合には、第3図に示されるように、
フロントエツジ面の終端部Eからバックェツジ面S2の
終端部Aにかけて液溜り6H,6Iがきっちり保持され
ることが重要であり、たとえばこれが不十分な場合には
、第4図に示されるようにH部において空気同伴を伴い
、実用に耐えない面質となる。また、液圧は充分である
ものの、第5図に示されるように、ウェブ1がバックェ
ツジ終端部Aに近接しまたは接触して塗布液の掻き取り
を起こす場合もある。
一方、特開昭62−117666号公報は、液溜りを形
成するまたは管理すべき因子として、ウェブの厚み、塗
布部テンション、塗布速度、塗布量、液体の種類、粘度
、塗布ヘッド先端の形状、先端の形状に対するウェブの
進入、退出角度を挙げている。
そして、同公報は、液圧が重要とする。
しかし、本発明者らの知見によれば、低速塗布ならば、
多くの場合、−船釣な条件の下で、液圧の管理のみで充
分であるとしても、高速塗布、特に300m/分以上の
高速塗布の場合、第4図や第5図に示す塗布不良が生じ
ることが多いことが判明した。
しかるに、本発明者らの知見によれば、特開昭62−i
17666号公報に全く開示されていないセンターエツ
ジおよびバックェツジ面の形状が塗布性に大きな影響を
与えることが判明した。
すなわち、本発明においては、センターエツジ面S1お
よびバックェツジ面S2と可撓性ウェブ1との間で塗布
液の液溜り6H16Iをきっちり形成保持するためには
、センターエツジ面S1の始端部りから終端部Cおよび
バックェツジ面S2の始端部Bから終端部Aにかけて、
それぞれ液溜り深さが浅くなるようにエツジ面に傾斜を
設けると、センターエツジ面S1およびバックェツジ面
S2に沿ってウェブ1が走行するとき、液溜り6H16
I部において、塗布液のウェブ1側はウェブlに同伴し
ようとするのに対して、センターエツジ面SIおよびバ
ックェツジ面S2側においてはエツジ面511S2との
間に流体摩擦抵抗を生じ、この反作用として、液溜り6
H16■のウェブ1走行方向の圧力分布Pcは、第3図
のように、バックェツジ面S2の終端部A近くでピーク
を示し、このピーク部分の存在により前述第4図のよう
に空気同伴、あるいは前述の第5図のような掻き落とし
を防止する。
また、前記のピーク部分に現れる充分な液圧が、本発明
が規定するウェブ1の比較的高い張力との関係で、バッ
クェツジ面S2の終端まで、液溜り6H,61を確実に
保持するようになる。しかも、ウェブ1の走行時におけ
る変動が生じても、安定した塗布を行うことができる。
これに対して、特開昭62−117666号公報は、フ
ロントエツジ面については変形例を挙示するものの、バ
ックェツジ面については、単にフラットとする一例のみ
を挙示する例に従うと、液溜りのウェブ走行方向の圧力
分布は、スリットの出口部分が高く、バックェツジ面の
終端に向かうほど低くなる傾向にあり、かかる場合には
、特に高速塗布の場合には、同公報が述べる液圧のみで
管理していても、前述の問題は解消されないし、むしろ
塗布故障を生じる危険性が高い。
上記の点に関しては、後記実施例により、明らかにする
〔発明の具体的な構成〕
以下本発明を図面を参照しながら具体例によりさらに詳
説する。
第1図および第2図は本発明を実施するための装置を示
す図で、ウェブ1はガイドロール2、サポートロール3
.4およびガイトロール5を通り後工程、たとえば乾燥
工程に導かれる。
サポートロール3.4間には、塗布ヘット6がウェブ1
の表面に対して押し付けられ、この押し付は力の度合い
により、ウェブ1の塗布部における張力が設定されるよ
うになっている。この張力設定には、塗布ヘッド6の背
後からたとえばスクリューねじ7によって塗布ヘット6
のウェブ1に対する進出度を調整することで設定される
塗布ヘッド6は、フロントエツジ6A、センターエツジ
6Bおよびバックェツジ6Cを有し、前記フロントエツ
ジ6Aとセンターエツジ6Bとの間には、下層液供給路
6Dに連通ずる幅狭のスリット6Eが形成されており、
このスリット6Eの先端部に液溜り部6Hか形成されて
いる。また、前記センターエツジ6Bとバックェツジ6
Cとの間には、上層液供給路6Fに連通ずる幅狭のスリ
ット6Gが形成されており、このスリット6Gの先端部
にも同様に液溜り部6Iが形成されている。
かかる構造により下層塗布液P1についてはポンプ(図
示せず)により前記下層液供給路6Dより圧送されスリ
ット6Eを通り液溜り部6Hに達する。一方、上層塗布
液P2はポンプ(図示せず)により前記上層液供給路6
Fに圧送され分岐スリット6Gを通り液溜り部6Iに達
する。
また、第2図に示されるように種々の幅のウェブ1に対
して共通的に当該塗布ヘッド6を使用しかつ所望の塗布
幅を得るために、フロントエツジ6Aとセンターエツジ
6Bとの間、およびセンターエツジ6Bとバックェツジ
6Cとの間の両側部間には、薄い塗布幅規制板8.8が
介装されている。塗布ヘッド6の長手方向両端は端板9
.9により塞がれている。なお、前記塗布幅規制板8.
8は、エツジ形成部材と一体に当初から形成したもので
あってもよい。また、塗布幅規制板8.8の内側縁は出
側に幅広に傾斜していてもよいし、好ましくは両側部に
膜厚の乱れを生じさせないために、ウェブ1と実質的に
直交していることが好ましい。
サポートロール4とガイトロール5との間には好ましく
はウェブlに対して塗布した塗布層の幅方向膜厚分布を
検出するための膜厚検出器10が設けられており、この
膜厚検出器10によって検出した塗布層の幅方向分布に
基づいて前記スクリューねじ7によるウェブ1に対する
進出塵を調整することによりウェブ1の張力調整がなさ
れる。
次に、本発明の要旨を構成する前記第1スリット6Eお
よび第2スリット6Gの先端部に形成される液溜り部6
H,6Iの形状について第3図に基づいて詳説する。
ウェブ1とフロントエツジ6A、センターエツジ6Bお
よびバックェツジ6Cとは塗布液によって一定の離間距
離をもって保持され、前記第1スリット部先端には液溜
り6Hが、前記第2スリツ)6Gの先端には液溜り6I
がそれぞれ形成されている。
本発明方法においては、仮に塗布後のウェット塗布液膜
厚をhwとした場合、センターエツジ面S1の始端部り
から終端部Cに至るエツジ面によって形成される液溜り
6Hの形状は、ウェブ1の進行とともに浅くなるように
構成され、センターエツジ6Bの始端部りからウェブ1
までの鉛直方向離間距離L1は、lhw≦L1≦10h
wとされる。好ましくは2hw≦L1≦7hwである。
前記L1がlhw未満の場合、バックェツジ面Sの終端
に向かう前述の圧力分布を形成できず、前述第4図のよ
うに空気同伴状態となり、高速塗布において良好な塗布
性を得ることができない。
逆に、10hwを超える場合には、前述第5図のように
掻き落とし状態となる。また、前記センターエツジ面S
1の終端部CにおけるウェブIまでの鉛直方向離間距離
り、は、前記し1寸法以内でかつlhw≦L3≦3.5
hwとするのが、前記センターエツジ面SIにおいて、
第3図に示されるような液圧分布Pcを形成させる上で
好ましい。
一方、バックェツジ面S2においても、始端部Bから終
端部へに至るエツジ面によって形成される液溜り6Iの
深さがウェブlの進行方向に従い浅くなるように構成さ
れ、バックェツジ6Cの始端部Bからウェブ1までの鉛
直方向離間距離り。
は、lhw≦L2≦5hwとされる。好ましくは2hw
≦L2≦5hwである。
前記L2がIhw未満の場合、バックェツジ面S2の終
端に向かう前述の圧力分布を形成できず、前述第4図の
ように空気同伴状態となり、高速塗布において良好な塗
布性を得ることができない。
逆に、5hwを超える場合、前述第5図のように掻き落
とし状態となる。
他方、本発明において、ウェブ1の張力は、ウェブ1の
500w幅当たり10〜50kgfとされる。
10kgf未満の場合には、ウェブ1の両側部での厚膜
化を十分防止できず、また50kgfを超えるとウェブ
1に大きな伸長力が作用して主に幅中央部分に長手方向
に沿ったツレが発生しウェブ1の平面性を阻害するばか
りでなく、塗布層の表面に凹凸ができ塗布ムラを生じさ
せる。
なお、本発明におけるウェブ1としては、裸の支持体の
他、その支持体に塗布層を有しその塗布層に塗布する際
にも本発明を適用し得るし、この形態も本発明に含まれ
る。また、本発明は、磁性塗料のほか写真感光材料また
は感熱記録材料の塗布にも適用し得る。支持体の材質と
しては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、アクリルなどのプラスチック、紙、アルミなどの金
属板、あるいはそれらの積層体などを用いることができ
る。
〔実施例〕
次に、本発明の効果を実施例により明らかにする。
第2図に示されるように、フィルム幅500ma+。
厚さ14μmのポリエステルフィルムをフィルム張力T
 = l Okg f 1500mm幅で走行させなが
ら、上層塗布液としては粘度がズリ速度10” /se
eで11cpの磁性材料を、下層液としては粘度がズリ
速度10617secでl0CI)の磁性材料を用い、
合計塗布膜厚hw= 25 μm (下層塗布膜厚hw
、=20μm、上層塗布膜厚hw+=5μm)として、
塗布速度200〜500 m /分の速度で変化させる
とともに、前記センターエツジ面S1の始端部りからフ
ィルムまでの鉛直方向離間距離L1並びに前記バックェ
ツジ面S、の始端部Bからフィルムまでの鉛直方向離間
距離L2を、コーターのフィルムに対する押し付は角度
および量を変えて膜厚hwの0〜20倍までの間で変化
させ、前記しI、L2寸法をアンリツ(株)社製レーザ
ー変位センサー「KL−131A型」で測長し、CCD
カメラで塗布時の液溜りの様子を撮影し、モニターで観
察した。
第6図および第7図にその試験結果を示す。第6図は縦
軸にり8寸法(μm)を示し、横軸にフィルムの走行速
度(m/分)を示し、第7図は縦軸にL2寸法(μm)
を示し、横軸にフィルムの走行速度(m/分)を示す。
第6図および第7図において図示される斜線内において
は、良好な面質を得ることができた。すなわち、センタ
ーエツジ6Bの51寸法で25〜250μmの範囲で良
好な面質が得られ、塗布膜厚hwに対する比では、1〜
10倍の範囲となっていることが判明される。一方、バ
ックェツジ60部のし2寸法との関係では25〜125
μmの範囲で良好な面質が得られ、塗布膜厚hwに対す
る比では、1〜5倍の範囲となっていることが判明され
る。
また、従来方法においては、塗布速度200m/分を超
えるあたりから塗布速度の増加に伴い、薄膜塗布性が悪
くなったが、本発明方法によれば塗布速度500m/分
までは、その塗布速度に影響されることなく良好な面質
が得られ、高速時の塗布性に優れることが判明された。
また、前記フィルム張力を5〜60 kg f 150
0mmの間で変化させた結果、フィルム張力が特に10
〜50 kg f 1500aoaの範囲にある場合に
は、特に高速、薄膜塗布性に優れることが判明した。
さらに、合計塗布膜厚hwを15μmおよび45μmと
設定し、同様の試験を行った場合についても同様の結果
が得られた。
〔発明の効果〕
以上詳説の通り、本発明によれば、2スリット型重層塗
布に関し、高速塗布時においても安定的に薄膜塗布がで
き、もって生産性の向上を図り得る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を実施するための塗布装置の概要図、第
2図はその要部斜視図、第3図はコーターヘッド要部拡
大断面図、第4図および第5図は塗布状況を説明するた
めの図、第6図および第7図は本実施例における試験結
果を示す図である。 1・・・ウェブ、2,5・・・ガイトロール、3.4・
・・サポートロール、6・・・塗布ヘッド、7・・・ス
クリューねじ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)フロントエッジ面、センターエッジ面およびバッ
    クエッジ面に沿って連続的に走行する可撓性支持体表面
    の背面を支持しない部分に、前記フロントエッジとセン
    ターエッジとの間の第1スリット、前記センターエッジ
    とバックエッジとの間の第2スリットのそれぞれから塗
    布液を連続的に押し出して前記支持体表面に重層塗布す
    る方法において、 前記センターエッジ面と可撓性支持体との間、並びにバ
    ックエッジ面と可撓性支持体との間で塗布液の液溜りを
    連続して形成保持するとともに、前記センターエッジ面
    の始端部から可撓性支持体までの塗布液押出し方向の離
    間距離L_1が塗布液膜厚hwの1〜10倍の範囲内で
    あり、かつ前記センターエッジ面の終端部から可撓性支
    持体までの塗布液押出し方向の離間距離L_3が前記L
    _1寸法以内でかつ塗布液膜厚hwの1〜3.5倍の範
    囲内であり、また前記バックエッジ面の始端部から可撓
    性支持体までの塗布液押出し方向の離間距離L_2が塗
    布液膜厚hwの1〜5倍の範囲内であり、さらに可撓性
    支持体500mm幅当りの張力が10〜50kgfであ
    ることを特徴とする塗布方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH05104054A (ja) * 1991-10-18 1993-04-27 Fuji Photo Film Co Ltd 塗布方法及び装置
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