JPH0430607A - 周波数選択反射鏡の製造方法 - Google Patents
周波数選択反射鏡の製造方法Info
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- JPH0430607A JPH0430607A JP13496490A JP13496490A JPH0430607A JP H0430607 A JPH0430607 A JP H0430607A JP 13496490 A JP13496490 A JP 13496490A JP 13496490 A JP13496490 A JP 13496490A JP H0430607 A JPH0430607 A JP H0430607A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、２つの所定周波数帯Ｆ、、Ｆ２（Ｆ、＞Ｆ
２）の電波のうち、周波数帯Ｆ、の電波を反射すると共
に、周波数帯Ｆ２の電波を透過する周波数選択反射鏡に
関するものである。
２）の電波のうち、周波数帯Ｆ、の電波を反射すると共
に、周波数帯Ｆ２の電波を透過する周波数選択反射鏡に
関するものである。
［従来の技術］
第１１図は、例えば、Ｖ、Ｄ、Ａｇｒａｗａｌ ａｎｄ
Ｗ、Ａｌｌｌ１ｂｒｉａｌｅ−“Ｄｅｓｉｇｎ ｏｒ
ａ Ｄｉｃｈｒｏｉｃ Ｃａｓｓｅｇｒａｉｎ ５ｕ
ｂｒｅｆｌｅｃｔｏｒ” ＩＥＥＥ ＴＲＡＮＳＡＣＴ
ＩＯＮＳ ＯＮ ＡＮＴＥＮＮＡＳ ＡＮＤＰＲＯＰＡ
ＧＡＴ ＩＯＮ 、 ＶＯＬ、 ＡＰ−２７、ＮＯ，４
、Ｊ ＵＬＹ１９７９ 、 ｐｐ、 ４６６−４７３
に示された従来の周波数選択反射鏡（１）を示す図で
、平板状の誘電体（２）上には金属箔からなる共振素子
（３）が周期的に千鳥状に配置されてお（ｒ、共振素子
（３）は所定周波数帯Ｆ１で共振するようにその形状、
寸法、配置周期Ｄｘ。
Ｗ、Ａｌｌｌ１ｂｒｉａｌｅ−“Ｄｅｓｉｇｎ ｏｒ
ａ Ｄｉｃｈｒｏｉｃ Ｃａｓｓｅｇｒａｉｎ ５ｕ
ｂｒｅｆｌｅｃｔｏｒ” ＩＥＥＥ ＴＲＡＮＳＡＣＴ
ＩＯＮＳ ＯＮ ＡＮＴＥＮＮＡＳ ＡＮＤＰＲＯＰＡ
ＧＡＴ ＩＯＮ 、 ＶＯＬ、 ＡＰ−２７、ＮＯ，４
、Ｊ ＵＬＹ１９７９ 、 ｐｐ、 ４６６−４７３
に示された従来の周波数選択反射鏡（１）を示す図で
、平板状の誘電体（２）上には金属箔からなる共振素子
（３）が周期的に千鳥状に配置されてお（ｒ、共振素子
（３）は所定周波数帯Ｆ１で共振するようにその形状、
寸法、配置周期Ｄｘ。
Ｄｙが決められている。
なお、共振素子（３）を、四角形状または２等辺３角形
以外の３角形状に配置しても良い（第１２図参照）。
以外の３角形状に配置しても良い（第１２図参照）。
また、周波数選択反射鏡（１）を曲面状にする場合、平
板状の周波数選択反射鏡（１）を曲面の成形型の上に乗
せ、真空引きをしながら平板状の周波数選択反射鏡（１
）に熱を加えることによ（ｒ、所望の曲面に成形する。
板状の周波数選択反射鏡（１）を曲面の成形型の上に乗
せ、真空引きをしながら平板状の周波数選択反射鏡（１
）に熱を加えることによ（ｒ、所望の曲面に成形する。
次に動作について説明する。
共振周波数帯Ｆ１の電波が入射した場合、共振素子（３
）は共振し、共振素子（３）上には電流が流れ、共振素
子（３）は反射方向と透過方向とへ電波を再放射する。
）は共振し、共振素子（３）上には電流が流れ、共振素
子（３）は反射方向と透過方向とへ電波を再放射する。
この際、透過方向へ再放射された電波は入射波と打ち消
しあい、反射方向に再放射された電波だけが残る。
しあい、反射方向に再放射された電波だけが残る。
また、周波数帯Ｆ、以外の電波、例えば周波数帯Ｆ２の
電波が入射した場合、共振素子（３）上には電流が流れ
ず、入射波はそのまま透過する。
電波が入射した場合、共振素子（３）上には電流が流れ
ず、入射波はそのまま透過する。
従って、２つの周波数帯Ｆｌ、Ｆ２の電波が入射した場
合、周波数帯Ｆ１の電波は周波数選択反射鏡によ・り反
射され、かつ周波数帯Ｆ２の電波は周波数選択反射鏡（
１）を透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波
数帯Ｆｌ、Ｆ２の電波を分波する。
合、周波数帯Ｆ１の電波は周波数選択反射鏡によ・り反
射され、かつ周波数帯Ｆ２の電波は周波数選択反射鏡（
１）を透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波
数帯Ｆｌ、Ｆ２の電波を分波する。
また、Ｃ，Ｃ，Ｃｈｅｎ、 ”Ｄｉｆ’ｆｒａｃｔｉ
ｏｎ ｏｆ Ｅｌｅｃｔｒｏａ＋ａｇｎｅｔｉｅ Ｗａ
ｖｅｓ ｂｙ ａ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇ ５ｃｒｅｅ
ｎ Ｐｅｒｆｏｒａｔｅｄ Ｐｅｒｉｏｄｉｃａｌｌｙ
ｗｉｔｈ Ｃ１ｒｃｕｌａｒ Ｈｏ１ｅｓ 、１Ｅ
ＥＥＴＲＡＮＳＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＩＣＲＯＷＡＶ
Ｅ ＴＨＥＯＲＹ ＡＮＤ ＴＥＣＨＮＩＱＵＥＳ、Ｖ
ＯＬ、ＭＴＴ−１９，ＮＯ，５，ＭＡＹ１９７１．ｐｐ
、４７５−４８１ ニハ、第１３図に示すように、平板
状の誘電体（２）上に穴（４）が周期的に配置された金
属箔（５）が接着されてお（ｒ、穴（４）は所定周波数
帯Ｆ１で共振するようにその形状、寸法、配置周期Ｄｘ
。
ｏｎ ｏｆ Ｅｌｅｃｔｒｏａ＋ａｇｎｅｔｉｅ Ｗａ
ｖｅｓ ｂｙ ａ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇ ５ｃｒｅｅ
ｎ Ｐｅｒｆｏｒａｔｅｄ Ｐｅｒｉｏｄｉｃａｌｌｙ
ｗｉｔｈ Ｃ１ｒｃｕｌａｒ Ｈｏ１ｅｓ 、１Ｅ
ＥＥＴＲＡＮＳＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＩＣＲＯＷＡＶ
Ｅ ＴＨＥＯＲＹ ＡＮＤ ＴＥＣＨＮＩＱＵＥＳ、Ｖ
ＯＬ、ＭＴＴ−１９，ＮＯ，５，ＭＡＹ１９７１．ｐｐ
、４７５−４８１ ニハ、第１３図に示すように、平板
状の誘電体（２）上に穴（４）が周期的に配置された金
属箔（５）が接着されてお（ｒ、穴（４）は所定周波数
帯Ｆ１で共振するようにその形状、寸法、配置周期Ｄｘ
。
Ｄｙが決められている。
なお、共振素子（３）を、四角形状または２等辺３角形
以外の３角形状に配置しても良い（第１２図参照）。
以外の３角形状に配置しても良い（第１２図参照）。
また、周波数選択反射鏡（１）を曲面状にする場合、平
板状の周波数選択反射鏡（１）を曲面の成形型の上に乗
せ、真空引きをしながら平板状の周波数選択反射鏡（１
）に熱を加えることによ（ｒ、所望の曲面に成形する。
板状の周波数選択反射鏡（１）を曲面の成形型の上に乗
せ、真空引きをしながら平板状の周波数選択反射鏡（１
）に熱を加えることによ（ｒ、所望の曲面に成形する。
次に動作について説明する。
共振周波数帯Ｆ１の電波か入射した場合、穴（４）は共
振し、これにより金属膜（５）上には電流が流れ、金属
膜（５）は反射方向と透過方向とへ電波を再放射する。
振し、これにより金属膜（５）上には電流が流れ、金属
膜（５）は反射方向と透過方向とへ電波を再放射する。
この際、透過方向へ再放射された電波は入射波と打ち消
しあい、反射方向に再放射された電波たけか残る。
しあい、反射方向に再放射された電波たけか残る。
また、周波数帯Ｆ１以外の電波、例えば周波数帯Ｆ２の
電波が入射した場合、穴（４）は共振せず、金属箔（５
）上には電流が流れず、入射波はそのまま透過する。
電波が入射した場合、穴（４）は共振せず、金属箔（５
）上には電流が流れず、入射波はそのまま透過する。
従って、２つの周波数帯Ｆ、、Ｆ２の電波か入射した場
合、周波数帯Ｆ１の電波は周波数選択反射鏡により反射
され、かつ周波数帯Ｆ２の電波は周波数選択反射鏡（１
）を透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波数
帯Ｆ、、Ｆ２の電波を分波する。
合、周波数帯Ｆ１の電波は周波数選択反射鏡により反射
され、かつ周波数帯Ｆ２の電波は周波数選択反射鏡（１
）を透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波数
帯Ｆ、、Ｆ２の電波を分波する。
〔発明か解決しようとする課題］
従来の曲面状の周波数選択反射鏡は、以上のように構成
されているので、曲面が可展面ではなく、かつ曲面の曲
率が小さい場合には、平板状の周波数選択反射鏡を曲面
に成形する過程で皺ができたり切れたりするという課題
があ（ｒ、また平板状の周波数選択反射鏡を引っ張って
延ばすため、共振素子の配列の周期または金属膜に開け
た穴の配列の周期か大きく変化し、所望の反射・透過特
性を満たすことかできないという課題かあった。
されているので、曲面が可展面ではなく、かつ曲面の曲
率が小さい場合には、平板状の周波数選択反射鏡を曲面
に成形する過程で皺ができたり切れたりするという課題
があ（ｒ、また平板状の周波数選択反射鏡を引っ張って
延ばすため、共振素子の配列の周期または金属膜に開け
た穴の配列の周期か大きく変化し、所望の反射・透過特
性を満たすことかできないという課題かあった。
この発明は、上記のような課題を解消するためになされ
たもので、共振素子または金属膜に開けた穴の配列周期
誤差の少ない曲面状の周波数選択反射鏡を得ることを目
的とする。
たもので、共振素子または金属膜に開けた穴の配列周期
誤差の少ない曲面状の周波数選択反射鏡を得ることを目
的とする。
［課題を解決するための手段］
この発明に係わる周波数選択反射鏡は、曲面状の誘電体
と、誘電体の面上に配置した金属箔よりなる複数の同一
形状の共振素子とにより構成され、予め平面上の直交ｘ
−ｙ−座標に定義した一定周期配列の共振素子の各位置
Ｐ−を極座標（ｒ、 θ）で表し、前記曲面状の誘電
体上に定点Ｏ及び定点０における接平面上に直交ＸＹ座
標を定め、定点０を始点としＸ軸からθの方向に接する
測地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、それぞれ共振
素子を配置したことを特徴とする。
と、誘電体の面上に配置した金属箔よりなる複数の同一
形状の共振素子とにより構成され、予め平面上の直交ｘ
−ｙ−座標に定義した一定周期配列の共振素子の各位置
Ｐ−を極座標（ｒ、 θ）で表し、前記曲面状の誘電
体上に定点Ｏ及び定点０における接平面上に直交ＸＹ座
標を定め、定点０を始点としＸ軸からθの方向に接する
測地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、それぞれ共振
素子を配置したことを特徴とする。
また、この発明に係わる周波数選択反射鏡は、曲面状の
誘電体と、誘電体の面上に接着された複数の同一形状の
穴が開設された金属膜とにより構成され、予め平面上の
直交Ｘ′Ｙ′座標に定義した一定周期配列の穴の各位置
Ｐ′を極座標（ｒ。
誘電体と、誘電体の面上に接着された複数の同一形状の
穴が開設された金属膜とにより構成され、予め平面上の
直交Ｘ′Ｙ′座標に定義した一定周期配列の穴の各位置
Ｐ′を極座標（ｒ。
θ）で表し、前記曲面状の誘電体上に定点Ｏ及び定点Ｏ
における接平面上に直交ＸＹ座標を定め、定点Ｏを始点
としＸ軸からθの方向に接する測地線上の定点Ｏからｒ
の距離の点Ｐに、それぞれ金属膜上に開設された穴を配
置したことを特徴とする。
における接平面上に直交ＸＹ座標を定め、定点Ｏを始点
としＸ軸からθの方向に接する測地線上の定点Ｏからｒ
の距離の点Ｐに、それぞれ金属膜上に開設された穴を配
置したことを特徴とする。
［作用］
この発明における周波数選択反射鏡は、予め平面上の直
交Ｘ′Ｙ′座標に定義した一定周期配列の共振素子の各
位置Ｐ″を極座標（ｒ、 θ）で表し、前記曲面状の
誘電体上の定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交Ｘ
Ｙ座標を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接
する測地線上の定点Ｏから「の距離の点Ｐに、前記共振
素子をそれぞれ配置することによ（ｒ、予め平面上に定
義した共振素子の配列を前記曲面状の誘電体上に定めた
測地線上に写像して、共振素子の配列周期誤差を少なく
する。
交Ｘ′Ｙ′座標に定義した一定周期配列の共振素子の各
位置Ｐ″を極座標（ｒ、 θ）で表し、前記曲面状の
誘電体上の定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交Ｘ
Ｙ座標を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接
する測地線上の定点Ｏから「の距離の点Ｐに、前記共振
素子をそれぞれ配置することによ（ｒ、予め平面上に定
義した共振素子の配列を前記曲面状の誘電体上に定めた
測地線上に写像して、共振素子の配列周期誤差を少なく
する。
また、この発明における周波数選択反射鏡は、予め平面
上の直交Ｘ−Ｙ″座標に定義した一定周期配列の穴の各
位置Ｐ′を極座標（「、θ）で表し、前記曲面状の誘電
体上の定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交ＸＹ座
標を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接する
測地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、前記穴をそれ
ぞれ配置することによ（ｒ、予め平面上に定義した穴の
配列を前記曲面状の誘電体上に定めた測地線上に写像し
て、穴の配列周期誤差を少なくする。
上の直交Ｘ−Ｙ″座標に定義した一定周期配列の穴の各
位置Ｐ′を極座標（「、θ）で表し、前記曲面状の誘電
体上の定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交ＸＹ座
標を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接する
測地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、前記穴をそれ
ぞれ配置することによ（ｒ、予め平面上に定義した穴の
配列を前記曲面状の誘電体上に定めた測地線上に写像し
て、穴の配列周期誤差を少なくする。
［実施例コ
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
請求項１の実施例
周波数選択反射鏡（１）は、第１図に示すように、誘電
体（２）は曲面状となってお（ｒ、誘電体（２５上には
金属箔からなる複数の共振素子（３）が配置されている
。
体（２）は曲面状となってお（ｒ、誘電体（２５上には
金属箔からなる複数の共振素子（３）が配置されている
。
例えば、誘電体（２）が平板状の場合は、第２図に示す
ように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点を
Ｏ゛とすると共に誘電体（２）の表面をＸ＝′Ｙ′平面
と定義すると、共振素子（３）はＸ−軸から時計方向へ
所定角度（θ）傾斜した直線である測地線（７）上の所
定距離（ｒ）により決まる配置位置くＰ゛）に配置され
てお（ｒ、この配置位置（Ｐ″）は第１１図において配
置周期Ｄｘ、Ｄｙで決まる配置位置と一致している。
ように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点を
Ｏ゛とすると共に誘電体（２）の表面をＸ＝′Ｙ′平面
と定義すると、共振素子（３）はＸ−軸から時計方向へ
所定角度（θ）傾斜した直線である測地線（７）上の所
定距離（ｒ）により決まる配置位置くＰ゛）に配置され
てお（ｒ、この配置位置（Ｐ″）は第１１図において配
置周期Ｄｘ、Ｄｙで決まる配置位置と一致している。
そして、誘電体（２）が曲面状の場合は、第３図に示す
ように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点を
０とし、点Ｏにおける法線と直行する平面を接平面（１
００）とすると共に接平面（１００）上にＸ−Ｙ座標を
定義すると、測地線（７）は点Ｏを始点としかつ点Ｏに
おいてＸ軸と所定角度（θ）をなす曲線となる。
ように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点を
０とし、点Ｏにおける法線と直行する平面を接平面（１
００）とすると共に接平面（１００）上にＸ−Ｙ座標を
定義すると、測地線（７）は点Ｏを始点としかつ点Ｏに
おいてＸ軸と所定角度（θ）をなす曲線となる。
更に、共振素子（３）の配置位置（Ｐ）は、測地線（７
）上の点Ｏからの所定距離（ｒ）の位置である。
）上の点Ｏからの所定距離（ｒ）の位置である。
また、配置位置（Ｐ）における法線と直交する接平面（
１０１）上に配置位置（Ｐ）における測地線（７）から
反時計方向に角度（θ）回転した方向をＸ″軸とするＸ
″−Ｙ″座標を定義すると、共振素子（３）の形状か回
転対称でない場合に、第３図に示すように共振素子（３
）のＸ’ −Ｙ’座標に対する向きと、第２図に示した
共振素子（３）のｘ−−ｙ”座標に対する向きと一致し
ている。
１０１）上に配置位置（Ｐ）における測地線（７）から
反時計方向に角度（θ）回転した方向をＸ″軸とするＸ
″−Ｙ″座標を定義すると、共振素子（３）の形状か回
転対称でない場合に、第３図に示すように共振素子（３
）のＸ’ −Ｙ’座標に対する向きと、第２図に示した
共振素子（３）のｘ−−ｙ”座標に対する向きと一致し
ている。
ついで、本実施例の作用について説明する。
共振周波数帯Ｆ１の電波か入射した場合、共振素子（３
）は共振し、共振素子（３）上には電流が流れ、共振素
子（３）は反射方向と透過方向とへ電波を再放射する。
）は共振し、共振素子（３）上には電流が流れ、共振素
子（３）は反射方向と透過方向とへ電波を再放射する。
この際、透過方向へ再放射された電波は入射波と打ち消
しあい、反射方向に再放射された電波だけが残る。
しあい、反射方向に再放射された電波だけが残る。
また、周波数帯Ｆ、以外の電波、例えば周波数帯Ｆ２の
電波が入射した場合、共振素子（３）上には電流が流れ
ず、入射波はそのまま透過する。
電波が入射した場合、共振素子（３）上には電流が流れ
ず、入射波はそのまま透過する。
従って、２つの周波数帯Ｆ、、Ｆ２の電波か入射した場
合、周波数帯Ｆ１の電波は周波数選択反射鏡により反射
され、かつ周波数帯Ｆ２の電波は周波数選択反射鏡（１
）を透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波数
帯Ｆ、、Ｆ２の電波を分波する。
合、周波数帯Ｆ１の電波は周波数選択反射鏡により反射
され、かつ周波数帯Ｆ２の電波は周波数選択反射鏡（１
）を透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波数
帯Ｆ、、Ｆ２の電波を分波する。
なお、上述実施例においては、金属箔よりなる共振素子
（３）をクロスダイポール形に成形したが、これに限ら
ず、第４図に示すように、矩形、円形、リング、二重リ
ング、エルサレムクロス等に成形しても同様の効果を奏
する。
（３）をクロスダイポール形に成形したが、これに限ら
ず、第４図に示すように、矩形、円形、リング、二重リ
ング、エルサレムクロス等に成形しても同様の効果を奏
する。
更に、第５図に示すように、複数の誘電体（２）からな
る周波数選択反射鏡（１）の誘電体（２）間を、低損失
かつ低誘電率の誘電材からなるスペーサ（１１）により
充填すると、スペーサ（１１）の厚さを適当に選ぶこと
によって、共振素子（３）固有の周波数帯Ｆ１以外にも
共振させることか可能で、反射周波数帯域を広帯域にで
きる。
る周波数選択反射鏡（１）の誘電体（２）間を、低損失
かつ低誘電率の誘電材からなるスペーサ（１１）により
充填すると、スペーサ（１１）の厚さを適当に選ぶこと
によって、共振素子（３）固有の周波数帯Ｆ１以外にも
共振させることか可能で、反射周波数帯域を広帯域にで
きる。
請求項２の実施例
周波数選択反射鏡（１）は、第６図に示すように、誘電
体（２）は曲面状となってお（ｒ、誘電体（２）上には
複数の穴（４）が開けられた金属膜（５）が接着されて
いる。
体（２）は曲面状となってお（ｒ、誘電体（２）上には
複数の穴（４）が開けられた金属膜（５）が接着されて
いる。
例えば、誘電体（２）が平板状の場合は、第７図に示す
ように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点を
〇二とすると共に誘電体（２）の表面をｘ−−ｙ−平面
と定義すると、穴（４）はＸ′軸から時計方向へ所定角
度（θ）傾斜した直線である測地線（７）上の所定距離
（ｒ）により決まる配置位置（Ｐ″）に配置されてお（
ｒ、この配置位置（Ｐ′）は第１３図において配置周期
Ｄｘ、Ｄｙで決まる配置位置と一致している。
ように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点を
〇二とすると共に誘電体（２）の表面をｘ−−ｙ−平面
と定義すると、穴（４）はＸ′軸から時計方向へ所定角
度（θ）傾斜した直線である測地線（７）上の所定距離
（ｒ）により決まる配置位置（Ｐ″）に配置されてお（
ｒ、この配置位置（Ｐ′）は第１３図において配置周期
Ｄｘ、Ｄｙで決まる配置位置と一致している。
そして、誘電体（２）が曲面状の場合は、第８図に示す
ように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点を
Ｏとし、点０における法線と直行する平面を接平面（１
００）とすると共に接平面（１００）上にＸ−Ｙ座標を
定義すると、測地線（７）は点Ｏを始点としかつ点Ｏに
おいてＸ軸と所定角度（θ）をなす曲線となる。
ように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点を
Ｏとし、点０における法線と直行する平面を接平面（１
００）とすると共に接平面（１００）上にＸ−Ｙ座標を
定義すると、測地線（７）は点Ｏを始点としかつ点Ｏに
おいてＸ軸と所定角度（θ）をなす曲線となる。
更に、穴（４）の配置位置（Ｐ）は、測地線（７）上の
点Ｏから所定距離Ｄ）の位置である。
点Ｏから所定距離Ｄ）の位置である。
また、配置位置（Ｐ）における法線と直交する接平面（
１０１）上に配置位置（Ｐ）における測地線（７）から
反時計方向に角度（θ）回転した方向をＸ″軸とするＸ
’−Ｙ’座標を定義すると、穴（４）の形状が回転対称
でない場合に、第３図に示すように穴（４）のＸ″−Ｙ
′座標に対する向きと、第２図に示した穴（４）のＸ″
′Ｙ′座標に対する向きと一致している。
１０１）上に配置位置（Ｐ）における測地線（７）から
反時計方向に角度（θ）回転した方向をＸ″軸とするＸ
’−Ｙ’座標を定義すると、穴（４）の形状が回転対称
でない場合に、第３図に示すように穴（４）のＸ″−Ｙ
′座標に対する向きと、第２図に示した穴（４）のＸ″
′Ｙ′座標に対する向きと一致している。
ついて、本実施例の作用について説明する。
共振周波数帯Ｆ１の電波が入射した場合、穴（４）は共
振し、金属膜（５）上には電流が流れ、金属膜（５）は
反射方向と透過方向とへ電波を再放射する。
振し、金属膜（５）上には電流が流れ、金属膜（５）は
反射方向と透過方向とへ電波を再放射する。
この際、透過方向へ再放射された電波は入射波と打ち消
しあい、反射方向に再放射された電波たけが残る。
しあい、反射方向に再放射された電波たけが残る。
また、周波数帯Ｆ１以外の電波、例えば周波数帯Ｆ２の
電波が入射した場合、金属膜（５）上には電流が流れず
、入射波はそのまま透過する。
電波が入射した場合、金属膜（５）上には電流が流れず
、入射波はそのまま透過する。
従って、２つの周波数帯Ｆ、、Ｆ２の電波か入射した場
合、周波数帯Ｆ、の電波は周波数選択反射鏡により反射
され、かつ周波数帯Ｆ２の電波は周波数選択反射鏡（１
）を透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波数
帯Ｆ、、Ｆ２の電波を分波する。
合、周波数帯Ｆ、の電波は周波数選択反射鏡により反射
され、かつ周波数帯Ｆ２の電波は周波数選択反射鏡（１
）を透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波数
帯Ｆ、、Ｆ２の電波を分波する。
なお、上述実施例においては、穴（４）を円形に成形し
たが、これに限らず、第９図に示すように、矩形、クロ
スダイポール１、リング、二重リング、エルサレムクロ
ス等に成形しても同様の効果を奏する。
たが、これに限らず、第９図に示すように、矩形、クロ
スダイポール１、リング、二重リング、エルサレムクロ
ス等に成形しても同様の効果を奏する。
更に、第１０図に示すように、複数の誘電体（２）から
なる周波数選択反射鏡（１）の誘電体（２）間を、低損
失かつ低誘電率の誘電材からなるスペーサ（１１）によ
り充填すると、スペーサ（１１）の厚さを適当に選ぶこ
とによって、穴（４）固有の周波数帯Ｆ１以外にも共振
させることが可能で、反射周波数帯域を広帯域にてきる
。
なる周波数選択反射鏡（１）の誘電体（２）間を、低損
失かつ低誘電率の誘電材からなるスペーサ（１１）によ
り充填すると、スペーサ（１１）の厚さを適当に選ぶこ
とによって、穴（４）固有の周波数帯Ｆ１以外にも共振
させることが可能で、反射周波数帯域を広帯域にてきる
。
［発明の効果］
以上説明したように、この発明によれば、予め平面上の
直交Ｘ″Ｙ′Ｙ′座標した一定周期配列の共振素子の各
位置Ｐ−を極座標（ｒ、 θ）で表し、前記曲面状の
誘電体上に定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交Ｘ
Ｙ座標を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接
する測地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、それぞ共
振素子を配置し、測地線の方向に対する周期性を確保し
て、共振素子の配列周期誤差を少なくすることかでき、
これにより反射・透過特性を向上することかできる。
直交Ｘ″Ｙ′Ｙ′座標した一定周期配列の共振素子の各
位置Ｐ−を極座標（ｒ、 θ）で表し、前記曲面状の
誘電体上に定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交Ｘ
Ｙ座標を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接
する測地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、それぞ共
振素子を配置し、測地線の方向に対する周期性を確保し
て、共振素子の配列周期誤差を少なくすることかでき、
これにより反射・透過特性を向上することかできる。
また、予め平面上の直交Ｘ′Ｙ′座標に定義した一定周
期配列の穴の各位置Ｐ′を極座標（ｒθ）で表し、前記
曲面状の誘電体上に定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上
に直交ＸＹ座標を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの
方向に接する測地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、
それぞれ金属膜上に開設された穴を配置し、測地線の方
向に対する周期性を確保して、穴の配列周期誤差を少な
くすることができ、これにより反射・透過特性を向上す
ることができる。
期配列の穴の各位置Ｐ′を極座標（ｒθ）で表し、前記
曲面状の誘電体上に定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上
に直交ＸＹ座標を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの
方向に接する測地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、
それぞれ金属膜上に開設された穴を配置し、測地線の方
向に対する周期性を確保して、穴の配列周期誤差を少な
くすることができ、これにより反射・透過特性を向上す
ることができる。
第１図は請求項１の発明の実施例による周波数選択反射
鏡を示す図、第２図は平板状周波数選択反射鏡における
共振素子の配置位置を示す図、第３図は曲面状周波数選
択反射鏡における共振素子の配置位置を示す図、第４図
は共振素子の形状例を示す図、第５図は請求項１の発明
の他の実施例を示す断面図、第６図は請求項２の発明の
実施例による周波数選択反射鏡を示す図、第７図は平板
状周波数選択反射鏡における穴の配置位置を示す図、第
８図は曲面状周波数選択反射鏡における穴の配置位置を
示す図、第９図は穴の形状例を示す図、第１０図は請求
項２の発明の他の実施例を示す断面図、第１１図から第
１３図までは従来の周波数選択反射鏡を示す図である。 図中、（１）は周波数選択反射鏡、（２）は誘電体、（
３）は共振素子、（４）は穴、（５）は金属膜、（７）
は測地線である。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。
鏡を示す図、第２図は平板状周波数選択反射鏡における
共振素子の配置位置を示す図、第３図は曲面状周波数選
択反射鏡における共振素子の配置位置を示す図、第４図
は共振素子の形状例を示す図、第５図は請求項１の発明
の他の実施例を示す断面図、第６図は請求項２の発明の
実施例による周波数選択反射鏡を示す図、第７図は平板
状周波数選択反射鏡における穴の配置位置を示す図、第
８図は曲面状周波数選択反射鏡における穴の配置位置を
示す図、第９図は穴の形状例を示す図、第１０図は請求
項２の発明の他の実施例を示す断面図、第１１図から第
１３図までは従来の周波数選択反射鏡を示す図である。 図中、（１）は周波数選択反射鏡、（２）は誘電体、（
３）は共振素子、（４）は穴、（５）は金属膜、（７）
は測地線である。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (2)
- （１）曲面状の誘電体と、誘電体の面上に配置した金属
箔よりなる複数の同一形状の共振素子とにより構成され
た周波数選択反射鏡において、予め平面上の直交Ｘ′Ｙ
′座標に定義した一定周期配列の共振素子の各位置Ｐ′
を極座標（ｒ、θ）で表し、前記曲面状の誘導体上に定
点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交ＸＹ座標を定め
、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接する測地線上
の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、前記共振素子をそれぞ
れ配置したことを特徴とする周波数選択反射鏡。 - （２）曲面状の誘電体と、誘電体の面上に接着された複
数の同一形状の穴が開設された金属膜とにより構成され
た周波数選択反射鏡において、予め平面上の直交Ｘ′Ｙ
′座標に定義した一定周期配列の穴の各位置Ｐ′を極座
標（ｒ、θ）で表し、前記曲面状の誘電体上に定点Ｏ及
び定点Ｏにおける接平面上に直交ＸＹ座標を定め、定点
Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接する測地線上の定点
Ｏからｒの距離の点Ｐに、前記穴をそれぞれ配置したこ
とを特徴とする周波数選択反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2134964A JP2634088B2 (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 周波数選択反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2134964A JP2634088B2 (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 周波数選択反射鏡の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0430607A true JPH0430607A (ja) | 1992-02-03 |
| JP2634088B2 JP2634088B2 (ja) | 1997-07-23 |
Family
ID=15140706
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2134964A Expired - Lifetime JP2634088B2 (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 周波数選択反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2634088B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0802438A3 (en) * | 1996-04-18 | 1998-12-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Shape control apparatus for reflecting mirrors |
| JP2007073662A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 電波吸収体 |
| WO2007142125A1 (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Mitsubishi Cable Industries, Ltd. | 電波遮蔽性仕切面材およびその製造方法 |
| JP2007319504A (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 電波遮蔽性仕切面材 |
| JP2007329348A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 電波遮蔽体及びその製造方法 |
| JP2010226695A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-10-07 | Ntt Docomo Inc | リフレクトアレイ |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103700949A (zh) * | 2013-11-18 | 2014-04-02 | 北京理工大学 | 双曲频率选择面分光镜 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02813U (ja) * | 1988-06-13 | 1990-01-05 |
-
1990
- 1990-05-24 JP JP2134964A patent/JP2634088B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02813U (ja) * | 1988-06-13 | 1990-01-05 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP0802438A3 (en) * | 1996-04-18 | 1998-12-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Shape control apparatus for reflecting mirrors |
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| WO2007142125A1 (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Mitsubishi Cable Industries, Ltd. | 電波遮蔽性仕切面材およびその製造方法 |
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| GB2452665A (en) * | 2006-06-02 | 2009-03-11 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | Radio wave shielding partitioning plane material and method for manufacturing |
| GB2452665B (en) * | 2006-06-02 | 2010-11-24 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | Radio shielding partitioning plane material and method for manufacturing the same |
| JP2007329348A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 電波遮蔽体及びその製造方法 |
| JP2010226695A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-10-07 | Ntt Docomo Inc | リフレクトアレイ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2634088B2 (ja) | 1997-07-23 |
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