JPH04331337A - 差圧測定装置 - Google Patents
差圧測定装置Info
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- JPH04331337A JPH04331337A JP1215691A JP1215691A JPH04331337A JP H04331337 A JPH04331337 A JP H04331337A JP 1215691 A JP1215691 A JP 1215691A JP 1215691 A JP1215691 A JP 1215691A JP H04331337 A JPH04331337 A JP H04331337A
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Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高感度の低差圧、微差
圧の差圧測定装置であって、差圧センサ素子は一種類で
、シ―ルダイアフラムと隔液ダイアフラムとの有効面積
比を変えることにより他種類の測定レンジに対応できる
差圧測定装置に関するものである。
圧の差圧測定装置であって、差圧センサ素子は一種類で
、シ―ルダイアフラムと隔液ダイアフラムとの有効面積
比を変えることにより他種類の測定レンジに対応できる
差圧測定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来より一般に使用されている従
来例の構成説明図で、例えば、実開昭６０―１８１６４
２号に示されている。
来例の構成説明図で、例えば、実開昭６０―１８１６４
２号に示されている。
【０００３】図において、１はハウジングで、円柱状の
首部１Ａと、首部１Ａの端部外周縁部１Ｃにおいて溶接
接続されたブロック状の受圧部１Ｂとよりなる。ハウジ
ング１の両側に高圧側フランジ２、低圧側フランジ３が
溶接等によって固定されており、両フランジ２，３には
測定せんとする圧力ＰＨ の高圧流体の導入口４、圧力
ＰＬ の低圧流体の導入口５が設けられている。ハウジ
ング１内に圧力測定室６が形成されており、この圧力測
定室６内にセンタダイアフラム７とシリコンダイアフラ
ム８が設けられている。
首部１Ａと、首部１Ａの端部外周縁部１Ｃにおいて溶接
接続されたブロック状の受圧部１Ｂとよりなる。ハウジ
ング１の両側に高圧側フランジ２、低圧側フランジ３が
溶接等によって固定されており、両フランジ２，３には
測定せんとする圧力ＰＨ の高圧流体の導入口４、圧力
ＰＬ の低圧流体の導入口５が設けられている。ハウジ
ング１内に圧力測定室６が形成されており、この圧力測
定室６内にセンタダイアフラム７とシリコンダイアフラ
ム８が設けられている。
【０００４】センタダイアフラム７とシリコンダイアフ
ラム８はそれぞれ別個に圧力測定室６の壁に固定されて
おり、センタダイアフラム７とシリコンダイアフラム８
の両者でもって圧力測定室６を２分している。センタダ
イアフラム７と対向する圧力測定室６の壁には、バック
プレ―ト６Ａ，６Ｂが形成されている。センタダイアフ
ラム７は周縁部をハウジング１に溶接されている。
ラム８はそれぞれ別個に圧力測定室６の壁に固定されて
おり、センタダイアフラム７とシリコンダイアフラム８
の両者でもって圧力測定室６を２分している。センタダ
イアフラム７と対向する圧力測定室６の壁には、バック
プレ―ト６Ａ，６Ｂが形成されている。センタダイアフ
ラム７は周縁部をハウジング１に溶接されている。
【０００５】シリコンダイアフラム８は全体が単結晶の
シリコン基板から形成されている。シリコン基板の一方
の面にボロン等の不純物を選択拡散して４っのストレン
ゲ―ジ８０を形成し、他方の面を機械加工、エッチング
し、全体が凹形のダイアフラムを形成する。４っのスト
レインゲ―ジ８０は、シリコンダイアフラム８が差圧Δ
Ｐを受けて撓む時、２つが引張り、２つが圧縮を受ける
ようになっており、これらがホイ―トストン・ブリッジ
回路に接続され、抵抗変化が差圧ΔＰの変化として検出
される。シリコンダイアフラム８は、首部１Ａを２個の
センサ室８１，８２に分ける。支持体９の圧力測定室６
側端面に、低融点ガラス接続等の方法でシリコンダイア
フラム８が接着固定されている。
シリコン基板から形成されている。シリコン基板の一方
の面にボロン等の不純物を選択拡散して４っのストレン
ゲ―ジ８０を形成し、他方の面を機械加工、エッチング
し、全体が凹形のダイアフラムを形成する。４っのスト
レインゲ―ジ８０は、シリコンダイアフラム８が差圧Δ
Ｐを受けて撓む時、２つが引張り、２つが圧縮を受ける
ようになっており、これらがホイ―トストン・ブリッジ
回路に接続され、抵抗変化が差圧ΔＰの変化として検出
される。シリコンダイアフラム８は、首部１Ａを２個の
センサ室８１，８２に分ける。支持体９の圧力測定室６
側端面に、低融点ガラス接続等の方法でシリコンダイア
フラム８が接着固定されている。
【０００６】ハウジング１と高圧側フランジ２、および
低圧側フランジ３との間に、圧力導入室１０，１１が形
成されている。この圧力導入室１０，１１内に隔液ダイ
アフラム１２，１３を設け、この隔液ダイアフラム１２
，１３と対向するハウジング１の壁１０Ａ，１１Ａに隔
液ダイアフラム１２，１３と類似の形状のバックプレ―
トが形成されている。隔液ダイアフラム１２，１３とバ
ックプレ―ト１０Ａ，１１Ａとで形成される空間と、圧
力測定室６は、連通孔１４，１５を介して導通している
。
低圧側フランジ３との間に、圧力導入室１０，１１が形
成されている。この圧力導入室１０，１１内に隔液ダイ
アフラム１２，１３を設け、この隔液ダイアフラム１２
，１３と対向するハウジング１の壁１０Ａ，１１Ａに隔
液ダイアフラム１２，１３と類似の形状のバックプレ―
トが形成されている。隔液ダイアフラム１２，１３とバ
ックプレ―ト１０Ａ，１１Ａとで形成される空間と、圧
力測定室６は、連通孔１４，１５を介して導通している
。
【０００７】そして、隔液ダイアフラム１２，１３間に
シリコンオイル等の封入液１０１，１０２が満たされ、
この封入液が連通孔１６，１７を介してシリコンダイア
フラム８の上下面にまで至っている。封入液１０１，１
０２は、センタダイアフラム７とシリコンダイアフラム
８とによって２分されているが、その量が、ほぼ均等に
なるように配慮されている。
シリコンオイル等の封入液１０１，１０２が満たされ、
この封入液が連通孔１６，１７を介してシリコンダイア
フラム８の上下面にまで至っている。封入液１０１，１
０２は、センタダイアフラム７とシリコンダイアフラム
８とによって２分されているが、その量が、ほぼ均等に
なるように配慮されている。
【０００８】以上の構成において、高圧側から圧力が作
用した場合、隔液ダイアフラム１２に作用する圧力が封
入液１０１によってシリコンダイアフラム８に伝達され
る。一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイア
フラム１３に作用する圧力が封入液１０２によってシリ
コンダイアフラム８に伝達される。この結果、高圧側と
低圧側との圧力差に応じてシリコンダイアフラム８が歪
み、この歪み量がストレインゲ―ジ８０に因って電気的
に取出され、差圧の測定が行なわれる。
用した場合、隔液ダイアフラム１２に作用する圧力が封
入液１０１によってシリコンダイアフラム８に伝達され
る。一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイア
フラム１３に作用する圧力が封入液１０２によってシリ
コンダイアフラム８に伝達される。この結果、高圧側と
低圧側との圧力差に応じてシリコンダイアフラム８が歪
み、この歪み量がストレインゲ―ジ８０に因って電気的
に取出され、差圧の測定が行なわれる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この様
な装置においては、特に、微差圧の差圧測定装置におい
て、感度を上げる為には、シリコンダイアフラム８の直
径と肉厚の寸法を調節して所定の感度を実現する手段が
とられて来た。 （１）しかし、この寸法調節の方法では限界があり、充
分な感度が得られない事がある。 （２）中差圧、低差圧、微差圧とセンサ素子の設計が異
なり、製造コストが高くなる。
な装置においては、特に、微差圧の差圧測定装置におい
て、感度を上げる為には、シリコンダイアフラム８の直
径と肉厚の寸法を調節して所定の感度を実現する手段が
とられて来た。 （１）しかし、この寸法調節の方法では限界があり、充
分な感度が得られない事がある。 （２）中差圧、低差圧、微差圧とセンサ素子の設計が異
なり、製造コストが高くなる。
【００１０】本発明は、この問題点を、解決するもので
ある。本発明の目的は、高感度の低差圧、微差圧の差圧
測定装置であって、差圧センサ素子は一種類で、シ―ル
ダイアフラムを代えることにより他種類の測定レンジに
対応できる差圧測定装置を提供するにある。
ある。本発明の目的は、高感度の低差圧、微差圧の差圧
測定装置であって、差圧センサ素子は一種類で、シ―ル
ダイアフラムを代えることにより他種類の測定レンジに
対応できる差圧測定装置を提供するにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、ハウジング内に設けられた室を第１，第
２測定室に２分するシリコンの測定ダイアフラムと、前
記ハウジング内に設けられた他の室を第１，第２センタ
室に２分するセンタダイアフラムと、前記ハウジングの
側面にそれぞれ設けられ該ハウジングと第１，第２隔液
室を構成する第１，第２隔液ダイアフラムとを具備する
差圧測定装置において、前記第１隔液ダイアフラムとセ
ンタダイアフラムとの間の前記ハウジングに設けられた
室を第１と第２の室に２分し該第１隔液ダイアフラムと
所定の有効面積比を成し第１隔液ダイアフラムに過大圧
が加わった場合に第２室の壁に接して測定ダイアフラム
を保護する第１シ―ルダイアフラムと、前記第２隔液ダ
イアフラムとセンタダイアフラムとの間のハウジングに
設けられた室を第３と第４の室に２分し該第２隔液ダイ
アフラムと所定の有効面積比を成し第２隔液ダイアフラ
ムに過大圧が加わった場合に第３室の壁に接して測定ダ
イアフラムを保護する第２シ―ルダイアフラムと、前記
第１隔液室と前記第１室とを連通する第１連通孔と、前
記第２隔液室と前記第４室とを連通する第２連通孔と、
前記第２室と前記第１センタ室とを連通する第３連通孔
と、前記第３室と前記第２センタ室とを連通する第４連
通孔と、前記第２室と前記第１測定室とを連通する第５
連通孔と、前記第３室と前記第２測定室とを連通する第
６連通孔と、前記第１隔液室と前記第２隔液室とを連通
する第７連通孔と、前記第１隔液ダイアフラムと前記第
１シ―ルダイアフラムとを結合する剛体あるいはばねよ
りなる第１結合体と、前記第２隔液ダイアフラムと前記
第２シ―ルダイアフラムとを結合する剛体あるいはばね
よりなる第２結合体とを具備したことを特徴とする差圧
測定装置を構成したものである。
に、本発明は、ハウジング内に設けられた室を第１，第
２測定室に２分するシリコンの測定ダイアフラムと、前
記ハウジング内に設けられた他の室を第１，第２センタ
室に２分するセンタダイアフラムと、前記ハウジングの
側面にそれぞれ設けられ該ハウジングと第１，第２隔液
室を構成する第１，第２隔液ダイアフラムとを具備する
差圧測定装置において、前記第１隔液ダイアフラムとセ
ンタダイアフラムとの間の前記ハウジングに設けられた
室を第１と第２の室に２分し該第１隔液ダイアフラムと
所定の有効面積比を成し第１隔液ダイアフラムに過大圧
が加わった場合に第２室の壁に接して測定ダイアフラム
を保護する第１シ―ルダイアフラムと、前記第２隔液ダ
イアフラムとセンタダイアフラムとの間のハウジングに
設けられた室を第３と第４の室に２分し該第２隔液ダイ
アフラムと所定の有効面積比を成し第２隔液ダイアフラ
ムに過大圧が加わった場合に第３室の壁に接して測定ダ
イアフラムを保護する第２シ―ルダイアフラムと、前記
第１隔液室と前記第１室とを連通する第１連通孔と、前
記第２隔液室と前記第４室とを連通する第２連通孔と、
前記第２室と前記第１センタ室とを連通する第３連通孔
と、前記第３室と前記第２センタ室とを連通する第４連
通孔と、前記第２室と前記第１測定室とを連通する第５
連通孔と、前記第３室と前記第２測定室とを連通する第
６連通孔と、前記第１隔液室と前記第２隔液室とを連通
する第７連通孔と、前記第１隔液ダイアフラムと前記第
１シ―ルダイアフラムとを結合する剛体あるいはばねよ
りなる第１結合体と、前記第２隔液ダイアフラムと前記
第２シ―ルダイアフラムとを結合する剛体あるいはばね
よりなる第２結合体とを具備したことを特徴とする差圧
測定装置を構成したものである。
【００１２】
【作用】以上の構成において、高圧側から圧力が作用し
た場合、第１隔液ダイアフラムに作用する圧力が封入液
によってシリコンの測定ダイアフラムに伝達される。一
方、低圧側から圧力が作用した場合、第２隔液ダイアフ
ラムに作用する圧力が封入液によってシリコンの測定ダ
イアフラムに伝達される。したがって、高圧側と低圧側
との圧力差に応じてシリコンダイアフラムが歪み、この
歪み量がストレインゲ―ジに因って電気的に取出され、
差圧の測定が行なわれる。
た場合、第１隔液ダイアフラムに作用する圧力が封入液
によってシリコンの測定ダイアフラムに伝達される。一
方、低圧側から圧力が作用した場合、第２隔液ダイアフ
ラムに作用する圧力が封入液によってシリコンの測定ダ
イアフラムに伝達される。したがって、高圧側と低圧側
との圧力差に応じてシリコンダイアフラムが歪み、この
歪み量がストレインゲ―ジに因って電気的に取出され、
差圧の測定が行なわれる。
【００１３】而して、第１隔液ダイアフラムとセンタダ
イアフラムとの間のハウジングに設けられた室を第１と
第２の室に２分し第１隔液ダイアフラムと所定の有効面
積比を成し第１隔液ダイアフラムに過大圧が加わった場
合に第２室の壁に接して測定ダイアフラムを保護する第
１シ―ルダイアフラムと、第２隔液ダイアフラムとセン
タダイアフラムとの間のハウジングに設けられた室を第
３と第４の室に２分し第２隔液ダイアフラムと所定の有
効面積比を成し第２隔液ダイアフラムに過大圧が加わっ
た場合に第３室の壁に接して測定ダイアフラムを保護す
る第２シ―ルダイアフラムと、第１隔液ダイアフラムと
第１シ―ルダイアフラムとを結合する剛体あるいはばね
よりなる第１結合体と、第２隔液ダイアフラムと第２シ
―ルダイアフラムとを結合する剛体あるいはばねよりな
る第２結合体とを構成したので、測定圧の所定倍の差圧
が測定ダイアフラムに加わる。以下、実施例に基づき詳
細に説明する。
イアフラムとの間のハウジングに設けられた室を第１と
第２の室に２分し第１隔液ダイアフラムと所定の有効面
積比を成し第１隔液ダイアフラムに過大圧が加わった場
合に第２室の壁に接して測定ダイアフラムを保護する第
１シ―ルダイアフラムと、第２隔液ダイアフラムとセン
タダイアフラムとの間のハウジングに設けられた室を第
３と第４の室に２分し第２隔液ダイアフラムと所定の有
効面積比を成し第２隔液ダイアフラムに過大圧が加わっ
た場合に第３室の壁に接して測定ダイアフラムを保護す
る第２シ―ルダイアフラムと、第１隔液ダイアフラムと
第１シ―ルダイアフラムとを結合する剛体あるいはばね
よりなる第１結合体と、第２隔液ダイアフラムと第２シ
―ルダイアフラムとを結合する剛体あるいはばねよりな
る第２結合体とを構成したので、測定圧の所定倍の差圧
が測定ダイアフラムに加わる。以下、実施例に基づき詳
細に説明する。
【００１４】
【実施例】図１は本発明の一実施例の要部構成説明図で
ある。図において、図２と同一記号の構成は同一機能を
表わす。以下、図２と相違部分のみ説明する。２１は、
ハウジング１内に設けられた室を第１，第２測定室２２
，２３に２分するシリコンの測定ダイアフラムである。 ２４は、ハウジング１内に設けられた他の室を第１，第
２センタ室２５，２６に２分するセンタダイアフラムで
ある。２７，２８は、ハウジング１の側面にそれぞれ設
けられハウジング１と第１，第２隔液室２９，３１を構
成する第１，第２隔液ダイアフラムである。
ある。図において、図２と同一記号の構成は同一機能を
表わす。以下、図２と相違部分のみ説明する。２１は、
ハウジング１内に設けられた室を第１，第２測定室２２
，２３に２分するシリコンの測定ダイアフラムである。 ２４は、ハウジング１内に設けられた他の室を第１，第
２センタ室２５，２６に２分するセンタダイアフラムで
ある。２７，２８は、ハウジング１の側面にそれぞれ設
けられハウジング１と第１，第２隔液室２９，３１を構
成する第１，第２隔液ダイアフラムである。
【００１５】３２は、第１隔液ダイアフラム２７とセン
タダイアフラム２４との間のハウジング１に設けられた
室を、第１と第２の室３３，３４に２分し、隔液ダイア
フラム２７と所定の有効面積比を成し、第１隔液ダイア
フラム２７に過大圧が加わった場合に、第２室３４の壁
に接して測定ダイアフラム２１を保護する第１シ―ルダ
イアフラムである。３５は、第２隔液ダイアフラム２８
とセンタダイアフラム２４との間のハウジング１に設け
られた室を、第３と第４の室３６，３７に２分し第２隔
液ダイアフラム２８と所定の有効面積比を成し、第２隔
液ダイアフラム２８に過大圧が加わった場合に第３室３
６の壁に接して測定ダイアフラム２１を保護する第２シ
―ルダイアフラムである。
タダイアフラム２４との間のハウジング１に設けられた
室を、第１と第２の室３３，３４に２分し、隔液ダイア
フラム２７と所定の有効面積比を成し、第１隔液ダイア
フラム２７に過大圧が加わった場合に、第２室３４の壁
に接して測定ダイアフラム２１を保護する第１シ―ルダ
イアフラムである。３５は、第２隔液ダイアフラム２８
とセンタダイアフラム２４との間のハウジング１に設け
られた室を、第３と第４の室３６，３７に２分し第２隔
液ダイアフラム２８と所定の有効面積比を成し、第２隔
液ダイアフラム２８に過大圧が加わった場合に第３室３
６の壁に接して測定ダイアフラム２１を保護する第２シ
―ルダイアフラムである。
【００１６】４１は、第１隔液室２９と第１室とを連通
する第１連通孔である。４２は、第２隔液室３１と第４
室３７とを連通する第２連通孔である。４３は、第２室
３４と第１センタ室２５とを連通する第３連通孔である
。４４は、第３室３６と第２センタ室２６とを連通する
第４連通孔である。４５は、第２室３４と第１測定室２
２とを連通する第５連通孔である。４６は、第３室３６
と第２測定室２３とを連通する第６連通孔である。４７
は、第１隔液室２９と第２隔液室２８とを連通する第７
連通孔である。
する第１連通孔である。４２は、第２隔液室３１と第４
室３７とを連通する第２連通孔である。４３は、第２室
３４と第１センタ室２５とを連通する第３連通孔である
。４４は、第３室３６と第２センタ室２６とを連通する
第４連通孔である。４５は、第２室３４と第１測定室２
２とを連通する第５連通孔である。４６は、第３室３６
と第２測定室２３とを連通する第６連通孔である。４７
は、第１隔液室２９と第２隔液室２８とを連通する第７
連通孔である。
【００１７】５１は、第１隔液ダイアフラム２７と第１
シ―ルダイアフラム３２とを結合する剛体あるいはばね
よりなる第１結合体である。この場合は、剛体よりなる
。５２は、第２隔液ダイアフラム２８と第２シ―ルダイ
アフラム３５とを結合する剛体あるいはばねよりなる第
２結合体である。この場合は、剛体よりなる。１０３，
１０４，１０５は、第１，第２隔液室２９，３１、第１
，第２，第３，第４室３３，３４，３６，３７、第１，
第２センタ室２５，２６、第１，第２測定室２２，２３
、第１から第７連通孔４１，４２，４３，４４，４５，
４６，４７で構成される３個の室に満たされる封入液で
ある。
シ―ルダイアフラム３２とを結合する剛体あるいはばね
よりなる第１結合体である。この場合は、剛体よりなる
。５２は、第２隔液ダイアフラム２８と第２シ―ルダイ
アフラム３５とを結合する剛体あるいはばねよりなる第
２結合体である。この場合は、剛体よりなる。１０３，
１０４，１０５は、第１，第２隔液室２９，３１、第１
，第２，第３，第４室３３，３４，３６，３７、第１，
第２センタ室２５，２６、第１，第２測定室２２，２３
、第１から第７連通孔４１，４２，４３，４４，４５，
４６，４７で構成される３個の室に満たされる封入液で
ある。
【００１８】以上の構成において、高圧側から圧力ＰＨ
が作用した場合、第１隔液ダイアフラム２７に作用す
る圧力が封入液によってシリコンの測定ダイアフラム２
１に圧力ＰＨ´として伝達される。一方、低圧側から圧
力ＰＬが作用した場合、第２隔液ダイアフラム２８に作
用する圧力が封入液によってシリコンの測定ダイアフラ
ム２１に圧力ＰＬ´として伝達される。したがって、高
圧側と低圧側との圧力差ΔＰに応じてシリコンの測定ダ
イアフラム２１が歪み、この歪み量がストレインゲ―ジ
８０に因って電気的に取出され、差圧の測定が行なわれ
る。
が作用した場合、第１隔液ダイアフラム２７に作用す
る圧力が封入液によってシリコンの測定ダイアフラム２
１に圧力ＰＨ´として伝達される。一方、低圧側から圧
力ＰＬが作用した場合、第２隔液ダイアフラム２８に作
用する圧力が封入液によってシリコンの測定ダイアフラ
ム２１に圧力ＰＬ´として伝達される。したがって、高
圧側と低圧側との圧力差ΔＰに応じてシリコンの測定ダ
イアフラム２１が歪み、この歪み量がストレインゲ―ジ
８０に因って電気的に取出され、差圧の測定が行なわれ
る。
【００１９】而して、第１隔液ダイアフラム２７とセン
タダイアフラム２４との間のハウジング１に設けられた
室を第１と第２の室３３，３４に２分し、第１隔液ダイ
アフラムと所定の有効面積比を成し、第１隔液ダイアフ
ラム２７に過大圧が加わった場合に、第２室３４の壁に
接して測定ダイアフラム２１を保護する第１シ―ルダイ
アフラム３２と、第２隔液ダイアフラム２８とセンタダ
イアフラム２４との間のハウジング１に設けられた室を
第３と第４の室３６，３７に２分し、第２隔液ダイアフ
ラム２８と所定の有効面積比を成し、第２隔液ダイアフ
ラム２８に過大圧が加わった場合に第３室３６の壁に接
して測定ダイアフラム２１を保護する第２シ―ルダイア
フラム３５と、第１隔液ダイアフラム２７と第１シ―ル
ダイアフラム３２とを結合する剛体あるいはばねよりな
る第１結合体５１と、第２隔液ダイアフラム２８と第２
シ―ルダイアフラム３５とを結合する剛体あるいはばね
よりなる第２結合体５２とを構成したので、測定圧の所
定倍の差圧がシリコンの測定ダイアフラム２１に加わる
。
タダイアフラム２４との間のハウジング１に設けられた
室を第１と第２の室３３，３４に２分し、第１隔液ダイ
アフラムと所定の有効面積比を成し、第１隔液ダイアフ
ラム２７に過大圧が加わった場合に、第２室３４の壁に
接して測定ダイアフラム２１を保護する第１シ―ルダイ
アフラム３２と、第２隔液ダイアフラム２８とセンタダ
イアフラム２４との間のハウジング１に設けられた室を
第３と第４の室３６，３７に２分し、第２隔液ダイアフ
ラム２８と所定の有効面積比を成し、第２隔液ダイアフ
ラム２８に過大圧が加わった場合に第３室３６の壁に接
して測定ダイアフラム２１を保護する第２シ―ルダイア
フラム３５と、第１隔液ダイアフラム２７と第１シ―ル
ダイアフラム３２とを結合する剛体あるいはばねよりな
る第１結合体５１と、第２隔液ダイアフラム２８と第２
シ―ルダイアフラム３５とを結合する剛体あるいはばね
よりなる第２結合体５２とを構成したので、測定圧の所
定倍の差圧がシリコンの測定ダイアフラム２１に加わる
。
【００２０】すなわち、第１隔液ダイアフラム２７と第
１シ―ルダイアフラム３２との有効面積比をｒＨ 、第
２隔液ダイアフラム２８と第２シ―ルダイアフラム３５
との有効面積比をｒＬ とする ΔＰ ＝ＰＨ −ＰＬ ΔＰ´ ＝ＰＨ´−ＰＬ´ ＝ｒＨ ・ＰＨ −ｒＬ ・ＰＬ ｒＨ ＝ｒＬ ＝ｒとすれば、 ΔＰ´ ＝ｒΔＰ すなわち、測定ダイアフラム２１には、ΔＰのｒ倍の差
圧が加わる。
１シ―ルダイアフラム３２との有効面積比をｒＨ 、第
２隔液ダイアフラム２８と第２シ―ルダイアフラム３５
との有効面積比をｒＬ とする ΔＰ ＝ＰＨ −ＰＬ ΔＰ´ ＝ＰＨ´−ＰＬ´ ＝ｒＨ ・ＰＨ −ｒＬ ・ＰＬ ｒＨ ＝ｒＬ ＝ｒとすれば、 ΔＰ´ ＝ｒΔＰ すなわち、測定ダイアフラム２１には、ΔＰのｒ倍の差
圧が加わる。
【００２１】この結果、
（１）測定圧の所定倍の差圧がシリコンの測定ダイアフ
ラム２１に加わるので、高感度の低差圧、微差圧の差圧
測定装置が得られる。 （２）差圧センサ素子は一種類で、シ―ルダイアフラム
と隔液ダイアフラムとの有効面積比を変えることにより
他種類の測定レンジに対応できる差圧測定装置が得られ
る。
ラム２１に加わるので、高感度の低差圧、微差圧の差圧
測定装置が得られる。 （２）差圧センサ素子は一種類で、シ―ルダイアフラム
と隔液ダイアフラムとの有効面積比を変えることにより
他種類の測定レンジに対応できる差圧測定装置が得られ
る。
【００２２】なお、前述の実施例においては、第１，第
２結合体５１，５２は、剛体のものについて説明したが
、これに限ることはなく、例えば、スプリングでもよい
。この場合は、外側の部屋の封入液の温度膨脹を吸収出
来、温度特性、静圧特性を改善する事が出来る。
２結合体５１，５２は、剛体のものについて説明したが
、これに限ることはなく、例えば、スプリングでもよい
。この場合は、外側の部屋の封入液の温度膨脹を吸収出
来、温度特性、静圧特性を改善する事が出来る。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ハウジ
ング内に設けられた室を第１，第２測定室に２分するシ
リコンの測定ダイアフラムと、前記ハウジング内に設け
られた他の室を第１，第２センタ室に２分するセンタダ
イアフラムと、前記ハウジングの側面にそれぞれ設けら
れ該ハウジングと第１，第２隔液室を構成する第１，第
２隔液ダイアフラムとを具備する差圧測定装置において
、前記第１隔液ダイアフラムとセンタダイアフラムとの
間の前記ハウジングに設けられた室を第１と第２の室に
２分し該第１隔液ダイアフラムと所定の有効面積比を成
し第１隔液ダイアフラムに過大圧が加わった場合に第２
室の壁に接して測定ダイアフラムを保護する第１シ―ル
ダイアフラムと、前記第２隔液ダイアフラムとセンタダ
イアフラムとの間のハウジングに設けられた室を第３と
第４の室に２分し該第２隔液ダイアフラムと所定の有効
面積比を成し第２隔液ダイアフラムに過大圧が加わった
場合に第３室の壁に接して測定ダイアフラムを保護する
第２シ―ルダイアフラムと、前記第１隔液室と前記第１
室とを連通する第１連通孔と、前記第２隔液室と前記第
４室とを連通する第２連通孔と、前記第２室と前記第１
センタ室とを連通する第３連通孔と、前記第３室と前記
第２センタ室とを連通する第４連通孔と、前記第２室と
前記第１測定室とを連通する第５連通孔と、前記第３室
と前記第２測定室とを連通する第６連通孔と、前記第１
隔液室と前記第２隔液室とを連通する第７連通孔と、前
記第１隔液ダイアフラムと前記第１シ―ルダイアフラム
とを結合する剛体あるいはばねよりなる第１結合体と、
前記第２隔液ダイアフラムと前記第２シ―ルダイアフラ
ムとを結合する剛体あるいはばねよりなる第２結合体と
を具備したことを特徴とする差圧測定装置を構成した。
ング内に設けられた室を第１，第２測定室に２分するシ
リコンの測定ダイアフラムと、前記ハウジング内に設け
られた他の室を第１，第２センタ室に２分するセンタダ
イアフラムと、前記ハウジングの側面にそれぞれ設けら
れ該ハウジングと第１，第２隔液室を構成する第１，第
２隔液ダイアフラムとを具備する差圧測定装置において
、前記第１隔液ダイアフラムとセンタダイアフラムとの
間の前記ハウジングに設けられた室を第１と第２の室に
２分し該第１隔液ダイアフラムと所定の有効面積比を成
し第１隔液ダイアフラムに過大圧が加わった場合に第２
室の壁に接して測定ダイアフラムを保護する第１シ―ル
ダイアフラムと、前記第２隔液ダイアフラムとセンタダ
イアフラムとの間のハウジングに設けられた室を第３と
第４の室に２分し該第２隔液ダイアフラムと所定の有効
面積比を成し第２隔液ダイアフラムに過大圧が加わった
場合に第３室の壁に接して測定ダイアフラムを保護する
第２シ―ルダイアフラムと、前記第１隔液室と前記第１
室とを連通する第１連通孔と、前記第２隔液室と前記第
４室とを連通する第２連通孔と、前記第２室と前記第１
センタ室とを連通する第３連通孔と、前記第３室と前記
第２センタ室とを連通する第４連通孔と、前記第２室と
前記第１測定室とを連通する第５連通孔と、前記第３室
と前記第２測定室とを連通する第６連通孔と、前記第１
隔液室と前記第２隔液室とを連通する第７連通孔と、前
記第１隔液ダイアフラムと前記第１シ―ルダイアフラム
とを結合する剛体あるいはばねよりなる第１結合体と、
前記第２隔液ダイアフラムと前記第２シ―ルダイアフラ
ムとを結合する剛体あるいはばねよりなる第２結合体と
を具備したことを特徴とする差圧測定装置を構成した。
【００２４】この結果、
（１）測定圧の所定倍の差圧がシリコンの測定ダイアフ
ラムに加わるので、高感度の低差圧、微差圧の差圧測定
装置が得られる。 （２）差圧センサ素子は一種類で、シ―ルダイアフラム
と隔液ダイアフラムとの有効面積比を変えることにより
他種類の測定レンジに対応できる差圧測定装置が得られ
る。
ラムに加わるので、高感度の低差圧、微差圧の差圧測定
装置が得られる。 （２）差圧センサ素子は一種類で、シ―ルダイアフラム
と隔液ダイアフラムとの有効面積比を変えることにより
他種類の測定レンジに対応できる差圧測定装置が得られ
る。
【００２５】従って、本発明によれば、高感度の低差圧
、微差圧の差圧測定装置であって、差圧センサ素子は一
種類で、シ―ルダイアフラムと隔液ダイアフラムとの有
効面積比を変えることにより他種類の測定レンジに対応
できる差圧測定装置を実現することが出来る。
、微差圧の差圧測定装置であって、差圧センサ素子は一
種類で、シ―ルダイアフラムと隔液ダイアフラムとの有
効面積比を変えることにより他種類の測定レンジに対応
できる差圧測定装置を実現することが出来る。
【図１】本発明の一実施例の要部構成説明図である。
【図２】従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図である。
明図である。
１…ハウジング
２…高圧側フランジ
３…低圧側フランジ
４，５…導入口
６Ａ，６Ｂ，１０Ａ，１１Ａ…バックプレ―ト１０，１
１…圧力導入室 ８０…ストレインゲ―ジ １Ａ…首部 １Ｂ…受圧部 １Ｃ…溶接 ２１…測定ダイアフラム ２２…第１測定ダイアフラム ２３…第２測定ダイアフラム ２４…センタダイアフラム ２５…第１センタ室 ２６…第２センタ室 ２７…第１隔液ダイアフラム ２８…第２隔液ダイアフラム ２９…第１隔液室 ３１…第２隔液室 ３２…第１シ―ルダイアフラム ３３…第１室 ３４…第２室 ３５…第２シ―ルダイアフラム ３６…第３室 ３７…第４室 ４１…第１連通孔 ４２…第２連通孔 ４３…第３連通孔 ４４…第４連通孔 ４５…第５連通孔 ４６…第６連通孔 ４７…第７連通孔 ５１…第１結合体 ５２…第２結合体
１…圧力導入室 ８０…ストレインゲ―ジ １Ａ…首部 １Ｂ…受圧部 １Ｃ…溶接 ２１…測定ダイアフラム ２２…第１測定ダイアフラム ２３…第２測定ダイアフラム ２４…センタダイアフラム ２５…第１センタ室 ２６…第２センタ室 ２７…第１隔液ダイアフラム ２８…第２隔液ダイアフラム ２９…第１隔液室 ３１…第２隔液室 ３２…第１シ―ルダイアフラム ３３…第１室 ３４…第２室 ３５…第２シ―ルダイアフラム ３６…第３室 ３７…第４室 ４１…第１連通孔 ４２…第２連通孔 ４３…第３連通孔 ４４…第４連通孔 ４５…第５連通孔 ４６…第６連通孔 ４７…第７連通孔 ５１…第１結合体 ５２…第２結合体
Claims (1)
- 【請求項１】ハウジング内に設けられた室を第１，第２
測定室に２分するシリコンの測定ダイアフラムと、前記
ハウジング内に設けられた他の室を第１，第２センタ室
に２分するセンタダイアフラムと、前記ハウジングの側
面にそれぞれ設けられ該ハウジングと第１，第２隔液室
を構成する第１，第２隔液ダイアフラムとを具備する差
圧測定装置において、前記第１隔液ダイアフラムとセン
タダイアフラムとの間の前記ハウジングに設けられた室
を第１と第２の室に２分し該第１隔液ダイアフラムと所
定の有効面積比を成し第１隔液ダイアフラムに過大圧が
加わった場合に第２室の壁に接して測定ダイアフラムを
保護する第１シ―ルダイアフラムと、前記第２隔液ダイ
アフラムとセンタダイアフラムとの間のハウジングに設
けられた室を第３と第４の室に２分し該第２隔液ダイア
フラムと所定の有効面積比を成し第２隔液ダイアフラム
に過大圧が加わった場合に第３室の壁に接して測定ダイ
アフラムを保護する第２シ―ルダイアフラムと、前記第
１隔液室と前記第１室とを連通する第１連通孔と、前記
第２隔液室と前記第４室とを連通する第２連通孔と、前
記第２室と前記第１センタ室とを連通する第３連通孔と
、前記第３室と前記第２センタ室とを連通する第４連通
孔と、前記第２室と前記第１測定室とを連通する第５連
通孔と、前記第３室と前記第２測定室とを連通する第６
連通孔と、前記第１隔液室と前記第２隔液室とを連通す
る第７連通孔と、前記第１隔液ダイアフラムと前記第１
シ―ルダイアフラムとを結合する剛体あるいはばねより
なる第１結合体と、前記第２隔液ダイアフラムと前記第
２シ―ルダイアフラムとを結合する剛体あるいはばねよ
りなる第２結合体とを具備したことを特徴とする差圧測
定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1215691A JPH04331337A (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 差圧測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1215691A JPH04331337A (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 差圧測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04331337A true JPH04331337A (ja) | 1992-11-19 |
Family
ID=11797601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1215691A Pending JPH04331337A (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 差圧測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04331337A (ja) |
-
1991
- 1991-02-01 JP JP1215691A patent/JPH04331337A/ja active Pending
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