JPS63181320A - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPS63181320A JPS63181320A JP1359087A JP1359087A JPS63181320A JP S63181320 A JPS63181320 A JP S63181320A JP 1359087 A JP1359087 A JP 1359087A JP 1359087 A JP1359087 A JP 1359087A JP S63181320 A JPS63181320 A JP S63181320A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cup
- resist
- opening
- exhaust
- mist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 abstract description 11
- 101150038956 cup-4 gene Proteins 0.000 abstract 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体を製造する際に使われるレジスト塗布装
置の回転塗布用カップに関するものである。
置の回転塗布用カップに関するものである。
従来、この種のカップは、第５図に示すように、回転吸
着板（以下スピンチャックと呼ぶ）にウェーハを搬送し
、且つ、レジスト等の薬液を滴下するため、ウェーハ外
径よシ大きな開口部が上部中央にあり、またカップ下面
よ）排気をとっている。
着板（以下スピンチャックと呼ぶ）にウェーハを搬送し
、且つ、レジスト等の薬液を滴下するため、ウェーハ外
径よシ大きな開口部が上部中央にあり、またカップ下面
よ）排気をとっている。
回転塗布によ）振シ切られた余剰レジストは、カップの
内壁に当）、一部ミストとなるが、これをカップ下部よ
シ強制排気している。
内壁に当）、一部ミストとなるが、これをカップ下部よ
シ強制排気している。
上述した従来のカップは上部開口部が中央１箇所のため
、カップ下部より強制排気すると、第５図のように、こ
の上部中央開口部よシ外気がウェーハ面に添って流れカ
ップ内に導かれる。
、カップ下部より強制排気すると、第５図のように、こ
の上部中央開口部よシ外気がウェーハ面に添って流れカ
ップ内に導かれる。
しかし、このように強制排気しても、高速回転で一瞬の
内に振シ切られたレジストが力、ツブ内壁に当って飛び
散るミストの一部はウェーハ面まではね返る。また、排
気量を増すとウェー７１面に添って流れる気流速度が大
きくなることから、レジスト溶剤の揮発速度に影響し、
膜厚むらや波打ち等の不具合になシやすい。このため、
はね返シに対しては、第６図のように中央開口部の縁の
下方にはね返シミストを受は止める板を突出し、対処し
ている。この方法は、突出し長さに限界があることや、
中央開口部より吸い込まれた気流が突出し板によって出
来る凹部で巻込みを生じるため、カップ内気流が乱れる
欠点があ）、完全にはね返シを防止するには至っていな
い。
内に振シ切られたレジストが力、ツブ内壁に当って飛び
散るミストの一部はウェーハ面まではね返る。また、排
気量を増すとウェー７１面に添って流れる気流速度が大
きくなることから、レジスト溶剤の揮発速度に影響し、
膜厚むらや波打ち等の不具合になシやすい。このため、
はね返シに対しては、第６図のように中央開口部の縁の
下方にはね返シミストを受は止める板を突出し、対処し
ている。この方法は、突出し長さに限界があることや、
中央開口部より吸い込まれた気流が突出し板によって出
来る凹部で巻込みを生じるため、カップ内気流が乱れる
欠点があ）、完全にはね返シを防止するには至っていな
い。
本発明のカップは、排気時のカップ内気流の乱れを防止
するためにカップ上部中央にある開口部と同心円上にも
う−りの開口部を有することと、この部分からのミスト
飛出しが中央開口部側に行かないようにするため、外気
取込みのガイドを兼ねたガイＰ板を有している。または
、同等の働きを嘔せるために、外側開口部を設けるかわ
シに、ガスフローノズルを有している。
するためにカップ上部中央にある開口部と同心円上にも
う−りの開口部を有することと、この部分からのミスト
飛出しが中央開口部側に行かないようにするため、外気
取込みのガイドを兼ねたガイＰ板を有している。または
、同等の働きを嘔せるために、外側開口部を設けるかわ
シに、ガスフローノズルを有している。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図である。
また、第２図は、カップ下部から強制排気した時のカッ
プ内気流を示す。第３図に平面図を示す。
プ内気流を示す。第３図に平面図を示す。
スピンチャック２に吸着され之りエーハ５は、レジスト
塗布後、余剰レジストを高速回転で振シ切る。この時に
振シ切られたレジストは遠心力によシカツブ４の内壁に
当シミスト状に飛散するが、この時カップ下部よシ強制
排気すると、カップ上部の外側開口部からも外気が取込
まれ第２図のように乱れの少ない気流状態でミストが排
気される。
塗布後、余剰レジストを高速回転で振シ切る。この時に
振シ切られたレジストは遠心力によシカツブ４の内壁に
当シミスト状に飛散するが、この時カップ下部よシ強制
排気すると、カップ上部の外側開口部からも外気が取込
まれ第２図のように乱れの少ない気流状態でミストが排
気される。
第４図は本発明の他の実施例の縦断面図である。
中央開口部の外側にもう一つの開口部を設けたのと同じ
働きをさせるために、配管によシ強制的にこの部分にガ
スブローし、カップ内気流を整えるものである。
働きをさせるために、配管によシ強制的にこの部分にガ
スブローし、カップ内気流を整えるものである。
この実施例では、開口部の追加がないため、新たにカッ
プ外部へのミスト飛出しを考慮する必要がなく、また、
ブローするガスの流量を可変することで、外側開口部の
断面積を変えるのと同じ効果を出せる利点、がある。
プ外部へのミスト飛出しを考慮する必要がなく、また、
ブローするガスの流量を可変することで、外側開口部の
断面積を変えるのと同じ効果を出せる利点、がある。
以上説明したように本発明は、カップ上部の中央開口部
と同心円上にもう一つの開口部を設けることによシ、排
気によるカップ内気流の乱れを防止出来るとともに速や
かにカップ下方ヘミストを排気出来るため、ウェーハ面
へのレジストはね返シを防止できる効果がある。
と同心円上にもう一つの開口部を設けることによシ、排
気によるカップ内気流の乱れを防止出来るとともに速や
かにカップ下方ヘミストを排気出来るため、ウェーハ面
へのレジストはね返シを防止できる効果がある。
さらに、排気量を増しても、中央開口部からの外気吸込
み量はあまシ増兄ないため、ウェーハ面上を通過する外
気の速度が上がシに＜＜、排気による塗布レジストの膜
厚むらや波打ち等の発生も防止出来る効果がある。
み量はあまシ増兄ないため、ウェーハ面上を通過する外
気の速度が上がシに＜＜、排気による塗布レジストの膜
厚むらや波打ち等の発生も防止出来る効果がある。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図、第２図は第１図
のカップにて強制排気した時の気流状態を示す。 １・・・・・・レジスト滴下ノズル、２・・・・・・ス
ピンチャック、３・・・・・・ガイド板、４・・・・・
・カップ本体、５・・・第３図は第１図の平面図であシ
、上部開口部を同心円分離する具体的な形状や方法をａ
、ｂ、ｃで示す。 第４図は実施例２の縦断面図を示す。 ６・・・・・・ガスプローノズル、 第５図は従来のカップの縦断面図、第６図はミストはね
返少防止板を下方に突出した形の従来カップの縦断面図
である。 ７・・・・・・ミストはね返シ防止突出し板。 第１図 第２図
のカップにて強制排気した時の気流状態を示す。 １・・・・・・レジスト滴下ノズル、２・・・・・・ス
ピンチャック、３・・・・・・ガイド板、４・・・・・
・カップ本体、５・・・第３図は第１図の平面図であシ
、上部開口部を同心円分離する具体的な形状や方法をａ
、ｂ、ｃで示す。 第４図は実施例２の縦断面図を示す。 ６・・・・・・ガスプローノズル、 第５図は従来のカップの縦断面図、第６図はミストはね
返少防止板を下方に突出した形の従来カップの縦断面図
である。 ７・・・・・・ミストはね返シ防止突出し板。 第１図 第２図
Claims (1)
- 半導体製造用のウェーハ表面にレジストを回転塗布す
るレジスト塗布装置において、余剰レジストの飛散を防
止するために、排気カップ上部中央の開口部と同心円上
にもう一つの開口部を有する、または、中央の開口部外
側にガスフローノズルを設け、カップ内部の気流の渦を
少なくする構造を特徴とするレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1359087A JPS63181320A (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1359087A JPS63181320A (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 | レジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63181320A true JPS63181320A (ja) | 1988-07-26 |
Family
ID=11837410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1359087A Pending JPS63181320A (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63181320A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100629917B1 (ko) * | 2004-02-09 | 2006-09-28 | 세메스 주식회사 | 반도체 소자 제조에 사용되는 도포 장치 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59120270A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-11 | Fujitsu Ltd | スピン塗布装置 |
| JPS60117730A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-25 | Canon Hanbai Kk | 回転塗布機 |
| JPS6049628B2 (ja) * | 1975-12-30 | 1985-11-02 | 昭和電工株式会社 | ３−（２−アリ−ル−２−プロピル）尿素化合物およびこの化合物を有効成分とする除草剤 |
| JPS6271567A (ja) * | 1985-09-26 | 1987-04-02 | Sharp Corp | スピンコ−テイング装置 |
| JPS6369564A (ja) * | 1986-09-10 | 1988-03-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の回転塗布装置 |
-
1987
- 1987-01-22 JP JP1359087A patent/JPS63181320A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6049628B2 (ja) * | 1975-12-30 | 1985-11-02 | 昭和電工株式会社 | ３−（２−アリ−ル−２−プロピル）尿素化合物およびこの化合物を有効成分とする除草剤 |
| JPS59120270A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-11 | Fujitsu Ltd | スピン塗布装置 |
| JPS60117730A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-25 | Canon Hanbai Kk | 回転塗布機 |
| JPS6271567A (ja) * | 1985-09-26 | 1987-04-02 | Sharp Corp | スピンコ−テイング装置 |
| JPS6369564A (ja) * | 1986-09-10 | 1988-03-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の回転塗布装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100629917B1 (ko) * | 2004-02-09 | 2006-09-28 | 세메스 주식회사 | 반도체 소자 제조에 사용되는 도포 장치 |
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