JPH0722733B2 - 塗布方法及び装置 - Google Patents

塗布方法及び装置

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JPH0722733B2
JPH0722733B2 JP61194072A JP19407286A JPH0722733B2 JP H0722733 B2 JPH0722733 B2 JP H0722733B2 JP 61194072 A JP61194072 A JP 61194072A JP 19407286 A JP19407286 A JP 19407286A JP H0722733 B2 JPH0722733 B2 JP H0722733B2
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JP
Japan
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coating
liquid film
free
hopper
film
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JP61194072A
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康人 成瀬
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/007Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
    • B05C5/008Slide-hopper curtain coaters

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  • Coating Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は塗布方法及び装置に関するものである。特に写
真用フイルム、印画紙等の写真感光材料,感光性印刷
版,磁気録音テープ等の磁気記録材料や感圧複写材の製
造において、連続走行している長尺帯状支持体(以下、
「ウエブ」という。)に液上組成物を塗布する方法及び
装置に関するものである。更に詳しくは、走行するウエ
ブにスライドホッパーよりの自由落下塗布液膜を付与す
る塗布方法及び装置に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、連続走行するウエブにホッパーよりの自由落下塗
布液膜を付与する塗布方法は、家具、鉄板等の塗布に使
用されて来たが、塗布技術の進歩向上に従い次第に高精
度の塗布が可能になり、近年に至り特公昭49-24133号公
報,同49-35447号公報に開示される如く、自由落下塗布
液膜による塗布方法を写真感光材料の製造のような特に
精密さを要求される分野に適用する試みもみられるに至
つている。
この特公昭49-24133号公報,同49-35447号公報に開示さ
れている方法は、第4図に示すようにスライド型注液器
(以下、「スライドホツパー」という。)よりの塗布液
をスライド画6上に傾斜流下液膜7を形成させ、それを
2本の支持部材(以下、「エツジガイド」という。)8
の間で支持して薄膜状の自由落下塗布液膜11を形成し、
連続走行しているウエブ12上に塗布するというものであ
る。
この塗布方法及び装置においては、ウエブ12に自由落下
塗布液膜11を塗り付けるには特公昭49-24133号公報,同
49-35447号公報に示されているように、塗布装置前面、
ホツパー下方にデフレクター16とトレー17を設け形成さ
れた自由落下塗布液膜11をデフレクター16で受け塗布作
業開始前はトレーへ塗布液を流しておき、塗布作業開始
時にデフレクター16を回転あるいは摺動させウエブ12に
膜を落下させる方法が知られている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしこのような塗布開始時の塗布液の塗り付け方法に
おいては、コーター前面スライドホツパー1の下方に広
いスペースを必要とし自由落下塗布液膜11の高さを低く
することが困難であり、又ウエブへの自由落下塗布液膜
の塗付けを開始するのに高流量を必要とした。
自由落下塗布液膜の塗り付けを低流量で行うことは、塗
布膜を更に薄く出来ることであり、製品品質上,又生産
能率上,更に製品得率上非常に重要なことであり、強く
要望されていた。
本発明の目的はウエブへ低流量の送液量にても塗布液膜
の塗り付けが出来て、それによって塗布膜を更に薄く出
来、製品品質上,又生産能率上,更に製品得率上非常に
重要な塗布方法及び装置を提供することにある。
本発明の要旨は、この問題を受板を用いることに依つて
解決したことにある。
本発明は第1の発明として、連続走行するウエブ上に、
スライドホッパーよりの傾斜流下液膜を自由落下塗布液
膜に変換した上で付与する塗布方法において、ウエブに
自由落下塗布液膜を塗り付ける前に、スライドホッパー
より流出した該傾斜流下液膜を該スライドホッパーのリ
ップの直下で該リップ先端部と接する受板で受けて除外
し、塗り付け開始時に該受板を水平に移動させて、リッ
プ直下より取除き該傾斜流下液膜から瞬時に自由落下塗
布液膜を形成させることを特徴とする塗布方法であり、
第2の発明として連続走行するウエブ上にスライドホッ
パーよりの傾斜流下液膜を自由落下塗布液膜に変換した
上で付与する塗布装置において、該スライドホッパーの
リップとウエブとの間に、該スライドホッパーを流下す
る傾斜流下液膜を継続して流下せしめ得る挿入離脱自在
な水平動受板をスライドホッパーの直下に該リップ先端
部と接して配設し、該受板が離脱した時に自由落下塗布
液膜を形成するようにしたことを特徴とする塗布装置で
ある。
本発明に使用されるウエブとしては、紙,プラスチツク
フイルム,金属,レジンコーテイツド紙,合成紙等が包
含される。プラスチツクフイルムの材質は、たとえば、
ポリエチレン,ポリプロピレン等のポリオレフイン、ポ
リ酢酸ビニル,ポリ塩化ビニル,ポリスチレン等のビニ
ル重合体、6,6−ナイロン,6−ナイロン等のポリアミ
ド、ポリエチレンテレフタレート,ポリエチレン−2,6
−ナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、
セルローストリアセテート,セルロースダイアセテート
等のセルロースアセテート等が使用される。またレジン
コーテイツド紙に用いる樹脂としては、ポリエチレンを
はじめとするポリオレフインが代表的であるが、必ずし
もこれに限定されない。又、金属ウエブとしては、例え
ばアルミニウムウエブがある。
又、塗布液としては、その用途に応じて種々の液組成の
ものが含まれる、例えば、写真感光材料におけるよう
な、感光乳剤層,下塗層,保護層,バツク層,等の塗布
液;磁気記録媒体におけるような、磁性層,下塗層,潤
滑層,保護層,バツク層,等の塗布液;その他接着剤
層,着色層,防錆層,等の塗布液が挙げられ、それら塗
布液は水溶性バインダー又は有機バインダーを含有して
成つている。
本発明において使用されるスライドホツパーとしては、
スライド型,及びスライドとエクストルージヨンの混合
型のものがあり、何れの型のものでもよい、又ホツパー
は一層用のものだけのものでなく、多層用のも用いられ
る。以下本発明では「スライドホッパー」のことを単に
「ホッパー」とも称する ホッパーのリップの直下で該リップ先端部と接する受板
とは、塗り付け開始前はホッパーより流出する液をこの
受板によって受けて液受けパンに除外し、又塗り付け開
始時に該受板を水平に移動させ傾斜流下液膜が自由落下
塗布液膜に変換する機構をもったものであれば良い。
ホツパーより塗布液を流出し受板で受けている時間は、
ウエブの塗布されるべき先頭がリツプ直下に浸入してく
る迄、出来るだけ短い時間であることが塗布液量の損失
を考えると望ましい。
以下、図面に基いて本発明の内容を更に詳細に説明す
る。
第1図及び第2図は、本発明の自由落下塗布液膜による
塗布装置の一実施例の側面図であり、第1図はウエブに
対する塗布液の塗り付け前、第2図は塗布液の塗り付け
以後の状況を示す。
先づ塗布操作をスタートする際は、第1図に示すように
先づ塗布液を供給するホツパー1のリツプ9の直下で該
リップ先端部と接する。受板10を挿入し、しかる後ポン
プ5を運転し塗布液をホツパー1に供給する。塗布液は
供給管4を通りポケツト3でホツパーの幅方向全体にひ
ろがり、スロツト2からスライド面6を流下しスライド
面6上に傾斜流下液膜7を形成する。その傾斜流下液膜
7を受け板10で受けて液受けパン15に流す。
塗り付け開始時になると第2図に示すように受板10を後
退させ、傾斜流下液膜はエツジガイド8の支持部材14に
取付けられたエツジガイド8に依つて両縁を支えられ自
由落下塗布液膜11に変換した上で、バツキングローラ13
に支えられ連続的に走行するウエブ12上に塗布される。
受板10はリップ9の先端部に接触させる。
〔作用〕
本発明はホツパーのリツプ直下該リップの先端部と接す
るに受板を設け、塗付け準備時にホツパーより流出する
塗布液を受板に受けて除外し、塗り付け開始時に受板を
抜き取ることにより、ウエブ上に始めて塗りつけられる
自由落下塗布液膜は瞬間的に慣性的作用により多少の塗
布液を受板上より付加される。これによつて塗り付け時
の塗布流量はウエブ上のビード形成に必要な余分の液量
が付加されたことになり、安定したビードを形成するこ
とが出来て、塗り付けを順調に行うことが出来る。尚こ
の方法及び装置において受板はホツパーのリツプとウエ
ブの間隔は短くすることが可能であり、従つて自由落下
塗布液膜も短く出来る。
〔実施例〕
第1表に示す組成と物性を有する塗布液を第1及び第3
図に示すような一層のスライドホツパーによる自由落下
塗布液膜塗布装置を用いて塗布した。
〔第1表〕 フエノール系樹脂 15 重量部 メタノール 15 〃 メチルグリコール 70 〃 フツ素系界面活性剤 0.4 〃 粘度 20cp(20℃にて測定) 表面張力 27dyne/cm(20℃にて測定) 塗布開始時に、受板10をリツプ9に接触させポンプから
塗布液を供給し、受板10を後退させることにより、速度
120m/分,厚さ100μ,巾100cmのポリエチレンテレフタ
レートフイルムに塗り付け操作を行つた。
このときの塗り付可能塗布量(湿潤量)は50cc/m2,自
由落下塗布液膜高さは5cm,膜巾は99cmであつた。
比較として、第1表に示す組成と物性を有する塗布液を
特公昭49-24133号公報,、同49-35447号公報に示す如
き、形成された膜をデフレクターで受け自由落下塗布液
膜を形成しておき、速度120m/分,厚さ100μ,巾100cm
のポリエチレンテレフタレートフイルムに塗布開始時に
デフレクターを回転あるいは摺動させ、塗り付け操作を
行つた。塗布量(湿潤状態)は70cc/m2,自由落下塗布
液膜の高さは20cm,膜巾は99cmであつた。上記により明
らかなように本発明は従来方法に比し塗り付可能塗布量
が70cc/m2が50cc/m2と少なくなり自由落下塗布液膜の高
さも20cmから5cmに減じることが出来た。
〔発明の効果〕
本発明はウエブ上に塗布液を塗り付ける前に、スライド
ホツパーより流出した塗布液をホツパーリツプ部の直下
で該リップの先端部に接した受板で受けて除外し、塗り
付け開始時に、該受板を水平移動させリツプの直下より
取除き自由落下塗布液膜を形成することにより、低流量
での塗り付け開始が可能になつた。それによつて、製品
品質の向上,生産能力の向上,及び製品得率の向上に優
れた効果を得ることが出来た。又自由落下塗布液膜の高
さを短くすることが可能になり、塗布品質の一層の安定
が可能となつた。
【図面の簡単な説明】
第1図,第2図は本発明の塗布装置の一実施例の側面図
であり、第1図は塗り付け前の状況を示し第2図は受板
を離脱した塗り付け以後の状況を示す。第3図は第1図
の斜視図である。第4図は従来の塗布装置の一実施例の
側面図である。 1……スライドホッパー(ホッパーとも称する) 2……スロツト、3……ポケツト 4……供給管、6……スライド面 7……傾斜流下液膜、8……エツジガイド 10……受板 11……自由落下塗布液膜 12……ウエブ 13……バックアップロール 14……エツジガイドの支持部材 15……液受パン 16……デフレクター 17……トレー

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】連続走行するウエブ上に、スライドホッパ
    ーよりの傾斜流下液膜を自由落下塗布液膜に変換した上
    で付与する塗布方法において、ウエブに自由落下塗布液
    膜を塗り付ける前に、スライドホッパーより流出したが
    該傾斜流下液膜を該スライドホッパーのリップの直下で
    該リップ先端部と接する受板で受けて除外し、塗り付け
    開始時の該受板を水平に移動させて、リップ直下より取
    除き該傾斜流下液膜から瞬時に自由落下塗布液膜を形成
    させることを特徴とする塗布方法。
  2. 【請求項2】連続走行するウエブ上に、スライドホッパ
    ーよりの傾斜流下液膜を自由落下塗布液膜に変換した上
    で付与する塗布方法において、該スライドホッパーのリ
    ップとウエブとの間に、該スライドホッパーを流出する
    傾斜流下液膜を継続して流下せしめ得る挿入離脱自在な
    水平動受板をスライドホッパーの直下に該リップ先端部
    と接して配置し、該受板が離脱した時に自由落下塗布液
    膜を形成するようにしたことを特徴とする塗布装置。
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JPS5226793A (en) * 1975-08-22 1977-02-28 Takada Kikai Kk Visual field meter
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