JP2634088B2 - 周波数選択反射鏡の製造方法 - Google Patents
周波数選択反射鏡の製造方法Info
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- JP2634088B2 JP2634088B2 JP2134964A JP13496490A JP2634088B2 JP 2634088 B2 JP2634088 B2 JP 2634088B2 JP 2134964 A JP2134964 A JP 2134964A JP 13496490 A JP13496490 A JP 13496490A JP 2634088 B2 JP2634088 B2 JP 2634088B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、２つの所定周波数帯F1,F2（F1G＞F2）の
電波のうち、周波数帯F1の電波を反射すると共に、周波
数帯F2の電波を透過する周波数選択反射鏡に関するもの
である。
電波のうち、周波数帯F1の電波を反射すると共に、周波
数帯F2の電波を透過する周波数選択反射鏡に関するもの
である。
［従来の技術］ 第11図は、例えば、V.D.Agrawal and W.Almbriale,
“Design of a Dichroic Cassegrain Subreflector"IEE
E TRANSACTIONS ON ANTENNAS AND PROPAGATION,VOL.AP
−27,NO.4,JULY1979,pp.466−473に示された従来の周波
数選択反射鏡（１）を示す図で、平板状の誘電体（２）
上には金属箔からなる共振素子（３）が周期的に千鳥状
に配置されており、共振素子（３）は所定周波数F0で共
振するようにその形状、寸法、配置周期Dx,Dyが決めら
れている。
“Design of a Dichroic Cassegrain Subreflector"IEE
E TRANSACTIONS ON ANTENNAS AND PROPAGATION,VOL.AP
−27,NO.4,JULY1979,pp.466−473に示された従来の周波
数選択反射鏡（１）を示す図で、平板状の誘電体（２）
上には金属箔からなる共振素子（３）が周期的に千鳥状
に配置されており、共振素子（３）は所定周波数F0で共
振するようにその形状、寸法、配置周期Dx,Dyが決めら
れている。
なお、共振素子（３）を、四角形状または２等辺３角
形以外の３角形状に配置しても良い（第12図参照）。
形以外の３角形状に配置しても良い（第12図参照）。
また、周波数選択反射鏡（１）を曲面状にする場合、
平板状の周波数選択反射鏡（１）を曲面の成形型の上に
乗せ、真空引きをしながら平板状の周波数選択反射鏡
（１）に加えることにより、所望の曲面に成形する。
平板状の周波数選択反射鏡（１）を曲面の成形型の上に
乗せ、真空引きをしながら平板状の周波数選択反射鏡
（１）に加えることにより、所望の曲面に成形する。
次に動作について説明する。
共振素子（３）がない場合、入射した電波のほとんど
は誘電体（２）を透過していく。一方、共振素子（３）
がある場合には、共振周波数F0の電波が入射すると、共
振素子（３）は共振し、共振素子（３）上には電流が流
れ、共振素子（３）は反射方向と透過方向とへ電波を再
放射する。
は誘電体（２）を透過していく。一方、共振素子（３）
がある場合には、共振周波数F0の電波が入射すると、共
振素子（３）は共振し、共振素子（３）上には電流が流
れ、共振素子（３）は反射方向と透過方向とへ電波を再
放射する。
この際、透過方向へ再放射された電波は入射波と打ち
消しあい、反射方向に再放射された電波だけが残る。
消しあい、反射方向に再放射された電波だけが残る。
また、共振周波数F0近傍の周波数帯F1以外の電波、例
えば周波数帯F2の電波が入射した場合、共振素子（３）
上には電流が流れず、入射波はそのまま透過する。
えば周波数帯F2の電波が入射した場合、共振素子（３）
上には電流が流れず、入射波はそのまま透過する。
従って、２つの周波数帯F1,F2の電波が入射した場
合、周波数帯F1の電波は周波数選択反射鏡により反射さ
れ、かつ周波数帯F2の電波は周波数選択反射鏡（１）を
透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波数帯
F1,F2の電波を分岐する。
合、周波数帯F1の電波は周波数選択反射鏡により反射さ
れ、かつ周波数帯F2の電波は周波数選択反射鏡（１）を
透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波数帯
F1,F2の電波を分岐する。
また、C.C.Chen,“Diffraction of Electromagnetic
Waves by a Conducting Screen Perforated Periodical
ly with Circular Holes",IEEE TRANSCTIONS ON MICROW
AVE THEORY AND TECHNIQUES,VOL.MTT−19,NO.5,MAY197
1,pp.475−481には、第13図に示すように、平板状の誘
電体（２）上に穴（４）が周期的に配置された金属箔
（５）が接着されており、穴（４）は所定周波数帯F1で
共振するようにその形状、寸法、配置周期Dx,Dyが決め
られている。
Waves by a Conducting Screen Perforated Periodical
ly with Circular Holes",IEEE TRANSCTIONS ON MICROW
AVE THEORY AND TECHNIQUES,VOL.MTT−19,NO.5,MAY197
1,pp.475−481には、第13図に示すように、平板状の誘
電体（２）上に穴（４）が周期的に配置された金属箔
（５）が接着されており、穴（４）は所定周波数帯F1で
共振するようにその形状、寸法、配置周期Dx,Dyが決め
られている。
なお、穴（４）を、四角形状または２等辺３角形以外
の３角形状に配置しても良い（第12図参照）。
の３角形状に配置しても良い（第12図参照）。
また、周波数選択反射鏡（１）を曲面状にする場合、
平板状の周波数選択反射鏡（１）を曲面の成形型の上に
乗せ、真空引きしながら平板状の周波数選択反射鏡
（１）に熱を加えることにより、所望の曲面に成形す
る。
平板状の周波数選択反射鏡（１）を曲面の成形型の上に
乗せ、真空引きしながら平板状の周波数選択反射鏡
（１）に熱を加えることにより、所望の曲面に成形す
る。
次に動作について説明する。
穴（４）がない場合、入射した電波は金属膜（５）で
反射される。一方、穴（４）がある場合には、共振周波
数F0の電波が入射すると、穴（４）は共振し、穴（４）
の中には電界が発生して、穴（４）は反射方向と透過方
向とへ電波を再放射する。
反射される。一方、穴（４）がある場合には、共振周波
数F0の電波が入射すると、穴（４）は共振し、穴（４）
の中には電界が発生して、穴（４）は反射方向と透過方
向とへ電波を再放射する。
この際、反射方向へ再放射された電波は、金属膜
（５）から反射された電波と打ち消し合い、透過方向に
再放射された電波だけが残る。
（５）から反射された電波と打ち消し合い、透過方向に
再放射された電波だけが残る。
また、共振周波数F0近傍の周波数帯F1以外の電波、例
えば周波数帯F2の電波が入射した場合、穴（４）は共振
せず、入射波は金属膜（５）により反射される。
えば周波数帯F2の電波が入射した場合、穴（４）は共振
せず、入射波は金属膜（５）により反射される。
従って、２つの周波数帯F1,F2の電波が入射した場
合、周波数帯F1の電波は周波数選択反射鏡（１）を透過
し、かつ周波数帯F2の電波は周波数選択反射鏡（１）に
より反射され、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波
数帯F1,F2の電波を分波する。
合、周波数帯F1の電波は周波数選択反射鏡（１）を透過
し、かつ周波数帯F2の電波は周波数選択反射鏡（１）に
より反射され、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波
数帯F1,F2の電波を分波する。
［発明が解決しようとする課題］ 従来の曲面状の周波数選択反射鏡は、以上のように構
成されているので、曲面が可展面ではなく、かつ曲面の
曲率が小さい場合には、平板状の周波数選択反射鏡を曲
面に成形する過程で皺ができたり切れたりするという課
題があり、また平板状の周波数選択反射鏡を引っ張って
延ばすため、共振素子の配列の周期または金属膜に開け
た穴の配列の周期が大きく変化し、所望の反射・透過特
性を満たすことができないという課題があった。
成されているので、曲面が可展面ではなく、かつ曲面の
曲率が小さい場合には、平板状の周波数選択反射鏡を曲
面に成形する過程で皺ができたり切れたりするという課
題があり、また平板状の周波数選択反射鏡を引っ張って
延ばすため、共振素子の配列の周期または金属膜に開け
た穴の配列の周期が大きく変化し、所望の反射・透過特
性を満たすことができないという課題があった。
この発明は、上記のような課題を解消するためになさ
れたもので、共振素子または金属膜に開けた穴の配列周
期誤差の少ない曲面状の周波数選択反射鏡を得ることを
目的とする。
れたもので、共振素子または金属膜に開けた穴の配列周
期誤差の少ない曲面状の周波数選択反射鏡を得ることを
目的とする。
［課題を解決するための手段］ この発明に係わる周波数選択反射鏡の製造方法は、誘
電体からなる曲面形状の基板上に金属箔よりなる複数の
同一形状の共振素子とにより構成された周波数選択反射
鏡の製造方法であって、平面上のパターンとして定めら
れ、平面上に定めた定点Ｏ′を原点とする平面上の直交
座標Ｘ′Ｙ′に定義した配列された共振素子の配置位置
に基づき、定点Ｏ′を始点としＸ′軸と所定の角度θ傾
斜した方向に平面上で引かれる直線を測地線とし、上記
測地線上の定点Ｏ′から距離ｒの位置Ｐ′に配置される
共振素子に対応する上記基板上の共振素子の配置位置と
して、上記基板上に上記定点Ｏ′に対応させる定点Ｏを
定め、この定点Ｏにおける上記基板の接平面上に定点Ｏ
を原点とする接平面上の直交座標XYを定義し、定点Ｏを
始点として定点Ｏにおける上記接平面上の接線がＸ軸と
上記所定の角度θ傾斜した方向となるように上記基板上
で引かれる曲線を上記測地線の上記基板上への写像測地
線とし、上記写像測地線上の定点Ｏから距離ｒの位置Ｐ
を選定し、上記平面上の共振素子配列のパターンを上記
基板上に写像して共振素子を配列するものである。
電体からなる曲面形状の基板上に金属箔よりなる複数の
同一形状の共振素子とにより構成された周波数選択反射
鏡の製造方法であって、平面上のパターンとして定めら
れ、平面上に定めた定点Ｏ′を原点とする平面上の直交
座標Ｘ′Ｙ′に定義した配列された共振素子の配置位置
に基づき、定点Ｏ′を始点としＸ′軸と所定の角度θ傾
斜した方向に平面上で引かれる直線を測地線とし、上記
測地線上の定点Ｏ′から距離ｒの位置Ｐ′に配置される
共振素子に対応する上記基板上の共振素子の配置位置と
して、上記基板上に上記定点Ｏ′に対応させる定点Ｏを
定め、この定点Ｏにおける上記基板の接平面上に定点Ｏ
を原点とする接平面上の直交座標XYを定義し、定点Ｏを
始点として定点Ｏにおける上記接平面上の接線がＸ軸と
上記所定の角度θ傾斜した方向となるように上記基板上
で引かれる曲線を上記測地線の上記基板上への写像測地
線とし、上記写像測地線上の定点Ｏから距離ｒの位置Ｐ
を選定し、上記平面上の共振素子配列のパターンを上記
基板上に写像して共振素子を配列するものである。
また、誘電体からなる曲面形状の基板上に複数の同一
形状の穴が開設された金属膜を設けた周波数選択反射鏡
の製造方法であって、平面上のパターンとして定めら
れ、平面上に定めた定点Ｏ′を原点とする平面上の直交
座標Ｘ′Ｙ′に定義した配列された穴の配置位置に基づ
き、定点Ｏ′を始点としＸ′軸と所定の角度θ傾斜した
方向に平面上で引かれる直線を測地線とし、上記測地線
上の定点Ｏ′から距離ｒの位置Ｐ′に配置される穴に対
応する上記基板上の穴の配置位置として、上記基板上に
上記定点Ｏ′に対応させる定点Ｏを定め、この定点Ｏに
おける上記基板の接平面上に定点Ｏを原点とする接平面
上の直交座標XYを定義し、定点Ｏを始点として定点Ｏに
おける上記接平面上の接線がＸ軸と上記所定の角度θ傾
斜した方向となるように上記基板上で引かれる曲線を上
記測地線の上記基板上への写像測地線とし、上記写像測
地線上の定点Ｏから距離ｒの位置Ｐを選定し、上記平面
上の穴配列のパターンを上記基板上に写像して穴を配列
するものである。
形状の穴が開設された金属膜を設けた周波数選択反射鏡
の製造方法であって、平面上のパターンとして定めら
れ、平面上に定めた定点Ｏ′を原点とする平面上の直交
座標Ｘ′Ｙ′に定義した配列された穴の配置位置に基づ
き、定点Ｏ′を始点としＸ′軸と所定の角度θ傾斜した
方向に平面上で引かれる直線を測地線とし、上記測地線
上の定点Ｏ′から距離ｒの位置Ｐ′に配置される穴に対
応する上記基板上の穴の配置位置として、上記基板上に
上記定点Ｏ′に対応させる定点Ｏを定め、この定点Ｏに
おける上記基板の接平面上に定点Ｏを原点とする接平面
上の直交座標XYを定義し、定点Ｏを始点として定点Ｏに
おける上記接平面上の接線がＸ軸と上記所定の角度θ傾
斜した方向となるように上記基板上で引かれる曲線を上
記測地線の上記基板上への写像測地線とし、上記写像測
地線上の定点Ｏから距離ｒの位置Ｐを選定し、上記平面
上の穴配列のパターンを上記基板上に写像して穴を配列
するものである。
さらに、上記共振素子または穴の形状が回転対称でな
い場合に、上記位置Ｐにおける上記基板の接平面上に、
位置Ｐを原点とする接平面上の直交座標Ｘ″Ｙ″を、位
置Ｐを始点として位置Ｐにおける上記接平面上に引かれ
る上記写像測地線の接線がＸ″軸に対して上記所定の角
度θ傾斜した方向となるように定義し、上記位置Ｐ′に
配置される共振素子または穴の直交座標Ｘ′Ｙ′に対す
る形状位置方向を上記直交座標Ｘ″Ｙ″に対する形状位
置方向として上記基板上に写像して共振素子または穴を
配列するものである。
い場合に、上記位置Ｐにおける上記基板の接平面上に、
位置Ｐを原点とする接平面上の直交座標Ｘ″Ｙ″を、位
置Ｐを始点として位置Ｐにおける上記接平面上に引かれ
る上記写像測地線の接線がＸ″軸に対して上記所定の角
度θ傾斜した方向となるように定義し、上記位置Ｐ′に
配置される共振素子または穴の直交座標Ｘ′Ｙ′に対す
る形状位置方向を上記直交座標Ｘ″Ｙ″に対する形状位
置方向として上記基板上に写像して共振素子または穴を
配列するものである。
［作用］ この発明における周波数選択反射鏡は、予め平面上の
直交Ｙ′Ｚ′座標に定義した一定周期配列の共振素子の
角位置Ｐ′を極座標（r,θ）で表し、前記曲面状の誘電
体上の定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交XY座標
を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接する測
地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、前記共振素子を
それぞれ配置することにより、予め平面上に定義した共
振素子の配列を前記曲面状の誘電体上に定めた測地線上
に写像して、共振素子の配列周期誤差を少なくする。
直交Ｙ′Ｚ′座標に定義した一定周期配列の共振素子の
角位置Ｐ′を極座標（r,θ）で表し、前記曲面状の誘電
体上の定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交XY座標
を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接する測
地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、前記共振素子を
それぞれ配置することにより、予め平面上に定義した共
振素子の配列を前記曲面状の誘電体上に定めた測地線上
に写像して、共振素子の配列周期誤差を少なくする。
また、この発明における周波数選択反射鏡は、予め平
面上の直交Ｙ′Ｚ′座標に定義した一定周期配列の穴の
各位置Ｐ′を極座標（r,θ）で表し、前記曲面状の誘電
体上の定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交XY座標
を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接する測
地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、前記穴をそれぞ
れ配置することにより、予め平面上に定義した穴の配列
を前記曲面状の誘電体上に定めた測地線上に写像して、
穴の配列周期誤差を少なくする。
面上の直交Ｙ′Ｚ′座標に定義した一定周期配列の穴の
各位置Ｐ′を極座標（r,θ）で表し、前記曲面状の誘電
体上の定点Ｏ及び定点Ｏにおける接平面上に直交XY座標
を定め、定点Ｏを始点としＸ軸からθの方向に接する測
地線上の定点Ｏからｒの距離の点Ｐに、前記穴をそれぞ
れ配置することにより、予め平面上に定義した穴の配列
を前記曲面状の誘電体上に定めた測地線上に写像して、
穴の配列周期誤差を少なくする。
［実施例］ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。
請求項１の実施例 周波数選択反射鏡（１）は、第１図に示すように、誘
電体（２）は曲面状となっており、誘電体（２）上には
金属箔からなる複数の共振素子（３）が配置されてい
る。
電体（２）は曲面状となっており、誘電体（２）上には
金属箔からなる複数の共振素子（３）が配置されてい
る。
例えば、誘電体（２）が平板状の場合は、第２図に示
すように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点
をＯ′とすると共に誘電体（２）の表面をＸ′−Ｙ′平
面と定義すると、共振素子（３）はＸ′軸から時計方向
へ所定角度（θ）傾斜した直線である測地線（７）上の
所定距離（ｒ）により決まる配置位置（Ｐ′）に配置さ
れており、この配置位置（Ｐ′）は第11図において配置
周期Dx,Dyで決まる配置位置と一致している。
すように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点
をＯ′とすると共に誘電体（２）の表面をＸ′−Ｙ′平
面と定義すると、共振素子（３）はＸ′軸から時計方向
へ所定角度（θ）傾斜した直線である測地線（７）上の
所定距離（ｒ）により決まる配置位置（Ｐ′）に配置さ
れており、この配置位置（Ｐ′）は第11図において配置
周期Dx,Dyで決まる配置位置と一致している。
そして、誘電体（２）が曲面状の場合は、第３図に示
すように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点
をＯとし、点Ｏにおける法線と直交する平面を接平面
（100）とすると共に接平面（100）上にＸ−Ｙ座標を定
義すると、測地線（７）は点Ｏを始点としかつ点Ｏにお
いての接平面（100）上で引かれる接線がＸ軸と所定角
度（θ）をなす曲線となる。
すように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点
をＯとし、点Ｏにおける法線と直交する平面を接平面
（100）とすると共に接平面（100）上にＸ−Ｙ座標を定
義すると、測地線（７）は点Ｏを始点としかつ点Ｏにお
いての接平面（100）上で引かれる接線がＸ軸と所定角
度（θ）をなす曲線となる。
更に、共振素子（３）の配置位置（Ｐ）は、測地線
（７）上の点Ｏからの所定距離（ｒ）の位置である。
（７）上の点Ｏからの所定距離（ｒ）の位置である。
また、配置位置（Ｐ）における法線と直交する接平面
（101）上に配置位置（Ｐ）から引いた配置位置（Ｐ）
における測地線（７）の接線から反時計方向に角度
（θ）回転した方向をＸ″軸とするＸ″−Ｙ″座標を定
義すると、共振素子（３）の形状が回転対称でない場合
に、第３図に示すように共振素子（３）のＸ″−Ｙ″座
標に対する向きと、第２図に示した共振素子（３）の
Ｘ′−Ｙ′座標に対する向きと一致している。
（101）上に配置位置（Ｐ）から引いた配置位置（Ｐ）
における測地線（７）の接線から反時計方向に角度
（θ）回転した方向をＸ″軸とするＸ″−Ｙ″座標を定
義すると、共振素子（３）の形状が回転対称でない場合
に、第３図に示すように共振素子（３）のＸ″−Ｙ″座
標に対する向きと、第２図に示した共振素子（３）の
Ｘ′−Ｙ′座標に対する向きと一致している。
ついで、本実施例の作用について説明する。
共振素子（３）がない場合、入射した電波のほとんど
は誘電体（２）を透過していく。一方、共振素子（３）
がある場合には、共振周波数F0の電波が入射すると、共
振素子（３）は共振し、共振素子（３）上には電流が流
れ、共振素子（３）は反射方向と透過方向とへ電波を再
放射する。
は誘電体（２）を透過していく。一方、共振素子（３）
がある場合には、共振周波数F0の電波が入射すると、共
振素子（３）は共振し、共振素子（３）上には電流が流
れ、共振素子（３）は反射方向と透過方向とへ電波を再
放射する。
この際、透過方向へ再放射された電波は入射波と打ち
消しあい、反射方向に再放射された電波だけが残る。
消しあい、反射方向に再放射された電波だけが残る。
また、共振周波数F0近傍の周波数帯F1以外の電波、例
えば周波数帯F2の電波が入射した場合、共振素子（３）
上には電流が流れず、入射波はそのまま透過する。
えば周波数帯F2の電波が入射した場合、共振素子（３）
上には電流が流れず、入射波はそのまま透過する。
従って、２つの周波数帯F1,F2の電波が入射した場
合、周波数帯F1の電波は周波数選択反射鏡により反射さ
れ、かつ周波数帯F2の電波は周波数選択反射鏡（１）を
透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波数帯
F1,F2の電波を分波する。
合、周波数帯F1の電波は周波数選択反射鏡により反射さ
れ、かつ周波数帯F2の電波は周波数選択反射鏡（１）を
透過し、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波数帯
F1,F2の電波を分波する。
なお、上述実施例においては、金属箔よりなる共振素
子（３）をクロスダイポール形に成形したが、これに限
らず、第４図に示すように、矩形、円形、リング、二重
リング、エルサレムクロス等に成形しても同様の効果を
奏する。
子（３）をクロスダイポール形に成形したが、これに限
らず、第４図に示すように、矩形、円形、リング、二重
リング、エルサレムクロス等に成形しても同様の効果を
奏する。
更に、第５図に示すように、複数の誘電体（２）から
なる周波数選択反射鏡（１）の誘電体（２）間を、低損
失かつ低誘電率の誘電材からなるスペーサ（11）により
充填すると、スペーサ（11）の厚さを適当に選ぶことに
よって、共振素子（３）固有の周波数F0以外にも共振さ
せることが可能で、反射周波数帯域を広帯域にできる。
なる周波数選択反射鏡（１）の誘電体（２）間を、低損
失かつ低誘電率の誘電材からなるスペーサ（11）により
充填すると、スペーサ（11）の厚さを適当に選ぶことに
よって、共振素子（３）固有の周波数F0以外にも共振さ
せることが可能で、反射周波数帯域を広帯域にできる。
請求項２の実施例 周波数選択反射鏡（１）は、第６図に示すように、誘
電体（２）は曲面状となっており、誘電体（２）上には
複数の穴（４）が開けられた金属膜（５）が接着されて
いる。
電体（２）は曲面状となっており、誘電体（２）上には
複数の穴（４）が開けられた金属膜（５）が接着されて
いる。
例えば、誘電体（２）が平板状の場合は、第７図に示
すように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点
をＯ′とすると共に誘電体（２）の表面をＸ′−Ｙ′平
面と定義すると、穴（４）はＸ′軸から時計方向へ所定
角度（θ）傾斜した直線である測地線（７）上の所定距
離（ｒ）により決まる配置位置（Ｐ′）に配置されてお
り、この配置位置（Ｐ′）は第13図において配置周期D
x,Dyで決まる配置位置と一致している。
すように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点
をＯ′とすると共に誘電体（２）の表面をＸ′−Ｙ′平
面と定義すると、穴（４）はＸ′軸から時計方向へ所定
角度（θ）傾斜した直線である測地線（７）上の所定距
離（ｒ）により決まる配置位置（Ｐ′）に配置されてお
り、この配置位置（Ｐ′）は第13図において配置周期D
x,Dyで決まる配置位置と一致している。
そして、誘電体（２）が曲面状の場合は、第８図に示
すように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点
をＯとし、点Ｏにおける法線と直行する平面を接平面
（100）とすると共に接平面（100）上にＸ−Ｙ座標を定
義すると、測地線（７）は点Ｏを始点としかつ点Ｏにお
いての接平面（100）上で引かれる接線がＸ軸と所定角
度（θ）をなす曲線となる。
すように、誘電体（２）の所定位置の点、例えば中心点
をＯとし、点Ｏにおける法線と直行する平面を接平面
（100）とすると共に接平面（100）上にＸ−Ｙ座標を定
義すると、測地線（７）は点Ｏを始点としかつ点Ｏにお
いての接平面（100）上で引かれる接線がＸ軸と所定角
度（θ）をなす曲線となる。
更に、穴（４）の配置位置（Ｐ）は、測地線（７）上
の点Ｏから所定距離（ｒ）の位置である。
の点Ｏから所定距離（ｒ）の位置である。
また、配置位置（Ｐ）における法線と直交する接平面
（101）上に配置位置（Ｐ）から引いた配置位置（Ｐ）
における測地線（７）の接線から反時計方向に角度
（θ）回転した方向をＸ″軸とするＸ″−Ｙ″座標を定
義すると、穴（４）の形状が回転対称でない場合に、前
記共振素子（３）の場合に対応させて説明すると、第３
図に示すように穴（４）のＸ″−Ｙ″座標に対する向き
と、第２図に示した穴（４）のＸ′−Ｙ′座標に対する
向きと一致している。
（101）上に配置位置（Ｐ）から引いた配置位置（Ｐ）
における測地線（７）の接線から反時計方向に角度
（θ）回転した方向をＸ″軸とするＸ″−Ｙ″座標を定
義すると、穴（４）の形状が回転対称でない場合に、前
記共振素子（３）の場合に対応させて説明すると、第３
図に示すように穴（４）のＸ″−Ｙ″座標に対する向き
と、第２図に示した穴（４）のＸ′−Ｙ′座標に対する
向きと一致している。
ついで、本実施例の作用について説明する。
穴（４）がない場合、入射した電波は金属膜（５）で
反射される。一方、穴（４）がある場合には、共振周波
数F0の電波が入射すると、穴（４）は共振し、穴（４）
の中には電界が発生して、穴（４）は反射方向と透過方
向とへ電波を再放射する。
反射される。一方、穴（４）がある場合には、共振周波
数F0の電波が入射すると、穴（４）は共振し、穴（４）
の中には電界が発生して、穴（４）は反射方向と透過方
向とへ電波を再放射する。
この際、反射方向へ再放射された電波は、金属膜
（５）から反射された電波と打ち消し合い、透過方向に
再放射された電波だけが残る。
（５）から反射された電波と打ち消し合い、透過方向に
再放射された電波だけが残る。
また、共振周波数F0近傍の周波数帯F1以外の電波、例
えば周波数帯F2の電波が入射した場合、穴（４）は共振
せず、入射波は金属膜（５）により反射される。
えば周波数帯F2の電波が入射した場合、穴（４）は共振
せず、入射波は金属膜（５）により反射される。
従って、２つの周波数帯F1,F2の電波が入射した場
合、周波数帯F1の電波は周波数選択反射鏡（１）を透過
し、かつ周波数帯F2の電波は周波数選択反射鏡（１）に
より反射され、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波
数帯F1,F2の電波を分波する。
合、周波数帯F1の電波は周波数選択反射鏡（１）を透過
し、かつ周波数帯F2の電波は周波数選択反射鏡（１）に
より反射され、周波数選択反射鏡（１）はこれらの周波
数帯F1,F2の電波を分波する。
なお、上述実施例においては、穴（４）を円形に成形
したが、これに限らず、第９図に示すように、矩形、ク
ロスダイポール、、リング、二重リング、エルサレムク
ロス等に成形しても同様の効果を奏する。
したが、これに限らず、第９図に示すように、矩形、ク
ロスダイポール、、リング、二重リング、エルサレムク
ロス等に成形しても同様の効果を奏する。
更に、第10図に示すように、複数の誘電体（２）から
なる周波数選択反射鏡（１）の誘電体（２）間を、低損
失かつ低誘電率の誘電材からなるスペーサ（11）により
充填すると、スペーサ（11）の厚さを適当に選ぶことに
よって、穴（４）固有の周波数F0以外にも共振させるこ
とが可能で、反射周波数帯域を広帯域にできる。
なる周波数選択反射鏡（１）の誘電体（２）間を、低損
失かつ低誘電率の誘電材からなるスペーサ（11）により
充填すると、スペーサ（11）の厚さを適当に選ぶことに
よって、穴（４）固有の周波数F0以外にも共振させるこ
とが可能で、反射周波数帯域を広帯域にできる。
［発明の効果］ 以上説明したように、請求項１の発明によれば、平面
上のパターンとして定められ、平面上に定めた定点Ｏ′
を原点とする平面上の直交座標Ｘ′Ｙ′に定義した配列
された共振素子の配置位置に基づき、定点Ｏ′を始点と
しＸ′軸と所定の角度θ傾斜した方向に平面上で引かれ
る直線を測地線とし、上記測地線上の定点Ｏ′から距離
ｒの位置Ｐ′に配置される共振素子に対応する上記基板
上の共振素子の配置位置として、上記基板上に上記定点
Ｏ′に対応させる定点Ｏを定め、この定点Ｏにおける上
記基板の接平面上に定点Ｏを原点とする接平面上の直交
座標XYを定義し、定点Ｏを始点として定点Ｏにおける上
記接平面上の接線がＸ軸と上記所定の角度θ傾斜した方
向となるように上記基板上で引かれる曲線を上記測地線
の上記基板上への写像測地線とし、上記写像測地線上の
定点Ｏから距離ｒの位置Ｐを選定し、上記平面上の共振
素子配列のパターンを上記基板上に写像して共振素子を
配列するので、誘電体からなる曲面形状の基板上に金属
箔よりなる複数の同一形状の共振素子とにより構成され
た周波数選択反射鏡において、測地線の方向における共
振素子の配列を精度良く確保でき、曲面形状の基板上で
の共振素子の配列誤差を少なくすることができ、これに
より反射・透過特性を向上することができる。
上のパターンとして定められ、平面上に定めた定点Ｏ′
を原点とする平面上の直交座標Ｘ′Ｙ′に定義した配列
された共振素子の配置位置に基づき、定点Ｏ′を始点と
しＸ′軸と所定の角度θ傾斜した方向に平面上で引かれ
る直線を測地線とし、上記測地線上の定点Ｏ′から距離
ｒの位置Ｐ′に配置される共振素子に対応する上記基板
上の共振素子の配置位置として、上記基板上に上記定点
Ｏ′に対応させる定点Ｏを定め、この定点Ｏにおける上
記基板の接平面上に定点Ｏを原点とする接平面上の直交
座標XYを定義し、定点Ｏを始点として定点Ｏにおける上
記接平面上の接線がＸ軸と上記所定の角度θ傾斜した方
向となるように上記基板上で引かれる曲線を上記測地線
の上記基板上への写像測地線とし、上記写像測地線上の
定点Ｏから距離ｒの位置Ｐを選定し、上記平面上の共振
素子配列のパターンを上記基板上に写像して共振素子を
配列するので、誘電体からなる曲面形状の基板上に金属
箔よりなる複数の同一形状の共振素子とにより構成され
た周波数選択反射鏡において、測地線の方向における共
振素子の配列を精度良く確保でき、曲面形状の基板上で
の共振素子の配列誤差を少なくすることができ、これに
より反射・透過特性を向上することができる。
また、請求項２の発明によれば、平面上のパターンと
して定められ、平面上に定めた定点Ｏ′を原点とする平
面上の直交座標Ｘ′Ｙ′に定義した配列された穴の配置
位置に基づき、定点Ｏ′を始点としＸ′軸と所定の角度
θ傾斜した方向に平面上で引かれる直線を測地線とし、
上記測地線上の定点Ｏ′から距離ｒの位置Ｐ′に配置さ
れる穴に対応する上記基板上の穴の配置位置として、上
記基板上に上記定点Ｏ′に対応させる定点Ｏを定め、こ
の定点Ｏにおける上記基板の接平面上に定点Ｏを原点と
する接平面上の直交座標XYを定義し、定点Ｏを始点とし
て定点Ｏにおける上記接平面上の接線がＸ軸と上記所定
の角度θ傾斜した方向となるように上記基板上で引かれ
る曲線を上記測地線の上記基板上への写像測地線とし、
上記写像測地線上の定点Ｏから距離ｒの位置Ｐを選定
し、上記平面上の穴配列のパターンを上記基板上に写像
して穴を配列するので、誘電体からなる曲面形状の基板
上に複数の同一形状の穴が開設された金属膜を設けた周
波数選択反射鏡において、測地線の方向における穴の配
列を精度良く確保でき、曲面形状の基板上での穴の配列
誤差を少なくすることができ、これにより反射・透過特
性を向上することができる。
して定められ、平面上に定めた定点Ｏ′を原点とする平
面上の直交座標Ｘ′Ｙ′に定義した配列された穴の配置
位置に基づき、定点Ｏ′を始点としＸ′軸と所定の角度
θ傾斜した方向に平面上で引かれる直線を測地線とし、
上記測地線上の定点Ｏ′から距離ｒの位置Ｐ′に配置さ
れる穴に対応する上記基板上の穴の配置位置として、上
記基板上に上記定点Ｏ′に対応させる定点Ｏを定め、こ
の定点Ｏにおける上記基板の接平面上に定点Ｏを原点と
する接平面上の直交座標XYを定義し、定点Ｏを始点とし
て定点Ｏにおける上記接平面上の接線がＸ軸と上記所定
の角度θ傾斜した方向となるように上記基板上で引かれ
る曲線を上記測地線の上記基板上への写像測地線とし、
上記写像測地線上の定点Ｏから距離ｒの位置Ｐを選定
し、上記平面上の穴配列のパターンを上記基板上に写像
して穴を配列するので、誘電体からなる曲面形状の基板
上に複数の同一形状の穴が開設された金属膜を設けた周
波数選択反射鏡において、測地線の方向における穴の配
列を精度良く確保でき、曲面形状の基板上での穴の配列
誤差を少なくすることができ、これにより反射・透過特
性を向上することができる。
さらに、請求項３の発明によれば、共振素子または穴
の形状が回転対称でない場合にも、測地線の方向におけ
る共振素子または穴の配列を形状位置方向についても精
度良く確保でき、曲面形状の基板上での共振素子または
穴の配列誤差を少なくすることができ、これにより反射
・透過特性を向上することができる。
の形状が回転対称でない場合にも、測地線の方向におけ
る共振素子または穴の配列を形状位置方向についても精
度良く確保でき、曲面形状の基板上での共振素子または
穴の配列誤差を少なくすることができ、これにより反射
・透過特性を向上することができる。
第１図は請求項１の発明の実施例による周波数選択反射
鏡を示す図、第２図は平板状周波数選択反射鏡における
共振素子の配置位置を示す図、第３図は曲面状周波数選
択反射鏡における共振素子の配置位置を示す図、第４図
は共振素子の形状例を示す図、第５図は請求項１の発明
の他の実施例を示す断面図、第６図は請求項２の発明の
実施例による周波数選択反射鏡を示す図、第７図は平板
状周波数選択反射鏡における穴の配置位置を示す図、第
８図は曲面状周波数選択反射鏡における穴の配置位置を
示す図、第９図は穴の形状例を示す図、第10図は請求項
２の発明の他の実施例を示す断面図、第11図から第13図
までは従来の周波数選択反射鏡を示す図である。 図中、（１）は周波数選択反射鏡、（２）は誘電体、
（３）は共振素子、（４）は穴、（５）は金属膜、
（７）は測地線である。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。
鏡を示す図、第２図は平板状周波数選択反射鏡における
共振素子の配置位置を示す図、第３図は曲面状周波数選
択反射鏡における共振素子の配置位置を示す図、第４図
は共振素子の形状例を示す図、第５図は請求項１の発明
の他の実施例を示す断面図、第６図は請求項２の発明の
実施例による周波数選択反射鏡を示す図、第７図は平板
状周波数選択反射鏡における穴の配置位置を示す図、第
８図は曲面状周波数選択反射鏡における穴の配置位置を
示す図、第９図は穴の形状例を示す図、第10図は請求項
２の発明の他の実施例を示す断面図、第11図から第13図
までは従来の周波数選択反射鏡を示す図である。 図中、（１）は周波数選択反射鏡、（２）は誘電体、
（３）は共振素子、（４）は穴、（５）は金属膜、
（７）は測地線である。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上野 健治 東京都千代田区内幸町１丁目１番６号 日本電信電話株式会社内 (72)発明者 牧野 滋 神奈川県鎌倉市大船５丁目１番１号 三 菱電機株式会社電子システム研究所内 (72)発明者 片木 孝至 神奈川県鎌倉市大船５丁目１番１号 三 菱電機株式会社電子システム研究所内 (56)参考文献 実開 平２−813（ＪＰ，Ｕ)
Claims (3)
- 【請求項１】誘電体からなる曲面形状の基板上に金属箔
よりなる複数の同一形状の共振素子とにより構成された
周波数選択反射鏡の製造方法であって、 平面上のパターンとして定められ、平面上に定めた定点
Ｏ′を原点とする平面上の直交座標Ｘ′Ｙ′に定義した
配列された共振素子の配置位置に基づき、定点Ｏ′を始
点としＸ′軸と所定の角度θ傾斜した方向に平面上で引
かれる直線を測地線とし、上記測地線上の定点Ｏ′から
距離ｒの位置Ｐ′に配置される共振素子に対応する上記
基板上の共振素子の配置位置として、 上記基板上に上記定点Ｏ′に対応させる定点Ｏを定め、 この定点Ｏにおける上記基板の接平面上に定点Ｏを原点
とする接平面上の直交座標XYを定義し、 定点Ｏを始点として定点Ｏにおける上記接平面上の接線
がＸ軸と上記所定の角度θ傾斜した方向となるように上
記基板上で引かれる曲線を上記測地線の上記基板上への
写像測地線とし、 上記写像測地線上の定点Ｏから距離ｒの位置Ｐを選定
し、 上記平面上の共振素子配列のパターンを上記基板上に写
像して共振素子を配列する、周波数選択反射鏡の製造方
法。 - 【請求項２】誘電体からなる曲面形状の基板上に複数の
同一形状の穴が開設された金属膜を設けた周波数選択反
射鏡の製造方法であって、 平面上のパターンとして定められ、平面上に定めた定点
Ｏ′を原点とする平面上の直交座標Ｘ′Ｙ′に定義した
配列された穴の配置位置に基づき、定点Ｏ′を始点とし
Ｘ′軸と所定の角度θ傾斜した方向に平面上で引かれる
直線を測地線とし、上記測地線上の定点Ｏ′から距離ｒ
の位置Ｐ′に配置される穴に対応する上記基板上の穴の
配置位置として、 上記基板上に上記定点Ｏ′に対応させる定点Ｏを定め、 この定点Ｏにおける上記基板の接平面上に定点Ｏを原点
とする接平面上の直交座標XYを定義し、 定点Ｏを始点として定点Ｏにおける上記接平面上の接線
がＸ軸と上記所定の角度θ傾斜した方向となるように上
記基板上で引かれる曲線を上記測地線の上記基板上への
写像測地線とし、 上記写像測地線上の定点Ｏから距離ｒの位置Ｐを選定
し、 上記平面上の穴配列のパターンを上記基板上に写像して
穴を配列する、周波数選択反射鏡の製造方法。 - 【請求項３】請求項１または請求項２記載の周波数選択
反射鏡の製造方法において、 上記共振素子または穴の形状が回転対称でない場合に、 上記位置Ｐにおける上記基板の接平面上に、位置Ｐを原
点とする接平面上の直交座標Ｘ″Ｙ″を、位置Ｐを始点
として位置Ｐにおける上記接平面上に引かれる上記写像
測地線の接線がＸ″軸に対して上記所定の角度θ傾斜し
た方向となるように定義し、 上記位置Ｐ′に配置される共振素子または穴の直交座標
Ｘ′Ｙ′に対する形状位置方向を上記直交座標Ｘ″Ｙ″
に対する形状位置方向として上記基板上に写像して共振
素子または穴を配列する、周波数選択反射鏡の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2134964A JP2634088B2 (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 周波数選択反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2134964A JP2634088B2 (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 周波数選択反射鏡の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0430607A JPH0430607A (ja) | 1992-02-03 |
| JP2634088B2 true JP2634088B2 (ja) | 1997-07-23 |
Family
ID=15140706
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2134964A Expired - Lifetime JP2634088B2 (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | 周波数選択反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2634088B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007142125A1 (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Mitsubishi Cable Industries, Ltd. | 電波遮蔽性仕切面材およびその製造方法 |
| JP2007329348A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 電波遮蔽体及びその製造方法 |
| CN103700949A (zh) * | 2013-11-18 | 2014-04-02 | 北京理工大学 | 双曲频率选择面分光镜 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3234152B2 (ja) * | 1996-04-18 | 2001-12-04 | 三菱電機株式会社 | 反射鏡の鏡面形状制御装置 |
| JP4549265B2 (ja) * | 2005-09-06 | 2010-09-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 電波吸収体 |
| JP4838053B2 (ja) * | 2006-06-02 | 2011-12-14 | 三菱電線工業株式会社 | 電波遮蔽性仕切面材及びその製造方法 |
| JP5371633B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2013-12-18 | 株式会社エヌ・ティ・ティ・ドコモ | リフレクトアレイ |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH073686Y2 (ja) * | 1988-06-13 | 1995-01-30 | 日本電信電話株式会社 | リングスロツト型周波数選択板 |
-
1990
- 1990-05-24 JP JP2134964A patent/JP2634088B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007142125A1 (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Mitsubishi Cable Industries, Ltd. | 電波遮蔽性仕切面材およびその製造方法 |
| GB2452665A (en) * | 2006-06-02 | 2009-03-11 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | Radio wave shielding partitioning plane material and method for manufacturing |
| GB2452665B (en) * | 2006-06-02 | 2010-11-24 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | Radio shielding partitioning plane material and method for manufacturing the same |
| JP2007329348A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 電波遮蔽体及びその製造方法 |
| CN103700949A (zh) * | 2013-11-18 | 2014-04-02 | 北京理工大学 | 双曲频率选择面分光镜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0430607A (ja) | 1992-02-03 |
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