JP2683215B2 - サブストレート上にパターンを形成する方法 - Google Patents

サブストレート上にパターンを形成する方法

Info

Publication number
JP2683215B2
JP2683215B2 JP6974194A JP6974194A JP2683215B2 JP 2683215 B2 JP2683215 B2 JP 2683215B2 JP 6974194 A JP6974194 A JP 6974194A JP 6974194 A JP6974194 A JP 6974194A JP 2683215 B2 JP2683215 B2 JP 2683215B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
substrate
chamber
coating
separation medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP6974194A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06306580A (ja
Inventor
クライヤー ジークフリート
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oerlikon Deutschland Holding GmbH
Original Assignee
Unaxis Deutschland Holding GmbH
Oerlikon Deutschland Holding GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19934311581 external-priority patent/DE4311581A1/de
Application filed by Unaxis Deutschland Holding GmbH, Oerlikon Deutschland Holding GmbH filed Critical Unaxis Deutschland Holding GmbH
Publication of JPH06306580A publication Critical patent/JPH06306580A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2683215B2 publication Critical patent/JP2683215B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、次のコーティングを阻
止する媒体によりサブストレートを部分的コーティング
し、次いで少なくとも1つの機能層を特許(特許出願P
4310 0856)に従って、設けることにより、サ
ブストレートにパターンを形成する方法と装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】前記出願の発明は、フォイル・ウエブ
に、コーティングを阻止する媒体から成る特定のパター
ンを設ける問題を解決するものである。その目的のため
に、パターン保持体には、形成されるパターンに応じて
凹版のパターンが備えられ、この凹版パターンにおいて
凹所の空間的分配が、コーティングされてはならないフ
ォイル・ウエブ表面区域に合致しており、更に、その目
的のために凹所にはコーティングを阻止する媒体の蒸気
が充填され、かつまたサブストレートが事実上パターン
保持体と同時的に移動せしめられ、しかも凹所の開放側
がサブストレート表面に向けられており、それによっ
て、凹所内に充填されている蒸気がサブストレート上で
凝縮するようにされ、最後に、この蒸気の少なくとも一
部が凝縮したのち、サブストレートは少なくとも1つの
機能層を有することになる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の根底をなす課
題は、コーティングを阻止する媒体をフォイル・ウエブ
に蒸着する場合、蒸着の度合を調節することにより、サ
ブストレートの特定部分が蒸着されるが、きわめて僅か
の量の潤滑剤でのみ蒸着されることにより、前記特定部
分には、きわめて薄手の層とはいえ、更に金属層が蒸着
され得るようにすることにある。加えて、パターンは、
中断なしに反復される一様なパターンがストリップに形
成されるように構成され、かつまた最初のパターンでの
ストリップの潤滑化過程が進行する間に、次のパターン
へ移行できるように構成されるようにする。
【0004】
【課題を解決するための手段】この課題は、本発明によ
れば次のような方法により解決された。すなわち、パタ
ーン保持体が周期的に断続的に運動する一方、サブスト
レートは連続的にパターン保持体のところを通過し、し
かも、凹所の開放側がサブストレート表面に向くように
され、それによって、凹所内に含まれていた蒸気がサブ
ストレート上で凝縮し、更に、この蒸気の少なくとも一
部が凝縮後、サブストレートに少なくとも1つの機能層
が設けられるようにする方法である。
【0005】本発明によれば次のような装置が提供され
る。すなわち、サブストレートが、連続的にパターン保
持体のところを通過可能であり、かつまた掻取り条片又
は遮蔽部材と協働して、蒸発した分離媒体を凹版パター
ン内に閉じ込めるか、ないしは余分の分離媒体蒸気を調
量して、蒸気器が配置されているチャンバ内に抑留する
ような装置である。
【0006】このほかの特徴及び詳細は請求項2以下の
各項に記載の通りである。
【0007】
【実施例】本発明は、きわめて種々の実施例が可能であ
る。そのうちの1実施例が添付図面に略示されている。
【0008】図示のウエブ・コーティング装置は、実質
的に、2つのプレート3,4間に支承された変向ロー
ラ、テンション測定ローラ、伸しローラ、張りローラ5
〜10ないし11〜17、冷却されたコーティングロー
ラ18、繰出しローラ37、巻上げローラ35′、パタ
ーン保持体58、中空シリンダ32により形成されたコ
ーティング・チャンバ28内に配置された蒸発容器2
1、コーティング過程観察用テレビカメラ22から成っ
ている。支持架台52に固定された2個のプレート3,
4は、キャスタ26,27を介して走行レール24,2
5上を、ローラ5〜10,11〜17及びコーティング
ローラ18と一緒に走行し、矢印方向Rでコーティング
・チャンバ28に出入する。これらのローラは巻取り装
置29を形成している。巻取り装置29が走入する場
合、支持架台52に固定配置されたディスク状のふた3
0が、その縁区域を中空シリンダ32のフランジ状端面
31に対し当付けられ、詳細には図示されていないクラ
ンプ部材により中空シリンダ32に固定されるか、ない
しは作業段階でチャンバ45内を支配する負圧のため、
大気圧により端面31の方向へ引付けられる。
【0009】蒸発器34は中空成形体により形成され、
その両端は端部材によって閉じられている。蒸発器34
の内部には、ロッド状の加熱部材が配置され、この加熱
部材の周囲が分離媒体により完全に取囲まれている。蒸
発した分離媒体はノズル36を介してパターン保持体5
8の方向へ放出される。掻取り条片又は遮蔽部材43,
44により、分離媒体が、印刷パターンを形成する凹所
42,42′…内に残される。凹所42,42′…はパ
ターン保持体58の円筒形外とう面に設けられている。
【0010】更に、蒸発器34はチャンバ39内に配置
されている。チャンバ39は、この区域内での分離媒体
の凝縮を防止する圧力を有している。チャンバ39は、
一方ではチャンバ壁により、他方ではパターン保持体5
8により制限されている。
【0011】蒸発器34には、更に、温度センサを備え
ておくのが有利である。この温度センサによって分離媒
体温度の精密な監視と維持が可能になる(加熱回路の監
視と調整に必要な接続回路は図示されていない)。
【0012】蒸発器34はアングル部材53,53′を
介して双方のプレート3,4の間に保持されている。こ
の保持形式は、ノズル36の噴出方向が、湿潤化される
パターン保持体面に向くようにされる。
【0013】図1に示されているように、ノズル36
は、フォイル・ウエブ50の近く、それもコーティング
ローラ18の直ぐ近くに配置されているので、通過する
フォイル・ウエブ50を分離媒体による湿潤化の直後
に、本来のコーティング過程を実施できる。分離媒体
(たとえばシリコンオイル)で湿潤化されるフォイル・
ウエブ部分には、蒸発容器21内で蒸発した金属は、全
く蒸着しないか、もしくは、極めて薄い湿潤化膜の場合
には、蒸着が著しく制限される。この結果、フォイル・
ウエブ50のどの部分が金属蒸着ないし金属コーティン
グされないままか、もしくは薄膜コーティングされるか
は、パターン保持体58の凹所42,42′…の数と寸
法、更には形状に従って決まる。
【0014】図1及び図2に示された装置の場合、ロー
ラ5〜10は、フォイル・ウエブ50の搬送と案内のた
め、次のように配置されている。すなわち、コーティン
グ・ローラ18の直ぐ前方に位置するフォイル・ウエブ
部分が、急角度で、すなわちほとんど垂直にパターン保
持体58から下方へ走行するように配置される。
【0015】フォイル・ウエブのこの部分は別様に案内
することも可能であるのは、言うまでもない。その場合
には、たとえばほぼ水平平面内でコーティングローラ1
8上を走行し、しかも、図3に示した分離媒体を蒸着す
るパターン保持体58の位置や寸法を変更する必要がな
いようにする。
【0016】図3に示したように、パターン保持体は中
空ローラとして構成され、個々の凹所42,42′,4
2″…により凹版のパターンが生ぜしめられる。ノズル
36から出る分離媒体蒸気は、チャンバ39に充満する
ので、チャンバ39に向って開いている凹所42,4
2′…にも充満する。パターン保持体58は矢印方向に
ステップ式に継続回転できるので、遮蔽部材43,44
により過剰な蒸気が阻止される。言いかえると、凹所内
に集められない蒸気は、フォイル・ウエブの方向へ放出
される。
【0017】フォイル・ウエブ50は、パターン保持体
58に対し間隔bを隔てて走行する一方、パターン保持
体58は一定位置に静止しているので、調節可能の遮蔽
部材43,44と、遮蔽部材開口aの区域に向けられる
凹所42との間で、幅ないし湿潤度に多少の差はあれ湿
潤媒体の蒸着されたストリップがウエブ50上に残され
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】ウエブ・コーティング装置の一部分の平面図
で、巻取り装置が装着過程時に中空シリンダとして構成
されたコーティング・チャンバから送出された状態を示
した図。この場合、図2に示されている変向ローラ及び
張りローラのうちの向個かが、見易くするために省略さ
れている。
【図2】図1のA−B線に沿って切断して示した側断面
図。
【図3】分離媒体によりフォイル・ウエブを湿潤化する
ためのパターン保持体を切断して示した斜視図。
【図4】図1の分離媒体蒸発器及びパターン保持体の拡
大側面図。
【符号の説明】
3,4 プレート 5,7,8,10,14,17 変向ローラ 6 張りローラ 9,15 伸しローラ 11,16 テンション測定ローラ 12 テンションローラ 13 測定ローラ 18 コーティングローラ 19 蒸発源 20 アルミニウム・ワイヤリール 21 蒸発容器 22 テレビカメラ 23 ワイヤ案内 24,25 走行レール 26,27 キャスタ 28 コーティング・チャンバ 29 巻取り装置 30 ふた 31 端面 32 中空シリンダ 34 蒸発器 35 巻き体 35′ 巻上げローラ 36 ノズル 37′ 繰出しローラ 40,41,41′ ケーシング壁 42,42′,42″ 凹所 43,44 遮蔽部材 45 チャンバ 50 フォイル・ウエブ 52 支持架台 58 パターン保持体

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次に行われるコーティングを阻止する媒
    体を用いてサブストレート(50)を部分的にコーティ
    ングし、次いで少なくとも1つの機能層をコーディング
    して、サブストレート(50)上にパターンを形成する
    方法であって、形成されるべきパターンに従ってパター
    ン保持体(58)に凹所であるパターンけ、このパ
    ターン保持体(58)における前記凹所(42,4
    2′,42″)の空間的分配、サブストレート(5
    0)におけるコーティングを阻止する表面区域に合致
    前記凹所(42,42′,42″…)にコーティン
    グを阻止する媒体の蒸気充填しておく形式のものにお
    て、回転可能な前記パターン保持体(58)、周期
    な中断を伴って運動させる一方、サブストレート
    続的に前記パターン保持体(58)のところを通過
    、そのさい皿状の前記凹所の開放側がサブストレート
    表面に向くように、それによって前記凹所内に含まれ
    ている蒸気がサブストレート(50)上に凝縮するよう
    にし、この蒸気の少なくとも一部が凝縮したあとで、サ
    ブストレート(50)に少なくとも1つの機能層を形成
    することを特徴とする、サブストレート上にパターンを
    形成する方法。
  2. 【請求項2】 真空内でコーティングされるフォイル・
    ウエブ(50)において、金属を有さないストライプを
    形成する装置であって、ケーシング(32)、このケ
    ーシング(32)を圧力密に閉じるふた(30)と、回
    転可能に支承された変向及び張りローラ(5〜10ない
    し11〜17,33)、少なくとも1のコーティング
    ローラ(18)、巻上げローラ(35′)及び、繰出し
    ローラ(37′)を備えた巻取り装置(29)と、ケー
    シング(32)内に保持されたコーティング源(19)
    と、分離媒体を受容しかつ蒸発させる蒸発器(34)
    と、蒸発器(34)から蒸発した分離媒体を放出させる
    少なくとも1つの放出ノズル(36)とを有し、コーテ
    ィングローラ(18)には凹所パターン(53)を有す
    るパターン保持体(58)が前置されており、前記放出
    ノズル(36)が前記パターン保持体(58)に向けら
    れている形式のものにおいて、前記パターン保持体(5
    8)が周期的な中断を伴って運動可能であるのに対し、
    サブストレート(50)が連続的に前記パターン保持体
    (58)のところを通過可能であり、 発した前記分離
    媒体を前記パターン(53)内閉じ込め、余分な
    分離媒体蒸気を前記蒸発器(34)が配置されている別
    個のチャンバ(39)に保つかもしくは調量して前記
    サブストレート(50)の上へ流す掻取り条片又は遮断
    部材(43,44)が備えられていることを特徴とす
    る、金属を有さないストライプを形成する装置。
  3. 【請求項3】 前記放出ノズル(36)がスリッ又は
    穴列として構成されており、この放出ノズル(36)か
    ら放出される分離媒体蒸気が一方では前記遮蔽部材(4
    3,44)により制限されかつ他方では前記チャンバ
    (39)のチャンバ壁により制限されたチャンバ(3
    9)内に流入するようになっており、前記パターン保持
    体(58)が前記チャンバ(39)の開口(a)との間
    に狭い間隙を形成し、チャンバ(39)には隣接する
    空間よりも高い圧力が与えられている、請求項2記載の
    装置。
  4. 【請求項4】 前記遮蔽部材(43,44)が、弾性的
    な部材、例えばばね(46,54)又は磁石で前記チャ
    ンバ(39)のチャンバ壁(40)に押し付けられてい
    るが、前記チャンバ(39)の開口(a)に向っては
    動に保持されている、請求項2又は3記載の装置。
  5. 【請求項5】 フォイル・ウエブ(50)が前記遮蔽部
    材(43,44)により制限された間隙(a)を前記
    ターン保持体(58)に対して小さな間隔(b)をおい
    て通過する、請求項2から4までのいずれか1項記載の
    装置。
JP6974194A 1993-04-08 1994-04-07 サブストレート上にパターンを形成する方法 Expired - Lifetime JP2683215B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4311581.0 1993-04-08
DE19934311581 DE4311581A1 (de) 1993-03-27 1993-04-08 Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von Muster auf Substraten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06306580A JPH06306580A (ja) 1994-11-01
JP2683215B2 true JP2683215B2 (ja) 1997-11-26

Family

ID=6485047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6974194A Expired - Lifetime JP2683215B2 (ja) 1993-04-08 1994-04-07 サブストレート上にパターンを形成する方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2683215B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06306580A (ja) 1994-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5350598A (en) Apparatus and method for selectively coating a substrate in strip form
KR101450339B1 (ko) 증발원 및 이것을 이용한 진공 증착 장치
US5803976A (en) Vacuum web coating
US20110297087A1 (en) Vacuum metallization device with means to create metal-free areas
JPH03215667A (ja) 真空内でコーテイングされたフイルムウエブに無金属のストリツプ領域を形成するための装置
US20070089676A1 (en) Arrangement for the vapor deposition on substrates
JP2003160855A (ja) 薄膜形成装置
JP2644399B2 (ja) フィルムテープ上に金属で覆われない縞状部分を形成する装置
BR0008745A (pt) Aparelho para deposição de material de filme fino sobre um substrato, processo para fabricar uma pilha de interferÈmetro depositada sobre um substrato e dispositivo de microondas ampliado
US5652022A (en) Method and apparatus for the production of metal-free areas during metal vapor deposition
JP2012504188A (ja) 有機材料のための蒸発器
KR950014355A (ko) 진공 웨브 코팅
JP2683215B2 (ja) サブストレート上にパターンを形成する方法
JP2019188800A5 (ja)
GB802041A (en) Improvements in or relating to process of and apparatus for depositing photo-sensitive materials on strip-like carriers
KR20060018746A (ko) 유기물 증착 장치
CN115698370A (zh) 用于蒸发源的温度控制遮蔽件、用于在基板上沉积材料的材料沉积设备及方法
US7767591B2 (en) Method and device for producing electronic components
JP2007119916A (ja) 気化させる材料を受け入れるレセプタクルを有する気化装置
TW202037739A (zh) 用以沈積一已蒸發材料之蒸汽源、用於一蒸汽源之噴嘴、真空沈積系統、及用以沈積一已蒸發材料之方法
TWI288783B (en) Method and equipment to deposit regionally an isolation-medium
US20040185176A1 (en) Applicator and method for applying adhesive to rod-shaped members such as cotton swabs
CN112912533B (zh) 用于沉积蒸发的材料的沉积源、沉积装置及其方法
JP2000243672A (ja) 蒸着装置
JPS6160912B2 (ja)