JPH043310A

JPH043310A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH043310A
Application number: JP2103097A
Authority: JP
Inventors: Minoru Kanazawa; 實金澤; Yoichi Hayata; 洋一早田
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1990-04-20
Filing date: 1990-04-20
Publication date: 1992-01-08
Anticipated expiration: 2013-03-04
Also published as: JP2722128B2; US5164243A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、磁気記録媒体に関し、特にＦＦ　（早送り）
／ＲＥＷ（巻戻し）の際のテープ巻姿の優れた高品位の
磁気記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

従来、テープ状の磁気記録媒体は、強磁性粉末を結合剤
、添加剤、有機溶剤とともに混合分散して磁性塗布液を
つくり、この磁性塗布液を非磁性支持体上に塗布した後
、乾燥して幅の広い磁気記録媒体（原反）をつくり、こ
れをスリッター装置を用いて８ＩＩＩＩ１１．１７２イ
ンチ、１インチ等の所要の幅に裁断することにより製造
されている。

その裁断のやり方は、例えば第２図に示すように磁気テ
ープ原反１２を多数の上刃１３．１４．１５．１６．と
下刃１７．１８．１９．２０．を向い合せて構成したス
リッター２１により所要の幅に裁断し、得られた磁気テ
ープ２２　、２４をガイドローラ２６を経てパンケーキ
２７で巻き取るという方式が取られている。なお、第２
図では磁気テープ２３．２５を巻き取るためのパンケ−
キは図示が省略されている。

この裁断においては、磁気テープをカセットに装着し、
走行した際テープ上の汚れ、ヘッド上の汚れをなくすた
めには、磁気テープの端部の断面を平滑にするか、又は
丸味を持ったような形状にするのが良いとされていて、
そのような形状になるように裁断されていた。

磁気テープの端部の断面を平滑にするためには、テープ
全層のヤング率をｈｏ、、で５５０ｋｇ／ａｍ”以上に
し、かつスリットスピードを３００ｍ／ｌｌｌ１ｎのよ
うに速くする方法が行われていた。

また、テープの端部の断面を丸味を帯びた形状にするた
めには、レーザー光線を用いて裁断する方法（特開昭６
４−７８４２６号公報及び同６４−７８４２７号公報）
が捷案されている。

しかし、これらの方法で裁断した場合、通常の記録、再
生モードではテープ上の汚れやヘッド汚れ等をなくすこ
とは出来るが、ＦＦ／ＲＥ−モードで巻姿を悪化させる
という欠点があった。

これは、例えば第３図に示すように、水平に置かれたカ
セットにおいて一方のリール２８に磁気テープ３２を巻
き取ったとき、前記のモードの場合飛び出した部分３３
が生じて巻姿を悪化させる。このように巻姿が悪いとき
には磁気テープの磁気ヘッドに対する走行状態に変化を
生じて再生時の画像の乱れなどを起こすので好ましくな
い。同図において、２９は上フランジ、３０は下フラン
ジ、３１はリール軸である。

〔発明の目的〕

本発明は、通常の記録再生モードでのテープ上の汚れ、
ヘッド汚れをなくすと同時に、ＦＦ／ＲＥ−モードでの
テープの飛び出しのない、巻姿の優れた高品位の磁気記
録媒体を作ることを目的とするものである。

〔発明の構成〕

本発明は、（１）非磁性支持体の一面に磁性層を設け、他面にバッ
ク層を設けた、厚さが１０〜２０μｍの磁気記録媒体に
おいて、該磁気記録媒体の磁気テープカセットのリール
に装着した際に巻きそろえる基準となるフランジ面に接
する側の端部の面に、該端部における磁性層表面の延長
線、バック層表面の延長線、端部断面の最外端に接し前
記延長線と直交する線、及び該端部の面の外周線で囲ま
れた部分の面積が１５〜６０μｌｌｔであるへこみを設
け、前記磁性層表面の表面粗さＲａが６．５ｎｍ以上（
カットオフ値０．２５ｍｍ）でかつテープ全層のヤング
率がＨｏ、。

５５０ｋｇ／ｓ＋ａ＋”以下であることを特徴とする磁
気記録媒体。

（２）前記へこみの面積が２０〜４０μｍ２であり、前
記へこみの面積を全膜厚で割った値が１．３〜３である
ことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。

によって、上記の目的を達成した。

第２図に示すような、スリッターを用いる従来の技術で
裁断した磁気テープをテープカセットに装着し、ＶＴＲ
でＦＦ／ＲＥ−モード等で走行の際、磁気テープが飛び
出し巻姿が悪化してしまう原因を追究したところ、これ
はＦＦ／ＲＥ−モードで走行の際磁気テープ同志や磁気
テープとリール軸との間に発注するエアフィルムが磁気
テープと磁気テープとの隙間を通って逃げようとする際
、磁気テープを第３図に示すように上フランジ２９側に
押し上げるためと考えられることがわかった。

通常の記録再生モードでは磁気テープをヘッドに十分接
触させるために大きな張力がかけられており、そのため
かこれらの場合には磁気テープの飛び出しはないが、Ｆ
Ｆ／ＲＥＷモード等では磁気テープの走行速度が上げら
れるよう張力はかなり弱くされ、この際に飛び出しが生
ずる。この点を改良すべく、飛び出しと磁気テープの端
部の形状との関係を検討したところ、該磁気テープのテ
ープカセットのリールの巻きそろえる基準となるフラン
ジ面に接する側の端部の面にへこみを設けると、磁気テ
ープの飛び出し防止に大きく関係することがわかった。

第２図に示す、上刃と下刃とを組合せたスリッターによ
る切断と磁気テープの端部の形状との関係を見ると、第
４図の模式図に示すように、磁気テープ原反が上刃１４
．１５．１６と下刃１Ｂ、　１９．２０とにより切断さ
れる際、その切断の過程では磁気テープ上層部には引き
切りの作用による切断が行われ、下層部では剪断力によ
る切断が行われるため、切断面である磁気テープの端部
の面は複雑な形状となり、第４図に示すように、磁気テ
ープ２４の上刃１６に接する端部３４はへこみ３５を有
するものとなる。

一方、磁気テープ２４０反対側の端部３６は必然的に前
記端部３４の逆の形状である突出部３７を有することに
なる。なお、上刃１６と下刃２０との関係を変えれば、
磁気テープのへこみが生ずる端部の側を変えることがで
きる。

そして、磁気テープの、テープカセットのリールの巻き
そろえる基準となるフランジ面に接する側の端部の形状
を変えたものを用いてテストをしたところ、突出部を有
する端部のものは飛び出し防止の効果はないが、へこみ
を有する端部のものは防止に関係があることがわかった
。

そこで、飛び出し防止に有効なへこみの形状について研
究したところ、第１図に示すように、磁気記録媒体ｌの
、磁気テープカセットのリールに装着した際に巻きそろ
える基準となるフランジ面に接する側の端部２に、磁性
層４表面の延長線６、ハック層５表面の延長線７、端部
断面の最外端８に接し、前記各延長線６．７と直交する
線９、及び該端部の外周線１０で囲まれた部分１１の面
積が１５〜６０μｍｌとすると、飛び出しを十分防げる
ことがわかった。

従来は、前述したように磁気テープの端部の断面は平滑
であるのが良いとされていて、そのような断面となるよ
うにスリッターで切断されていたため、第４図に示すよ
うに切断に際してへこみが形成される傾向によりへこみ
が形成されても、そのへこみは小さく、その面積も小さ
いものであった。

このように形成した端部にへこみを有する磁気テープを
テープカセットのリールに巻いた場合、例えば第３図に
おいては、へこみを有する端部が巻きそろえる基準とな
るフランジ面となる下フランジ２８の上面に来るように
磁気テープをセットする。

前記磁気テープ端部のへこみの面積は磁気テープの全膜
厚が大きくなるに伴って大きくなる関係にあるが、へこ
みの面積を全膜厚で割ったものが１．３〜３であること
が望ましい。

磁気テープ端部に前記した範囲の表面積をもつへこみを
形成するためには、スリッター装置を用いて裁断する際
、スリットスピードを５（１＋＋／＋＋ｉｎと遅くし、
上刃と下刃の喰み合い深さを０．４〜０．５ｍｍ、上刃
と下刃との刃速比を（上刃刃速／下刃刃速）が１．０５
とすることによって達成することができる。

ここにおけるスリットスピードは、磁気テープ端部の断
面を平滑とする場合におけるスリットスピード３００ｍ
／ｓｉｎに比するとかなり遅いものである。

また、上記した範囲の面積をもつへこみを形成させるた
めには磁気テープ全厚でのヤング率がＨｏ、。

５５０ｋｇ／＋＋ｍ”以下であることが好ましく、ヤン
グ率がＭｏ、ｓ　５５０ｋｇ／ｍａ＋”を越えるときに
は、テープの端部断面が平滑化して目的が達成できない
場合がある。前記ヤング率とは、磁気テープを０．５χ
伸ばす際の応力を１ｏｏｚに換算したものをいう。

さらに、巻姿を良化させるのをより十分とするためには
、ＦＦ／ＲＥＷモードで走行の際、テープ間をエアフィ
ルムが逃げ易くするよう、磁性層表面の表面粗さＲａが
６．５０ｎｎ＋以上であることが必要である。

この表面粗さＲａは、ＪＩＳ−ＢＯ６０１の第５頁で定
義されるカットオフ値０．２５ｎ＋ｍの中心線平均粗さ
で測定したときの表面の粗さである。

磁気テープの端部のへこみの面積は下記の方法により求
められる。テープ長手方向の端部を垂直に切り出し、エ
ポキシ樹脂で包埋し、ウルトラミクロトームで端部の面
出しを行ない、白金をコーティングして等電性をとった
後ＦＥ−ＳＥＭ　（電界放射型の走査型電子顕微鏡）で
撮影した。この写真を用いてコントロン社製画像解析装
置、ＩＢＡＳ−Ｉにより測定した。

本発明に用いられる強磁性微粉末としては、強磁性酸化
鉄微粉末、Ｃｏドープの強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二
酸化クロム微粉末、強磁性金属粉末、強磁性合金粉末、
バリウムフェライトなどが使用できる。

強磁性合金粉末の例としては、金属分が７５−ｔχ以上
であり、金属分の８０−ｔ％以上が少なくとも一種類の
強磁性金属あるいは合金（Ｆｅ、　Ｃｏ、　Ｎｉ、　Ｆ
ｅ−Ｇｏ、　Ｆｅ−Ｎｉ、　Ｃｏ−Ｎｉ、、Ｃｏ−Ｆｅ
−Ｎｉなど）であり、該金属分の２０−ｔ％以下で他の
成分（＾ｌ５Ｓｉ、　Ｓ。

Ｓｃ、　Ｔｉ、、Ｖ、　Ｃｒ、　Ｍｎ、　Ｃｕ、　Ｚｎ
、　Ｙ、　Ｍｏ、　Ｒｈ、　Ｐｄ。

Ａｇ、　Ｓｎ、　Ｓｂ、　Ｂ、　Ｂａ、　Ｔａ、　Ｗ、
Ｒｅ、　Ａｕ、　Ｈｇ、　Ｐｂ。

Ｐ、　Ｌａ、　Ｃｅ、　Ｐｒ、、Ｎｄ、　Ｔｅ、　Ｂｉ
など）を含むものを挙げることができる。また、上記強
磁性金属分が少量の水、水酸化物、または酸化物を含む
ものであってもよい。

これらの強磁性粉末の製法は既知であり、本発明で用い
られる強磁性粉末についても公知の方法にしたがって製
造することができる。

強磁性粉末の形状・サイズは特に制限なく広く用いるこ
とができる。形状としては針状、米粒状、球状、立方体
状、板状等いずれでもよいが針状、板状が電磁変換特性
上好ましい。結晶子サイズ、比表面積もとくに制限はな
いが、結晶子サイズで４００　Ａ以下、ＳｍｔＴで３０
ボ／ｇ以上が好ましい。

強磁性粉末のｐＨ１表面処理はとくに制限なく用いる事
ができる（チタン、珪素、アルミニウム等の元素を含む
物質で表面処理されていてもよいし、カルボン酸、スル
ホン酸、硫酸エステル、ホスホン酸、燐酸エステル、ベ
ンゾトリアゾール等の含チツ素複素環をもつ吸着性化合
物の様な有機化合物で処理されていてもよい。好ましい
ｐＨの範囲は５〜１０である。強磁性酸化鉄微粉末の場
合、２価の鉄／３価の鉄の比に特に制限されることなく
用いることができる。

本発明に用いられる結合剤は従来、磁気記録媒体用の結
合剤として使用されている公知の熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、放射線硬化性樹脂、反応型樹脂およびこれらの
混合物を使用することができる。

上記樹脂のＴｇは一４０°Ｃ〜１５０’Ｃ１重量平均分
子量は１万〜３０万、好ましくは１万〜１０万である。

上記熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル・酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、
マレイン酸および／またはアクリル酸との共重合体、塩
化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・アク
リロニトリル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体
などのビニル系共重合体、ニトロセルロース、セルロー
スアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフ
チレート樹脂などのセルロース誘導体、アクリル樹脂、
ポリビニルアセクール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂
、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウ
レタン、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ
樹脂、スチレンブタジェン樹脂、ブタジェンアクリロニ
トリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素
系樹脂を挙げることができる。

これらの中で、塩化ビニル系樹脂は強磁性微粉末の分散
性が高く好ましい。

上記熱硬化性樹脂または、反応型樹脂としては加熱によ
り分子量がきわめて太き（なる物で、例えばフェノール
樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、硬化型ポリウレ
タン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、
シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキシ−ポリア
ミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポ
リエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物
、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高
分子量ジオール／ポリイソシアネートの混合物、ポリア
ミン樹脂、およびこれらの混合物があげられる。

上記放射線硬化型樹脂としては上記熱可塑性樹脂に放射
線硬化官能基として炭素−炭素不飽和結合を有する基を
結合させたものが用いられる。好ましい官能基としては
アクリロイル基、メタクリロイル基などがある。

以上列挙の結合剤分子中に、極性基（エポキシ基、ＮＲ
ｚ　、ＮＲｚＸ、　ＳＯ３Ｍ、０５０３Ｍ　、ＰＯ３Ｍ
２　、ＯＰＯ３Ｍ２、ただしＭは水素、アルカリ金属ま
たはアンモニウムであり、一つの基の中に複数Ｍがある
ときは互いに異なっていてもよい。Ｒは水素またはアル
キル基、Ｘはハロゲンである）を導入したものが磁性体
の分散性、耐久性上好ましく本発明のリン酸エステルの
アンモニウム塩の添加効果が顕著に現れる。極性基の含
有量としてはポリマー１グラム当り１０−７〜１Ｏ−３
当量が、好ましくさらには１０−６〜１０−４当量が好
ましい範囲である。

以上列挙の高分子結合剤は単独または数種混合で使用さ
れ、イソシアネート系の公知の架橋剤、および／あるい
は放射線硬化型ビニル系モノマーを添加して硬化処理す
ることができる。

イソシアネート系架橋剤としてはイソシアネート基を２
個以上有するポリイソシアネート化合物で、たとえばト
リレンジイソシアネート、４．４’　−ジフェニルメタ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート
、キシレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−シ
ソシアネート、０−）ルイジンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、トリフェニルメタンジイソシ
アネートなどのイソシアネート類、これらのイソシアネ
ート類とポリアルコールの反応生成物、及びこれらのイ
ソシアネート類の縮合により生成したポリイソシアネー
トなどをあげられる。これらのポリイソシアネートは日
本ポリウレタン工業昧からコロネートＬ、コロネートＨ
Ｌ、コロネートＨ，コロネートＥＨ，コロネート２０１
４、コロネート２０３０、コロネート２０３１、コロネ
ート２０３６、コロネート３０１５、コロネート３０４
０、コロネート３０４１、ミリオネートＭＲ、ミリオネ
ートＭＴＬ、ダルトセック１３５０、ダルトセック２１
７０、ダルトセック２２８０、成田薬品工業■からタケ
ネートＤ１０２、タケネートＤ１１ＯＮ、タケネートＤ
２００、タケネートＤ２０２、住人バイエル■からスミ
ジュールＮ７５、西独バイエル社からデスモジュールＬ
１デスモジュールＩＬ、デスモジュールＨＬ、大日本イ
ンキ化学工業■からバーノックＤ８５０、パーノックＤ
８０２などの商品名で市販されている。

放射線硬化ビニル系モノマーとしては、放射線照射によ
って重合可能な化合物であって、炭素炭素不飽和結合を
分子中に１個以上有する化合物であり、（メタ）アクリ
ル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化
合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニル”
７４　Ｗｉ　！　化合物、Ｎ−ビニル化合物、スチレン
、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、オレ
フィン酸類等があげられる。これらのうち好ましいもの
として（メタ）アクリロイル基を２個以上有する、ジエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、などのポリエチ
レングリコールの（メタ）アクリレート類、トリメチロ
ールプロパントリ　（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリイソシア
ネートとヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物との反
応物、等がある。

これらの架橋剤は、架橋剤を含む全結合剤の５〜４５−
ｔχであることが好ましい。

本発明の磁性層における前記全結合剤（架橋剤を含む）
の配合は強磁性微粉末にたいし１０〜４０ｉｖｔχ、好
ましくは１５〜３０−ｔχである。結合剤の配合割合が
前記範囲より多いと強磁性微粉末の充填度が低く電磁変
換特性が低下し、逆に少ないと走行耐久性が低下する。

非磁性体の材質としては、ポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレン２，６ナフタレートなどのポリエステル
類；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィ
ン類、セルローストリアセレートなどのセルロース誘導
体、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド
等の樹脂を用いることができ、必要に応じアルミニウム
等の金属でメタライズしてあってもよいし、あるいはア
ルミ箔、ステンレス箔などの金属箔であってもよい。

また支持体の形態はテープ、ディスク、フィルム、シー
ト、カード、ドラムなどいずれでもよく、形態に応じて
種々の材料が選択される。支持体の厚みは３〜１００μ
ｍ、磁気テープとしては好ましくは３〜２０μｍ、磁気
ディスクとしては２０〜１００μｍが通常使用される範
囲である。

本発明の磁気記録媒体の磁性層には、さらにモース硬度
５以上の無機質粒子を含有することが好ましい。

使用される無機質粒子は、モース硬度が５以上であれば
特に制限はない。モース硬度が５以上の無機質粒子の例
としては、ＡｈＯ３（モース硬度９）、ＴｉＯ（同６　
）　、Ｔｉ０ｚ　（同６．５）　、ＳｉＯ□（同７）、
５ｎＯｚ　（同６．５）　、Ｃｒｚ０３（同９）、およ
びｃｒ　−Ｆｅ２０゜（同５．５）を挙げることができ
、これらを単独あるいは混合して用いることができる。

とくに好ましいのはモース硬度が８以上の無機質粒子で
ある。モース硬度が５よりも低い無機質粒子を用いた場
合には、磁性層から無機質流が脱落しやすく、またヘッ
ドの研磨作用も殆どないため、ヘッド目詰まりを発生し
やすく、また走行耐久性も乏しくなる。

無機質粒子の含有量は、通常、強磁性粉末１００重量部
に対して０．１〜２０重量部の範囲であり、好ましくは
１〜１０重量部の範囲である。

また磁性層には上記の無機質粒子以外にも、カーボンブ
ラック（特に、平均粒径が１０〜３００ｎｍ（ナノメー
トル；　１０−’＋ｎ　）のもの）などを含有させるこ
とが望ましい。

つぎに本発明の磁気記録媒体を製造する方法の例を述べ
る。

まず、強磁性粉末と結合剤、必要に応して、他の充填材
、添加剤などを溶剤と混練、分散し、磁性塗料を調製す
る。混練の際に使用する溶剤としては、磁性塗料の調製
に通常使用されている溶剤を使用することができる。

混練の方法にも特に制限はなく、また各成分の添加順序
などは適宜設定することができる。

例えば、潤滑剤・添加剤や架橋剤を有機溶剤に溶解した
ものを用意しておき、溶剤・結合剤・磁性粉体等で調製
した磁性体分散液に塗布直前に添加することもできる。

磁性塗料を調製する際には、分散剤、帯電防止剤、潤滑
剤等の公知の添加剤も併せて使用することもできる。

分散剤の例としては、炭素数１２〜２２の脂肪酸、その
塩またはエステル化合物およびその化合物の水素の一部
あるいは全部をフッ素原紙で置換した化合物上記の脂肪
酸のアミド、脂肪族アミン、高級アルコール、アルキル
ホウ酸エステル、サルコシネート類、アルキルエーテル
エステル類、トリアルキルポリオレフィン、オキシ第４
級アンモニウム塩およびレシチン、低分子エポキシ化合
物などの公知の分散剤を挙げることができる。

分散剤を使用する場合は、通常は使用する強磁性粉末１
００重量部に対し、０．１〜１０重量部の範囲で使用さ
れる。

帯電防止剤の例としては、カーボンブラック、カーボン
ブラックグラフトポリマーなどの導電性微粉末；サポニ
ンなどの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グ
リセリン系およびグリドール系などのノニオン系界面活
性剤；高級アルキルアミン類；第４級アンモニウム塩類
、ピリジンその他の複素環化合物の塩類；ホスホニウム
またはスルホニウム類などのカチオン性界面活性剤；カ
ルボン酸、燐酸、硫酸エステル基、他の燐酸エステル基
等の酸性基を含むアニオン性界面活性剤；アミノ酸類、
アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐
酸エステル類等の両性界面活性剤等を挙げることができ
る。

帯電防止剤として上記の導電性微粉末を使用する場合に
は、例えば強磁性粉末１００重量部に対し０．１〜１０
重量部の範囲で使用され、界面活性剤を使用する場合に
も同様に０．１２〜１０重量部の範囲で使用される。

なお、上述した分散剤、帯電防止剤、潤滑剤などの添加
剤は、厳密に上述した作用効果のみを有するものである
との限定の下に記載したものではな（、例えば、分散剤
が潤滑剤あるいは帯電防止剤として作用することも有り
うる。従って、上記分類により例示した化合物などの効
果作用が、上記分類に記載された事項に限定されないこ
とは勿論であり、また複数の作用効果を奏する物質を使
用する場合には、添加量は、その作用効果を考慮して決
定することが好ましい。

このようにして調製された磁性塗料は前述の非磁性支持
体上に塗布される。このとき複数の磁性塗料を遂次ある
いは同時に重層塗布してもよい。

塗布は、前記非磁性支持体上に直接行うことも可能であ
るが、また、接着剤層などの中間層を介して非磁性支持
体上に塗布することもできる。ここでいう中間層とは接
着剤単独の層または結合剤中にカーボン等の非磁性微粒
子を分散してなる複合膜層等である。

カーボンを含有する中間層は結合剤として磁性層に用い
られる種々の結合剤のなかから任意に選ぶことができる
。カーボンの粒径はｌＯ〜５０ｎｍ（ナノメートル；１
０−”ｍ）のものが好ましく、バインダー：カーボンは
重量比にして１００　：　１０から１００：１５０が好
ましい。中間層の厚みは単なる接着剤層の場合０．１〜
２μｍ、非磁性粒体を含む複合層の場合０．５〜４μｍ
が好ましい。

中間層にはこのほか磁性層に用いている潤滑剤と同じま
たは異なる潤滑剤を添加してもよい。

上記の強磁性粉末と結合剤の分散方法および支持体への
塗布方法などの詳細は特開昭５４−４６０１１号および
同５４−２１８０５号等の各公報に記載されている。

このようにして塗布される磁性層の厚さは、乾燥後の厚
さで一般には約０．５〜１０μｍの範囲、通常は０．７
〜６．０μｍの範囲になるように塗布される。

非磁性支持体上に塗布された磁性層は磁気記録媒体がテ
ープ状で使用される場合通常、磁性層中の強磁性粉末を
配向させる処理、即ち磁場配向処理を施したあと、乾燥
される。また逆にディスク状媒体の場合は磁気特性の異
方性をとりのぞくために、磁場による無配向処理が施さ
れる。こののち必要により表面平滑化処理が施された後
、必要により熱硬化及び／あるいは放射線照射による硬
化処理後所望の形状に裁断する。

非磁性支持体の磁性層が設けられてない側の面には、公
知のバック層が設けられていてもよい。

〔発明の効果〕

本発明により、ＦＦ／ＲＥ−モードでのＶＴＲ走行にお
いてテープの飛び出しの少ない、またヘッド汚れの少な
い、高品位の磁気記録媒体が得られた。

〔実施例〕

次に実施例と比較例を示し、本発明を更に具体的に説明
する。各側に於て、「部」は特に指定しない限り「重量
部」を意味する。

以下の処方で磁性塗布液を調製した。

■性塗血丘下記磁性層組成物の（Ｉ）をニーグーに入れ充分混練し
た後［ＩＩ）を投入し混合分散後（ＩＩＩ）を投入分散
し磁性塗布液を作成した。

◇磁性層組成物（１）　Ｃｏ含有ｙＦｅｚ０３粉末（Ｈｃ７５００ｅ、
Ｓ０ア５０ｍ”／ｇ）　　　　１００部カーボンブラッ
ク（旭カーボン昧旭＄７０）６部塩化ビニル酢酸ビニル樹脂（日本ゼオン■、ＭＲＩＩＯ）　　　１２部ポリウレタン樹脂（東洋紡績■、ＵＲ８６００）オレイン酸メチルエチルケトン（Ｉ［）研磨剤（住人化学■、ＡＫＰ２０）ポリウレタ
ン樹脂（大日本インキ■、Ｃ７２０９）メチルエチルケトン６部０．５部４８部１０部２部２０部（Ｉ［［）ポリイソシアネート（日本ポリウレタン■、
Ｃ３０４０）８部ミリスチン酸　　　　　　　　　　　　１部脂肪酸エス
テル　　　　　　　　　　ｘ部メチルエチルケトン　　
　　　　　　２０部に量　　　　　　の　’ｂ゛告この磁性塗布液を粘度調整した後９．０μ麟の非磁性支
持体のポリエチレンテレフタレート上に乾燥後塗布厚み
５μ−で塗布し、３０００ガウスの対向磁石で塗布進行
方法に磁場配向なから乾燥する。その後連続して磁性層
をカレンダー処理し、磁性層を設けた非磁性支持体の裏
面側に下記バック層を設は原反とした。

◇バック層組成物ニトロセルロース（ダイセル■）　　　５部メチルエチ
ルケトン３００部研磨剤（住人化学■、ＨｉｔｌＯＯ）　　　　０．３部
潤滑剤（信越化学■ＫＦ６９）０．１部オレイン酸銅　
　　　　　　　　　０．１部メチルエチルケトン　　　
　　　　７００部実施例１前記方法で磁気テープ原反をスリッター装置を用い、ス
リットスピード１００＋ｗ／蒙ｉｎで、０．５インチ幅
にスリットし、ＶＨＳ用リールに２５０＋＋巻込んだ。

実施例２．３スリットスピードを実施例２では５０ｍ／ａ＋ｉｎ、実
施例３では４０＋ｓ／ｓｉｎ、と変えた以外は全て実施
例１と同じ方法で行った。

実施例４〜７磁性層の表面粗さＲａをカレンダー処理の際の条件を変
えて作製した以外は、全て実施例２と同一方法で作製し
た。

実施例８〜１１ヤング率の異なる非磁性支持体を用いた以外、全て実施
例２と同一方法で作製した。

実施例１２磁性層の厚さを２μｍとし、非磁性支持体として厚さ７
．５μｍのポリエチレンテレフタレートを用いた以外、
全て実施例２と同一方法で作製した。

実施例１３非磁性支持体として厚さ１４．５μｍのポリエチレンテ
レフタレートを用いた以外、全て実施例２と同一方法で
作製した。

比較例１磁気テープ原反をレーザー光線により０．５インチ幅に
スリットし、ＶＨ３用リールに２５０ｍ巻込んだ。

比較例２磁気テープ原反をスリッター装置を用い、スリットスピ
ード３００ｍ／＋＋＋ｉｎで０．５インチ幅にスリット
し、ＶＨＳ用リールに２５０ａ＋巻込んだ。

比較例３磁気テープ原反をスリッター装置を用い、スリットスピ
ード３０ｗ／ｌｌｌ１ｎで０．５インチ幅にスリットし
、ＶＨ５用リールに２５０ｍ巻込んだ。

比較例４カレンダー処理条件を調整して、磁性層表面粗さＲａを
５．Ｏｎ−になるように処理して磁気テープ原反を得、
これを実施例２と同様の方法でスリットし、Ｖｌ（Ｓ用
リールに２５０ｍ巻込んだ。

比較例５ヤング率の異なる非磁性支持体を用いた以外、全て実施
例２と同様な方法で作製した。

得られた磁気テープを用いて以下のような測定法により
評価し、その結果を第１表に示した。

皿定抜 ◇巻姿評価：　ＶＴＲは７−−製ＢＶＷ−７５を用いＦ
Ｆ／ＲＥＷモード１パス後の巻きの状態を１０点法で評価した。

◇ヘッド汚れ：巻姿評価後のヘッドを光学顕微鏡で観察
した。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気記録媒体の端部に設けるえぐれ
部の面積の算出方式を示す図であり、第２図は、磁気テ
ープ原反をスリッター装置により裁断して磁気テープを
製造する装置の斜視図であり、第３図は、磁気テープを
巻込んだリールの模式的縦断面図であり、第４図は、磁
気テープ原反を裁断中のスリッターの模式的縦断面図で
ある。符号の説明 ■・・・・・・磁気記録媒体、２・・・・・・端部、３
・・・・・・非磁性支持体、４・・・・・・磁性層、５
・・・・・・バック層、６・・・・・・磁性層表面の延
長線、７・・・・・・バック層表面の延長線、８・・・
・・・端部断面の最外部、９・・・・・・端部断面の最
外部に接し、延長線６．７と直交する線、１０・・・・
・・端部の外周線、１１・・・・・・へこみの面積、２
１・・・・・・スリッター、２８・・・・・・リール、
３０・・・・・・下フランジ、３２・・・・・・磁気テ
ープ、３３・・・・・・飛び出し部分。弔図弔図第図第 ■ 手続

Claims

【特許請求の範囲】

（１）非磁性支持体の一面に磁性層を設け、他面にバッ
ク層を設けた、厚さが１０〜２０μｍの磁気記録媒体に
おいて、該磁気記録媒体の磁気テープカセットのリール
に装着した際に巻きそろえる基準となるフランジ面に接
する側の端部の面に、該端部における磁性層表面の延長
線、バック層表面の延長線、端部断面の最外端に接し前
記延長線と直交する線、及び該端部の面の外周線で囲ま
れた部分の面積が１５〜６０μｍ＾２であるへこみを設
け、前記磁性層表面の表面粗さＲａが６．５ｎｍ以上（
カットオフ値０．２５ｍｍ）でかつテープ全層のヤング
率がＭ＿０＿．＿５５５０ｋｇ／ｍｍ＾２以下であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。
（２）前記へこみの面積が２０〜４０μｍ＾２であり、
前記へこみの面積を全膜厚で割った値が１．３〜３であ
ることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。