JPH04354560A - スピンナー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は例えば半導体ウエハに被
膜形成用のレジスト液を塗布したり、半導体ウエハの裏
面を洗浄する際に用いるスピンナーに関する。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩ等の半導体チップの製造工程に用
いるスピンナーとして従来から用いられているものは、
カップ内に下方からチャックを臨ませ、このチャックの
上面を平坦で且つ真空引き用の吸引穴（溝）が開口する
吸着面とし、この吸着面上に半導体ウエハを載置して吸
着せしめた状態でチャックを高速回転することで、半導
体ウエハの表面中央部に滴下したレジスト液を遠心力で
均一に拡散せしめるようにしている。

【０００３】また、半導体ウエハの表面中央部にレジス
ト液を塗布すると、その一部はウエハの周縁から下面に
廻り込んで固化するので、チャックの外周部にウエハ裏
面の周縁部に向けて洗浄液を噴出するノズルを備えたス
ピンナーも知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、半導
体ウエハの周縁から下面に廻り込んだレジスト液を洗浄
液を噴出して洗浄すると、洗浄液は極めて粘性が小さい
ため半導体ウエハ下面を伝って吸着面にまで到達する。 そして、洗浄液が吸着面の吸引穴に入り込むと十分な吸
引力を発揮できなくなる。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明は、チャック上面の吸着面よりも外側部分に溝部を
設け、この溝部を形成する外側壁の高さを吸着面と面一
となる位置よりも若干下げ、板状被処理物の下面と外側
壁上端との間に毛細管現象を生じ得る隙間を形成するよ
うにした。

【０００６】

【作用】半導体ウエハ下面を伝って周縁部から移動して
きた洗浄液は、溝部の外側壁に吸いよせられて溝部内に
入り込み、溝部内に入り込んだ洗浄液は遠心力によって
外部に飛散せしめられる。

【０００７】

【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで、図１は本発明に係るスピンナーの断
面図、図２は同スピンナーの平面図、図３は溝部の断面
図、図４はチャックの斜視図である。

【０００８】スピンナー１は上面を開放したカップ２の
底面中央に開口３を形成し、この開口３を覆うようにリ
ング状ブロック４を取り付け、このリング状ブロック４
に半導体ウエハＷの下面周縁に向けて洗浄液を噴出する
洗浄液ノズル５…を等間隔で設けている。

【０００９】前記リング状ブロック４内方には下からモ
ータにて回転せしめられるチャック６を臨ませている。 このチャック６は上面を平坦な吸着面７とし、この吸着
面７に真空源につながる吸引穴または吸引溝８を形成し
ている。

【００１０】また、チャック６上面の吸着面７よりも外
側部分に溝部９を設けている。そして溝部９を形成する
外側壁１０はその高さを吸着面７と面一となる位置より
も若干下げている。その結果、吸着された状態の半導体
ウエハＷの下面と外側壁１０の上端との間に毛細管現象
を生じ得る隙間１１が形成される。

【００１１】一方、カップ２の上端部には内側に向って
カップカバー１２を固着している。このカップカバー１
２はスカート部１２ａを外側に折曲してその上方に排気
通路１３を画成し、この排気通路１３とカップ２内をス
カート部１２ａに形成した穴１４にて連通している。 尚、排気通路１３は図２に示す排気パイプ１５につなが
っている。

【００１２】また、カップ２上方には筒状をなすミスト
カバー１６と塗布ノズル１７が配置されている。ミスト
カバー１６はチャック６を回転させて、半導体ウエハＷ
の表面に滴下したレジスト液を拡散したり裏面洗浄を行
う場合には、図に示す位置まで上昇し、カップ２内から
ミストが外部に飛散しないようにし、またアーム１８を
下降し、塗布ノズル１７から半導体ウエハＷの表面にレ
ジスト液を滴下する場合には、ミストカバー１６をカッ
プ２内に下降させ、ミストカバー１６とアーム１８とが
干渉しないようにする。

【００１３】以上において、チャック６の吸着面７に半
導体ウエハＷを載置吸着せしめ、次いでミストカバー１
６を下げた状態で、塗布ノズル１７を半導体ウエハＷの
中心部上方に位置させ、ノズル１７から半導体ウエハＷ
表面にレジスト液を滴下し、この後ミストカバー１６と
塗布ノズル１７を引き上げ、チャック６を回転せしめる
。

【００１４】すると、レジスト液は遠心力により半導体
ウエハＷの周縁に向って均一に拡散し、更に周縁下部に
まで廻り込む。そこで、前記洗浄ノズル５から半導体ウ
エハＷの周縁下部に向けて洗浄液を噴出し、廻り込んだ
レジスト液を除去する。

【００１５】一方、半導体ウエハＷの周縁下部に向けて
噴出せしめられた洗浄液は図５に示すように、半導体ウ
エハＷの下面を伝って洗浄液が付着していない内方に向
って移動する。そして洗浄液が外側壁１０の位置まで伝
ってくると、外側壁１０の上端と半導体ウエハＷ下面と
の隙間１１は毛細管現象を起こす程狭いため、洗浄液は
外側壁１０に付着し、そのまま外側壁１０を伝って穴１
０ａに至り、穴１０ａから遠心力で放出される。

【００１６】尚、図示例にあっては１つのスピンナー装
置によって、レジスト液の塗布と洗浄を行えるものを示
したが、本発明に係るスピンナーは洗浄専用のスピンナ
ーとしてもよい。

【００１７】

【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
チャック上面の吸着面よりも外側部分に溝部を設け、こ
の溝部を形成する外側壁の高さを吸着面と面一となる位
置よりも若干下げ、板状被処理物の下面と外側壁上端と
の間に小さな隙間を形成したので、半導体ウエハ下面を
伝って周縁部から移動してきた洗浄液は、毛細管現象に
おって溝部の外側壁に吸いよせられて溝部内に入り込み
、吸着面まで到達することがない。したがって洗浄液が
付着することによる吸引力の低下を防止することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るスピンナーの断面図

【図２】同ス
ピンナーの平面図

【図３】溝部の断面図

【図４】チャックの斜視図

【図５】作用の説明に供する溝部の拡大断面図

【符号の説明】

１…スピンナー、２…カバー、５…洗浄ノズル、６…チ
ャック、７…吸着面、８…吸引穴、９…溝、１０…外側
壁、１１…隙間、Ｗ…板状被処理物。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　チャック上面に開口する吸引穴にて板
   状被処理物を吸着し、この状態でチャックとともに板状
   被処理物を一体的に回転せしめるようにしたスピンナー
   において、前記チャック上面の吸着面よりも外側部分に
   溝部を設け、この溝部を形成する外側壁の高さを吸着し
   た板状被処理物の下面と外側壁上端との間に毛細管現象
   を生じ得る隙間を残す高さにしたことを特徴とするスピ
   ンナー。