JPS59120270A - スピン塗布装置 - Google Patents
スピン塗布装置Info
- Publication number
- JPS59120270A JPS59120270A JP22838682A JP22838682A JPS59120270A JP S59120270 A JPS59120270 A JP S59120270A JP 22838682 A JP22838682 A JP 22838682A JP 22838682 A JP22838682 A JP 22838682A JP S59120270 A JPS59120270 A JP S59120270A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spin
- chamber
- sample
- head
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明はスピン塗布装置、例えはレジストコーティング
に用いるスピンコーティング用の装置の改良に関する。
に用いるスピンコーティング用の装置の改良に関する。
（２）技術の背景
例えばフ：Ａ１−マスクの製作におりるレジストの：１
−ケインクにおいて、第１図のａｌｌ ＩＩ ｌｌｉ
面図に示されるスピン塗布装置が用いられ、同図におい
て、１ば処理ナエンノへ２はスピンへ／１・、３はスピ
ンへ７１・２の十に載置された試１′］、４は（）１気
Ｌ」でチェンバ１の上刃からは１−・力に向りクリーン
エアが供給され排気（−１４から外Ｉ“１１；に１）１
気される。
−ケインクにおいて、第１図のａｌｌ ＩＩ ｌｌｉ
面図に示されるスピン塗布装置が用いられ、同図におい
て、１ば処理ナエンノへ２はスピンへ／１・、３はスピ
ンへ７１・２の十に載置された試１′］、４は（）１気
Ｌ」でチェンバ１の上刃からは１−・力に向りクリーン
エアが供給され排気（−１４から外Ｉ“１１；に１）１
気される。
レジストの＠、４】に際しＣは、試＋１３の中央に液状
レジス１−を所定量嫡子し、次い一ζスピンヘッド２を
矢印力量に高速回転し遠心力によってレジストを試料３
丁に拡げる。レジストが全面に拡げられると、スピンヘ
ット２はその回転を止め、次いで図示しない駆動機構に
よっ”０図に見て子方に持ら上けられ、続いて図示しな
い１般送（虚構が試料３をつかみそれを次の工程へ移動
する。
レジス１−を所定量嫡子し、次い一ζスピンヘッド２を
矢印力量に高速回転し遠心力によってレジストを試料３
丁に拡げる。レジストが全面に拡げられると、スピンヘ
ット２はその回転を止め、次いで図示しない駆動機構に
よっ”０図に見て子方に持ら上けられ、続いて図示しな
い１般送（虚構が試料３をつかみそれを次の工程へ移動
する。
（３）従来技術と問題点
上記したレジストのスピン’１１１ｉ＋′において、レ
シスＩ・が試料から飛ばされてチェンバ１の内壁に当り
はね返って試料３の上に落らることがある。
シスＩ・が試料から飛ばされてチェンバ１の内壁に当り
はね返って試料３の上に落らることがある。
それを防止するため、チェンバ１の壁を第１図に点線で
示す如く（す１斜した構造とするごＬが１）葭ｒされ、
レジストのはね返りの問題は一１心函！決された。
示す如く（す１斜した構造とするごＬが１）葭ｒされ、
レジストのはね返りの問題は一１心函！決された。
しかし、スピンヘッド２の回転によりチェンバ１内のク
リーンエアの流れに乱流が発生’、Ｌ、この乱流によっ
て試料３から飛び散ったレジスト粒子ミ等が試料３の上
に巻き込まれることがある（レジスＩ・の戻り）。。
リーンエアの流れに乱流が発生’、Ｌ、この乱流によっ
て試料３から飛び散ったレジスト粒子ミ等が試料３の上
に巻き込まれることがある（レジスＩ・の戻り）。。
かかる問題をＩＷ決するため、試料３の上方に第１図に
示される如（カバー板５を配置することが提案された。
示される如（カバー板５を配置することが提案された。
しかし、噛合によってはクリーンエアが図に矢印で示さ
れる如くカバー板５と試料３の間の空隙に入り込み前記
したレジストの戻りがあることが経験された。
れる如くカバー板５と試料３の間の空隙に入り込み前記
したレジストの戻りがあることが経験された。
本願の発明者の実験によると、前記したレジスト粒子と
かゴミの戻りは、レジストの種順、試料の大きさ、特に
ス、ビくヘットの回転速度に影譬され、ある場今に上記
した問題が解決されたとしても、スくンヘソドの同社速
度を変えると前記し。
かゴミの戻りは、レジストの種順、試料の大きさ、特に
ス、ビくヘットの回転速度に影譬され、ある場今に上記
した問題が解決されたとしても、スくンヘソドの同社速
度を変えると前記し。
た問題が再び発生ずることが確認された。その結果、フ
ォトマスクやウェハの連続した、かつ、自動化された処
理に支障を来すことが経験された。
ォトマスクやウェハの連続した、かつ、自動化された処
理に支障を来すことが経験された。
（４）発明の目的
本発明は」二記従来の問題点に涌み、レジストの種類、
試料の大きさ、スピンＪ％ ラドの回転速度等の世響を
受けることのない安定した、そして飛び敗二たししスト
やゴミ等の巻込みのないスピン塗布装置を提供すること
を目的とする。
試料の大きさ、スピンＪ％ ラドの回転速度等の世響を
受けることのない安定した、そして飛び敗二たししスト
やゴミ等の巻込みのないスピン塗布装置を提供すること
を目的とする。
（５）発明の構成
そしてこの１」的は本発明によれば、試１′］を載置す
るスピンヘットと、該スピンへ・ノ１’を収容し、下方
に向かって拡がるチェンバ′と、該チェンバの内壁に沿
って配置、された内側管とを具備し、該チェンバの底部
の周囲から排気を行、う構成としたことを特徴とするス
ピン塗布装置を提供するごとによって達成され、またか
かる装置において、スピンヘッドの上方に少なく、とも
に料、、１１りも人ツメる拡がりをもったカバー板を配
置してもよい。 。
るスピンヘットと、該スピンへ・ノ１’を収容し、下方
に向かって拡がるチェンバ′と、該チェンバの内壁に沿
って配置、された内側管とを具備し、該チェンバの底部
の周囲から排気を行、う構成としたことを特徴とするス
ピン塗布装置を提供するごとによって達成され、またか
かる装置において、スピンヘッドの上方に少なく、とも
に料、、１１りも人ツメる拡がりをもったカバー板を配
置してもよい。 。
１６）発明の実施例 。
以下本発明の岑施例を図面によってｄ〔°述する。
第２図に本発明の第１実施例が断面図で示され、同図に
おいて、１１ば処理チェンバ、１２巳まスピンヘッド、
１３は試料、１４は排気ｌコを示す。図示の第１実施例
においては、クリーンエアば従来例と同様チェンバ１１
の上方から下方に向は供給されるが、内側管１５を配設
し、リークエア用開口１６を設け、チェンバの底部にせ
り上がった下層整流板１７を設けたところが従来のスピ
ン塗布装置と異なる。
おいて、１１ば処理チェンバ、１２巳まスピンヘッド、
１３は試料、１４は排気ｌコを示す。図示の第１実施例
においては、クリーンエアば従来例と同様チェンバ１１
の上方から下方に向は供給されるが、内側管１５を配設
し、リークエア用開口１６を設け、チェンバの底部にせ
り上がった下層整流板１７を設けたところが従来のスピ
ン塗布装置と異なる。
内側管１５は煙突の底部がラッパ状に外方に拡がった中
空構造体で、チェンバ１１め天井に通常の技術で固定す
る。下層整流板１７は従来の装置に整流板を付加して形
成されるが、チェンバの底がせり」二がった構成として
もよい。いずれにしても、下Ｉ響整流板の高さはスピン
ヘッドのｉ［１１さよりも低くし、かつ、下層整流板の
表面はスピンヘッドの面にばば平行に形成する。そして
、内側管の底部の拡がり部分は、下層整流板の表面にほ
ぼ平行に排気口１４に向けて延びる構成とする。かかる
整流板を設けることにより、チェ□ンパ１１は従来例と
異なった構造となり、後述する如くクリーンエアの整流
に効果がある。また、開口１６からは大気圧のリークエ
アを送り込んでチェンバ１１内のクリーンエアの整流を
助ける。。 □第２図に示した構成によって
、チェンバ１１内のクリーンエアの流れは第３図の模式
的断面図に示される如くになる。なお第３図においζは
チェンバ１１の第２図に見°ζ右半部分のみが示され、
図示の例で、試料の外縁と内側管１５の：１４笠壁との
間の距離は約７０ ｍ ｍ％内側管１５の直立壁とチェ
ンバＩＩの内壁との間の距離は５０ｍｍ＜’内側管１７
の底１１１咥外縁１５ａとチェンバ１１の内壁との間の
距離は約５内に設定した。
空構造体で、チェンバ１１め天井に通常の技術で固定す
る。下層整流板１７は従来の装置に整流板を付加して形
成されるが、チェンバの底がせり」二がった構成として
もよい。いずれにしても、下Ｉ響整流板の高さはスピン
ヘッドのｉ［１１さよりも低くし、かつ、下層整流板の
表面はスピンヘッドの面にばば平行に形成する。そして
、内側管の底部の拡がり部分は、下層整流板の表面にほ
ぼ平行に排気口１４に向けて延びる構成とする。かかる
整流板を設けることにより、チェ□ンパ１１は従来例と
異なった構造となり、後述する如くクリーンエアの整流
に効果がある。また、開口１６からは大気圧のリークエ
アを送り込んでチェンバ１１内のクリーンエアの整流を
助ける。。 □第２図に示した構成によって
、チェンバ１１内のクリーンエアの流れは第３図の模式
的断面図に示される如くになる。なお第３図においζは
チェンバ１１の第２図に見°ζ右半部分のみが示され、
図示の例で、試料の外縁と内側管１５の：１４笠壁との
間の距離は約７０ ｍ ｍ％内側管１５の直立壁とチェ
ンバＩＩの内壁との間の距離は５０ｍｍ＜’内側管１７
の底１１１咥外縁１５ａとチェンバ１１の内壁との間の
距離は約５内に設定した。
本願の発明者がクリーンエアに着色ガスを加えたものを
用いて実験ｔ７た結果が第３図に矢印で示す空気流で示
される。内側管１５の内１１１（を−′Ｆってきて試料
に当ったエアは、開口１Ｇから供給□・される大気圧の
リークエアと共同し７て下Ｉ？ｉ整流板１７の上では下
層整流板と試料１３に平行な空気流を形成し、□この平
行流によって試料１３から飛ばされるレジストは試料１
３の方に戻ることができない。また、内側管１５は底部
でラッパ状に試料Ｉ３から外〕ｊに拡かっているので、
試料からのレジストが内側管１５の内側壁に当ったとし
”ζも、レジストは内側１ζ１５の内部を１・に向かっ
て流れろクリーンエアによって子方に押し流され前記し
たＦＪｆｉ整流扱１７の子方のシ（情］゛流にのせられ
−（，１）１気−月４から外１へ運び出される。
用いて実験ｔ７た結果が第３図に矢印で示す空気流で示
される。内側管１５の内１１１（を−′Ｆってきて試料
に当ったエアは、開口１Ｇから供給□・される大気圧の
リークエアと共同し７て下Ｉ？ｉ整流板１７の上では下
層整流板と試料１３に平行な空気流を形成し、□この平
行流によって試料１３から飛ばされるレジストは試料１
３の方に戻ることができない。また、内側管１５は底部
でラッパ状に試料Ｉ３から外〕ｊに拡かっているので、
試料からのレジストが内側管１５の内側壁に当ったとし
”ζも、レジストは内側１ζ１５の内部を１・に向かっ
て流れろクリーンエアによって子方に押し流され前記し
たＦＪｆｉ整流扱１７の子方のシ（情］゛流にのせられ
−（，１）１気−月４から外１へ運び出される。
内側管の１氏部外縁１５．〕とチェンバ１１の内壁の間
には前記した如＜５ｍ１Ｉ＋程度の狭い９だ隙が残され
ているので、千エンハ１１の上刃からＦりてくるクリー
ンエアはこの空隙で流れが早くなり、チェンバ１１の内
壁に沿っ゛Ｃエアカーテンが形成され、それによって、
前記した１゛層整流板１７の−Ｌのクリーンエアのｊ’
ｆｉ行流を吸い込め、かつ、レジスト粒子がチＪ−ンハ
の内壁に何着することが防止される。
には前記した如＜５ｍ１Ｉ＋程度の狭い９だ隙が残され
ているので、千エンハ１１の上刃からＦりてくるクリー
ンエアはこの空隙で流れが早くなり、チェンバ１１の内
壁に沿っ゛Ｃエアカーテンが形成され、それによって、
前記した１゛層整流板１７の−Ｌのクリーンエアのｊ’
ｆｉ行流を吸い込め、かつ、レジスト粒子がチＪ−ンハ
の内壁に何着することが防止される。
本発明の特徴である内側管と下層整流板は第１図に示し
た従来技術の円形カバー板５が存在する場合ても自効に
働くことが６（〔認された。第４図と第５図は本発明の
第２実施例を示す第２図と第３図に類似の図−Ｃあって
、これらの図においてカバー板は第１図の場合と同様符
号５を付して示す。
た従来技術の円形カバー板５が存在する場合ても自効に
働くことが６（〔認された。第４図と第５図は本発明の
第２実施例を示す第２図と第３図に類似の図−Ｃあって
、これらの図においてカバー板は第１図の場合と同様符
号５を付して示す。
第５図にボず如く、内側管１５の内部を下りてき人：ク
リーン」−了のうら、酢いｉ：４１３とヲノハー（者シ
ｊ）との間の１０ｍｍ１ｌｉ！度の空隙に入ろうと−４
−・≦）Ｊｌ−アは開ｊ１１６から供給されイ】リーク
コーチによっ’ｉＺ −Ｆ’ ＩＸセ、さ流板１７の」
−の十行流におしやられるの−（、レシス］・力＼試料
１３Ｊ−に戻ることか防止さ扛イ】。なお図小の実施例
におい−Ｃ、カバー板５の外縁と内側管Ｉ５の直５戸（
ｙとの間の距離は２０ｍｍ稈瓜に設定して１１１！、好
な結果を青）、：。
リーン」−了のうら、酢いｉ：４１３とヲノハー（者シ
ｊ）との間の１０ｍｍ１ｌｉ！度の空隙に入ろうと−４
−・≦）Ｊｌ−アは開ｊ１１６から供給されイ】リーク
コーチによっ’ｉＺ −Ｆ’ ＩＸセ、さ流板１７の」
−の十行流におしやられるの−（、レシス］・力＼試料
１３Ｊ−に戻ることか防止さ扛イ】。なお図小の実施例
におい−Ｃ、カバー板５の外縁と内側管Ｉ５の直５戸（
ｙとの間の距離は２０ｍｍ稈瓜に設定して１１１！、好
な結果を青）、：。
第１実施例においても第２実施例においＣも、チｊ−ン
ハ１１の内壁の飛散するレタス１−等による１ｌｉＩ７
、は大１’ｌｚｌ ＩＬ減少１−また。内１］１り管］
５Ｑ、） ｌｉ；れは避りえないが、内側管の洗浄は
チェ゛、／ハの／）Ｌ値に比べより節単になされ・）る
ので、本発明ｊ、“路側の１７（理は容易になっ人工。
ハ１１の内壁の飛散するレタス１−等による１ｌｉＩ７
、は大１’ｌｚｌ ＩＬ減少１−また。内１］１り管］
５Ｑ、） ｌｉ；れは避りえないが、内側管の洗浄は
チェ゛、／ハの／）Ｌ値に比べより節単になされ・）る
ので、本発明ｊ、“路側の１７（理は容易になっ人工。
（７）発明のジノ甲
以十７、詳イ１１１に説明しまたよ・つろこ、本発明に
よれば、４１口寸上・・−のレジスト等のＪｌ’＆ ｌ
！＆ Ｅ立子、コノミの但込カ（戻り）かないスピンケ
梢Ｊ装置か（）ｙ供され、チェンバ内壁の汚れが減少上
こめられるので、製造されるり１す溝体装置の信頼性か
向上、−ｕ１〜めりれイ“）だ５ｊでなく、仕産件の向
上にも効果大である。
よれば、４１口寸上・・−のレジスト等のＪｌ’＆ ｌ
！＆ Ｅ立子、コノミの但込カ（戻り）かないスピンケ
梢Ｊ装置か（）ｙ供され、チェンバ内壁の汚れが減少上
こめられるので、製造されるり１す溝体装置の信頼性か
向上、−ｕ１〜めりれイ“）だ５ｊでなく、仕産件の向
上にも効果大である。
第１図は従来のスピン塗４ノ装置の断面図、第２図は本
発明の第１実施例のｗｉ面図、第３図は第２図の装置に
おけるクリーン１アの流れを示す横式的Ｉｌｉ面図、第
４図と第５図は本発明の第２実施例の第２図と第３図に
類似の図である。 ５−カバー板、１１ ナエンハ、１２−スピンヘット
、１３−試料、１４−１１１気Ｌ」、１５ 内側上、
１．５ａ−内側管底部の外縁、１６ リーク上ア用の
開口 ４６
発明の第１実施例のｗｉ面図、第３図は第２図の装置に
おけるクリーン１アの流れを示す横式的Ｉｌｉ面図、第
４図と第５図は本発明の第２実施例の第２図と第３図に
類似の図である。 ５−カバー板、１１ ナエンハ、１２−スピンヘット
、１３−試料、１４−１１１気Ｌ」、１５ 内側上、
１．５ａ−内側管底部の外縁、１６ リーク上ア用の
開口 ４６
Claims (2)
- （１）試料を載置するスピンヘットと、該スピンヘット
を収容し、Ｆ／ｊに向かって拡がるチェンバと、該チェ
ンバの内壁に沿って配置された内側管とを共働し２、該
チェンバの底部の周囲から排気を行う構成としたことを
特徴とするスピン装置。 - （２）スピンヘットの」力に少なくとも試料よりも犬な
る拡がりをもったカバー板を配置したごとを特徴とする
特許請求の範囲第１相記載の塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22838682A JPS59120270A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | スピン塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22838682A JPS59120270A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | スピン塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59120270A true JPS59120270A (ja) | 1984-07-11 |
Family
ID=16875649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22838682A Pending JPS59120270A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | スピン塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59120270A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63181320A (ja) * | 1987-01-22 | 1988-07-26 | Nec Yamagata Ltd | レジスト塗布装置 |
| JPS63198330A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布方法およびその装置 |
| JPH0463633U (ja) * | 1990-10-08 | 1992-05-29 |
-
1982
- 1982-12-27 JP JP22838682A patent/JPS59120270A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63181320A (ja) * | 1987-01-22 | 1988-07-26 | Nec Yamagata Ltd | レジスト塗布装置 |
| JPS63198330A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布方法およびその装置 |
| JPH0463633U (ja) * | 1990-10-08 | 1992-05-29 | ||
| JPH0537469Y2 (ja) * | 1990-10-08 | 1993-09-22 |
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