JPH0431731A - 差圧測定装置 - Google Patents

差圧測定装置

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Publication number
JPH0431731A
JPH0431731A JP13530090A JP13530090A JPH0431731A JP H0431731 A JPH0431731 A JP H0431731A JP 13530090 A JP13530090 A JP 13530090A JP 13530090 A JP13530090 A JP 13530090A JP H0431731 A JPH0431731 A JP H0431731A
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JP
Japan
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diaphragm
pressure
plate spring
housing
leaf spring
Prior art date
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Pending
Application number
JP13530090A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideki Kuwayama
桑山 秀樹
Takashi Miyashita
宮下 隆史
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH0431731A publication Critical patent/JPH0431731A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、小形化が容易で、センタダイアフラムの中央
部が変形する恐れがなく、センタダイアフラムの両面の
耐圧に応じた差圧範囲を測定できる差圧測定装置に関す
るものである。
〈従来の技術〉 第4図は従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図で、例えば、特開昭55−122126号に示され
ている。
図において、ハウジング1の両側に高圧側フランジ2、
低圧側フランジ3が溶接等によって固定されており、両
フランジ2.3には測定せんとする圧力P、の高圧流体
の導入口4、圧力pLの低圧流体の導入口5が設けられ
ている。ハウジング1内に圧力測定室6が形成されてお
り、この圧力測定室6内に受圧ダイアフラム7とシリコ
ンダイアフラム8が設けられている。受圧ダイアプラム
7とシリコンダイアフラム8はそれぞれ別個に圧力測定
室6の壁に固定されており、受圧ダイアフラム7とシリ
コンダイアフラム8の両者でもって圧力測定室6を2分
している。受圧ダイアフラム7は、ダイアフラム7Aと
孔70を有するダイアフラム7Bの2枚から構成されて
いる。勿論ダイアフラムの数は3枚以上でもよく、また
、穴の計は小さい方が好ましく、その数には制限は無い
孔70は平坦な面に形成した方が加工上有利である。ダ
イアフラム7Aと7Bの間隙は出来るだけ小さくなるよ
うにし、差圧ΔP(=圧力PH−圧力PL)がダイアフ
ラム7A側から作用した時、即座に2枚のダイアフラム
7A、7Bで受けるようにする。また、ダイアフラム7
Aと7Bは類似の形状に形成し、両ダイアフラム間で形
成する空間を少なくするようにする。ダイアフラム7A
と対向する圧力測定室6の壁6Bには、ダイアプラム7
A、7Bと類似の形状のバックプレートが形成されてい
る。このバックプレート6A、6Bは、圧力測定室6の
容積を減少させるのに有効である。
シリコンダイアフラム8は全体が単結晶のシリコン基板
から形成されている。シリコン基板の一方の面にボロン
等の不純物を選択拡散して4つのストレンゲージ80を
形成し、他方の面を機械加工、エツチングし、全体が凹
形のダイアフラムを形成する。4つのストレインゲージ
80は、シリコンダイアフラム8が差圧ΔPを受けてた
わむ時、2つが引張り、2つが圧縮を受けるようになっ
ており、これらがホイートストン・ブリッジ回路に接続
され、抵抗変化が差圧ΔPの変化として検出される。
ハウジング1は一般にステンレス鋼で作られており、シ
リコンダイアフラム8とではがなりの熱膨脹係数の違い
がある。このためハウジング1とシリコンダイアフラム
8との間に、シリコンと大体同じ熱膨脹係数を有する中
空の支持体9を設け、シリコンダイアフラム8を圧力測
定室6内に突出させるようにする。支持#9に硬土ガラ
ス等の耐熱ガラスを使えば、シリコンダイアフラム8、
支持体9、ハウジング1の3陽極結合法で接合出来、各
部材間の接着面の滑りのない強固な接着が出来る。
ハウジング1と高圧側フランジ2、および低圧側フラン
ジ3との間に、圧力導入室10.11が形成されている
。この圧力導入室10.11内に隔液ダイアフラム12
,13を設け、この隔液ダイアフラム12,13と対向
するハウジング1の壁10A、IIAに隔液ダイアフラ
ム12,13と類似の形状のバックプレートが形成され
ている。
隔液ダイアフラム12,13とバックプレート10A、
IIAとで形成される空間と、圧力測定室6は、連通孔
14,15を介して導通している。
そして、隔液ダイアフラム12,13間にシリコンオイ
ル等の封入液101,102が満たされ、この封入液が
連遁口16.17を介してシリコンダイアフラム8の上
下面にまで至っている、封入液101,102は受圧ダ
イアフラム7とシリコンダイアフラム8とによって2分
されているが、その量がほぼ均等になるように配慮され
ている。
封入液101,102の量は、周囲の温度変化の影響を
出来るだけ少なくする上で少ない方が好ましいが、バッ
クプレート6A、6E1.IOA、11Aが封入液量を
少なくするのに役立っている。
隔液ダイアフラム12,13のスチフネスは、圧力に対
する応答性、および封入液の熱膨張を吸収する上で小さ
い方が好ましい。受圧ダイアフラム7と隔液ダイアフラ
ム12.13との間には、隔液ダイアフラム12,13
がバックプレート10A、IIAに当接する前に受圧ダ
イア、フラム7がバックプレート6A、6Bに当接しな
いような関係にしておく。
かかる差圧変換器において、導入口4.5から圧力P、
の被測定流体、圧力PLの被測定流体がハウジング1内
に導入された場合、流体の圧力PH,PLはそれぞれ隔
液ダイアフラム1213を介して封入液101,102
に伝達され、シリコンダイアフラム8により両流体の差
圧ΔP=PHPLIが検出される事になる。
この時、P H> P Lとすると、隔液ダイアフラム
12および受圧ダイアフラム7は図の右方に移動する。
そして、圧力測定室6の左側半分の容積変化量をAVH
,APH=PH−PL 、!:すルト、ΔP)lとΔV
1.1の関係は第5図のイとなる。すなわち、ΔPHの
増加と共にAVHも増加するが、a点(ΔP I +Δ
V+)を境にAVHは増加しない、このa点が隔液ダイ
アフラム12がバックプレート10aに当接した時点で
あり、それ以上隔液ダイアフラム12が右方へ移動しな
いためAVHは増加せず、またシリコンダイアフラム8
にもΔP7以上の圧力は加わらないことになる。
同様に、pL>pH1Δp、、==pt−PH1圧力測
定室6の右半分の容積変化量をΔVLとすると、APL
とΔvLの関係は第5図の口となる。
b点(ΔP2.ΔV2)は隔液ダイアフラム13がバッ
クプレート11Aに当接した時点である。
第5図から理解出来るように、シリコンダイアフラムの
強度が強い方に対しては大きい差圧ΔP1、または弱い
方に対しては小さい差圧ΔP2が加わるようにすること
ができ、ΔP1〜ΔP2の広い範囲の差圧を検出するこ
とができる。また、シリコンダイアフラムには、ΔP、
あるいはΔP2以上の圧力が加わらないなめ、測定流体
の圧力に関係なく差圧測定が可能となる。受圧ダイアフ
ラムが1枚でしかも高低圧両流体に対するスチフネスが
同一の場合、ΔPHとAVHの関係は第5図の八となる
。すなわち、ダイアプラム1枚では、圧力方向が変って
もΔPとΔVの関係は同じである。しかも、vHとV[
はほぼ均等であるがら、ΔPl=ΔP2となり、きわめ
て狭い範囲の差圧しか測定できない。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、この様な装置においては、過大な差圧が
印加された時に、隔液ダイアフラムが変位し、バックプ
レートに密着する事によって、差圧測定装置にそれ以上
の圧力が印加しない構造であるが、 隔液ダイアフラムとバックプレー1〜との間には、一定
量の封入液101,102が必要であるため、受圧ダイ
アフラムの変位は一定量の変位ω。以上必要である。
一方、ダイアフラムの応力6と圧力Pとの関係は、下式
に表され、 6=β(a2/l’)P 1=(β(a2/6)P)112 6:発生応力 β:係数 a:ダイアフラムの直径 t:板厚 P二圧力 第6図に示す如く、ダイアフラムが塑成変形しないよう
に、応力6maxを制限すると、圧力が高いときは、板
厚が厚くなる。この時の板厚をt2とする。
一方、ダイアフラムの応力6と変位ωとの比6/ωと板
厚tとの関係は、下式に表され、6/ω=K (E/a
’ )t 6:発生応力 ω:変位 に:係数 E:弾性係数 a:ダイアフラムの直径 t:板厚 第7図に示す如く、板厚tが厚くなるとダイアフラムの
応力と変位との比6/ωが、0点から0点へと大きくな
る。つまり、一定の変位ω0を得る為には、応力6が大
きくなってしまい、ダイアフラムの塑成変形が生じる問
題があった。また、これを防止する為にはダイアフラム
の直径aを大きくする必要がある。
したがって、小形化が困離である。
本発明は、この問題点を、解決するものである6本発明
の目的は、小形化が容易で、センタダイアフラムが塑成
変形する恐れがなく、センタダイアフラムの両面の耐圧
に応じた差圧範囲を測定できる差圧測定装置を提供する
にある。
〈問題を解決するための手段〉 この目的を達成するために、本発明は、内部に封入液が
満たされたハウジングと、該ハウジングの両側に設けら
れた一対の隔液ダイアフラムと、該隔液ダイアフラムが
一定以上ハウジング側に変位しないように設けられた移
動阻止手段と、前記ハウジング内に設けられた圧力−電
気変換素子を有するシリコンダイアフラムと、前記ハウ
ジングに設けられたセンタダイアフラムと、該センタダ
イアフラムに一面が接して設けられた環状の板ばねと、
前記センタダイアフラムの前記環状の板ばねの中央穴部
分に対応する部分の該センタダイアフラムに設けられた
円板状の板ばねとを具備し、前記シリコンダイアフラム
およびセンタダイアフラムにより前記封入液を2分する
ようにしたことを特徴とする差圧測定装置を構成したも
のである。
〈作用〉 以上の構成において、高圧側から過大圧が印加した場合
には、環状の板ばねとセンタダイアフラムは密着し、環
状の板ばねは、環状の板ばねと円板の板ばねが受けた力
を受は変位する。一方、円板の板ばねも変形する。これ
らの変位が一定以上になると、隔液ダイアプラムがバッ
クプレートに密着し、これ以上の圧力は印加されない。
この場合、環状の板ばねの応力は、環状であるので、従
来例の円板状の場合に比べて、同じ変位量において比較
すると大幅に低減する。
したがって、環状の板ばねは小さな直径にする事ができ
、かつ、塑成変形する恐れも少ない。
低圧側から過大圧が印加した場合には、センタダイアフ
ラムが、環状の板ばねより離れ、全体としてのばね定数
が小さくなるため、高圧側に比べて小さい圧力で、隔液
ダイアプラムがバックプレトに密着する。
以下、実施例に基づき詳細に説明する。
〈実施例〉 第1図は本発明の一実施例の要部構成説明図である。
図において、第4図と同一記号の構成は同一機能を表わ
す。
以下、第4図と相違部分のみ説明する。
21は、ハウジング1に設けられたセンタダイアフラム
である。
22は、センタダイアフラム21に一面が接して設けら
れた環状の板ばねである。
23は、環状の板ばね22の中央穴部分221に対応す
るセンタダイアフラム21の部分の、塑成変形を防止す
るようにセンタダイアフラム21に設けられた円板状の
板はねである。
以上の構成において、第2図に示す如く、低圧側から過
大圧が印加された場合には、環状の板ばね22とセンタ
ダイアフラム21は密着し、環状の板ば)122は、環
状の板ばね22と円板の板ばね23が受けた力を受は変
位する。一方、円板の板ばね23も変形する。これらの
変位が一定以上になると、隔液ダイアフラム12がバッ
クプレト10Aに密着しこれ以上の圧力は印加されない
この場合、環状の板ばねの応力22は、環状であるので
、従来例の円板状のダイアフラム7Bの場合に比較して
、同じ変位量において比較すると大幅に低減する。
したがって、環状の板ばね22は、小さな直径にする事
ができ、かつ、塑成変形する恐れも少ない。
低圧側から過大圧が印加した場合には、センタダイアフ
ラム21が、環状の板ばね22より離れ、全体としての
ばね定数が小さくなるため、高圧側に比べて小さい圧力
で、隔液ダイアフラム13がバックプレート11Aに密
着する。
この結果、 (1)センタダイアフラム21が一定の変位をするため
の応力を小さく抑える事が出来るので、■センタダイア
フラム21の直径を、−従来例に比べて小さな直径で設
計出来る。
したがって、小型の差圧測定装置が得られる。
■センタダイアフラム21と板ばねの塑成変形を生ずる
恐れがなく、安定した差圧測定装置が得られる。
(2)高圧側が高い圧力まで測定でき、低圧側は低圧力
で過大圧保護機構が働く構造が得られる事は、第4図従
来例と同様である。
なお、前述の実施例においては、センタダイアフラム2
1と板ばね22は平板であるものについて説明したが、
これに限ることはなく、例えば、波形でも良い事は勿論
である。
〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明は、内部に封入液が満たさ
れたハウジングと、該ハウジングの両側に設けられた一
対の隔液ダイアフラムと、該隔液ダイアフラムが一定以
上ハウジング側に変位しないように設けられた移動阻止
手段と、前記ハウジング内に設けられた圧力−電気変換
素子を有するシリコンダイアプラムと、前記ハウジング
に設けられたセンタダイアフラムと、該センタダイアフ
ラムに一面が接して設けられた環状の板ばねと、前記セ
ンタダイアフラムの前記環状の板ばねの中央穴部分に対
応する部分の該センタダイアフラムに設けられた円板状
の板ばねとを具備し、前記シリコンダイアフラムおよび
センタダイアフラムにより前記封入液を2分するように
したことを特徴とする差圧測定装置を構成した。
この結果、 (1)センタダイアフラムが一定の変位をするための応
力を小さく抑える事が出来るので、■センタダイアフラ
ムの直径を従来例に比べて小さな直径で設計出来る為、
小型の差圧測定装置が得られる。
■センタダイアフラムと板ばねの塑成変形を生ずる恐れ
がなく、安定した差圧測定装置が得られる。
(2)高圧側が高い圧力まで測定でき、低圧側は低圧力
で過大圧保護機構が働く構造が得られる事は、従来例と
同様である。
従って、本発明によれば、小形化が容易で、センタダイ
アフラムの中央部が変形する恐れがなく、センタダイア
フラムの両面の耐圧に応じた差圧範囲を測定できる差圧
測定装置を実現することが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の要部構成説明図、第2図、
第3図は第1図の動作説明図、第4図は従来より一般に
使用されている従来例の構成説明図、第5図、第6図、
第7図は第4図の動作説明図である。 1・・・ハウジング、2・・・高圧側フランジ、3・・
・低圧側フランジ、4.5・・・導入口、6・・・圧力
測定室、6A、6B、IOA、IIA・・・バックプレ
ート、8・・・シリコンダイアフラム、9・・・支持体
、10゜11・・・圧力同人室、12.13・・・隔液
ダイアフラム、14,15.16.17・・・連通口、
70・・・孔、80・・・ストレインゲージ、21・・
・センタダイアフラム、22・・・環状の板ばね、22
1・・・中央部分、23・・・板ばね。 岑断− り≧

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 内部に封入液が満たされたハウジングと、 該ハウジングの両側に設けられた一対の隔液ダイアフラ
    ムと、 該隔液ダイアフラムが一定以上ハウジング側に変位しな
    いように設けられた移動阻止手段と、前記ハウジング内
    に設けられた圧力−電気変換素子を有するシリコンダイ
    アフラムと、 前記ハウジングに設けられたセンタダイアフラムと、 該センタダイアフラムに一面が接して設けられた環状の
    板ばねと、 前記センタダイアフラムの前記環状の板ばねの中央穴部
    分に対応する部分の該センタダイアフラムに設けられた
    円板状の板ばねと を具備し、 前記シリコンダイアフラムおよびセンタダイアフラムに
    より前記封入液を2分するようにしたことを特徴とする
    差圧測定装置。
JP13530090A 1990-05-28 1990-05-28 差圧測定装置 Pending JPH0431731A (ja)

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JP13530090A JPH0431731A (ja) 1990-05-28 1990-05-28 差圧測定装置

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