JPH04306485A - バッチ式焼成炉 - Google Patents
バッチ式焼成炉Info
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- JPH04306485A JPH04306485A JP7147991A JP7147991A JPH04306485A JP H04306485 A JPH04306485 A JP H04306485A JP 7147991 A JP7147991 A JP 7147991A JP 7147991 A JP7147991 A JP 7147991A JP H04306485 A JPH04306485 A JP H04306485A
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- JP
- Japan
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- hearth
- circular
- furnace body
- ring
- firing
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Links
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 17
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 17
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
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- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Vertical, Hearth, Or Arc Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックコンデンサ
やセラミック圧電素子等のセラミック電子部品の製造に
使用されるバッチ式焼成炉に関する。
やセラミック圧電素子等のセラミック電子部品の製造に
使用されるバッチ式焼成炉に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、セラミックコンデンサやセラミ
ック圧電素子等のセラミック電子部品の製造には、トン
ネル状の炉体を有する連続焼成炉や、バッチ式焼成炉が
使用されている。
ック圧電素子等のセラミック電子部品の製造には、トン
ネル状の炉体を有する連続焼成炉や、バッチ式焼成炉が
使用されている。
【0003】一度に、多量のセラミック電子部品を製造
する際には、主として、トンネル状の炉体を有する連続
焼成炉が使用されている。しかし、この種の連続焼成炉
では、トンネル状の炉体がその入口側および出口側にて
開口しているので、炉体内部の雰囲気の制御が困難で、
雰囲気の自由度がない等、セラミック製品の焼成には多
くの制約がある。
する際には、主として、トンネル状の炉体を有する連続
焼成炉が使用されている。しかし、この種の連続焼成炉
では、トンネル状の炉体がその入口側および出口側にて
開口しているので、炉体内部の雰囲気の制御が困難で、
雰囲気の自由度がない等、セラミック製品の焼成には多
くの制約がある。
【0004】このため、従来より、雰囲気の自由度を得
るための焼成炉としては、内部に閉じた焼成空間を有し
、雰囲気制御が容易に行なえるバッチ式焼成炉が使用さ
れている。
るための焼成炉としては、内部に閉じた焼成空間を有し
、雰囲気制御が容易に行なえるバッチ式焼成炉が使用さ
れている。
【0005】従来のこの種のバッチ式焼成炉を図3およ
び図4に示す。図3および図4に示すバッチ式焼成炉1
は、いわゆる炉床昇降式のもので、直方体形状を有する
炉体2の下部に設けられた下部開口3に嵌合する炉床4
を有する。この炉床4は、油圧あるいはスクリユジャッ
キ等により駆動される昇降装置(図示せず。)により、
炉体2の上記下部開口3に対して矢印A1で示すように
上下に昇降する。この炉床4の上には、炉体2の上記下
部開口3に嵌合した嵌合位置から炉床4が炉体2の下方
に一定量降下した位置にて、被焼成物を収容した匣が多
段に積み重ねられて匣組5,5,…が構成される。これ
ら匣組5,5,…は、炉床4が上方に昇降装置により上
方に駆動され、炉体2の下部開口3に嵌合することによ
り、炉体2の内部に装填される。
び図4に示す。図3および図4に示すバッチ式焼成炉1
は、いわゆる炉床昇降式のもので、直方体形状を有する
炉体2の下部に設けられた下部開口3に嵌合する炉床4
を有する。この炉床4は、油圧あるいはスクリユジャッ
キ等により駆動される昇降装置(図示せず。)により、
炉体2の上記下部開口3に対して矢印A1で示すように
上下に昇降する。この炉床4の上には、炉体2の上記下
部開口3に嵌合した嵌合位置から炉床4が炉体2の下方
に一定量降下した位置にて、被焼成物を収容した匣が多
段に積み重ねられて匣組5,5,…が構成される。これ
ら匣組5,5,…は、炉床4が上方に昇降装置により上
方に駆動され、炉体2の下部開口3に嵌合することによ
り、炉体2の内部に装填される。
【0006】上記炉体2の内部には、炭化ケイ素(Si
C)等の棒状のヒータ6,6,…、図示しない雰囲気ガ
スの供給管および排気ガスの排出管が配置される。上記
ヒータ6,6,…は炉体の対向する側壁を貫通するとと
もに、匣組5,5,…と各炉体内壁との間にて、上記匣
組5,5,…を取り囲むように、井桁状に配置される。 また、上記雰囲気供給管および排気ガス排出管は、上記
炉体2の天井部から炉体2の内壁に沿い炉床に向かって
垂下して取り付けられる。
C)等の棒状のヒータ6,6,…、図示しない雰囲気ガ
スの供給管および排気ガスの排出管が配置される。上記
ヒータ6,6,…は炉体の対向する側壁を貫通するとと
もに、匣組5,5,…と各炉体内壁との間にて、上記匣
組5,5,…を取り囲むように、井桁状に配置される。 また、上記雰囲気供給管および排気ガス排出管は、上記
炉体2の天井部から炉体2の内壁に沿い炉床に向かって
垂下して取り付けられる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記図3お
よび図4において説明したバッチ式焼成炉1では、1回
の焼成サイクル当りにできるだけ多くの製品の焼成を行
なおうとすると、炉床4の上には多くの匣組5,5,…
を載置して焼成を行なう必要がある。しかし、このよう
にすると、匣組5,5,…にヒータ6,6,…や雰囲気
ガス供給管からの距離が近いものと遠いものとが生じ、
すべての被焼成物について、等しい焼成条件で焼成する
ことが困難で、均一な電気的特性を有するセラミック電
子部品を製造することが困難であるという問題があった
。
よび図4において説明したバッチ式焼成炉1では、1回
の焼成サイクル当りにできるだけ多くの製品の焼成を行
なおうとすると、炉床4の上には多くの匣組5,5,…
を載置して焼成を行なう必要がある。しかし、このよう
にすると、匣組5,5,…にヒータ6,6,…や雰囲気
ガス供給管からの距離が近いものと遠いものとが生じ、
すべての被焼成物について、等しい焼成条件で焼成する
ことが困難で、均一な電気的特性を有するセラミック電
子部品を製造することが困難であるという問題があった
。
【0008】このような問題を解消するため、図3およ
び図4において説明したバッチ式焼成炉1において、図
5および図6に示すように、回転炉床4aを使用すると
ともに、回転炉床4aを矢印A2で示すように回転させ
つつ各匣組5を構成する匣内の被焼成物を焼成し、各匣
組5の匣内に収容されている被焼成物が均一に熱および
雰囲気ガスを供給するようにしたバッチ式焼成炉も周知
である(たとえば、特開平1−291092号公報参照
)。
び図4において説明したバッチ式焼成炉1において、図
5および図6に示すように、回転炉床4aを使用すると
ともに、回転炉床4aを矢印A2で示すように回転させ
つつ各匣組5を構成する匣内の被焼成物を焼成し、各匣
組5の匣内に収容されている被焼成物が均一に熱および
雰囲気ガスを供給するようにしたバッチ式焼成炉も周知
である(たとえば、特開平1−291092号公報参照
)。
【0009】しかし、上記のように回転炉床を有するバ
ッチ式焼成炉7では、図3および図4において説明した
バッチ式焼成炉1に比較して、各被焼成物の焼成条件が
ほぼ等しくなり、製品の特性のばらつきは小さくなる。 しかし、1焼成サイクル当りにできるだけ多くの製品の
焼成を行なおうとすると、回転炉床4aの上に多くの匣
組5,5,…を載置して焼成しなければならず、回転炉
床4aの回転中心部分にある匣組5,5,…とその外側
にある匣組5,5,…とでは、ヒータ6,6,…や雰囲
気ガス供給管からの距離が大きく異なる。したがって、
図4および図5のような構成を有する回転炉床4aを有
するバッチ式焼成炉7においても、1焼成サイクル当り
に多くの製品を焼成しようとすると、すべての被焼成物
について、等しい焼成条件で焼成することが困難で、均
一な電気的特性を有するセラミック電子部品を製造する
ことが困難であるという問題があった。
ッチ式焼成炉7では、図3および図4において説明した
バッチ式焼成炉1に比較して、各被焼成物の焼成条件が
ほぼ等しくなり、製品の特性のばらつきは小さくなる。 しかし、1焼成サイクル当りにできるだけ多くの製品の
焼成を行なおうとすると、回転炉床4aの上に多くの匣
組5,5,…を載置して焼成しなければならず、回転炉
床4aの回転中心部分にある匣組5,5,…とその外側
にある匣組5,5,…とでは、ヒータ6,6,…や雰囲
気ガス供給管からの距離が大きく異なる。したがって、
図4および図5のような構成を有する回転炉床4aを有
するバッチ式焼成炉7においても、1焼成サイクル当り
に多くの製品を焼成しようとすると、すべての被焼成物
について、等しい焼成条件で焼成することが困難で、均
一な電気的特性を有するセラミック電子部品を製造する
ことが困難であるという問題があった。
【0010】本発明の目的は、1焼成サイクル当たりに
均一な電気的特性を有する大量のセラミック電子部品を
製造することができるバッチ式焼成炉を提供することで
ある。
均一な電気的特性を有する大量のセラミック電子部品を
製造することができるバッチ式焼成炉を提供することで
ある。
【0011】
【課題を解決するための手段】このため、本発明は、内
部に被焼成物を焼成するための閉じた焼成空間を有する
炉体の下部に形成された円形開口に炉床が嵌合して回転
し、炉床上に載置された被焼成物が上記焼成空間内で回
転しつつ焼成されるバッチ式焼成炉であって、上記炉床
は炉体下部の円形開口の中心を通る軸のまわりに回転す
る円形炉床と、この円形炉床に外嵌するとともに炉体の
上記円形炉床に内嵌するリング炉床とからなっており、
上記円形炉床とリング炉床とを上記軸のまわりに互いに
逆向きに回転駆動させる回転駆動機構と、円形炉床上に
載置された被焼成物の回転領域の内側、円形炉床上に載
置された被焼成物の回転領域とリング炉床上に載置され
た被焼成物の回転領域との間およびリング炉床上に載置
された被焼成物の回転領域の外側に上記炉体の天井部か
らそれぞれ垂下する、ヒータと、雰囲気供給管と、排気
ガス排出管とを備えたことを特徴とするバッチ式焼成炉
を提供するものである。
部に被焼成物を焼成するための閉じた焼成空間を有する
炉体の下部に形成された円形開口に炉床が嵌合して回転
し、炉床上に載置された被焼成物が上記焼成空間内で回
転しつつ焼成されるバッチ式焼成炉であって、上記炉床
は炉体下部の円形開口の中心を通る軸のまわりに回転す
る円形炉床と、この円形炉床に外嵌するとともに炉体の
上記円形炉床に内嵌するリング炉床とからなっており、
上記円形炉床とリング炉床とを上記軸のまわりに互いに
逆向きに回転駆動させる回転駆動機構と、円形炉床上に
載置された被焼成物の回転領域の内側、円形炉床上に載
置された被焼成物の回転領域とリング炉床上に載置され
た被焼成物の回転領域との間およびリング炉床上に載置
された被焼成物の回転領域の外側に上記炉体の天井部か
らそれぞれ垂下する、ヒータと、雰囲気供給管と、排気
ガス排出管とを備えたことを特徴とするバッチ式焼成炉
を提供するものである。
【0012】
【作用】上記円形炉床上に載置された匣組は一つの方向
に回転しつつ、炉体の中心側および回転炉床の外側の両
側から熱および雰囲気ガスが供給されて焼成される。ま
た、リング炉床の上に載置された匣組は、上記円形炉床
の回転の方向とは逆向きに回転しつつ、リング炉床の内
側および外側の両側から熱および雰囲気ガスが供給され
て焼成される。
に回転しつつ、炉体の中心側および回転炉床の外側の両
側から熱および雰囲気ガスが供給されて焼成される。ま
た、リング炉床の上に載置された匣組は、上記円形炉床
の回転の方向とは逆向きに回転しつつ、リング炉床の内
側および外側の両側から熱および雰囲気ガスが供給され
て焼成される。
【0013】
【発明の効果】本発明によれば、円形炉床上に載置され
た匣組およびリング炉床上に配置された匣組は、その両
側から熱および雰囲気ガスがそれぞれ供給されるととも
に、互いに逆向きに回転するので、各匣組を構成する匣
に収容されている各被焼成物には、均一に熱および雰囲
気ガスが供給され、均一な電気的特性を有するセラミッ
ク電子部品を得ることができ、しかも、円形炉床および
リング炉床により、1焼成サイクル当たりに大量にセラ
ミック製品を製造することができる。
た匣組およびリング炉床上に配置された匣組は、その両
側から熱および雰囲気ガスがそれぞれ供給されるととも
に、互いに逆向きに回転するので、各匣組を構成する匣
に収容されている各被焼成物には、均一に熱および雰囲
気ガスが供給され、均一な電気的特性を有するセラミッ
ク電子部品を得ることができ、しかも、円形炉床および
リング炉床により、1焼成サイクル当たりに大量にセラ
ミック製品を製造することができる。
【0014】
【実施例】以下に、添付の図面を参照して本発明の実施
例を説明する。本発明に係るバッチ式焼成炉の一実施例
の構成を図1および図2に示す
例を説明する。本発明に係るバッチ式焼成炉の一実施例
の構成を図1および図2に示す
【0015】図1および図2に示すバッチ式焼成炉11
は、内部に被焼成物を焼成するための閉じた焼成空間を
有する炉体12、円形炉床13、リング炉床14、これ
ら円形炉床13およびリング炉床14を回転させる回転
駆動機構15、炉体12内部に装入された匣組を構成し
ている各匣内に収容されている被焼成物を焼成するヒー
タ17,17,…、被焼成物に雰囲気ガスを供給する雰
囲気ガス供給管18(図示せず。)および被焼成物の焼
成の過程で発生する排気ガスを炉体12外に排出する排
気ガス排出管19(図示せず。)から構成される。
は、内部に被焼成物を焼成するための閉じた焼成空間を
有する炉体12、円形炉床13、リング炉床14、これ
ら円形炉床13およびリング炉床14を回転させる回転
駆動機構15、炉体12内部に装入された匣組を構成し
ている各匣内に収容されている被焼成物を焼成するヒー
タ17,17,…、被焼成物に雰囲気ガスを供給する雰
囲気ガス供給管18(図示せず。)および被焼成物の焼
成の過程で発生する排気ガスを炉体12外に排出する排
気ガス排出管19(図示せず。)から構成される。
【0016】上記円形炉床13は、その中心と軸が合致
する支持軸21の先端に固定され、炉体12の下部に形
成された円形開口22の中心を通る軸のまわりに回転可
能に支持される。また、上記リング炉床14は、円形炉
床13に外嵌するとともに炉体12の上記円形炉床13
に内嵌し、次に説明する回転駆動機構15により、上記
炉体12の下部の円形開口22内で回転可能に支持され
る。
する支持軸21の先端に固定され、炉体12の下部に形
成された円形開口22の中心を通る軸のまわりに回転可
能に支持される。また、上記リング炉床14は、円形炉
床13に外嵌するとともに炉体12の上記円形炉床13
に内嵌し、次に説明する回転駆動機構15により、上記
炉体12の下部の円形開口22内で回転可能に支持され
る。
【0017】上記円形炉床13およびリング炉床14を
回転駆動する回転駆動機構15は、円形炉床13を支持
する上記支持軸21に外嵌して固定された駆動ギヤ23
と、上記リング炉床14を下から支持する支持部材24
が上に固定されるリング状の回転支持ギヤ25と、この
回転支持ギヤ25の下面に取り付けられたロラー取付部
材26により回転自在に取り付けられたロラーRが転動
して上記回転支持ギヤ25を支持するロラー転動部材2
7と、上記回転支持ギヤ25の内面に刻まれた歯25a
と上記駆動ギヤ23の歯23aとに噛合する中間ギヤ2
8からなる。
回転駆動する回転駆動機構15は、円形炉床13を支持
する上記支持軸21に外嵌して固定された駆動ギヤ23
と、上記リング炉床14を下から支持する支持部材24
が上に固定されるリング状の回転支持ギヤ25と、この
回転支持ギヤ25の下面に取り付けられたロラー取付部
材26により回転自在に取り付けられたロラーRが転動
して上記回転支持ギヤ25を支持するロラー転動部材2
7と、上記回転支持ギヤ25の内面に刻まれた歯25a
と上記駆動ギヤ23の歯23aとに噛合する中間ギヤ2
8からなる。
【0018】上記支持軸21は、図示しない駆動モータ
により、図1において、たとえば矢印A3で示す向きに
0.5rpmないし5rpmの回転速度で回転駆動され
る。上記支持軸21のこの回転により、支持軸21に外
嵌して固定されている上記駆動ギヤ23に噛合している
上記中間ギヤ28がいずれも矢印A4の向きに回転する
。これにより、上記中間ギヤ28に歯25aが噛合して
いる回転支持ギヤ25が、上記ロラーRに支持されて、
ロラー転動部材27の上を、上記支持軸21に支持され
て矢印A3の向きに回転する円形炉床13とは反対の矢
印A5(図2参照。)で示す向きに回転する。また、一
定時間ごとに炉床13およびリング炉床14を正逆を交
互に繰返すとより効果的となる。
により、図1において、たとえば矢印A3で示す向きに
0.5rpmないし5rpmの回転速度で回転駆動され
る。上記支持軸21のこの回転により、支持軸21に外
嵌して固定されている上記駆動ギヤ23に噛合している
上記中間ギヤ28がいずれも矢印A4の向きに回転する
。これにより、上記中間ギヤ28に歯25aが噛合して
いる回転支持ギヤ25が、上記ロラーRに支持されて、
ロラー転動部材27の上を、上記支持軸21に支持され
て矢印A3の向きに回転する円形炉床13とは反対の矢
印A5(図2参照。)で示す向きに回転する。また、一
定時間ごとに炉床13およびリング炉床14を正逆を交
互に繰返すとより効果的となる。
【0019】以上に説明した円形炉床13、リング炉床
14およびその回転駆動機構15の全体は、油圧式もし
くはスクリユジャッキ式等の図示しない昇降機構により
、上記炉体12の下部の円形開口22に対して昇降する
。
14およびその回転駆動機構15の全体は、油圧式もし
くはスクリユジャッキ式等の図示しない昇降機構により
、上記炉体12の下部の円形開口22に対して昇降する
。
【0020】一方、上記ヒータ17,17,…は、U状
に形成された炭化ケイ素製もしくは金属製のものである
。上記ヒータ17,17,…は、上記炉体12の天井部
12aから、円形炉床13の上に載置された匣組16,
16,…の回転領域の内側、円形炉床13上に載置され
た匣組16,16,…の回転領域とリング炉床14上に
載置された匣組16,16,…の回転領域との間および
リング炉床14上に載置された匣組16,16,…の回
転領域の外側にそれぞれ垂下して固定されている。 上記ヒータ17,17,…は、匣組16,16,…の焼
成の昇温、高温保持および降温の温度プロファイルにし
たがって、温度が制御される。
に形成された炭化ケイ素製もしくは金属製のものである
。上記ヒータ17,17,…は、上記炉体12の天井部
12aから、円形炉床13の上に載置された匣組16,
16,…の回転領域の内側、円形炉床13上に載置され
た匣組16,16,…の回転領域とリング炉床14上に
載置された匣組16,16,…の回転領域との間および
リング炉床14上に載置された匣組16,16,…の回
転領域の外側にそれぞれ垂下して固定されている。 上記ヒータ17,17,…は、匣組16,16,…の焼
成の昇温、高温保持および降温の温度プロファイルにし
たがって、温度が制御される。
【0021】また、上記雰囲気供給管18,18,…お
よび排気ガス排出管19,19,…は、いずれも炉体1
2の天井部12aから、円形炉床13上に載置された匣
組16,16,…の回転領域の内側、円形炉床13上に
載置された匣組16,16,…の回転領域とリング炉床
14上に載置された匣組16,16,…の回転領域との
間およびリング炉床14上に載置された匣組16,16
,…の回転領域の外側にそれぞれ垂下して固定されてい
る。上記各雰囲気供給管18および各排気ガス排出管1
9は、セラミックもしくは耐熱金属からなるもので、具
体的に図示しないが、その側面に、上記温度プロファイ
ルとともにプログラミングされた0.3mmφないし3
mmφの雰囲気ガスの噴出口および排気ガスの排出口を
有する。
よび排気ガス排出管19,19,…は、いずれも炉体1
2の天井部12aから、円形炉床13上に載置された匣
組16,16,…の回転領域の内側、円形炉床13上に
載置された匣組16,16,…の回転領域とリング炉床
14上に載置された匣組16,16,…の回転領域との
間およびリング炉床14上に載置された匣組16,16
,…の回転領域の外側にそれぞれ垂下して固定されてい
る。上記各雰囲気供給管18および各排気ガス排出管1
9は、セラミックもしくは耐熱金属からなるもので、具
体的に図示しないが、その側面に、上記温度プロファイ
ルとともにプログラミングされた0.3mmφないし3
mmφの雰囲気ガスの噴出口および排気ガスの排出口を
有する。
【0022】上記円形炉床13およびリング炉床14の
上に載置される匣組16,16,…の載置領域の径方向
の幅はたとえば400mm程度、高さはたとえば500
mm以下に設定され、また、ヒータ17,17,…と匣
組16,16,…との間隔はたとえば30mmないし5
0mm程度に設定される。
上に載置される匣組16,16,…の載置領域の径方向
の幅はたとえば400mm程度、高さはたとえば500
mm以下に設定され、また、ヒータ17,17,…と匣
組16,16,…との間隔はたとえば30mmないし5
0mm程度に設定される。
【0023】このような構成において、支持軸21が図
示しない電動モータにより、矢印A3で示す向きに駆動
されると、上記円形炉床13に載置された匣組16,1
6,…は矢印A3の方向に回転しつつ、炉体12の中心
側および円形炉床13の外側の両側から熱および雰囲気
ガスが供給されて焼成される。また、既に説明した回転
駆動機構15の作用により、リング炉床14の上に載置
された匣組16,16,…は、上記円形炉床13の回転
の方向とは逆向きに回転しつつ、リング炉床14の内側
および外側の両側から熱および雰囲気ガスが供給されて
焼成される。
示しない電動モータにより、矢印A3で示す向きに駆動
されると、上記円形炉床13に載置された匣組16,1
6,…は矢印A3の方向に回転しつつ、炉体12の中心
側および円形炉床13の外側の両側から熱および雰囲気
ガスが供給されて焼成される。また、既に説明した回転
駆動機構15の作用により、リング炉床14の上に載置
された匣組16,16,…は、上記円形炉床13の回転
の方向とは逆向きに回転しつつ、リング炉床14の内側
および外側の両側から熱および雰囲気ガスが供給されて
焼成される。
【0024】したがって、各匣組16,16,…を構成
する匣に収容されている各被焼成物には、均一に熱およ
び雰囲気ガスが供給され、均一な電気的特性を有するセ
ラミック電子部品を得ることができる。しかも、上記円
形炉床13およびリング炉床14の上に匣組16,16
,…を載置することにより、一度に炉体12内に多くの
匣組16を収容することができる。これにより、1焼成
サイクル当たりに大量にセラミック製品を焼成すること
ができる。
する匣に収容されている各被焼成物には、均一に熱およ
び雰囲気ガスが供給され、均一な電気的特性を有するセ
ラミック電子部品を得ることができる。しかも、上記円
形炉床13およびリング炉床14の上に匣組16,16
,…を載置することにより、一度に炉体12内に多くの
匣組16を収容することができる。これにより、1焼成
サイクル当たりに大量にセラミック製品を焼成すること
ができる。
【図1】本発明に係るバッチ式焼成炉の一実施例の縦断
面図である。
面図である。
【図2】図1のバッチ式焼成炉の横断面図である。
【図3】従来の一つのバッチ式焼成炉の縦断面図である
。
。
【図4】図3のバッチ式焼成炉の横断面図である。
【図5】従来のいま一つのバッチ式焼成炉の縦断面図で
ある。
ある。
【図6】図5のバッチ式焼成炉の横断面図である。
11 バッチ式焼成炉
12 炉体
13 円形炉床
14 リング炉床
15 回転駆動機構
16 匣組
17 ヒータ
18 雰囲気ガス供給管
19 排気ガス排出管
21 支持軸
22 円形開口
23 駆動ギヤ
24 支持部材
25 回転支持ギヤ
28 中間ギヤ
Claims (1)
- 【請求項1】 内部に被焼成物を焼成するための閉じ
た焼成空間を有する炉体の下部に形成された円形開口に
炉床が嵌合して回転し、炉床上に載置された被焼成物が
上記焼成空間内で回転しつつ焼成されるバッチ式焼成炉
であって、上記炉床は炉体下部の円形開口の中心を通る
軸のまわりに回転する円形炉床と、この円形炉床に外嵌
するとともに炉体の上記円形炉床に内嵌するリング炉床
とからなっており、上記円形炉床とリング炉床とを上記
軸のまわりに互いに逆向きに回転駆動させる回転駆動機
構と、円形炉床上に載置された被焼成物の回転領域の内
側、円形炉床上に載置された被焼成物の回転領域とリン
グ炉床上に載置された被焼成物の回転領域との間および
リング炉床上に載置された被焼成物の回転領域の外側に
上記炉体の天井部からそれぞれ垂下する、ヒータと、雰
囲気供給管と、排気ガス排出管とを備えたことを特徴と
するバッチ式焼成炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7147991A JPH04306485A (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | バッチ式焼成炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7147991A JPH04306485A (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | バッチ式焼成炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04306485A true JPH04306485A (ja) | 1992-10-29 |
Family
ID=13461814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7147991A Pending JPH04306485A (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | バッチ式焼成炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04306485A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005077001A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Oppc Co Ltd | バッチ式熱処理装置 |
JP2012177502A (ja) * | 2011-02-25 | 2012-09-13 | Murata Mfg Co Ltd | 熱処理装置 |
-
1991
- 1991-04-04 JP JP7147991A patent/JPH04306485A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005077001A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Oppc Co Ltd | バッチ式熱処理装置 |
JP2012177502A (ja) * | 2011-02-25 | 2012-09-13 | Murata Mfg Co Ltd | 熱処理装置 |
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