JPH04346652A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPH04346652A JPH04346652A JP14978291A JP14978291A JPH04346652A JP H04346652 A JPH04346652 A JP H04346652A JP 14978291 A JP14978291 A JP 14978291A JP 14978291 A JP14978291 A JP 14978291A JP H04346652 A JPH04346652 A JP H04346652A
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- Japan
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- oil
- film
- transfer roller
- geometric pattern
- mask
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title abstract 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はフィルムにオイルマス
クを形成して非蒸着部を作ってから、金属を真空蒸着す
る真空蒸着装置に関するものである。
クを形成して非蒸着部を作ってから、金属を真空蒸着す
る真空蒸着装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の真空蒸着装置は図３およ
び図４に示されている。これらの図において、ガイドロ
ーラ１１により案内されながら連続走行しているフィル
ム１２は、温度制御されたオイルノズル１３より噴射さ
れた油により、狭い帯状のオイルマスク１４が形成され
てから、冷却ローラ１５に案内されながら、蒸発源１６
より蒸発した金属で真空蒸着される。このとき、オイル
マスク１４上に真空蒸着される金属の凝縮潜熱により油
が蒸発し、フィルム１２上に狭い帯状の非蒸着部が形成
される。
び図４に示されている。これらの図において、ガイドロ
ーラ１１により案内されながら連続走行しているフィル
ム１２は、温度制御されたオイルノズル１３より噴射さ
れた油により、狭い帯状のオイルマスク１４が形成され
てから、冷却ローラ１５に案内されながら、蒸発源１６
より蒸発した金属で真空蒸着される。このとき、オイル
マスク１４上に真空蒸着される金属の凝縮潜熱により油
が蒸発し、フィルム１２上に狭い帯状の非蒸着部が形成
される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の真空蒸着装置は
、上記のようにオイルノズル１３より噴射された油によ
り、フィルム１２に狭い帯状のオイルマスク１４を形成
しているが、帯状のオイルマスク１４はフィルム１２の
走行方向にしか形成されないため、幾何学的模様のオイ
ルマスクを形成出来ない問題があった。この発明の目的
は、フィルムに幾何学的模様のオイルマスクを形成する
ことの出来る真空蒸着装置を提供することにある。
、上記のようにオイルノズル１３より噴射された油によ
り、フィルム１２に狭い帯状のオイルマスク１４を形成
しているが、帯状のオイルマスク１４はフィルム１２の
走行方向にしか形成されないため、幾何学的模様のオイ
ルマスクを形成出来ない問題があった。この発明の目的
は、フィルムに幾何学的模様のオイルマスクを形成する
ことの出来る真空蒸着装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、真空槽内を連続走行するフィルムにオ
イルマスクをオイルマスク形成手段により形成して、そ
こに非蒸着部を作ってから、フィルムに金属を真空蒸着
する真空蒸着装置において、上記オイルマスク形成手段
は、表面に凹状の幾何学的模様を持つ温度制御可能な転
写ローラと、この転写ローラの表面に油を均一に噴射す
るオイルノズルと、このオイルノズルより噴射された転
写ローラ表面上の油のうち、上記凹状の幾何学的模様内
に存在する油以外の油を転写ローラの表面より切り取る
ドクターと、連続走行するフィルムに上記転写ローラの
表面の凹状の幾何学的模様内に存在する油を転写できる
ように上記転写ローラ側に上記フィルムを押える押えロ
ーラとを備えたことを特徴とするものである。
に、この発明は、真空槽内を連続走行するフィルムにオ
イルマスクをオイルマスク形成手段により形成して、そ
こに非蒸着部を作ってから、フィルムに金属を真空蒸着
する真空蒸着装置において、上記オイルマスク形成手段
は、表面に凹状の幾何学的模様を持つ温度制御可能な転
写ローラと、この転写ローラの表面に油を均一に噴射す
るオイルノズルと、このオイルノズルより噴射された転
写ローラ表面上の油のうち、上記凹状の幾何学的模様内
に存在する油以外の油を転写ローラの表面より切り取る
ドクターと、連続走行するフィルムに上記転写ローラの
表面の凹状の幾何学的模様内に存在する油を転写できる
ように上記転写ローラ側に上記フィルムを押える押えロ
ーラとを備えたことを特徴とするものである。
【０００５】
【作用】この発明において、オイルノズルにより転写ロ
ーラの表面に均一に噴射された油は、ドクターによって
、転写ローラ表面の凹状の幾何学的模様内に入った油だ
けを残して除かれる。そして、押えローラで転写ローラ
を押えることによって、転写ローラ表面の凹状の幾何学
的模様内に入った油がフィルムに転写され、フィルム上
に幾何学的模様のオイルマスクが形成されるようになる
。
ーラの表面に均一に噴射された油は、ドクターによって
、転写ローラ表面の凹状の幾何学的模様内に入った油だ
けを残して除かれる。そして、押えローラで転写ローラ
を押えることによって、転写ローラ表面の凹状の幾何学
的模様内に入った油がフィルムに転写され、フィルム上
に幾何学的模様のオイルマスクが形成されるようになる
。
【０００６】
【実施例】以下、この発明の実施例について図面を参照
しながら説明する。この発明の実施例は図１および図２
に示されており、これらの図において、真空槽（図示せ
ず）内を連続走行するフィルム１は真空蒸着される前に
、オイルマスク形成手段２によってオイルマスクが形成
されるようになっている。オイルマスク形成手段２の構
成は、表面に凹状の幾何学的模様３を持ち、かつ５０℃
から１００℃までの温度に調整することによって油の表
面張力を押さえることの可能な転写ローラ４と、この転
写ローラ４の表面に油をフィルム１の幅方向に均一に噴
射する１２０℃から１８０℃に加熱されたオイルノズル
５と、このオイルノズル５より噴射された転写ローラ４
表面上の油のうち凹状の幾何学的模様３内に入った油以
外を油を転写ローラ４の表面より切り取るドクター６と
、転写ローラ４側にフィルム１を押さえることによって
凹状の幾何学的模様３内に入った油をフィルム１に転写
する押えローラ７とで出来ている。そのため、押えロー
ラ７でフィルム１を転写ローラ４側に押えることにより
、転写ローラ４の凹状の幾何学的模様３内に入った油は
フィルム１に転写され、フィルム１に幾何学的模様のオ
イルマスク９が形成される。その後、幾何学的模様のオ
イルマスク９が形成されたフィルム１は冷却ローラ８で
案内されながら、蒸発源１０より蒸発した金属によって
真空蒸着される。その際、オイルマスク９上に真空蒸着
される金属の凝縮潜熱により油が蒸発し、オイルマスク
９と同形状をした幾何学的模様の非蒸着部がフィルム１
上に形成される。
しながら説明する。この発明の実施例は図１および図２
に示されており、これらの図において、真空槽（図示せ
ず）内を連続走行するフィルム１は真空蒸着される前に
、オイルマスク形成手段２によってオイルマスクが形成
されるようになっている。オイルマスク形成手段２の構
成は、表面に凹状の幾何学的模様３を持ち、かつ５０℃
から１００℃までの温度に調整することによって油の表
面張力を押さえることの可能な転写ローラ４と、この転
写ローラ４の表面に油をフィルム１の幅方向に均一に噴
射する１２０℃から１８０℃に加熱されたオイルノズル
５と、このオイルノズル５より噴射された転写ローラ４
表面上の油のうち凹状の幾何学的模様３内に入った油以
外を油を転写ローラ４の表面より切り取るドクター６と
、転写ローラ４側にフィルム１を押さえることによって
凹状の幾何学的模様３内に入った油をフィルム１に転写
する押えローラ７とで出来ている。そのため、押えロー
ラ７でフィルム１を転写ローラ４側に押えることにより
、転写ローラ４の凹状の幾何学的模様３内に入った油は
フィルム１に転写され、フィルム１に幾何学的模様のオ
イルマスク９が形成される。その後、幾何学的模様のオ
イルマスク９が形成されたフィルム１は冷却ローラ８で
案内されながら、蒸発源１０より蒸発した金属によって
真空蒸着される。その際、オイルマスク９上に真空蒸着
される金属の凝縮潜熱により油が蒸発し、オイルマスク
９と同形状をした幾何学的模様の非蒸着部がフィルム１
上に形成される。
【０００７】このような実施例においては、オイルノズ
ル５により転写ローラ４の表面に油が均一に照射される
ようになるが、その油は、ドクター６によって、転写ロ
ーラ４表面の凹状の幾何学的模様３内に入った油だけを
残して除かれる。そして、そ後、この凹状の幾何学的模
様３内に入った油がフィルム１に転写され、フィルム１
上に幾何学的模様のオイルマスク９が形成されるように
なる。
ル５により転写ローラ４の表面に油が均一に照射される
ようになるが、その油は、ドクター６によって、転写ロ
ーラ４表面の凹状の幾何学的模様３内に入った油だけを
残して除かれる。そして、そ後、この凹状の幾何学的模
様３内に入った油がフィルム１に転写され、フィルム１
上に幾何学的模様のオイルマスク９が形成されるように
なる。
【０００８】ところで、凹状の幾何学的模様３は幾何学
的なものであればいかなる形状等をしたものであっても
よい。また、転写ローラ４に対するフィルム１の通紙方
向、および抱き角は制限されるものではない。
的なものであればいかなる形状等をしたものであっても
よい。また、転写ローラ４に対するフィルム１の通紙方
向、および抱き角は制限されるものではない。
【０００９】
【発明の効果】この発明は、転写ローラ表面の凹状の幾
何学的模様内に入った油だけをフィルムに転写するよう
にしているので、フィルム上には幾何学的模様のオイル
マスクが形成されるようになる。
何学的模様内に入った油だけをフィルムに転写するよう
にしているので、フィルム上には幾何学的模様のオイル
マスクが形成されるようになる。
【図１】この発明の実施例を示す説明図
【図２】この発
明の実施例を示す斜視図
明の実施例を示す斜視図
【図３】従来の真空蒸着装置を
示す説明図
示す説明図
【図４】従来の真空蒸着装置を示す斜視図
１・・・・・・フィルム
２・・・・・・オイルマスク形成手段
３・・・・・・凹状の幾何学的模様
４・・・・・・転写ローラ
５・・・・・・オイルノズル
６・・・・・・ドクター
７・・・・・・押えローラ
９・・・・・・オイルマスク
Claims (1)
- 【請求項１】真空槽内を連続走行するフィルムにオイル
マスクをオイルマスク形成手段により形成して、そこに
非蒸着部を作ってから、フィルムに金属を真空蒸着する
真空蒸着装置において、上記オイルマスク形成手段は、
表面に凹状の幾何学的模様を持つ温度制御可能な転写ロ
ーラと、この転写ローラの表面に油を均一に噴射するオ
イルノズルと、このオイルノズルより噴射された転写ロ
ーラ表面上の油のうち、上記凹状の幾何学的模様内に存
在する油以外の油を転写ローラの表面より切り取るドク
ターと、連続走行するフィルムに上記転写ローラの表面
の凹状の幾何学的模様内に存在する油を転写できるよう
に上記転写ローラ側に上記フィルムを押える押えローラ
とを備えたことを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14978291A JPH04346652A (ja) | 1991-05-25 | 1991-05-25 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14978291A JPH04346652A (ja) | 1991-05-25 | 1991-05-25 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04346652A true JPH04346652A (ja) | 1992-12-02 |
Family
ID=15482601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14978291A Pending JPH04346652A (ja) | 1991-05-25 | 1991-05-25 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04346652A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5905628A (en) * | 1996-08-09 | 1999-05-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Metallized film capacitor |
| EP0955391A2 (de) * | 1998-05-02 | 1999-11-10 | Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft | Musterträger |
-
1991
- 1991-05-25 JP JP14978291A patent/JPH04346652A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5905628A (en) * | 1996-08-09 | 1999-05-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Metallized film capacitor |
| US5942283A (en) * | 1996-08-09 | 1999-08-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for fabricating a metalized film |
| US6048402A (en) * | 1996-08-09 | 2000-04-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Device for fabricating a metalized film capacitor |
| DE19734477B4 (de) * | 1996-08-09 | 2005-11-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma | Metallisierter Filmkondensator und Vorrichtung und Verfahren für die Herstellung eines metallisierten Films für den metallisierten Filmkondensator |
| EP0955391A2 (de) * | 1998-05-02 | 1999-11-10 | Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft | Musterträger |
| EP0955391A3 (de) * | 1998-05-02 | 2002-05-29 | Balzers und Leybold Deutschland Holding Aktiengesellschaft | Musterträger |
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