JPH04334853A - 低反射膜付陰極線管 - Google Patents

低反射膜付陰極線管

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JPH04334853A
JPH04334853A JP3106988A JP10698891A JPH04334853A JP H04334853 A JPH04334853 A JP H04334853A JP 3106988 A JP3106988 A JP 3106988A JP 10698891 A JP10698891 A JP 10698891A JP H04334853 A JPH04334853 A JP H04334853A
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ray tube
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cathode ray
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    • C03C2217/00Coatings on glass
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    • C03C2217/47Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475Inorganic materials

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  • Optical Filters (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、フェース・プレート
部に低反射膜を形成した低反射膜付陰極線管に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】最近、カラーテレビジョン受像機の画質
に対する要求が非常に強まってきており、このため、陰
極線管のコントラスト性能についても大幅な改善が望ま
れている。
【0003】つぎに、このコントラスト性能について図
8により説明する。図8は陰極線管の蛍光面部分の拡大
概略断面図であり、同図において、フェース・プレート
2の内面には蛍光面の外光反射率を低下させてコントラ
スト性能を向上させるための黒色光吸収膜6及びBGR
(青・緑・赤)3色蛍光体層4及びメタルバック膜5が
形成されている。
【0004】いま、上記構成の陰極線管において、蛍光
面の発光輝度をF0、フェース・プレート2を透過して
出てくる光の出力輝度をF1 、フェース・プレート2
の光透過率をTp 、BGR3色蛍光体層4及び黒色光
吸収膜6及びメタルバック膜5のすべてが統括された蛍
光膜反射率をRp、黒色光吸収膜6の開口率をTb 、
蛍光面に入ってくる入射光の強さをE0 、フェース・
プレート2の外表面で反射された表面反射外光の強さを
E1 、フェース・プレート2の内表面と蛍光膜で反射
されたフェース・プレート2の外部へ出てくる蛍光面反
射外光の強さをE2 とすると、コントラスト指標Ct
 は下記の数式1で表わすことができる。
【0005】
【数1】
【0006】上記数式1では、フェース・プレート2の
材質はガラスであるために、空気及び真空との界面での
表面反射を4%と見積った。数式1の■から明らかなこ
とは、■よりE1 は一定であるため、コントラスト性
能、すなわち、コントラスト指標Ct を向上させるた
めには、F1 、すなわち、出力輝度を大きくするか、
E2 、すなわち、蛍光面反射外光の強さを小さくすれ
ばよい。このE2 を小さくするためには、数式1の■
よりフェース・プレート2の光透過率Tp を低くする
ことが有効であることがわかる。このため、陰極線管の
コントラスト性能を向上させる方法として、フェース・
プレート2の光透過率Tp を下げることがよくおこな
われる。 この場合には、欠点として、陰極線管の出力輝度F1 
も同時に低下することが数式1の■より明らかである。
【0007】図10はフェース・プレート2及び蛍光面
の光学特性を説明するための図である。図中、BGRは
BGR3色蛍光体層4からの発光の相対発光強度スペク
トル分布を示すものである。また、図中の曲線(II)
,(III),(IV),(V) はフェース・プレー
ト2のガラス肉厚が13mmの場合のフェース・プレー
ト2の分光透過率分布を示すもので、(II)は可視光
領域の分光透過率が約85%のクリアー・タイプ、(I
II) は可視光領域の分光透過率が約69%のグレー
・タイプ、(IV)は可視光領域の分光透過率が約50
%のティント・タイプ、(V) は可視光領域の分光透
過率が約38%のダーク・ティント・タイプの分光透過
率を示す。
【0008】ところで、フェース・プレート2の分光透
過率は低いほど陰極線管の蛍光面の輝度性能としては不
利になることは、BGRの蛍光面の相対発光強度スペク
トル分布との関係より明らかであるが、陰極線管の蛍光
面に入射する外光が有効に除去できるので、コントラス
ト上は有利であり、最近のカラーテレビジョン受像機の
画質重視の傾向とともに、輝度性能重視の従来のクリア
ー・タイプ及びグレー・タイプよりもコントラスト性能
重視のティント・タイプ及びダーク・ティント・タイプ
のフェース・プレート2が多く使用されるようになって
きている。
【0009】また、最近の陰極線管の大型化及び輝度性
能やフォーカス性能の改善にともない、陰極線管の蛍光
面に印加する電圧、すなわち、電子ビームの加速電圧が
高くなってきており、カラーテレビジョン受像機のフェ
ース部分のチャージアップ現象が大きな問題となってき
ている。すなわち、このチャージアップ現象により、フ
ェース部分に空気中の細かいゴミが付着して汚れ等が目
立ちやすくなり、結果として、陰極線管の輝度性能を劣
化させる原因になっている。また、チャージアップした
フェース部分に観視者が近づいた時に、放電現象が起こ
り、観視者に不快感を与える不都合もある。
【0010】このようなカラーテレビジョン受像機のフ
ェース部分の帯電防止と映像のコントラスト性能をより
一層向上させる目的で、図11で示すように、陰極線管
のフェース・プレート2の外表面に帯電防止光選択吸収
膜3を設けた帯電防止光選択吸収膜付陰極線管1が使用
されるようになってきた。この帯電防止選択吸収膜3は
シリカ(SiO2 )系の膜で構成されており、帯電防
止機能と光選択吸収機能との両方の機能を有している。 このような帯電防止光選択吸収膜3を形成するためには
、一般に、官能基として−OH基や−OR基を有するシ
リコン(Si)アルコキシドのアルコール溶液をベース
塗料として、このベース塗料に導電性フィラーとして酸
化スズ(SnO2 )や酸化インジウム(In2 O3
 )の微粒子を分散混合し、かつ有機系もしくは無機系
の染料又は顔料を分散混合させた塗液を陰極線管のフェ
ース・プレート2の外表面に塗布・成膜することにより
行われる。成膜後、強い膜強度を得るために、100〜
200℃の温度で膜の焼き付け処理をおこなう。
【0011】図9は、フェース・プレート2の外表面に
形成された帯電防止光選択吸収膜3の拡大断面概念図で
あり、多孔質シリカ膜7の中に、有機系もしくは無機系
の染料又は顔料粒子8と導電性フィラー粒子9とが分散
した構造になっている。
【0012】図12は陰極線管のフェース・プレート部
の表面電位の変化を示すグラフであり、図中、L,L1
 は帯電防止機能を有していない陰極線管の電源ON時
(L)及び電源OFF時(L1 )の表面電位の変化曲
線であるのに対し、曲線M,M1 は帯電防止機能を具
備した陰極線管の電源ON時(L)及び電源OFF時(
L1 )の表面電位の変化曲線であり、帯電防止機能を
具備している陰極部は、そのフェース・プレート2の外
表面に導電性の膜が形成されており、この導電性の膜が
アースと接合されているので、表面チャージが定常的に
アースの方へ逃げ、大幅にチャージ・アップが小さくな
っていることがわかる。
【0013】また、帯電防止光選択吸収膜3によるコン
トラスト性能向上の原理を図7の陰極線管の蛍光面部分
に拡大概念断面図により説明する。同図において、帯電
防止光選択吸収膜3がフェース・プレート2の外表面に
付加されている以外は、図8の断面図と全く同じである
。また、フェース・プレート2のガラス材料と帯電防止
光選択吸収膜3の光学的な屈折率はほぼ同じに選んでい
るので、これらの界面での光反射はほぼ無視できる。 この場合のコントラスト指標C’tは前述と同様に次の
数式2で表すことができる。
【0014】
【数2】
【0015】上記数式2でE1 は一定であり、Tpも
一定の場合、コントラスト指標C’tを更に向上させる
ためには、上記数式2の■及び■より帯電防止光選択吸
収膜3の光透過率Tcを小さくすることが有効である。 帯電防止光選択吸収膜3の場合、この膜の可視光領域で
の分光透過率分布とBGR3色蛍光体層4からの発光の
相対発光強度スペクトル分布との最適化をおこなうこと
により、数式2の■で示す出力輝度F’1の低下を極力
抑えてコントラスト指標C’tを向上させることが可能
である。
【0016】図10における曲線(I)は、上記のよう
な目的で陰極線管のフェース・プレート2の外表面に設
けられた帯電防止光選択吸収膜3の分光透過率分布の一
例を示す。図中、GRの相対発光強度スペクトル分布の
主スペクトル波長535nm〜625nmのうち、この
主スペクトル波長に近い部分に、この帯電防止光選択吸
収膜3の吸収ピーク(A)があると、陰極線管の蛍光面
の輝度性能上不利となるため、この吸収帯の半値幅等も
考慮して通常570nm〜610nmの範囲に吸収帯の
吸収ピーク(A)は置かれる。
【0017】この範囲の波長の光は、人間の目の視感度
の比較的高い領域と一致するので、外光(通常は白色光
)成分のうち、この領域の光が吸収、除去されると、コ
ントラスト性能上、好ましい。すなわち、帯電防止光選
択吸収膜付陰極線管1の帯電防止光選択吸収膜3の光学
特性としては、人間の目の視感度として割合に高く、ま
た、蛍光面からの発光にできるだけ影響の少ない570
〜610nmの範囲に吸収帯のピーク(A)を置いて蛍
光面の輝度性能を維持しつつ、外光を有効に吸収してコ
ントラスト性能の向上をはかるようにしたものである。
【0018】このような光学特性を有する有機系もしく
は無機系の染料又は顔料の選定が非常に重要であり、曲
線(I)の場合、580nmに吸収帯の吸収ピーク(A
)をもたせた例を示す。このような帯電防止光選択吸収
膜付陰極線管1では、ベース塗料に混合する有機系や無
機系の染料や顔料の光学的な光吸収特性が比較的ブロー
ドであるため、蛍光面の発光のうち、たとえば、緑色(
G)発光の場合、主スペクトル波長の長波長側のテール
部、赤色(R)発光の場合、主スペクトル波長の短波長
側のサブピーク部がこの光選択吸収膜により吸収されて
発光色調の改善も同時におこなうことが可能である。
【0019】図6はいろいろな種類の陰極線管のフェー
ス・プレート2外表面に強さ100の外光(E0 )が
入射したときに、フェース・プレート2の外表面で反射
される表面反射外光の強さ(E1 )とフェース・プレ
ート2の内表面と蛍光膜で反射され、フェース・プレー
ト2の外部へ出てくる蛍光面反射外光の強さ(E2 )
と全反射外光中に占める表面反射外光の割合「〔E1 
/(E1 +E2 )〕×100」を表す。
【0020】表面反射外光の強さは(E1 )について
は、(k)〜(n)はすべてガラス材料からなるフェー
ス・プレート2外表面での反射であり、(o)及び(p
)はガラス材料とほぼ光学的な屈折率が同じの帯電防止
光選択吸収膜3外表面での反射であるため、その強さは
すべて約4.0となる。蛍光面反射外光の強さ(E2 
)については、フェース・プレート2及びその外表面に
形成された帯電防止光選択吸収膜3の光透過率に依存し
、これらの光選択率が低くなると、急激に小さくなる。 なお、これらの測定及び評価をおこなう際の外光として
は、図13で示すような相対発光強度スペクトル分布を
有する白熱灯を使用した。
【0021】これら(k)〜(n)の各数値を見て明ら
かなことは、(k)及び(l)のように、フェース・プ
レート2の光透過率が比較的高い場合は、E1 に比べ
てE2 が非常に高く「すなわち、〔E1 /(E1 
+E2 )〕×100の値が小さい」、E1 の影響は
無視できるが、(m)及び(n)のように、フェース・
プレート2の光透過率が低くなってくると、E1 とE
2 が非常に近づいてきて、E1 の影響が無視できな
くなってくる。(o)及び(p)のように、もともと光
透過率が低いフェース・プレート2の外表面上に光吸収
膜を形成する場合には、この傾向が更に顕著となる。
【0022】これは現象的には、陰極線管のコントラス
ト性能を向上させるために、フェース・プレート2の光
透過率を下げれば下げるほど、また、さらに、このフェ
ース・プレート2の外表面上に光吸収膜を設けて光透過
率を下げれば下げるほど、フェース・プレート2の表面
外光反射が目立ちはじめ、たとえば、陰極線管のフェー
ス部に映り込む観視者の顔などが、くっきりと見えて観
視者にとって非常に目障りとなり、長時間映像を見続け
ると、目の疲労の原因にもなる。この表面外光反射が目
立つ問題は、特に、フェース・プレート2の光透過率が
50%以下になると、非常に顕著となり、このようなフ
ェース・プレート2の外表面に帯電防止光選択吸収膜3
等の光吸収膜を形成すると、問題は一層深刻になる。
【0023】
【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、従
来の陰極線管では、コントラスト性能を向上させようと
して、フェース・プレート2の光透過率を下げれば下げ
るほど、また、更に、フェース・プレート2の外表面上
に光吸収膜を設けて光透過率を下げれば下げるほど、フ
ェース・プレート2の表面外光反射が目立つようになり
、この映り込みのために観視者が映像を見づらくなった
り、観視者に目の疲労を生じる等の不都合があった。
【0024】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたものであって、陰極線管のコントラスト性
能を向上させるために、フェース・プレートの光透過率
を下げたり、更に、その外表面に光吸収膜を設けても外
光による映り込み等の少ない低反射膜付陰極線管を安価
に提供することを目的とする。
【0025】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、請求項1の発明では、50%以下の光透過率を有す
る陰極線管のフェース・プレート部に、シリコン(Si
)のアルコキシドをベースとした2層以上4層以下の高
屈折率層及び低屈折率層の交互積層組合わせによる多層
光学干渉膜からなる低反射膜を形成した低反射膜付陰極
線管であって、上記高屈折率層は、官能基として−OH
基,−OR基を有するシリコン(Si)のアルコシドの
アルコール溶液もしくはこのアルコール溶液に平均粒径
が1000Å以下の超微粒子弗化マグネシウム(MgF
2 )を分散混合してなる低屈折率ベース塗料による塗
膜で形成し、低屈折率層は、官能基として−OH基,−
OR基を有するシリコン(Si)のアルコキシドのアル
コール溶液に対し、平均粒径が1000Å以下の超微粒
子酸化タンタル(Ta2 O5 )、超微粒子酸化ジル
コニウム(ZrO2 )もしくは超微粒子硫化亜鉛(Z
nS)のうちのいずれか1つ又はこれらの混合物を分散
混合してなる高屈折率ベース塗料の塗膜により形成した
ものであることを特徴としている。
【0026】請求項2の発明では、請求項1の発明にお
ける高屈折率層及び低屈折率層となる塗膜の交互積層に
際し、ある層の塗膜を形成後、その膜面上に次の塗膜を
形成するに先立って下地の塗膜にキュアリングを施した
ことを特徴としている。
【0027】請求項3の発明では、請求項1〜2の発明
において、スピンコート法により各塗膜の形成をおこな
ったことを特徴としている。
【0028】請求項4の発明では、請求項1〜3のいず
れかに記載の発明において、各塗膜を形成するため、ベ
ース塗料に有機系もしくは無機系の染料又は顔料を分散
混合したことを特徴としている。
【0029】また、請求項5の発明では、請求項1〜4
のいずれかに記載の発明において、各ベース塗料に導電
性フィラーとして酸化スズ(SnO2 )又は酸化イン
ジウム(In2 O3 )等の導電性微粒子を分散混合
したことを特徴としている。
【0030】さらに、請求項6の発明では、請求項5の
発明において、高屈折率ベース塗料にのみ導電性フィラ
ーを分散混合したことを特徴としている。
【0031】
【作用】上記のように構成した請求項1記載の発明によ
れば、50%以下の光透過率を有するフェース・プレー
トを使用してもフェース・プレート外表面に設けたシリ
コン(Si)のアルコキシドをベースとした2層以上4
層以下の高屈折率層及び低屈折率の組み合わせによる多
層光学干渉膜からなる低反射膜により、フェース・プレ
ートの外表面での外光反射が低減され、外光による映り
込み等の影響を効率的にかつ安価な方法で少なくするこ
とができる。
【0032】請求項2記載の発明によれば、キュアリン
グにより、塗膜をある程度硬化させて高屈折率層上に低
屈折率層を形成するために低屈折率塗液を塗布しても下
地の高屈折率層からの溶出現象が起こらないという作用
がある。
【0033】請求項3記載の発明によれば、スピンコー
ト法により各塗膜の形成をおこなうので、一定膜厚の塗
膜が形成できるという作用がある。
【0034】請求項4記載の発明によれば、ベース塗料
に有機系もしくは無機系の染料または顔料を分散混合す
ることにより、高低屈折率層が着色され、これらの染料
や顔料の光学的な光吸収特性が比較的ブロードであるた
め、蛍光面の発光のうち、たとえば、緑色(G)発光の
場合、主スペクトル波長の長波長側のテール部、赤色(
R)発光の場合、主スペクトル波長の短波長側のサブピ
ーク部がこの光選択吸収膜により吸収されて発光色調の
改善も同時におこなえる。
【0035】請求項5記載の発明によれば、ベース塗料
に導電性フィラーとして酸化スズもしくは酸化インジウ
ム等の導電性微粒子を分散混合することにより、帯電防
止機能が付与されるとともに、屈折率を上げることがで
き、とくに、請求項6記載の発明のように、高屈折率ベ
ース塗料にのみ分散混合することにより、高屈折率層の
屈折率を上げ、相対的に、低屈折率層の屈折率を下げる
ことが可能となり、結果的に、全体として、低反射膜の
光学特性が大幅に改善される。
【0036】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図2はこの発明による低反射膜付陰極線管のフェ
ース・プレート部の拡大断面概念図である。フェース・
プレート2 外表面には、一定膜層(d’1)の高屈折
率層10と同じく一定膜厚(d’2)の低屈折率層11
の2層の組み合わせからなる低反射膜12が形成されて
いる。 従来、このような低反射膜12は高屈折率層10として
は、たとえば、酸化チタン(TiO2 )のような高屈
折材料を真空蒸着法等により一定膜厚に形成していた。 また、低屈折率層11としても、同様に弗化マグネシウ
ム(MgF2 )のような低屈折材料を真空蒸着法等に
より一定膜厚に形成していた。このような真空蒸着法等
による低反射膜は光学的な性能としては、かなり良いも
のが得られる。しかしながら、真空蒸着法などの処理コ
ストが非常に高く、ディスプレイ・モニタ管等の特殊な
用途には既に一部導入されているが、一般、民生用カラ
ーテレビジョン受像機のような用途への導入は、コスト
的に非常に困難なものがある。
【0037】この点、この発明の場合、高低各屈折率層
ともシリコン(Si)のアルコキシドをベースとした塗
液をフェース・プレートに塗布成膜して形成するので、
コスト的に非常に安価に大量生産をおこなうことが可能
である。
【0038】以下、図2で示す高屈折率層と低屈折率層
の2層の組み合わせからなる低反射膜12について具体
的に説明する。まず、フェース・プレート2の外表面を
十分クリーニングした後、従来の帯電防止光選択吸収膜
の形成に使用したシリコン(Si)のアルコキシドのア
ルコール溶液に帯電防止用の導電性フィラー及び着色用
の染料又は顔料を分散混合させた塗液に対し、更に塗膜
の高屈折率化をはかるために、平均粒径が400Åの超
微粒子酸化チタン(TiO2 )を一定量混合して高屈
折率塗液とし、従来と同様にスピンコート法により一定
膜厚(d’1) でフェース・プレート2外表面に塗布
成膜して高屈折率層10とした。
【0039】この高屈折率層10は図2のフェース・プ
レート部の拡大断面概念図で示すように、多孔質シリカ
膜7の中に有機系もしくは無機系の染料又は顔料粒子8
と導電性フィラー粒子9に加え、超微粒子酸化チタン(
TiO2 )13が分散している。超微粒子酸化チタン
(TiO2 )13を加えない状態では、この膜の屈折
率は1.50〜1.54で、ほぼ下地のフェース・プレ
ート2のガラス材料の屈折率と同じであるが、酸化チタ
ン(TiO2)は屈折率が約2.35の高屈折率材料で
あるので、この膜に一定量の超微粒子酸化チタン(Ti
O2 )13を加えることにより、膜の屈折率を約1.
8まで上げることができ、高屈折率層10が形成される
。このような目的に使用できる高屈折率材料としては、
他に超微粒子の酸化タンタル(Ta2 O5 )、酸化
ジルコニウム(ZrO2 )、硫化亜鉛(ZnS)等が
あり、これらの混合物でもよい。また、これらの超微粒
子の平均粒径としては、1000Å以下、好ましくは、
300Å以下にすることが屈折率を効果的に上げる点及
び形成された膜の均一性の点より好ましい。
【0040】このようにして、塗布・成膜された高屈折
率層10は加熱炉によりキュアリングがおこなわれる。 これは塗膜をある程度硬化させて高屈折率層10上に低
屈折率層11を形成するために低屈折率塗液を塗布して
も下地の高屈折率層10からの溶出現象が起こらないよ
うにするためである。この場合のキュアリングの条件と
しては、80℃の温度で20分間保持した。このキュア
リングとしては、加熱のみではなく、紫外線や化学薬品
等を使用することも可能である。
【0041】つぎに、キュアリングが終わった高屈折率
層10上にシリコン(Si)のアルコキシドのアルコー
ル溶液に帯電防止用の導電性フィラー及び着色用の染料
又は顔料を分散混合させた塗液に対し、さらに塗膜の低
屈折率化をはかるために、平均粒径が300Åの超微粒
子弗化マグネシウム(MgF2 )を一定量混合して低
屈折率塗液とし、高屈折率層10形成時と同様にスピン
コート法により一定膜厚(d’2)で高屈折率層10上
に塗布成膜して低屈折率層11とした。
【0042】この低屈折率層11は図2のフェース・プ
レート部の拡大断面概念図で示すように、多孔質シリカ
膜7の中に有機系もしくは無機系の染料又は顔料粒子8
と導電性フィラー粒子9に加え、超微粒子弗化マグネシ
ウム(MgF2 )14が分散している。超微粒子弗化
マグネシウム(MgF2 )14を加えない状態では、
この膜の屈折率は1.50〜1.54であるが、弗化マ
グネシウム(MgF2 )自体は屈折率が約1.38の
低屈折率材料であるので、この膜に一定量の超微粒子弗
化マグネシウム(MgF2 )を加えることにより膜の
屈折率を約1.42まで下げることができ、低屈折率層
11が形成される。
【0043】このような目的に使用する超微粒子弗化マ
グネウシム(MgF2 )の平均粒径としては1000
Å以下、好ましくは300Å以下にすることが屈折率を
効果的に下げる点及び形成された膜の均一性の点より望
ましい。
【0044】このようにしてフェース・プレート2上に
各々一定膜厚で形成された高屈折率層10と低屈折率層
11からなる低反射膜12は、加熱炉により、たえとば
、175℃の温度で30分間保持して膜の焼き付け処理
をおこなうことにより得られる。この焼き付け処理は膜
の光学特性の安定化及び膜強度向上のためにおこなわれ
る。
【0045】多層光学干渉膜からなる低反射膜の膜構成
としては、ほぼ1/4波長の光学的厚さを有する低屈折
率層をL、ほぼ1/4波長の光学的厚さを有する高屈折
率層をHとし、ガラス基板を(S)とする2層の場合は
、(S)−H−L及び(S)−2H−Lが基本であるこ
とはよく知られている。3〜4層構造のときは、組み合
わせは少し複雑にはなるが、基本的には詳記HとLの組
み合わせとなる。
【0046】上記図2で示した膜構成は(S)−H−L
の場合にあたり、各々の膜厚d’1及びd’2の最適化
がおこなわれる。図1の(イ)は陰極線管のフェース・
プレートそのままあるいはその外表面に従来の帯電防止
光選択吸収膜を形成した場合の表面分光反射率を示し、
可視光領域で約4%の値を示す。図1の(ロ)は、本実
施例1の場合の帯電防止光選択吸収型の低反射膜(2層
)の表面分光反射率を示し、可視光領域平均で1.2%
にまで低下する。
【0047】図6の(m’)〜(p’)は陰極線管のフ
ェース・プレート2外表面に本実施例1による低反射膜
を設けた場合の反射光の強さ(E1、E2 )及び表面
反射の割合「〔E1 /(E1 +E2 )〕×100
」を従来と同様に示すものであり、同条件の従来の場合
、(m)〜(p)と比較して表面反射外光の割合は約4
0%にまで低下しており、大幅な改善がなされているこ
とがわかる。
【0048】実施例2 図3は高屈折率層10と低屈折率層11との4層の組み
合わせにより形成した低反射膜12の膜構成を示す本発
明による低反射膜付陰極線管のフェース・プレート部の
拡大断面概念図である。フェース・プレート2の外表面
には、一定膜厚(d”1),( d”3)の高屈折率層
10と同じく一定膜厚(d”2),( d”4)の低屈
折率層11の4層の組み合わせからなる低反射膜12が
形成されている。 これらの塗膜形成は実施例1で述べられたものと同様な
材料及びプロセスによりおこなわれる。
【0049】図1の(ハ)は本実施例2の場合の帯電防
止光選択吸収型の低反射膜(4層)の表面分光反射率を
示し、可視光領域平均で0.5%にまで低下する。可視
光領域全体で大きく表面分光反射率を低下させるという
点で、4層品は2層品よりも非常に優れているといえる
。図6の(m”)〜(p”)は陰極線管のフェース・プ
レート2外表面に、本実施例2による低反射膜を設けた
場合の反射光の強さ(E1 ,E2 )及び表面反射の
割合「〔E1/(E1 +E2 )〕×100」を従来
と同様に示すものであり、同条件の従来の場合、(m)
〜(p)と比較して表面反射外光の割合は約17%にま
で低下しており、前述の実施例1に比べても大幅な改善
がおこなわれている。
【0050】実施例3 図4は実施例1の場合と同様に高屈折率層10と低屈折
率層11との2層の組み合わせにより形成した改良され
た低反射率12の膜構成を示す本発明による低反射膜付
陰極線管のフェース・プレート部の拡大断面概念図であ
る。フェース・プレート2の外表面には、一定膜厚(d
1)の高屈折率層10と同じく一定膜厚(d2 )の低
屈折率層11が形成されている。この場合、実施例1と
異なり、導電性フィラー粒子9は高屈折率層10にのみ
、有機系もしくは無機系の染料又は顔料粒子8は低屈折
率層11にのみ分散混合されている。
【0051】このような膜構造にした場合、導電性フィ
ラー粒子9は元来、非常に高い屈折率を有しているので
、高屈折率層10については導電性フィラー粒子9の濃
度が上がり、この膜の屈折率そのものも、実施例1の場
合の約1.8に対して約1.95まで上げることができ
る。同様に、低屈折率層11についても屈折率の高い導
電性フィラー粒子9が存在しないので、膜の屈折率その
ものも実施例1の場合の約1.42に対して約1.40
まで下げることができる。このため、低反射膜の光学特
性は大幅に改善される。図1の(ニ)は本実施例3の場
合の帯電防止光選択吸収型の低反射膜(2層)の表面分
光反射率を示し、可視光領域平均で0.8%にまで低下
する。ちなみに、実施例1の2層品の場合は表面分光反
射率は可視光領域平均で約1.2%であった。
【0052】図6の(m”’)〜(p”’)は陰極線管
のフェース・プレート2外表面に本実施例3による低反
射膜を設けた場合の反射光の強さ(E1 ,E2 )及
び表面反射の割合「〔E1 /(E1 +E2 )〕×
100」を従来と同様に示すものであり、実施例1の2
層品の場合(m’)〜(p’)に比較して表面反射外光
の割合は約70%にまで低下しており、より一層の改善
がなされている。
【0053】この実施例のような場合は低屈折率層11
については、超微粒子弗化マグネシウム(MgF2 )
14を入れなくても、ある程度の低屈折率(約1.45
)が実現できるので、低屈折率ベース塗料としては、シ
リコン(Si)のアルコキシドのアルコール溶液を使用
することも可能である。
【0054】実施例4 図5は実施例2の場合と同様に高屈折率層10と低屈折
率層11との4層の組み合わせにより形成した改良され
た低反射膜12の膜構成を示す本発明による低反射膜付
陰極線管のフェース・プレート部の拡大断面概念図であ
る。この場合も実施例3で示したのと同じ方法により実
施例2の場合よりも高屈折率層10の屈折率はより高く
、低屈折率層11の屈折率はより低く設定できるので、
低反射膜12の光学特性が大幅に改善される。
【0055】図1の(ホ)は実施例4の場合の帯電防止
光選択吸収型の低反射膜(4層)の表面分光反射率を示
し、可視光領域平均で0.25%にまで低下させること
ができる。
【0056】なお、上記実施例1〜4では、帯電防止選
択吸収型の低反射膜を主体として述べたが、本発明はこ
れに限定されることなく、50%以下の光透過率を有す
るフェース・プレート2外表面に単に帯電防止機能だけ
しか持たない膜、また、単に光選択吸収機能だけしか持
たない膜、あるいは更に、これら両方の機能を持たず、
単に低反射機能だけしか持たない膜を形成する場合にも
同様に適用できる。
【0057】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
、50%以下の光透過率を有するフェース・プレートを
使用してもフェース・プレートの外表面に設けられたシ
リコン(Si)のアルコキシドをベースとして、この中
に超微粒子の高屈折材料又は低屈折材料を分散して形成
した2層以上4層以下の高屈折率層及び低屈折率層の組
み合わせによる多層光学干渉膜からなる低反射膜により
フェース・プレート外表面での外光反射が低減され、外
光による映り込み等の影響が少なく、高品質の低反射膜
付陰極線管を安価な方法で大量に得ることができるとい
う効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】陰極線管のフェース・プレート部及び低反射膜
の分光反射率を示す図である。
【図2】2層式低反射膜の拡大断面概念図である。
【図3】4層式低反射膜の拡大断面概念図である。
【図4】改良された2層式低反射膜の拡大断面概念図で
ある。
【図5】改良された4層式低反射膜の拡大断面概念図で
ある。
【図6】陰極線管のフェース・プレート外表面の反射の
程度を示す図である。
【図7】光選択吸収膜付陰極線管の蛍光面部分の拡大概
略断面図である。
【図8】陰極線管の蛍光面部分の拡大概略断面図である
【図9】帯電防止光選択吸収膜の拡大断面概念図である
【図10】陰極線管のフェース部等の分光透過率分布を
示す図である。
【図11】帯電防止光選択吸収膜付陰極線管の構造を示
す図である。
【図12】陰極線管のフェース・プレート部の表面電位
の変化を示す図である。
【図13】表面反射測定及び評価用の白熱灯の発光スペ
クトル分布を示す図である。
【符号の説明】
1  帯電防止光選択吸収膜付陰極線管2  フェース
・プレート 3  帯電防止光選択吸収膜 4  BGR3色蛍光体層 5  メタルバック膜 6  黒色光吸収膜 7  多孔質シリカ膜 8  有機系もしくは無機系の染料又は顔料粒子9  
導電性フィラー粒子 10  高屈折率層 11  低屈折率層 12  低反射膜

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  50%以下の光透過率を有する陰極線
    管のフェース・プレート部に、シリコン(Si)のアル
    コキシドをベースとした2層以上4層以下の高屈折率層
    及び低屈折率層の交互積層組合わせによる多層光学干渉
    膜からなる低反射膜を形成した低反射膜付陰極線管であ
    って、上記高屈折率層は、官能基として−OH基,−O
    R基を有するシリコン(Si)のアルコシドのアルコー
    ル溶液もしくはこのアルコール溶液に平均粒径が100
    0Å以下の超微粒子弗化マグネシウム(MgF2 )を
    分散混合してなる低屈折率ベース塗料による塗膜で形成
    し、低屈折率層は、官能基として−OH基,−OR基を
    有するシリコン(Si)のアルコキシドのアルコール溶
    液に対し、平均粒径が1000Å以下の超微粒子酸化タ
    ンタル(Ta2 O5 )、超微粒子酸化ジルコニウム
    (ZrO2 )もしくは超微粒子硫化亜鉛(ZnS)の
    うちのいずれか1つ又はこれらの混合物を分散混合して
    なる高屈折率ベース塗料の塗膜により形成したものであ
    ることを特徴とする低反射膜付陰極線管。
  2. 【請求項2】  高屈折率層及び低屈折率層となる塗膜
    の交互積層に際し、ある層の塗膜を形成後、その膜面上
    に次の塗膜を形成するに先立って下地の塗膜にキュアリ
    ングを施した請求項1記載の低反射膜付陰極線管。
  3. 【請求項3】  スピンコート法により各塗膜の形成を
    おこなった請求項1〜2のいずれかに記載の低反射膜付
    陰極線管。
  4. 【請求項4】  各塗膜を形成するためのベース塗料に
    、有機系もしくは無機系の染料又は顔料を分散混合した
    請求項1〜3のいずれかに記載の低反射膜付陰極線管。
  5. 【請求項5】  各ベース塗料に導電性フィラーとして
    酸化スズ(SnO2 )又は酸化インジウム(In2 
    O3 )等の導電性微粒子を分散混合した請求項1〜4
    のいずれかに記載の低反射膜付陰極線管。
  6. 【請求項6】  高屈折率ベース塗料にのみ導電性フィ
    ラーを分散混合した請求項5記載の低反射膜付陰極線管
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5444329A (en) * 1992-11-06 1995-08-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Antireflection film and display apparatus comprising the same
EP0827180A1 (en) * 1996-08-29 1998-03-04 Hitachi, Ltd. Cathode ray tube
US6163109A (en) * 1996-08-29 2000-12-19 Hitachi, Ltd. Cathode ray tube having high and low refractive index films on the outer face of the glass panel thereof
KR20010051016A (ko) * 1999-11-11 2001-06-25 김순택 투명도전막 형성용 조성물 및 이로부터 형성된투명도전막을 구비하고 있는 표시소자
EP1110920A1 (en) 1999-12-22 2001-06-27 Sony Corporation LIght-absorptive antireflection filter, display device, and methods of producing the same
KR20050001568A (ko) * 2003-06-26 2005-01-07 삼성에스디아이 주식회사 개선된 패널구조를 갖는 음극선관
EP1548469A1 (en) * 2002-10-02 2005-06-29 Bridgestone Corporation Anti-reflection film
WO2008001675A1 (fr) * 2006-06-27 2008-01-03 Nikon Corporation mince film MULTICOUCHE OPTIQUE, élément optique et procédé de fabrication de mince film multicouche optique
JP2013231779A (ja) * 2012-04-27 2013-11-14 Kuraray Co Ltd 反射防止構造及び光学部材
JP2018010958A (ja) * 2016-07-13 2018-01-18 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法、ならびに表示装置
CN108281337A (zh) * 2018-03-23 2018-07-13 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 光电阴极及x射线诊断系统
JP2020181995A (ja) * 2020-07-21 2020-11-05 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法、ならびに表示装置
CN113045218A (zh) * 2021-03-25 2021-06-29 辽宁中迅科技有限公司 一种自清洁折射率可调减反增透光学薄膜的制备方法

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5652476A (en) * 1992-11-06 1997-07-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Antireflection film and display apparatus comprising the same
US5444329A (en) * 1992-11-06 1995-08-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Antireflection film and display apparatus comprising the same
EP0827180A1 (en) * 1996-08-29 1998-03-04 Hitachi, Ltd. Cathode ray tube
US6163109A (en) * 1996-08-29 2000-12-19 Hitachi, Ltd. Cathode ray tube having high and low refractive index films on the outer face of the glass panel thereof
EP1109195A1 (en) * 1996-08-29 2001-06-20 Hitachi, Ltd. Cathode ray tube
US6351062B1 (en) 1996-08-29 2002-02-26 Hitachi, Ltd. Cathode ray tube having high and low refractive index films on the outer face of the glass panel thereof
KR20010051016A (ko) * 1999-11-11 2001-06-25 김순택 투명도전막 형성용 조성물 및 이로부터 형성된투명도전막을 구비하고 있는 표시소자
EP1110920A1 (en) 1999-12-22 2001-06-27 Sony Corporation LIght-absorptive antireflection filter, display device, and methods of producing the same
EP1548469A4 (en) * 2002-10-02 2010-12-15 Bridgestone Corp ANTIREFLET FILM
EP1548469A1 (en) * 2002-10-02 2005-06-29 Bridgestone Corporation Anti-reflection film
KR20050001568A (ko) * 2003-06-26 2005-01-07 삼성에스디아이 주식회사 개선된 패널구조를 갖는 음극선관
WO2008001675A1 (fr) * 2006-06-27 2008-01-03 Nikon Corporation mince film MULTICOUCHE OPTIQUE, élément optique et procédé de fabrication de mince film multicouche optique
JPWO2008001675A1 (ja) * 2006-06-27 2009-11-26 株式会社ニコン 光学多層薄膜、光学素子、及び光学多層薄膜の製造方法
US8098432B2 (en) 2006-06-27 2012-01-17 Nikon Corporation Optical multi-layer thin film, optical element, and method for producing the optical multi-layer thin film
JP2013231779A (ja) * 2012-04-27 2013-11-14 Kuraray Co Ltd 反射防止構造及び光学部材
JP2018010958A (ja) * 2016-07-13 2018-01-18 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法、ならびに表示装置
CN108281337A (zh) * 2018-03-23 2018-07-13 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 光电阴极及x射线诊断系统
CN108281337B (zh) * 2018-03-23 2024-04-05 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 光电阴极及x射线诊断系统
JP2020181995A (ja) * 2020-07-21 2020-11-05 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法、ならびに表示装置
CN113045218A (zh) * 2021-03-25 2021-06-29 辽宁中迅科技有限公司 一种自清洁折射率可调减反增透光学薄膜的制备方法

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