JPH04345913A - 磁気ディスク基板 - Google Patents
磁気ディスク基板Info
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- JPH04345913A JPH04345913A JP12025991A JP12025991A JPH04345913A JP H04345913 A JPH04345913 A JP H04345913A JP 12025991 A JP12025991 A JP 12025991A JP 12025991 A JP12025991 A JP 12025991A JP H04345913 A JPH04345913 A JP H04345913A
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- Japan
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- type titanium
- magnetic disk
- titanium alloy
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 abstract description 3
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004349 Ti-Al Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004692 Ti—Al Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、高清浄度のα型チタ
ン合金からなる磁気ディスク基板に関する。
ン合金からなる磁気ディスク基板に関する。
【０００２】
【従来技術及び発明が解決しようとする課題】コンピュ
−タ用記録媒体として使用されている磁気ディスクは、
基板と、その上に形成された磁性膜（磁気媒体）とを具
備している。このうち、磁気ディスク基板には、研磨後
の表面清浄が良好であること、表面に欠陥がないこと、
軽量かつ非磁性であること等の特性が要求される。従来
は、このような特性を満足する材料として、Ａｌ−Ｍｇ
系合金等のアルミニウム合金が用いられている。
−タ用記録媒体として使用されている磁気ディスクは、
基板と、その上に形成された磁性膜（磁気媒体）とを具
備している。このうち、磁気ディスク基板には、研磨後
の表面清浄が良好であること、表面に欠陥がないこと、
軽量かつ非磁性であること等の特性が要求される。従来
は、このような特性を満足する材料として、Ａｌ−Ｍｇ
系合金等のアルミニウム合金が用いられている。
【０００３】ところで、近時、磁気ディスクの高記録密
度化及び小型化の要求から、磁気媒体の高温スパッタリ
ング、磁気ヘッドの浮上量低下、及び磁気ディスク基板
の薄肉化が試みられている。しかしながら従来用いられ
ているアルミニウム合金製の磁気ディスク基板を使用す
る場合には、その上に磁性膜（磁気媒体）を形成する際
の高温スパッタリングに対する耐熱性が不足し、また、
基板の薄肉化の要請に対しては剛性が不足している。さ
らに、アルミニウム合金は本質的に介在物を多く含むの
で高度の表面性状を得ることができず、磁気ヘッド浮上
量の減少にも限界がある。
度化及び小型化の要求から、磁気媒体の高温スパッタリ
ング、磁気ヘッドの浮上量低下、及び磁気ディスク基板
の薄肉化が試みられている。しかしながら従来用いられ
ているアルミニウム合金製の磁気ディスク基板を使用す
る場合には、その上に磁性膜（磁気媒体）を形成する際
の高温スパッタリングに対する耐熱性が不足し、また、
基板の薄肉化の要請に対しては剛性が不足している。さ
らに、アルミニウム合金は本質的に介在物を多く含むの
で高度の表面性状を得ることができず、磁気ヘッド浮上
量の減少にも限界がある。
【０００４】これらの要求を満たすために、磁気ディス
ク基板としてセラミック、ガラス、チタン等新しい材料
が用いられつつある。中でもチタンは耐熱性に優れ、剛
性・強度が高く、かつ高清浄度が得られるため、磁気デ
ィスク基板材料として適している。特に、α型チタン合
金は、Ｃｏ−Ｃｒ系合金等の垂直磁化型高密度記録磁気
媒体の基板として使用されることにより、磁気媒体のＣ
軸配向性を高めることができ、高密度記録に有利である
（特開昭５９−１５１３３５）。
ク基板としてセラミック、ガラス、チタン等新しい材料
が用いられつつある。中でもチタンは耐熱性に優れ、剛
性・強度が高く、かつ高清浄度が得られるため、磁気デ
ィスク基板材料として適している。特に、α型チタン合
金は、Ｃｏ−Ｃｒ系合金等の垂直磁化型高密度記録磁気
媒体の基板として使用されることにより、磁気媒体のＣ
軸配向性を高めることができ、高密度記録に有利である
（特開昭５９−１５１３３５）。
【０００５】ところで、上述したように、磁気ヘッド浮
上量を低下させるためには、基板の表面性状を優れたも
のとして磁気的エラ−を防ぐ必要があり、そのためには
、基板の仕上げ研磨後にその表面に現われて表面性状を
悪化させる基板素材中の介在物を減少させる必要がある
。α型チタン合金の多くは、合金元素以外の元素が各０
．１％以下、総量で０．４％以下と規定されいているが
、磁気的エラ−の原因となる介在物をなくすためには、
これでは不十分である。
上量を低下させるためには、基板の表面性状を優れたも
のとして磁気的エラ−を防ぐ必要があり、そのためには
、基板の仕上げ研磨後にその表面に現われて表面性状を
悪化させる基板素材中の介在物を減少させる必要がある
。α型チタン合金の多くは、合金元素以外の元素が各０
．１％以下、総量で０．４％以下と規定されいているが
、磁気的エラ−の原因となる介在物をなくすためには、
これでは不十分である。
【０００６】この発明はかかる事情に鑑みてなされたも
のであって、介在物の発生が少なく高清浄度のα型チタ
ン合金からなる磁気ディスク基板を提供することを目的
とする。
のであって、介在物の発生が少なく高清浄度のα型チタ
ン合金からなる磁気ディスク基板を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び作用】この発明は、上
記課題を解決するために、Ｒｅｍ＋Ｓｉ＋Ｂ＋Ｗ（ただ
し、Ｒｅｍは希土類元素を示す）が重量％で０．０１５
％以下であるα型チタン合金からなることを特徴とする
磁気ディスク基板を提供する。
記課題を解決するために、Ｒｅｍ＋Ｓｉ＋Ｂ＋Ｗ（ただ
し、Ｒｅｍは希土類元素を示す）が重量％で０．０１５
％以下であるα型チタン合金からなることを特徴とする
磁気ディスク基板を提供する。
【０００８】本願発明者らが介在物の少ないα型チタン
合金からなる磁気ディスク基板について種々検討を重ね
た結果、磁気的エラ−の原因となる介在物は、α型チタ
ン合金中に存在する特定の不純物元素により形成され、
これらの元素を一定値以下に制限しさえすれば、このよ
うな介在物の量を磁気的エラ−に影響のない程度に少な
くできることを見出した。この発明はこのような知見に
基づいてなされたものである。
合金からなる磁気ディスク基板について種々検討を重ね
た結果、磁気的エラ−の原因となる介在物は、α型チタ
ン合金中に存在する特定の不純物元素により形成され、
これらの元素を一定値以下に制限しさえすれば、このよ
うな介在物の量を磁気的エラ−に影響のない程度に少な
くできることを見出した。この発明はこのような知見に
基づいてなされたものである。
【０００９】すなわち、α型チタン合金中に、Ｒｅｍ、
Ｓｉ、Ｂ、Ｗが一定濃度以上存在すると、これらの元素
がＴｉ中に固溶しているＯ，Ｎ等と結合して酸化物、窒
化物となったり、他の元素と結合して金属間化合物とな
ったりして、介在物形成の原因となる。このため、これ
らの元素の含有量を一定量以下に制限することにより、
介在物の発生を抑制することができる。この介在物の量
を磁気的エラ−に影響のない程度に少なくするためには
、これら元素が夫々０．０１５％以下であることが必要
であるが、夫々同様の作用をするので合計量で規定する
必要がある。従って、これらの合計量を０．０１５％以
下に規定する。なお、ここでＲｅｍは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ
，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，
Ｌｕ等の希土類元素を表わす。
Ｓｉ、Ｂ、Ｗが一定濃度以上存在すると、これらの元素
がＴｉ中に固溶しているＯ，Ｎ等と結合して酸化物、窒
化物となったり、他の元素と結合して金属間化合物とな
ったりして、介在物形成の原因となる。このため、これ
らの元素の含有量を一定量以下に制限することにより、
介在物の発生を抑制することができる。この介在物の量
を磁気的エラ−に影響のない程度に少なくするためには
、これら元素が夫々０．０１５％以下であることが必要
であるが、夫々同様の作用をするので合計量で規定する
必要がある。従って、これらの合計量を０．０１５％以
下に規定する。なお、ここでＲｅｍは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ
，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，
Ｌｕ等の希土類元素を表わす。
【００１０】
【実施例】以下、この発明の実施例について説明する。
【００１１】表１及び表２に示されているような成分組
成のインゴット（組成番号Ａ−１〜１０，Ｂ−１〜１０
）をＶＡＲ溶解によって溶製し、１０００℃にて分塊鍛
造して厚さ２００ｍｍのスラブとした。これらスラブに
対して９００℃で最終圧延を施して厚さ６ｍｍの熱延板
とした。その後、熱延板の酸化スケ−ルを除去し、切削
加工によって厚さ５ｍｍの板状にし、さらに冷間圧延を
施して厚さ１．５ｍｍの冷延板とした。
成のインゴット（組成番号Ａ−１〜１０，Ｂ−１〜１０
）をＶＡＲ溶解によって溶製し、１０００℃にて分塊鍛
造して厚さ２００ｍｍのスラブとした。これらスラブに
対して９００℃で最終圧延を施して厚さ６ｍｍの熱延板
とした。その後、熱延板の酸化スケ−ルを除去し、切削
加工によって厚さ５ｍｍの板状にし、さらに冷間圧延を
施して厚さ１．５ｍｍの冷延板とした。
【００１２】この冷延板から、３．５インチφディスク
基板用素材（外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ）を打ち抜き
、面取り後、６００℃で５時間の熱間矯正を施し、さら
に基板素材表面に対して砥粒研磨及びアルミナ仕上研磨
を施して磁気ディスク基板を作成した。
基板用素材（外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ）を打ち抜き
、面取り後、６００℃で５時間の熱間矯正を施し、さら
に基板素材表面に対して砥粒研磨及びアルミナ仕上研磨
を施して磁気ディスク基板を作成した。
【００１３】このようにして、各組成につき１００枚の
基板を作成し、各基板について光学顕微鏡を用いて１０
０倍の倍率で６０視野ずつ観察し、介在物の確認された
基板の数を把握した。その結果を表１及び表２に合わせ
て示す。なお、組成番号Ａ−１〜１０はベ−スになるα
型チタン合金がＴｉ−５Ａｌ−２．５Ｓｎであり、Ｂ−
１〜１０はＴｉ−０．２Ｐｄである。
基板を作成し、各基板について光学顕微鏡を用いて１０
０倍の倍率で６０視野ずつ観察し、介在物の確認された
基板の数を把握した。その結果を表１及び表２に合わせ
て示す。なお、組成番号Ａ−１〜１０はベ−スになるα
型チタン合金がＴｉ−５Ａｌ−２．５Ｓｎであり、Ｂ−
１〜１０はＴｉ−０．２Ｐｄである。
【００１４】これらの表から明らかなように、いずれの
合金系の場合にも、Ｒｅｍ＋Ｓｉ＋Ｂ＋Ｗが０．０１５
％以下であれば、介在物が形成されないことが確認され
た。これに対して、これらが０．０１５％を超える場合
には、介在物が観察された基板が相当数存在した。
合金系の場合にも、Ｒｅｍ＋Ｓｉ＋Ｂ＋Ｗが０．０１５
％以下であれば、介在物が形成されないことが確認され
た。これに対して、これらが０．０１５％を超える場合
には、介在物が観察された基板が相当数存在した。
【００１５】なお、この発明に係る磁気ディスク基板を
構成するα型チタン合金としては、上記２つの合金系に
限らず、Ｔｉ−Ａｌ系等、他のα型チタン合金でもよい
ことはもちろんである。
構成するα型チタン合金としては、上記２つの合金系に
限らず、Ｔｉ−Ａｌ系等、他のα型チタン合金でもよい
ことはもちろんである。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【表２】
【００１８】
【発明の効果】この発明によれば、磁気的エラ−の原因
となる介在物の発生が存在しないα型チタン合金からな
る磁気ディスク基板が提供される。
となる介在物の発生が存在しないα型チタン合金からな
る磁気ディスク基板が提供される。
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｒｅｍ＋Ｓｉ＋Ｂ＋Ｗ（ただし、Ｒｅ
ｍは希土類元素を示す）が重量％で０．０１５％以下で
あるα型チタン合金からなることを特徴とする磁気ディ
スク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12025991A JPH04345913A (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 磁気ディスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12025991A JPH04345913A (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 磁気ディスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04345913A true JPH04345913A (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=14781779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12025991A Pending JPH04345913A (ja) | 1991-05-24 | 1991-05-24 | 磁気ディスク基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04345913A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02223017A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-05 | Nkk Corp | 磁気ディスク基板 |
-
1991
- 1991-05-24 JP JP12025991A patent/JPH04345913A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02223017A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-05 | Nkk Corp | 磁気ディスク基板 |
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