JPH04324134A

JPH04324134A - 光ディスク

Info

Publication number: JPH04324134A
Application number: JP3094164A
Authority: JP
Inventors: Masakazu Tsukada; 雅一塚田; Hironobu Ito; 伊藤　弘宣
Original assignee: NKK Corp; Nippon Kokan Ltd; Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Current assignee: DIC Corp; JFE Engineering Corp
Priority date: 1991-04-24
Filing date: 1991-04-24
Publication date: 1992-11-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、帯電防止機能と耐擦傷
性とを兼ね備えた光ディスクに関し、更に詳しくは、塵
埃の付着がなく、取扱い時の傷による記録エラーの発生
がない光ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクの基本的構成は、例えば図１
に示したように、ガラス製又はポリメチルメタクリレー
ト（以下、ＰＭＭＡという。）、ポリカーボネート（以
下、ＰＣという。）の如き有機高分子製の基板の一方の
面に、トラッキング用のガイド溝を有し、その後、記録
膜、反射膜等を積層している。基板のもう一方の面には
、ガラスを基板とする場合は特に問題ないが、上記の有
機高分子、特にＰＣを基板として用いる場合では、それ
自身では柔らかいため、取扱い時に於ける傷付き防止の
ため、いわゆるハードコート剤を被覆し、耐擦傷性を得
ている。

【０００３】光ディスクのもう一つの欠点は、環境中の
塵埃の付着により記録性能が劣化することにある。即ち
、光ディスクの記録動作の原理は、記録膜とは反対側の
基板側より光を介して行うため、その面に塵埃が付着し
た場合、光が不透過、又は充分な光量を得ることができ
なくなり、記録動作にエラーを発生することになる。

【０００４】この付着した塵埃を取り除くため、ドライ
ブにブラシを装着し、ドライブに挿入されたディスクの
回転を利用してブラシにより塵埃を掻き落とす手法が考
えられているが、ある程度の大きさの塵埃の場合では有
効であるものの、ある程度以下の細かい塵埃の場合には
、ディスクを擦ることにより静電気を発生することにな
り、かえって塵埃をディスクに吸着させてしまうことに
なる。

【０００５】これを防ぐには、ディスクの当該表面を耐
擦傷性と帯電防止性能とを兼ね備えるようにする必要が
ある。

【０００６】このうち、帯電防止性を得る手法として、
例えば、界面活性剤を当該表面に塗布する方法があるが
、この方法では初期の帯電防止性能は良好であるが、先
のブラシにより表面を擦られた場合には、その成分が脱
落し、短期間に性能の低下をきたしてしまう。

【０００７】従って、帯電防止剤とバインダー成分が反
応し、一体皮膜となる必要がある。

【０００８】このような方法として、例えば、特開昭５
９ー２３００５７号公報には、ＳＯ３Ｍ基をクシ型グラ
フトポリマーに導入した方法；特開昭６１ー２６１３４
４号公報には、アルカリ金属塩とポリアルキレングリコ
ール含有熱可塑性樹脂を用いた方法；特開昭６３ー５４
４６６号及び特開昭６３ー５４４６７号公報には、４級
アンモニウム塩を有した樹脂組成物とこれと共重合可能
なビニル又はビニリデン単量体とを用いた熱可塑性樹脂
組成物を用いる方法；特開昭６２ー２０７３５３号公報
には、イオン性電解質基とエチレン性不飽和基を併せ持
つモノマーを共重合体に導入した方法；特開昭６１ー７
３７０９号、特開昭６１ー７８８０７号及び特開昭５７
ー６５７６１号公報には、重合性酸性リン酸エステルと
感光性樹脂組成物とを併用する方法等が記載されている
。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開昭５９ー２３００５７号、特開昭６１ー２６１３４４
号、特開昭６３ー５４４６６号及び特開昭６３ー５４４
６７号公報では、帯電防止性能を発揮し得たとしても、
構成樹脂組成物が熱可塑性樹脂であるため、得られた硬
化被膜は耐擦傷性に劣っていた。また、特開昭６２ー２
０７３５３号、特開昭６１ー７３７０９号及び特開昭６
１ー７８８０７号公報では、帯電防止機能を有する成分
の使用量が約１０％程度と少量であるため、長期的な性
能安定性に劣っている。更に、特開昭５７ー６５７６１
号公報では、重合性リン酸エステル化合物を０．０５〜
２０重量％程度使用しているが、その帯電防止性能を発
揮するためにはポリエチレングリコール縮合型界面活性
剤を必須成分とする必要があり、このような組成物によ
り皮膜を形成した場合では、結露により界面活性剤が溶
出し易く、その場合では、その性能を発揮し得なくなっ
てしまう。いずれにしても、これらの示すところでは、
重合性リン酸エステルの使用量は、塗膜硬度の確保とブ
リージングの面から少量に止めるべきことを示している
。

【００１０】また、帯電防止剤とバインダーとを用いる
一体皮膜の場合には、帯電防止剤は通常軟化剤としても
作用するため、帯電防止性能を向上させようとして、そ
の混合量を増加させると、得られた皮膜の硬度が低下し
、硬度を確保するために、その混合量を低減すれば、逆
に帯電防止性能は低下してしまうため、全体としてバラ
ンスのとれた皮膜を得ることは相当な困難をきたしてい
た。

【００１１】本発明が解決しようとする課題は、傷及び
環境中の塵埃の付着を防止し、動作エラーのない光ディ
スクを提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために種々検討した結果、基板を保護するハ
ードコート層と塵埃付着防止機能を有する帯電防止層と
からなり、当該２層間を結合せしめることによって充分
な性能を発揮し得ることを見い出し、本発明を完成する
に至ったものである。即ち、本発明は、上記課題を解決
するために、光ディスク用基板の記録膜を有する面とは
反対側の面に、熱硬化型官能基及び紫外線硬化型官能基
を有する組成物から成る第１層と、紫外線硬化型の官能
基を有する帯電防止剤を含有する組成物から成る第２層
を有することを特徴とする光ディスクを提供する。

【００１３】本発明の光ディスクは、基板の耐擦傷性は
ハードコート層により確保し、帯電防止層をハードコー
ト層上に薄く塗布することによって帯電防止性能を確保
し、かつ、当該２層間を結合させることにより、帯電防
止成分の脱落を防止することを特徴とする。

【００１４】更に詳述すれば、ハードコート層を熱硬化
型官能基と紫外線硬化型官能基とを含む層とし、まず熱
硬化により皮膜を形成し、次に紫外線硬化型官能基を有
する帯電防止剤をハードコート膜上に塗布、紫外線を照
射することにより、ハードコート層及び帯電防止層内部
自体で紫外線硬化をせしめると同時に、当該２層の界面
でも結合を行わせしめることで、ハードコート性と帯電
防止性の双方を得ることを特徴とする。

【００１５】

【構成】本発明で用いられる各層について以下に説明す
る。

【００１６】第１層のハードコート層を構成する組成物
は、熱硬化型官能基と紫外線硬化型官能基を併せ持つ化
合物又は混合物とから成る。単一の化合物の場合には、
その分子中に上記２タイプの官能基を有することが必須
であり、混合物の場合には、上記２タイプの官能基を各
々有する化合物が混合物中に含まれていれば良い。

【００１７】このような熱硬化型官能基の組み合わせと
しては、例えば、アルキッド樹脂の水酸基とアミノ樹脂
のメチロール基又はエーテル化メチロール基との反応；
エポキシ樹脂のエポキシ基と尿素樹脂のアミノメチロー
ル基、アルコール性水酸基、フェノール性水酸基、アミ
ノ基又はカルボキシル基等との反応；イソシアネート基
と水酸基、アミノ基、チオール基等の反応等が挙げられ
る。何れにしても、基板に熱的影響を与えない温度条件
で熱硬化反応が開始され、皮膜を形成し、その後の紫外
線硬化反応によって得られた皮膜の鉛筆硬度が２Ｈ以上
であれば良い。

【００１８】また、紫外線硬化型官能基としては、アク
リロイル基、メチルメタクリロイル基、スチリル基等が
挙げられる。

【００１９】次に、第２層の帯電防止層を構成する組成
物は、アクリロイル基、メチルメタクリロイル基、スチ
リル基の如き紫外線硬化型官能基を有し、例えば、リン
酸基、アミノ基、水酸基の如き帯電防止機能を発揮する
部分を有する化合物が含まれる。何れにしても、分子中
に帯電防止機能を発揮する部分と、紫外線硬化を行い得
る官能基を含有していれば良い。また、第２層の帯電防
止層を構成する組成物中に、適宜、帯電防止機能を発揮
し得なくとも紫外線硬化を行い得るモノマー、オリゴマ
ー、ポリマー等をこれらに添加して使用しても一向に差
し支えないが、良好な帯電防止性能を得るには、その使
用量は少量に止めることが望ましい。

【００２０】本発明で使用するハードコート層を構成す
る組成物及び帯電防止層を構成する組成物中に、光重合
開始剤を混合する。

【００２１】光重合開始剤としては、例えば、２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１７３」）　、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社
製「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピル
フェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１
−オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジ
ルジメチルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュ
ア６５１」）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）
フェニル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガ
イギー社製「イルガキュア９０７」）、２，４　−ジエ
チルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴ
Ｘ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬
社製「カヤキュア−ＥＰＡ」）との混合物、イソプロピ
ルチオキサントン（ワードプレキンソップ社製「カンタ
キュアＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
との混合物等が挙げられる。

【００２２】光重合開始剤を併用する場合の使用割合は
、硬化に用いる紫外線照射機の条件によって決定される
が、一般的に各々の組成物の３〜７重量％の範囲が好ま
しい。

【００２３】更に、上記のハードコート層、帯電防止層
を形成する組成物に対して、重合禁止剤、消泡剤、レベ
リング剤、溶剤、重合性希釈剤等を添加しても良い。

【００２４】これらの皮膜の形成方法は、まず、ハード
コート層を成す組成物をスピンコート法により基板に塗
布し、加熱により塗膜を熱硬化させる。この時、組成物
に溶剤が含まれている場合では、まず溶剤を揮発せしめ
る工程をとることが良好な皮膜を得るには好ましい。

【００２５】次に、帯電防止層をなす組成物をハードコ
ート層にスピンコート法により同様にして塗布する。当
該組成物が溶剤を含む場合はまず加熱により溶剤を揮発
せしめることが必要である。

【００２６】その後、紫外線を照射する。この時、ハー
ドコート層、帯電防止層の各々が紫外線硬化するととも
に、界面でも同様な反応が発生するため、２層間は強固
に結合される。従って、塗布型帯電防止層とは異なり、
擦傷性が著しく向上することになる。

【００２７】帯電防止層の膜厚は、０．０５μｍ以上あ
れば良い。その塗膜が弾性体である場合は０．０５μｍ
以上０．５μｍ以下が望ましい。０．５μｍ以下の場合
では、例えブラシによる擦過を受けたとしても、その塗
膜は弾性体のため元の状態に戻ることが可能であり、下
層にハードコート層を形成しているため、基板が擦傷を
受けることはない。また、それ自体に充分な硬度があれ
ば、０．０５μｍ以上５μｍまでの塗膜厚があって良い
が、厚膜とするメリットは何等ないため、１μｍ程度あ
れば充分である。

【００２８】また、硬化に際しては、紫外線の照射以外
に、電子線を用いることも可能である。

【００２９】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。なお、以下の実施例中、「％」は『重量％』を表
わす。

【００３０】（実施例１）「コロネートＨＫ」（日本ポ
リウレタン工業（株）製ポリイソシアネート）と、「Ｍ
−３０５」（東亜合成化学工業（株）製の分子中にアク
リレート基と水酸基とを有する化合物）とを、イソシア
ネート当量が１となるように混合し、更に、この混合物
に「イルガキュア６５１」（チバガイギー社製の光重合
開始剤）を３％添加して、ハードコート層用組成物を得
た。

【００３１】得られたハードコート層用組成物を、光デ
ィスクに使用されるポリカーボネート樹脂（ＰＣ）成形
板上に、スピンコート法により乾燥塗膜厚が４μｍと成
るように塗布した後、７５℃のオーブン中で２０分加熱
して熱硬化反応を行ない第１層（ハードコート層）を形
成した。

【００３２】次に、第１層上に、「ＡＲ−２００」（（
株）大八化学工業所製のアクリロイル基とリン酸エステ
ル部とを１分子中に含む化合物）に「イルガキュア６５
１」を３％添加した組成物を、スピンコート法により乾
燥塗膜厚が０．１μｍとなるように塗布した後、窒素気
流下で４１０ｍＷ／ｃｍ２のメタルハライドランプによ
り５秒間照射して硬化皮膜を得た。

【００３３】（実施例２）実施例１で得たハードコート
層上に、「Ｃ−１６１５Ｍ」（第一工業製薬（株）製の
活性エチレン基と第４級アンモニウム基とを１分子中に
含む化合物）に「イルガキュア５００」（チバガイギー
社製の光重合開始剤）を３％添加した組成物を、スピン
コート法により乾燥塗膜厚が０．１μｍとなるように塗
布した。

【００３４】次に、７５℃のオーブン中で２０分間加熱
して溶剤を揮発させた後、窒素気流下で４１０ｍＷ／ｃ
ｍ２のメタルハライドランプにより５秒間照射して硬化
皮膜を得た。

【００３５】（実施例３）実施例１で得たハードコート
層上に、「ＤＭＣ−８０」（三洋化成工業（株）製のメ
チルメタクロイル基と第４級アンモニウム基とを１分子
中に含む化合物）「イルガキュア５００」（チバガイギ
ー社製の光重合開始剤）を３％添加した組成物を、スピ
ンコート法により乾燥塗膜厚が０．１μｍとなるように
塗布した。

【００３６】次に、７５℃のオーブン中で２０分間加熱
して溶剤を揮発させた後、窒素気流下で４１０ｍＷ／ｃ
ｍ２のメタルハライドランプにより５秒間照射して硬化
皮膜を得た。

【００３７】（比較例１）実施例１で得たハードコート
層用組成物を、光ディスクに使用されるポリカーボネー
ト樹脂（ＰＣ）成形板上に、スピンコート法により乾燥
塗膜厚が４μｍと成るように塗布した後、７５℃のオー
ブン中で２０分加熱して熱硬化反応を行ないハードコー
ト層を形成した。

【００３８】各実施例及び比較例で得た硬化被膜につい
て、鉛筆硬度試験及び表面抵抗の測定を行ない、その結
果を表１に示した。なお、鉛筆硬度試験には三菱鉛筆製
のユニを使用し、表面抵抗の測定には三菱油化（株）製
の高抵抗率計「ＭＣＰ−ＨＰ２５０」を使用した。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【発明の効果】本発明の光ディスクは、帯電防止性能と
表面硬度を兼ね備えたハードコートを有するので、塵埃
の付着の防止及び取扱い上の擦傷を防止し得、光ディス
クの記録動作エラーを防ぐことが可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的な光ディスクの基本的構成を示す断面図
である。

【符号の説明】

１　　ハードコート２　　基板３　　誘電体４　　記録膜層５　　反射膜層６　　オーバーコート

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　光ディスク用基板の記録膜を有する面
とは反対側の面に、熱硬化型官能基及び紫外線硬化型官
能基を有する組成物から成る第１層と、紫外線硬化型の
官能基を有する帯電防止剤を含有する組成物から成る第
２層を有することを特徴とする光ディスク。
【請求項２】　　熱硬化型官能基及び紫外線硬化型官能
基を有する組成物を塗布した後、熱硬化させて第１層を
形成する第１工程、第１層上に紫外線硬化型の官能基を
有する帯電防止剤を含有する組成物を塗布して第２層を
形成する第２工程、及び、第１層及び第２層を光重合さ
せる第３工程を有する請求項１記載の光ディスクの製造
方法。
【請求項３】　　熱硬化型官能基及び紫外線硬化型官能
基を有する組成物を塗布した後、熱硬化させて第１層を
形成する第１工程、第１層上に紫外線硬化型の官能基を
有する帯電防止剤を含有する組成物を塗布して第２層を
形成する第２工程、第２層を乾燥させる第３工程、及び
、第１層及び第２層を光重合させる第４工程を有する請
求項１記載の光ディスクの製造方法。