JPH0434121B2 - - Google Patents
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- JPH0434121B2 JPH0434121B2 JP57014590A JP1459082A JPH0434121B2 JP H0434121 B2 JPH0434121 B2 JP H0434121B2 JP 57014590 A JP57014590 A JP 57014590A JP 1459082 A JP1459082 A JP 1459082A JP H0434121 B2 JPH0434121 B2 JP H0434121B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/005—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along a single direction only, e.g. lenticular sheets
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- G—PHYSICS
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- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0062—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
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- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
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- H01J2229/893—Optical components associated with the vessel using lenses
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はLEDデイスプレイ装置、ブラウン管
フエースプレートなど広汎な用途において有用な
平面レンズに関する。
フエースプレートなど広汎な用途において有用な
平面レンズに関する。
一般にブラウン管は高真空に耐え得るようにか
なり厚肉のガラスで構成されているのでフエース
プレートガラス内面に設けられている螢光体の発
光はフエースプレートガラスを透過する間に拡散
し、隣接する螢光体からの光が相互に重複するた
め画像全体として充分な鮮明度が得られないとい
う問題がある。
なり厚肉のガラスで構成されているのでフエース
プレートガラス内面に設けられている螢光体の発
光はフエースプレートガラスを透過する間に拡散
し、隣接する螢光体からの光が相互に重複するた
め画像全体として充分な鮮明度が得られないとい
う問題がある。
このような問題を解決したものとして多数の光
学繊維を平行に束ねて融着し平板状に仕上げたフ
アイバープレートを前面板の一部に使用したブラ
ウン管が存在し、主としてフアクシミリの送受信
用に使用されているが、上記のようなフアイバー
プレートでは個々の光学繊維のコア部を通つてく
る光の量がプレート全面積に受ける光量に比して
相対的に少なく充分な明るさが得られず、また光
学繊維間の融着接合界面に極く僅かの気泡、異物
があつても高真空度、耐高電圧特性に悪影響を及
ぼすため製造が技術的に難しく、このためテレビ
受像管のように相対的に大面積のブラウン管フエ
ースに上記フアイバープレートを使用することは
極めて高価なものになるので実用的でないという
問題がある。
学繊維を平行に束ねて融着し平板状に仕上げたフ
アイバープレートを前面板の一部に使用したブラ
ウン管が存在し、主としてフアクシミリの送受信
用に使用されているが、上記のようなフアイバー
プレートでは個々の光学繊維のコア部を通つてく
る光の量がプレート全面積に受ける光量に比して
相対的に少なく充分な明るさが得られず、また光
学繊維間の融着接合界面に極く僅かの気泡、異物
があつても高真空度、耐高電圧特性に悪影響を及
ぼすため製造が技術的に難しく、このためテレビ
受像管のように相対的に大面積のブラウン管フエ
ースに上記フアイバープレートを使用することは
極めて高価なものになるので実用的でないという
問題がある。
またLED等の光源を多数配列して明滅させ画
像を表示する一般のデイスプレイ装置においても
コントラストの良好な鮮明な画像が求められてい
る。本発明は上記の問題を解決し、不用な光線が
カツトされて鮮明な画像が得られるデイスプレイ
装置あるいはブラウン管フエースとして好適な平
面レンズを提供することを目的としている。
像を表示する一般のデイスプレイ装置においても
コントラストの良好な鮮明な画像が求められてい
る。本発明は上記の問題を解決し、不用な光線が
カツトされて鮮明な画像が得られるデイスプレイ
装置あるいはブラウン管フエースとして好適な平
面レンズを提供することを目的としている。
本発明の平面レンズは、平行平面をもつ透明基
材の片面側に、この基材の屈折率よりも大な屈折
率の断面がほぼ半円状のレンズ部分を、その球面
側を基材の肉厚内に位置させて一体に形成し、前
記基材の他面側を前記レンズ部分の焦点（または
焦線）近傍を除いてガラス内の着色イオンドープ
で形成した遮光層で覆つて構成される。本発明の
平面レンズを画像表示面に使用してレンズ部分の
背後にLED、螢光体などの発光源を配置すれば、
発光源から拡散放射した光は上記レンズ部分で焦
光されて基材の反対面上にレンズ部分の形状に応
じて点状あるいは線状に結像する。
材の片面側に、この基材の屈折率よりも大な屈折
率の断面がほぼ半円状のレンズ部分を、その球面
側を基材の肉厚内に位置させて一体に形成し、前
記基材の他面側を前記レンズ部分の焦点（または
焦線）近傍を除いてガラス内の着色イオンドープ
で形成した遮光層で覆つて構成される。本発明の
平面レンズを画像表示面に使用してレンズ部分の
背後にLED、螢光体などの発光源を配置すれば、
発光源から拡散放射した光は上記レンズ部分で焦
光されて基材の反対面上にレンズ部分の形状に応
じて点状あるいは線状に結像する。
このように微小な発光源から出た光が放散して
しまうことなく効率良く表示面上に集光され、し
かも基材を透過してくる不用な散乱光が遮光層に
よつてカツトされるため光点のぼけがほとんど無
い非常に鮮明な画像を得ることができる。
しまうことなく効率良く表示面上に集光され、し
かも基材を透過してくる不用な散乱光が遮光層に
よつてカツトされるため光点のぼけがほとんど無
い非常に鮮明な画像を得ることができる。
さらに後述するように周知のフオトリソグラフ
イー等のパターニング技術およびガラスイオン交
換技術を利用して容易に安価に製造することがで
きる。
イー等のパターニング技術およびガラスイオン交
換技術を利用して容易に安価に製造することがで
きる。
本発明を実施するに当つては、レンズ部分をほ
ぼ半球形として基材のたて辺方向および（また
は）横辺方向に沿つて一列または二列以上にわた
り配列した構造とすることができる。
ぼ半球形として基材のたて辺方向および（また
は）横辺方向に沿つて一列または二列以上にわた
り配列した構造とすることができる。
あるいはレンズ部分を基材のたて辺または横辺
方向に同一断面形状が連続するライン状に形成す
ることもできる。
方向に同一断面形状が連続するライン状に形成す
ることもできる。
レンズ部分の屈折率は基材の屈折率よりも大で
あることが必要であるが、レンズ部分内での屈折
率は一様であつても、あるいは中心を最大値とし
て外周に向つて次第に減少するような二乗近似の
屈折率分布をもつていてもよい。
あることが必要であるが、レンズ部分内での屈折
率は一様であつても、あるいは中心を最大値とし
て外周に向つて次第に減少するような二乗近似の
屈折率分布をもつていてもよい。
以下本発明を図面に示した実施例について説明
する。
する。
第１図は本発明の平面レンズの断面を示し、ガ
ラスまたは合成樹脂からなる平板状の透明基材１
の片面に断面がほぼ半円形のレンズ部分２が多数
配列してある。
ラスまたは合成樹脂からなる平板状の透明基材１
の片面に断面がほぼ半円形のレンズ部分２が多数
配列してある。
レンズ部分２内は屈折率が基材１よりも大で且
つ基材１の表面上でのレンズ中心部２Ａの屈折率
をNO.として中心からｒの距離での屈折率Ｎ（ｒ）
がほぼ、 Ｎ（ｒ）＝NO（１−1/2Ar2） ……(1) で表わされる分布を有している。
つ基材１の表面上でのレンズ中心部２Ａの屈折率
をNO.として中心からｒの距離での屈折率Ｎ（ｒ）
がほぼ、 Ｎ（ｒ）＝NO（１−1/2Ar2） ……(1) で表わされる分布を有している。
またレンズ部分２は縦断面内で半円形状である
が第２図に平面図で示すように横辺方向には同一
断面形状で同一屈折率分布が連続するようなライ
ン状に形成してある。
が第２図に平面図で示すように横辺方向には同一
断面形状で同一屈折率分布が連続するようなライ
ン状に形成してある。
また基材１のレンズ２形成面とは反対側の面は
それぞれのレンズ部分２の結像位置にスリツト状
の透光部分３を残して他の区域を基材ガラス内に
一体的に設けた遮光層４で覆つてある。
それぞれのレンズ部分２の結像位置にスリツト状
の透光部分３を残して他の区域を基材ガラス内に
一体的に設けた遮光層４で覆つてある。
透光部分３の幅はあまり広いと遮光層４による
散乱光遮断効果が薄れるのでレンズ部分２の幅の
60％以下とするのが望ましい。
散乱光遮断効果が薄れるのでレンズ部分２の幅の
60％以下とするのが望ましい。
上記構造の平面レンズを例えばデイスプレイ装
置の面板として使用し、各レンズ部分２に対応さ
せてLEDなどの発光源をそれぞれ配置すれば、
この発光源から拡散放射された光線５はレンズ部
分２の平凸レンズ作用によつて第１図の断面内で
集束されて基材の他面側において透光部分３に光
像６を結ぶ。
置の面板として使用し、各レンズ部分２に対応さ
せてLEDなどの発光源をそれぞれ配置すれば、
この発光源から拡散放射された光線５はレンズ部
分２の平凸レンズ作用によつて第１図の断面内で
集束されて基材の他面側において透光部分３に光
像６を結ぶ。
そして光像６に寄与しない散乱光７は遮光層４
でカツトされ、したがつてコントラストの非常に
良好な光像６の集合からなる鮮明な画像を観るこ
とができる。
でカツトされ、したがつてコントラストの非常に
良好な光像６の集合からなる鮮明な画像を観るこ
とができる。
次に上記の平面レンズの好適な製造方法につい
て説明する。
て説明する。
アルカリ含有ガラスの基板１０の片面にレンズ
部分２の平面パターンを陰画に反転したパターン
をもつイオン移動防止用マスク１１を設ける。こ
のマスク１１は例えば厚み約2μのチタン膜から
成り高周波スパツタで付着される。
部分２の平面パターンを陰画に反転したパターン
をもつイオン移動防止用マスク１１を設ける。こ
のマスク１１は例えば厚み約2μのチタン膜から
成り高周波スパツタで付着される。
また基板１０の他方の面には遮光層４のパター
ンを陰画に反転したパターンをもつ上記と同様の
イオン移動防止用マスク１２を設ける。
ンを陰画に反転したパターンをもつ上記と同様の
イオン移動防止用マスク１２を設ける。
マスク１１，１２のパターニングに当つては周
知のフオトリソグラフイー技術をそのまま用いる
ことができる。
知のフオトリソグラフイー技術をそのまま用いる
ことができる。
次いでマスク付き基板１０をレンズ形成面を下
側にし、屈折率増加に寄与の大きいタリウム
（Tl）、セシウム（Cs）等のイオンを含む溶融塩
１３に浮かべ、且つその上面側（遮光層形成面）
の四周を側板１４で液密に囲んでこの中にAg，
Cu，Auイオン等のガラス着色イオンを含む塩１
５例えば、硝酸銀溶融塩を充填する。
側にし、屈折率増加に寄与の大きいタリウム
（Tl）、セシウム（Cs）等のイオンを含む溶融塩
１３に浮かべ、且つその上面側（遮光層形成面）
の四周を側板１４で液密に囲んでこの中にAg，
Cu，Auイオン等のガラス着色イオンを含む塩１
５例えば、硝酸銀溶融塩を充填する。
次に両溶融塩１３，１５中にそれぞれチタン板
等の電極板１６Ａ，１６Ｂをセツトし、溶融塩１
３，１５及びガラス基板１０の温度を約560℃前
後に保持して10ボルト程度の直流電圧をレンズ形
成側の溶融塩中の電極１６Ａを正、遮光層形成側
の電極１６Ｂを負にして印加しつつ約４時間前後
処理する。
等の電極板１６Ａ，１６Ｂをセツトし、溶融塩１
３，１５及びガラス基板１０の温度を約560℃前
後に保持して10ボルト程度の直流電圧をレンズ形
成側の溶融塩中の電極１６Ａを正、遮光層形成側
の電極１６Ｂを負にして印加しつつ約４時間前後
処理する。
上記処理により基板ガラス１０の陽極側の面か
ら溶融塩１３中の例えばタリウムイオンがガラス
中に拡散浸透していき、陰極側からガラス中のナ
トリウムイオンが出ていくがこのとき同時に陰極
側のガラス内に溶融塩１５中から銀イオンが拡散
侵入するという現像が起る。
ら溶融塩１３中の例えばタリウムイオンがガラス
中に拡散浸透していき、陰極側からガラス中のナ
トリウムイオンが出ていくがこのとき同時に陰極
側のガラス内に溶融塩１５中から銀イオンが拡散
侵入するという現像が起る。
これは基板１０の両面におけるイオン拡散速度
が異なりNaイオンの溶出速度が速いため陰極側
ガラス表面付近では電気的中性が保たれなくな
り、結果的に電界の方向とは逆方向に陰極側溶融
塩中に含まれるAgイオンが拡散していくものと
考えられる。
が異なりNaイオンの溶出速度が速いため陰極側
ガラス表面付近では電気的中性が保たれなくな
り、結果的に電界の方向とは逆方向に陰極側溶融
塩中に含まれるAgイオンが拡散していくものと
考えられる。
上記のようにして陽極側のガラス面にはタリウ
ムイオンの濃度分布に応じた屈折率分布をもつ断
面が三日月状のレンズ部分が形成される。
ムイオンの濃度分布に応じた屈折率分布をもつ断
面が三日月状のレンズ部分が形成される。
また同時に、基板１０の他方の面のマスク１２
で被覆していない部分にはAgイオンが基板ガラ
ス中にドープされる。
で被覆していない部分にはAgイオンが基板ガラ
ス中にドープされる。
この後、上記基板ガラス１０を取り出し、表面
のマスク１１，１２を除去した後、約600℃の温
度で数時間〜数10時間熱処理を行なう。これによ
り第６図に示すようにレンズ部分の断面形状は、
ほぼ半円形になりその屈折率分布が前述の(1)式に
近くなる。同時にAgイオンドープ層がAgのコロ
イド化により着色して遮光層４となる。
のマスク１１，１２を除去した後、約600℃の温
度で数時間〜数10時間熱処理を行なう。これによ
り第６図に示すようにレンズ部分の断面形状は、
ほぼ半円形になりその屈折率分布が前述の(1)式に
近くなる。同時にAgイオンドープ層がAgのコロ
イド化により着色して遮光層４となる。
以上のようにして得られた本発明の遮光層付き
レンズ板１０Ａに遮光層４を設けていないほかは
上記レンズ板と全く同一の構成の他の平面レンズ
板１０Ｂをそのレンズ形成面を対向させて熱融着
等により一体に接合することにより、第８図に示
すように透明基板の肉厚のほぼ中央部に円形断面
のレンズ部が設けられた構造の像伝達面板を得る
ことができる。
レンズ板１０Ａに遮光層４を設けていないほかは
上記レンズ板と全く同一の構成の他の平面レンズ
板１０Ｂをそのレンズ形成面を対向させて熱融着
等により一体に接合することにより、第８図に示
すように透明基板の肉厚のほぼ中央部に円形断面
のレンズ部が設けられた構造の像伝達面板を得る
ことができる。
第８図のガラス面板を例えば遮光層４側を外側
としてブラウン管フエースプレートに使用した場
合、面板２１の内表面２１Ａに設けられた螢光体
２５に電子線が照射されて発光すると光線２６は
拡散しながら面板２１内に入るがレンズ部分２４
により縦断面内で集束されて外表面２１Ｂ上に像
２７を結ぶ。
としてブラウン管フエースプレートに使用した場
合、面板２１の内表面２１Ａに設けられた螢光体
２５に電子線が照射されて発光すると光線２６は
拡散しながら面板２１内に入るがレンズ部分２４
により縦断面内で集束されて外表面２１Ｂ上に像
２７を結ぶ。
典型的な数値例を示すならば面板２１の厚さ
W0＝６mm、レンズ部分２４の直径ｄ＝200μ、螢
光体の幅W1＝120μ、螢光体の配置間隔l1＝200μ、
結像面側の透光部分２８の幅W2＝120μ、透光部
分２８，２８間にある遮光層２９の幅W3＝80μで
ある。
W0＝６mm、レンズ部分２４の直径ｄ＝200μ、螢
光体の幅W1＝120μ、螢光体の配置間隔l1＝200μ、
結像面側の透光部分２８の幅W2＝120μ、透光部
分２８，２８間にある遮光層２９の幅W3＝80μで
ある。
第２図、第３図の例のようにレンズ部分２を水
平方向に延びるライン状にすると光源からの光線
５は垂直断面内だけで集束され水平方向では従来
通り拡散することになるが、人間の目の動きは上
下方向よりも左右方向での移動角度がはるかに大
きく、上記構造によれば画像表示面を斜め方向か
らみたときに遮光層２９の存在で像２７の一部が
隠されるといつたこともなく且つたて方向での集
光により輝度は充分に高くなり非常に見易い。
平方向に延びるライン状にすると光源からの光線
５は垂直断面内だけで集束され水平方向では従来
通り拡散することになるが、人間の目の動きは上
下方向よりも左右方向での移動角度がはるかに大
きく、上記構造によれば画像表示面を斜め方向か
らみたときに遮光層２９の存在で像２７の一部が
隠されるといつたこともなく且つたて方向での集
光により輝度は充分に高くなり非常に見易い。
第９図ないし第１１図に本発明の他の実施例を
それぞれ正面図および背面図で示す。
それぞれ正面図および背面図で示す。
第９図のものはレンズ部分２を半球状として四
辺形の基材１のたて辺および横辺方向に多数並べ
てレンズマトリクスを構成している。
辺形の基材１のたて辺および横辺方向に多数並べ
てレンズマトリクスを構成している。
これに合せて遮光層４はレンズ部分２の焦点近
傍に円形の透光部分３を残して設けられる。
傍に円形の透光部分３を残して設けられる。
第１０図のものは半球状のレンズ部分２を細長
い基材１に一列だけ設けた構造、第１１図は単一
の半球状のレンズ部分２を四辺形の基材１に設け
た構造であり、これらの平面レンズ体は多数を集
積して前述のような画像デイスプレイとしてある
いは単独で他の用途に使用することができる。
い基材１に一列だけ設けた構造、第１１図は単一
の半球状のレンズ部分２を四辺形の基材１に設け
た構造であり、これらの平面レンズ体は多数を集
積して前述のような画像デイスプレイとしてある
いは単独で他の用途に使用することができる。
第９図〜第１１図の平面レンズ体は、前述の製
作工程でマスク１１および１２の開口をスリツト
にするかわりに円形にして他は全く同様にして製
作することができる。
作工程でマスク１１および１２の開口をスリツト
にするかわりに円形にして他は全く同様にして製
作することができる。
第１図は本発明の一実施例を示す縦断面図、第
２図は第１図のものの正面図、第３図は第１図の
ものの背面図、第４図ないし第６図は本発明品の
製造方法例を示し第４図はマスクを施した基板の
斜視図、第５図はマスク付き基板にイオン交換を
行なう工程を示す縦断面図、第６図はイオン交換
後の基板内の状態を示す縦断面図、第７図は本発
明の遮光層付きレンズ板と他のレンズ板とを接合
して像伝達面板を造る方法を示す縦断面図、第８
図は同上で得られる像伝達面板の縦断面図、第９
図ないし第１１図は本発明の他の実施例を示す正
面図及び背面図である。 １，１０……透明基材、２……レンズ部分、３
……透光部分、４……遮光層、５……光線、６…
…光像、７……散乱光、１１，１２……イオン移
動防止用マスク、１３，１５……溶融塩、１６
Ａ，１６Ｂ……電極板。
２図は第１図のものの正面図、第３図は第１図の
ものの背面図、第４図ないし第６図は本発明品の
製造方法例を示し第４図はマスクを施した基板の
斜視図、第５図はマスク付き基板にイオン交換を
行なう工程を示す縦断面図、第６図はイオン交換
後の基板内の状態を示す縦断面図、第７図は本発
明の遮光層付きレンズ板と他のレンズ板とを接合
して像伝達面板を造る方法を示す縦断面図、第８
図は同上で得られる像伝達面板の縦断面図、第９
図ないし第１１図は本発明の他の実施例を示す正
面図及び背面図である。 １，１０……透明基材、２……レンズ部分、３
……透光部分、４……遮光層、５……光線、６…
…光像、７……散乱光、１１，１２……イオン移
動防止用マスク、１３，１５……溶融塩、１６
Ａ，１６Ｂ……電極板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 平行平面をもつ透明基材の片面側に、この基
材の屈折率よりも大な屈折率の断面がほぼ半円状
の凸レンズ部分を、その凸面を基材の肉厚内に位
置させて一体に形成し、前記基材の他面側を前記
レンズ部分の焦点（または焦線）近傍を除いてガ
ラス中への着色イオンのドープで形成した遮光層
で覆つたことを特徴とする平面レンズ。 ２ レンズ部分は屈折率が中心において最大で外
周に向けて次第に減少するような屈折率分布を有
していることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の平面レンズ。 ３ レンズ部分は基材のたて辺方向および（また
は）横辺方向に複数列にわたり設けられているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の平面
レンズ。 ４ レンズ部分は基材の一方向に同一断面形状が
連続するライン状に形成されていることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のレンズ。 ５ レンズ部分はほぼ半球形であることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の平面レンズ。 ６ 平行平面をもつ透明ガラス基材の片面側をレ
ンズパターンの開口を設けたイオン透過防止マス
クで覆い、この状態で前記レンズ形成面側に屈折
率増加に寄与の大きいイオンを含む溶融塩を接触
させ、同時に基材の他面側にガラス着色イオンを
含む溶融塩を接触させることを特徴とする遮光層
付き平面レンズの製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1459082A JPS58132201A (ja) | 1982-02-01 | 1982-02-01 | 平面レンズ及びその製造方法 |
| DE8302567U DE8302567U1 (ja) | 1982-02-01 | 1983-01-31 | |
| DE19833303157 DE3303157A1 (de) | 1982-02-01 | 1983-01-31 | Plattenlinse und verfahren zu ihrer herstellung |
| FR8301480A FR2520883B1 (fr) | 1982-02-01 | 1983-01-31 | Lentille-plaque et procede de fabrication de celle-ci |
| US06/462,146 US4509824A (en) | 1982-02-01 | 1983-01-31 | Plate lens and a method for manufacturing the same |
| NL8300359A NL8300359A (nl) | 1982-02-01 | 1983-01-31 | Plaatvormige lens en een werkwijze voor het vervaardigen ervan. |
| GB08302709A GB2117530B (en) | 1982-02-01 | 1983-02-01 | Integral plate lens |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1459082A JPS58132201A (ja) | 1982-02-01 | 1982-02-01 | 平面レンズ及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58132201A JPS58132201A (ja) | 1983-08-06 |
| JPH0434121B2 true JPH0434121B2 (ja) | 1992-06-05 |
Family
ID=11865381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1459082A Granted JPS58132201A (ja) | 1982-02-01 | 1982-02-01 | 平面レンズ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58132201A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6090514U (ja) * | 1983-11-29 | 1985-06-21 | カルソニックカンセイ株式会社 | 排気装置 |
| JPS6125106A (ja) * | 1984-07-16 | 1986-02-04 | Hoya Corp | 屈折率分布形ロツドレンズ体およびその製造方法 |
| JPS6126002A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-05 | Hoya Corp | 集光性屈折率分布型ロツドレンズアレ−の製造法 |
| JPS6126006A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-05 | Hoya Corp | 屈折率分布型スラブレンズ体およびその製造法 |
| JPS61132541A (ja) * | 1984-11-29 | 1986-06-20 | Hoya Corp | 屈折率分布型レンズの調整法 |
| JPS61222943A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-03 | Hoya Corp | 屈折率分布型レンズの製造法 |
| JPH0243501A (ja) * | 1988-08-04 | 1990-02-14 | Omron Tateisi Electron Co | レンズ・アレイ，ならびにレンズ・アレイを利用した撮像装置およびマルチ・スポット用光源装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4940751A (ja) * | 1972-08-22 | 1974-04-16 | ||
| JPS50104031A (ja) * | 1974-01-16 | 1975-08-16 | ||
| JPS5536962A (en) * | 1978-09-06 | 1980-03-14 | Canon Inc | Method for producing megnetic core |
-
1982
- 1982-02-01 JP JP1459082A patent/JPS58132201A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4940751A (ja) * | 1972-08-22 | 1974-04-16 | ||
| JPS50104031A (ja) * | 1974-01-16 | 1975-08-16 | ||
| JPS5536962A (en) * | 1978-09-06 | 1980-03-14 | Canon Inc | Method for producing megnetic core |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58132201A (ja) | 1983-08-06 |
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