JPH0430728U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0430728U JPH0430728U JP7218790U JP7218790U JPH0430728U JP H0430728 U JPH0430728 U JP H0430728U JP 7218790 U JP7218790 U JP 7218790U JP 7218790 U JP7218790 U JP 7218790U JP H0430728 U JPH0430728 U JP H0430728U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- etched
- dry etching
- impedance
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
Description
第1図は本考案にかかるドライエツチング装置
の要部断面図、第2図は本考案にかかる下部電極
の平面図、第3図は従来のドライエツチング装置
の要部断面図である。 図において、1は反応チヤンバ、2は上部電極
、3,9は下部電極、4はウエハー、5はガス導
入口、6は排気口、7は絶縁体、8は高周波電源
、10は制御系、9a〜9qは下部電極の各ブロ
ツク、Za〜Zfは各ブロツクに接続する各イン
ピーダンスを示している。
の要部断面図、第2図は本考案にかかる下部電極
の平面図、第3図は従来のドライエツチング装置
の要部断面図である。 図において、1は反応チヤンバ、2は上部電極
、3,9は下部電極、4はウエハー、5はガス導
入口、6は排気口、7は絶縁体、8は高周波電源
、10は制御系、9a〜9qは下部電極の各ブロ
ツク、Za〜Zfは各ブロツクに接続する各イン
ピーダンスを示している。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 電極上に被エツチング基板を載置し、高周波電
力を印加してエツチングするドライエツチング装
置において、 前記電極を複数ブロツクに絶縁分割し、各ブロ
ツクにそれぞれインピーダンスを接続して該イン
ピーダンスを個々に制御し、前記電極上に載置し
た被エツチング基板のエツチング速度を選択的に
相違させるように構成してなることを特徴とする
ドライエツチング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7218790U JPH0430728U (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7218790U JPH0430728U (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0430728U true JPH0430728U (ja) | 1992-03-12 |
Family
ID=31609906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7218790U Pending JPH0430728U (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0430728U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001144079A (ja) * | 1999-09-03 | 2001-05-25 | Ulvac Japan Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2008244063A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
-
1990
- 1990-07-04 JP JP7218790U patent/JPH0430728U/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001144079A (ja) * | 1999-09-03 | 2001-05-25 | Ulvac Japan Ltd | プラズマ処理装置 |
JP4528418B2 (ja) * | 1999-09-03 | 2010-08-18 | 株式会社アルバック | プラズマ処理装置 |
JP2008244063A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |