JPH043048A - 貼り込み跡の改良されたハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
貼り込み跡の改良されたハロゲン化銀写真感光材料Info
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- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 85
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 39
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 abstract description 9
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 abstract description 9
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 abstract description 9
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 abstract description 9
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 abstract description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 abstract description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 abstract 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 238000011161 development Methods 0.000 description 14
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 9
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 8
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 3
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 3
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical group C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPYUENQFPVNPHY-UHFFFAOYSA-N 3-methoxycatechol Chemical compound COC1=CC=CC(O)=C1O LPYUENQFPVNPHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 2
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 2
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 2
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical group [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- QDNPCYCBQFHNJC-UHFFFAOYSA-N 1,1'-biphenyl-3,4-diol Chemical compound C1=C(O)C(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 QDNPCYCBQFHNJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- OXLXSOPFNVKUMU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioctoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical class CCCCCCCCOC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCCCCCCCC OXLXSOPFNVKUMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-1,2-ethanediol Chemical compound OCC(O)C1=CC=CC=C1 PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 1-dodecanesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCS(O)(=O)=O LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIROXSOOOAZHLL-UHFFFAOYSA-N 2',3',4'-Trihydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O XIROXSOOOAZHLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1,3-oxazole-4-carbaldehyde Chemical compound FC1=CC=CC(C=2OC=C(C=O)N=2)=C1 BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDVRKKAWBVVSAM-UHFFFAOYSA-N 2-amino-6-phenylphenol Chemical compound NC1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1O UDVRKKAWBVVSAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHHTFWECCZVRB-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-phenyl-4h-pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C(N)C=NN1C1=CC=CC=C1 UIHHTFWECCZVRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSFKCGABINPZRK-UHFFFAOYSA-N 4-aminopyrazol-3-one Chemical compound NC1=CN=NC1=O XSFKCGABINPZRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006283 4-chlorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- WWOBYPKUYODHDG-UHFFFAOYSA-N 4-chlorocatechol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1O WWOBYPKUYODHDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004860 4-ethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BISHACNKZIBDFM-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1h-pyrimidine-2,4-dione Chemical compound NC1=CNC(=O)NC1=O BISHACNKZIBDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QYAPTEJZMMPCMT-UHFFFAOYSA-N C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C1N1N(C=2C=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=2)N=C(C=2C=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=2)N1 Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C1N1N(C=2C=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=2)N=C(C=2C=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=2)N1 QYAPTEJZMMPCMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000287828 Gallus gallus Species 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N N-benzyladenine Chemical compound N=1C=NC=2NC=NC=2C=1NCC1=CC=CC=C1 NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical class OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- XOPOEBVTQYAOSV-UHFFFAOYSA-N butyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 XOPOEBVTQYAOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYCOKCJDXXJIIM-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;prop-2-enoic acid;styrene Chemical compound OC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)C=C IYCOKCJDXXJIIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical group 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 1
- 229960000878 docusate sodium Drugs 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical group *[Se]* 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940087562 sodium acetate trihydrate Drugs 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M sodium ascorbate Substances [Na+].OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M 0.000 description 1
- 235000010378 sodium ascorbate Nutrition 0.000 description 1
- 229960005055 sodium ascorbate Drugs 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960000999 sodium citrate dihydrate Drugs 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M sodium-L-ascorbate Chemical compound [Na+].OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 229920006027 ternary co-polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical group 0.000 description 1
- 125000002769 thiazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に関し、詳しくは
貼り込み跡の改良に関する。
貼り込み跡の改良に関する。
近年印刷製版分野に於いて省力化、合理化及び作業環境
改善のため、従来暗室下で行なわれていたフィルムメー
キング、いわゆる返し工程作業を明るい部屋で出来るよ
うにするための技術が要求され、感光材料やプリンター
等の機器の改良がなされている。明室で取り扱い可能な
感光材料(以下単に明室感材と称す)としては紫外光に
富む光源、例えば、超高圧水銀灯、メタルノ\ライド光
源、キセノンランプ、ハロゲンランプ等などに主I;る
感度を有するハロゲン化銀写真感光材料があげられる。
改善のため、従来暗室下で行なわれていたフィルムメー
キング、いわゆる返し工程作業を明るい部屋で出来るよ
うにするための技術が要求され、感光材料やプリンター
等の機器の改良がなされている。明室で取り扱い可能な
感光材料(以下単に明室感材と称す)としては紫外光に
富む光源、例えば、超高圧水銀灯、メタルノ\ライド光
源、キセノンランプ、ハロゲンランプ等などに主I;る
感度を有するハロゲン化銀写真感光材料があげられる。
これらのハロゲン化銀写真感光材料は100〜300ル
ツクスという明るい一般蛍光灯あるいは紫外線量の少な
い専用の蛍光灯下で取り扱うことかできる。しかし、こ
れらの明室感材は従来の暗室下で取り扱われる感光材料
と比較して、また次のごとき性能が劣るという問題点が
ある。即ち返し原稿として網点画像と線画像を重ねて露
光する場合の線画性能(抜き文字性能)が劣ること、ま
た線画原稿、網原稿を貼り込みベース上に製版用透明テ
ープで固定したとき、このテープ跡(貼り込みテープ跡
)が残り、仕上がり画像を損なうという欠点を有してい
る。
ツクスという明るい一般蛍光灯あるいは紫外線量の少な
い専用の蛍光灯下で取り扱うことかできる。しかし、こ
れらの明室感材は従来の暗室下で取り扱われる感光材料
と比較して、また次のごとき性能が劣るという問題点が
ある。即ち返し原稿として網点画像と線画像を重ねて露
光する場合の線画性能(抜き文字性能)が劣ること、ま
た線画原稿、網原稿を貼り込みベース上に製版用透明テ
ープで固定したとき、このテープ跡(貼り込みテープ跡
)が残り、仕上がり画像を損なうという欠点を有してい
る。
上記のごとき、明室感材の問題点に対して本発明の目的
は、選択した光源による露光で良好な性能、特に写真性
能として返し特性における抜き文字品質が良く、更にテ
ープ貼り込み跡のでないハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。
は、選択した光源による露光で良好な性能、特に写真性
能として返し特性における抜き文字品質が良く、更にテ
ープ貼り込み跡のでないハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。
本発明の上記目的は、紫外部に吸収特性を存する固体微
粒子分散体を含有することを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料により達成される。
粒子分散体を含有することを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料により達成される。
さらに本発明のハロゲン化銀写真感光材料はヒドラジン
化合物またはテトラゾリウム化合物を含有することが望
ましい。
化合物またはテトラゾリウム化合物を含有することが望
ましい。
以下、本発明につき詳細に説明する。
本発明メこ用いられる紫外部に吸収を有する固体微粒子
分散体(以下、単にLJV剤という)を用いる方法は、
一般に広く用いられる紫外線吸収剤を水あるいは有機溶
媒に溶解してバインダー中に含有せしめる方法とは本質
的に異なり、pH6以下では本質的に水に溶解しないタ
イプの紫外線吸収剤を水溶液中あるいはゼラチン液中な
どに投入して、ボールミルやサンドミル中で微粒子化せ
しめた分散体を用いることにある。本発明はこのように
して分散した固体微粒子分散体をハロゲン化銀写真感光
材料中のある層に固定化させることにある。
分散体(以下、単にLJV剤という)を用いる方法は、
一般に広く用いられる紫外線吸収剤を水あるいは有機溶
媒に溶解してバインダー中に含有せしめる方法とは本質
的に異なり、pH6以下では本質的に水に溶解しないタ
イプの紫外線吸収剤を水溶液中あるいはゼラチン液中な
どに投入して、ボールミルやサンドミル中で微粒子化せ
しめた分散体を用いることにある。本発明はこのように
して分散した固体微粒子分散体をハロゲン化銀写真感光
材料中のある層に固定化させることにある。
上記の方法によって得られた固体微粒子分散体は画像形
成時に有効に作用し、ヌキ文字品質及び貼り込みを良化
する。
成時に有効に作用し、ヌキ文字品質及び貼り込みを良化
する。
このような作用を示すのに適した化合物の具体例を以下
に示す。
に示す。
一般式(1)
〔式中、R、、R2,R3,R4,R6,Raは置換又
は非置換のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、シアノ
基、アルキルシアノ基、アルコキン基およびc。
は非置換のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、シアノ
基、アルキルシアノ基、アルコキン基およびc。
OR基を表す。R1−R6の中少なくとも2つはCoo
)IRIRr R3Rh RsCH,
C)I、 CH3C1l、 Cool
CB、 C1l、 CH,CI(、C
llIC0OIICJI) C)13
CL CH) −(C)1B)lC
OOHCOOCH,C00(JllCOOCH,C00
(Jl、 C00HC8,C00II C11,
CH,C0OHC1l、 COO11CI1.
0CH3(Jl、 Cil、OCH,CI(、
C00HCOOC+Hi Clh C00
CiHi CHi C00HC1ls
C,Hs C2H5ClH6C00HfJ1
.cJcN C1l、Cli、CN C1l□CH
,CN C112CII、CN C00II本発明
においてハロゲン化銀乳剤層にテトラゾリウム化合物又
はヒドラジン化合物を含有することが好ましい。この場
合、本発明の実施に際して含有させるテトラゾリウム化
合物としては、例えば代表的には下記一般式(TI)、
[TI[)又は(TnIlで示すことかできる。
)IRIRr R3Rh RsCH,
C)I、 CH3C1l、 Cool
CB、 C1l、 CH,CI(、C
llIC0OIICJI) C)13
CL CH) −(C)1B)lC
OOHCOOCH,C00(JllCOOCH,C00
(Jl、 C00HC8,C00II C11,
CH,C0OHC1l、 COO11CI1.
0CH3(Jl、 Cil、OCH,CI(、
C00HCOOC+Hi Clh C00
CiHi CHi C00HC1ls
C,Hs C2H5ClH6C00HfJ1
.cJcN C1l、Cli、CN C1l□CH
,CN C112CII、CN C00II本発明
においてハロゲン化銀乳剤層にテトラゾリウム化合物又
はヒドラジン化合物を含有することが好ましい。この場
合、本発明の実施に際して含有させるテトラゾリウム化
合物としては、例えば代表的には下記一般式(TI)、
[TI[)又は(TnIlで示すことかできる。
一般式1:TI)
一般式1:TII)
一般式〔TI[[:1
式中、R、、Rユ、R、、R、、R、、R、、R、。及
びR1+は、それぞれアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ドデシル基等)、アルケニル基(
例えばビニル基、アリル基、プロペニル基等)、アリー
ル基(例えばフェニル基、トリル基、ヒドロキシフェニ
ル基、カルボキシフェニル基、アミノフェニル基、メル
カプトフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、
ヒドロキンナフチル基、カルボキシナフチル基、アミノ
ナフチル基等)、及び複素環基(例えばチアゾリル基、
ベンゾチアゾリル基、オキサシリル基、ピリミジニル基
、ピリジル基等)から選ばれる基を表し、これらはいず
れも金属キレートあるいは錯体を形成するような基でも
よい。
びR1+は、それぞれアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ドデシル基等)、アルケニル基(
例えばビニル基、アリル基、プロペニル基等)、アリー
ル基(例えばフェニル基、トリル基、ヒドロキシフェニ
ル基、カルボキシフェニル基、アミノフェニル基、メル
カプトフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、
ヒドロキンナフチル基、カルボキシナフチル基、アミノ
ナフチル基等)、及び複素環基(例えばチアゾリル基、
ベンゾチアゾリル基、オキサシリル基、ピリミジニル基
、ピリジル基等)から選ばれる基を表し、これらはいず
れも金属キレートあるいは錯体を形成するような基でも
よい。
R2,Rg及びR7はそれぞれアリル基、置換基を有し
てもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基
、複素環基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、メルカプトメチル基、メルカプ
トエチル基等)、ヒドロキシル基、カルボキシル基又は
その塩、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカル
ボニル基、エトキンカルボニル基等)、アミノ基(例え
ばアミノ基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メルカ
プト基、ニトロ基又は水素原子から選ばれる基を表し、
Dは2価の芳香族基を表し、Eはアルキレン基、アリレ
ン基、アラルアルキレン基から選ばれる基を表し、Xe
は硫黄原子化されたアニオンを表し、nはl又は2の整
数を表す。ただし化合物が分子内塩を形成する場合nは
lである。
てもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基
、複素環基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、メルカプトメチル基、メルカプ
トエチル基等)、ヒドロキシル基、カルボキシル基又は
その塩、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカル
ボニル基、エトキンカルボニル基等)、アミノ基(例え
ばアミノ基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メルカ
プト基、ニトロ基又は水素原子から選ばれる基を表し、
Dは2価の芳香族基を表し、Eはアルキレン基、アリレ
ン基、アラルアルキレン基から選ばれる基を表し、Xe
は硫黄原子化されたアニオンを表し、nはl又は2の整
数を表す。ただし化合物が分子内塩を形成する場合nは
lである。
次ぎに前記一般式CTI)、I:TII〕又は〔T■〕
で表されるテトラゾリウム化合物のカチオン部の具体例
を示すが、本発明はこれらのみに限定されるものではな
い。
で表されるテトラゾリウム化合物のカチオン部の具体例
を示すが、本発明はこれらのみに限定されるものではな
い。
例示化合物:
T−12−(ベンゾチアゾール−2−イル)−3−フェ
ニル−5−ドデシル−2H−テトラゾリウムT−22,
3−ジフェニル−5−(4−t−オクチルオキシフェニ
ル)−2H−テトラゾリウムT−32,3,5−トリフ
ェニル−2H−テトラゾリウム T−42,3,5−トリ(p−カルボキシエチルフェニ
ル)−2H−テトラゾリウム T−52−(ベンゾチアゾール−2−イル)−3−フ二
二ルー5〜(0−クロルフェニル)−2H−テトラゾリ
ウム T−62,3−ジフェニル−2H−テトラゾリウムT−
72,3−ビス(p〜メトキシフェニル)−5−フェニ
ル−2H−テトラゾリウム T−82−(p−メトキンフェニル)−3−(p−トル
イル)−5−7二二ル〜2H−テトラゾリウムT−92
,3−ジフェニル−5−エチル−2H−テトラゾリウム T−102,3−ジフェニル−5−〇−へキシル−2H
−テトラゾリウム T−115−シアノ−2,3−ジフェニル−2H−テト
ラゾリウム T〜12 1(ベンゾチアゾール−2−イル)−5−フ
ェニル−3−(4−)リル)−2H−テトラゾリウムT
−132−(ベンゾチアゾール−2−イル)−5−(4
クロロフエニル)−3−(4−ニトロフェニル)−2H
−テトラゾリウム Ti4 5−エトキンカルボニル−2,3−ジ(3−二
トロフェニル)−2H−テトラゾリウムT−155−ア
セチル−2,3−ジ(p−エトキシフェニル)−2H−
テトラツリウム T−162,5−ジフェニル−3−(p−トリール)−
2Hテトラゾリウム Ti7 2.5−ジフェニル−3−(p−ヨードフェニ
ル)2H〜テトラゾリウム T−182,3−ジフェニル−5−(p−ジフェニル)
−2H−テトラゾリウム T−195〜(p−ブロモフェニル)−2−フェニル−
3−(2,4,6−トリクロルフエニル)−2H−テト
ラゾリウム T−203−(p−ハイドロキンフェニル)−5−(p
−二トロフェニル)−2−フェニル−2H−rトラゾリ
ウム T−215−(3,4−ジメトキシフェニル)−3−(
2−エトキシフェニル)−2−(4−メトキシフェニル
)−2H−テトラゾリウム T−225−(4−シアノフェニル)−2,3−ジフェ
ニル−2H−テトラゾリウム T−233−(p−アセトアミドフェニル)−2,5−
ジフェニル−2H−テトラゾリウム T−245−アセチル−2,3−ジフェニル−2H−テ
トラゾリウム T−255−(フルー2−イル)−2,3−ジフェニル
−2H−テトラゾリウム T−265−(チエソー2−イル)−2,3−ジフェニ
ル−2H−テトラゾリウム T−272,3−ジフェニル−5−(ピリド−4−イル
)=2H−テトラゾリウム T−282,3−ジフェニル−5−(キノール−2−イ
ル)2H−テトラゾリウム T−292,3−ジフェニル−5−(ベンゾオキサゾー
ル−2−イル)−2H−テトラゾリウムT−302,3
,5−1−リ(p−エチルフェニル)−2Hテトラゾリ
ウム T−312,3,5−トリ(p−アリルフェニル)−2
H−テトラゾリウム T−322,3,5−トリ(p−ヒドロキシエチルオキ
シエトキシフェニル)−2H−テトラゾリウムT−33
2,3,5−トリ(p−ドデシルフェニル)−2H−テ
トラゾリウム T−342,3,54す(p−ベンジルフェニル)−2
H−テトラゾリウム 次に前記一般式(TI)、(TI[)又は(Tln)で
表されるテトラゾリウム化合物のアニオン部はフッ素原
子、塩素原子、臭素原子あるいは下記−般式Ca) 、
Cb) 、 [c:] 、 (d)又は〔e〕で表す
ことができる。
ニル−5−ドデシル−2H−テトラゾリウムT−22,
3−ジフェニル−5−(4−t−オクチルオキシフェニ
ル)−2H−テトラゾリウムT−32,3,5−トリフ
ェニル−2H−テトラゾリウム T−42,3,5−トリ(p−カルボキシエチルフェニ
ル)−2H−テトラゾリウム T−52−(ベンゾチアゾール−2−イル)−3−フ二
二ルー5〜(0−クロルフェニル)−2H−テトラゾリ
ウム T−62,3−ジフェニル−2H−テトラゾリウムT−
72,3−ビス(p〜メトキシフェニル)−5−フェニ
ル−2H−テトラゾリウム T−82−(p−メトキンフェニル)−3−(p−トル
イル)−5−7二二ル〜2H−テトラゾリウムT−92
,3−ジフェニル−5−エチル−2H−テトラゾリウム T−102,3−ジフェニル−5−〇−へキシル−2H
−テトラゾリウム T−115−シアノ−2,3−ジフェニル−2H−テト
ラゾリウム T〜12 1(ベンゾチアゾール−2−イル)−5−フ
ェニル−3−(4−)リル)−2H−テトラゾリウムT
−132−(ベンゾチアゾール−2−イル)−5−(4
クロロフエニル)−3−(4−ニトロフェニル)−2H
−テトラゾリウム Ti4 5−エトキンカルボニル−2,3−ジ(3−二
トロフェニル)−2H−テトラゾリウムT−155−ア
セチル−2,3−ジ(p−エトキシフェニル)−2H−
テトラツリウム T−162,5−ジフェニル−3−(p−トリール)−
2Hテトラゾリウム Ti7 2.5−ジフェニル−3−(p−ヨードフェニ
ル)2H〜テトラゾリウム T−182,3−ジフェニル−5−(p−ジフェニル)
−2H−テトラゾリウム T−195〜(p−ブロモフェニル)−2−フェニル−
3−(2,4,6−トリクロルフエニル)−2H−テト
ラゾリウム T−203−(p−ハイドロキンフェニル)−5−(p
−二トロフェニル)−2−フェニル−2H−rトラゾリ
ウム T−215−(3,4−ジメトキシフェニル)−3−(
2−エトキシフェニル)−2−(4−メトキシフェニル
)−2H−テトラゾリウム T−225−(4−シアノフェニル)−2,3−ジフェ
ニル−2H−テトラゾリウム T−233−(p−アセトアミドフェニル)−2,5−
ジフェニル−2H−テトラゾリウム T−245−アセチル−2,3−ジフェニル−2H−テ
トラゾリウム T−255−(フルー2−イル)−2,3−ジフェニル
−2H−テトラゾリウム T−265−(チエソー2−イル)−2,3−ジフェニ
ル−2H−テトラゾリウム T−272,3−ジフェニル−5−(ピリド−4−イル
)=2H−テトラゾリウム T−282,3−ジフェニル−5−(キノール−2−イ
ル)2H−テトラゾリウム T−292,3−ジフェニル−5−(ベンゾオキサゾー
ル−2−イル)−2H−テトラゾリウムT−302,3
,5−1−リ(p−エチルフェニル)−2Hテトラゾリ
ウム T−312,3,5−トリ(p−アリルフェニル)−2
H−テトラゾリウム T−322,3,5−トリ(p−ヒドロキシエチルオキ
シエトキシフェニル)−2H−テトラゾリウムT−33
2,3,5−トリ(p−ドデシルフェニル)−2H−テ
トラゾリウム T−342,3,54す(p−ベンジルフェニル)−2
H−テトラゾリウム 次に前記一般式(TI)、(TI[)又は(Tln)で
表されるテトラゾリウム化合物のアニオン部はフッ素原
子、塩素原子、臭素原子あるいは下記−般式Ca) 、
Cb) 、 [c:] 、 (d)又は〔e〕で表す
ことができる。
一般式(a)
式中、R1!は炭素原子数1〜32のアルキル基で、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、ノ
ニル基、ドデシル基、ヘキサデシル基等を表すが、これ
らの基は少なくとも1つの硫黄原子を含む。nは1〜3
の整数を表わし、nlは0〜4の整数を表す。
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、ノ
ニル基、ドデシル基、ヘキサデシル基等を表すが、これ
らの基は少なくとも1つの硫黄原子を含む。nは1〜3
の整数を表わし、nlは0〜4の整数を表す。
一般式(b)
Rrs OCOC)+2
R140COCHR+s
デシル基等を表すが環状をなすアルキル基でもよく、こ
れらの基は少なくとも1つの硫黄原子を含む。またR
13+R+4+R16+R17及びR1,は、それぞれ
アリール基、例えばフェニル基、ナフチル基等を表し、
これらのアリール基は少なくとも1つの硫黄原子を含む
。
れらの基は少なくとも1つの硫黄原子を含む。またR
13+R+4+R16+R17及びR1,は、それぞれ
アリール基、例えばフェニル基、ナフチル基等を表し、
これらのアリール基は少なくとも1つの硫黄原子を含む
。
さらにR1,及びR1,はカルボキシラド基、スルホナ
ト基又はリン酸基等の酸基を表す。
ト基又はリン酸基等の酸基を表す。
一般式(d)
一般式(c)
Rye OCOCHz
嘗
R,、−0CO−CH
R,、−〇〇〇−CH−R,。
式中、R、、、R、、、R、、、R、、及びR1,は、
それぞれ炭素原子数1〜32の直鎖又は分岐状のアルキ
ル基で、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、イソブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ドデシル基、オクタ式中、R1゜は炭素
原子数1〜32の飽和、不飽和の直鎖又は分岐状のアル
キル基を表し、例えば飽和アルキル基としては、メチル
基、エチル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、
ドデシル基、オクタデシル基等を表し、不飽和アルキル
基としては例えばアリル基、ブデニル基、オクテニル基
等を表す。そしてこれらの飽和、不飽和のアルキル基は
少なくとも1つの硫黄原子を含む。R2及びn、は1〜
3の整数を示す。またn4は0〜6の整数を表す。
それぞれ炭素原子数1〜32の直鎖又は分岐状のアルキ
ル基で、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、イソブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ドデシル基、オクタ式中、R1゜は炭素
原子数1〜32の飽和、不飽和の直鎖又は分岐状のアル
キル基を表し、例えば飽和アルキル基としては、メチル
基、エチル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、
ドデシル基、オクタデシル基等を表し、不飽和アルキル
基としては例えばアリル基、ブデニル基、オクテニル基
等を表す。そしてこれらの飽和、不飽和のアルキル基は
少なくとも1つの硫黄原子を含む。R2及びn、は1〜
3の整数を示す。またn4は0〜6の整数を表す。
一般式〔e〕
式中、Yは硫黄原子、セレン原子、酸素原子、窒素原子
又はR2□基(ここでR2□は水素原子又はN− 炭素原子数1〜3のアルキル基、例えばメチル基、エチ
ル基を表す)を表しR21は、前記一般式Ca)におけ
るR、□で表される基と同義の基又は少なくとも1つの
硫黄原子を含むアリール基(例えばフェニル基、ナフチ
ル基等)を表す。また2は、5員又は6員ヘテロ環を形
成するのに必要な原子群を表し、これらの例としては、
チアゾール環、セレナゾール環、オキサゾール環、イミ
ダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、テトラゾ
ール環、ピリミジン環。トリアジン環等を挙げることが
できる。
又はR2□基(ここでR2□は水素原子又はN− 炭素原子数1〜3のアルキル基、例えばメチル基、エチ
ル基を表す)を表しR21は、前記一般式Ca)におけ
るR、□で表される基と同義の基又は少なくとも1つの
硫黄原子を含むアリール基(例えばフェニル基、ナフチ
ル基等)を表す。また2は、5員又は6員ヘテロ環を形
成するのに必要な原子群を表し、これらの例としては、
チアゾール環、セレナゾール環、オキサゾール環、イミ
ダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、テトラゾ
ール環、ピリミジン環。トリアジン環等を挙げることが
できる。
上記のへテロ環には更にアルキル基、アリール基等の置
換基を有してもよい。
換基を有してもよい。
本発明に使用するテトラゾリウム化合物は、1種を用い
てもよく、また、2種以上を任意の比率で組み合わせて
併用することもできる。
てもよく、また、2種以上を任意の比率で組み合わせて
併用することもできる。
本発明に係わるテトラゾリウム化合物は本発明の感光材
料中に含有されるハロゲン化銀1モル当りI X 10
−’モルから10モルまで、特に2 X 10−’モル
から2 X 10−’モルまでの範囲で用いるのが好ま
しい。
料中に含有されるハロゲン化銀1モル当りI X 10
−’モルから10モルまで、特に2 X 10−’モル
から2 X 10−’モルまでの範囲で用いるのが好ま
しい。
好ましい添加量は架橋剤に対して、5〜200wt%で
ある。
ある。
本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式CH)で表される化合物である。
記一般式CH)で表される化合物である。
一般式(H)
01 Q2 Xl
R,N N C−Rx
式中、R,は1価の有機残基を表し、R2は水素原子ま
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ8は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
〔H〕で表される化合物のうち、X、が酸素原子であり
、かつR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ8は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
〔H〕で表される化合物のうち、X、が酸素原子であり
、かつR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
上記R1及びR2の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチル
フェニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチル
フェニル基、4−1’テシルフエニル基、4−カルボキ
シフェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オ
クチルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル
基、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(
3−エチルチオウレイド)フェニル基、4〜[2−(2
,4−ジーtart−ブチルフェノキシ)ブチルアミド
]フェニル基、4−[2−(2,4ジーtert−ブチ
ルフェノキシ)ブチルアミド]フェニル基などを挙げる
ことができる。
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチル
フェニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチル
フェニル基、4−1’テシルフエニル基、4−カルボキ
シフェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オ
クチルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル
基、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(
3−エチルチオウレイド)フェニル基、4〜[2−(2
,4−ジーtart−ブチルフェノキシ)ブチルアミド
]フェニル基、4−[2−(2,4ジーtert−ブチ
ルフェノキシ)ブチルアミド]フェニル基などを挙げる
ことができる。
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレン
原子のうち少なくとも一つを有する三員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基かついてもよい。
原子のうち少なくとも一つを有する三員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基かついてもよい。
具体的には例えば、ビロリン環、ピリジン環、キノリン
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環などの残
基を挙げることが出来る。
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環などの残
基を挙げることが出来る。
これらの複素環は、メチル基、エチル基等炭素数1〜4
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基部炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基部炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1−
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。
シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜IOのも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アルコキシ基、
ンアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロケン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプロピル基、エトキシカルボニルメチル基、
4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できる。また、アルケニル基としては例えばアリル(a
llyl)基、アルキニル基としては例えばプロパルギ
ル基ヲ挙げることができる。
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アルコキシ基、
ンアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロケン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプロピル基、エトキシカルボニルメチル基、
4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できる。また、アルケニル基としては例えばアリル(a
llyl)基、アルキニル基としては例えばプロパルギ
ル基ヲ挙げることができる。
本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体例を以下に示
すが、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。
すが、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。
H−12
H−13
H−14
=22
=24
C8゜
(t)C3H□。
CH3
CH。
H−35
H−40
CHコ
一般式(H)で表わされるヒドラジン化合物の添加位置
はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲン
化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは、ハ
ロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加量
は、10−’〜10− ’モル/Ill 1モルが好ま
しく、更に好ましくは10−1〜10−”モル/銀1モ
ルである。
はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲン
化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは、ハ
ロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加量
は、10−’〜10− ’モル/Ill 1モルが好ま
しく、更に好ましくは10−1〜10−”モル/銀1モ
ルである。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いるノ\ロゲン
化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀で
、少なくとも50モル%の塩化銀を含有するものである
。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜0.5μ
mの範囲のものが用いられるが0.05−0.3011
tnがより好ましい。
化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀で
、少なくとも50モル%の塩化銀を含有するものである
。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜0.5μ
mの範囲のものが用いられるが0.05−0.3011
tnがより好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の単分散度は、下記の如
く定義する。その値は5〜60、好ましくは8〜30と
なるよう調製することが重要である。
く定義する。その値は5〜60、好ましくは8〜30と
なるよう調製することが重要である。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜的に立方
晶粒子の稜長で表わし、単分散度は粒径の標準偏差を平
均粒径で割った値を100倍した数値で表わす。
晶粒子の稜長で表わし、単分散度は粒径の標準偏差を平
均粒径で割った値を100倍した数値で表わす。
また、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、少なく
とも2層の多層積層構造を有するタイプを用いることが
できる。例えばコア部に塩化銀、シェル部に臭化銀、逆
にコア部を臭化銀、ンエル部を塩化銀である塩臭化銀粒
子であってもよい。このときヨードは任意の層に5モル
%以内で含有させることができる。
とも2層の多層積層構造を有するタイプを用いることが
できる。例えばコア部に塩化銀、シェル部に臭化銀、逆
にコア部を臭化銀、ンエル部を塩化銀である塩臭化銀粒
子であってもよい。このときヨードは任意の層に5モル
%以内で含有させることができる。
本発明のハロゲン化銀乳剤調製時にはロジウム塩を添加
して感度または階調をコントロールする事ができる。ロ
ジウム塩の添加は一般には粒子形成時か好ましいが、化
学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
して感度または階調をコントロールする事ができる。ロ
ジウム塩の添加は一般には粒子形成時か好ましいが、化
学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
又本発明において用いられる/\ロゲン化銀は写真感光
材料業界で公知の種々の化学増感剤によって増悪するこ
とができる。
材料業界で公知の種々の化学増感剤によって増悪するこ
とができる。
本発明に用いられるハロゲン化銀は、すでに写真感光材
料業界で公知の種々な増感剤、安定剤その他の添加剤を
添加する事が出来る。
料業界で公知の種々な増感剤、安定剤その他の添加剤を
添加する事が出来る。
又前記ハロゲン化銀は親水性コロイド層中に添加せしめ
られるが、これらの親水性コロイドはゼラチンを始め写
真感光材料業界公知の種々な親水性コロイドを使用する
ことが出来、これらの親水性コロイドは、ハロゲン化銀
を含有しない層、例えばハレーション防止層、保護層、
中間層にも適用出来る。
られるが、これらの親水性コロイドはゼラチンを始め写
真感光材料業界公知の種々な親水性コロイドを使用する
ことが出来、これらの親水性コロイドは、ハロゲン化銀
を含有しない層、例えばハレーション防止層、保護層、
中間層にも適用出来る。
更に本発明に用いる支持体もポリエステルフィルム等写
真感光材料業界で公知の各種支持体を用いることが出来
る。
真感光材料業界で公知の各種支持体を用いることが出来
る。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いられる
現像主薬としては次のものが挙けられる。
現像主薬としては次のものが挙けられる。
HO−(CH−CH)−OH型現像主薬の代表的なもの
としては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコール
、ピロガロールおよびその誘導体ならびにアスコルビン
酸、クロロハイドロキノン、フ゛ロ七ノ\イドロキノン
、メチルハイドロキノン、2.3−ジブロモハイドロキ
ノン、2.5−ジエチレン・イドロキノン、カテコール
、4−クロロカテコール、4−フェニル−カテコール、
3−メトキシ−カテコール、4−アセチル−ピロガロー
ル、アスコルビン酸ソーダ等がある。
としては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコール
、ピロガロールおよびその誘導体ならびにアスコルビン
酸、クロロハイドロキノン、フ゛ロ七ノ\イドロキノン
、メチルハイドロキノン、2.3−ジブロモハイドロキ
ノン、2.5−ジエチレン・イドロキノン、カテコール
、4−クロロカテコール、4−フェニル−カテコール、
3−メトキシ−カテコール、4−アセチル−ピロガロー
ル、アスコルビン酸ソーダ等がある。
また、HO−(CB = CH)−NJ型現像剤として
は、オルトおよびバラのアミノフェノールまたはアミノ
ピラゾロンが代表的なもので、4−アミノフェノール、
2−アミノ−6−フェニルフェノール、2−アミノ−4
〜タロロー6−フェニルフェノール、N−メチル−p−
アミノフェノール、等カアル。
は、オルトおよびバラのアミノフェノールまたはアミノ
ピラゾロンが代表的なもので、4−アミノフェノール、
2−アミノ−6−フェニルフェノール、2−アミノ−4
〜タロロー6−フェニルフェノール、N−メチル−p−
アミノフェノール、等カアル。
更に、[(2N−(C)I=C[()−NH2型現像剤
としては例えは4−アミ7−2〜メチル−N、N−ジエ
チルアニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルア
ニリン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−七
ルホリン、p−7二二レンジアミン、等がある。
としては例えは4−アミ7−2〜メチル−N、N−ジエ
チルアニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルア
ニリン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−七
ルホリン、p−7二二レンジアミン、等がある。
ヘテロ環型現像剤としては、■−7エニルー3−ピラゾ
リドン、l〜フェニル−4,4−ジメチル−3ピラゾリ
ドン、l−7エニルー4〜メチル−4−ヒドロキンメチ
ル−3−ピラゾリドン、のような3−ピラゾリドン類、
1〜フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノウラシル等を挙げることができる。
リドン、l〜フェニル−4,4−ジメチル−3ピラゾリ
ドン、l−7エニルー4〜メチル−4−ヒドロキンメチ
ル−3−ピラゾリドン、のような3−ピラゾリドン類、
1〜フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノウラシル等を挙げることができる。
その他、T、H,ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The The
ory of the Photographic P
rocessFourth Edition)第291
〜334頁およびジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・
ケミカル・ンサエティ(Journal of the
A+*erican Chemical 5ocie
ty)第73巻、第3,100頁(1951)に記載さ
れているごとき現像剤か本発明に有効に使用し得るもの
である。これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組
合せてもよいが、2種以上を組合せて用いる方が好まし
い。また本発明の感光材料の現像に使用する現像液には
保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の
亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることは
なく、本発明の1つの特徴として挙げることができる。
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The The
ory of the Photographic P
rocessFourth Edition)第291
〜334頁およびジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・
ケミカル・ンサエティ(Journal of the
A+*erican Chemical 5ocie
ty)第73巻、第3,100頁(1951)に記載さ
れているごとき現像剤か本発明に有効に使用し得るもの
である。これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組
合せてもよいが、2種以上を組合せて用いる方が好まし
い。また本発明の感光材料の現像に使用する現像液には
保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の
亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることは
なく、本発明の1つの特徴として挙げることができる。
また保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合
物を用いて現像液112当り5〜500gで、より好ま
しくは20〜200gである。
物を用いて現像液112当り5〜500gで、より好ま
しくは20〜200gである。
また上記のグリコール類としては、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリ
エチレングリコール、l、4−ブタンジオール、■、5
−ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリコール
が好ましく用いられる。そしてこれらグリコール類の好
ましい使用量は現像液112当り5〜500gで、より
好ましくは20〜200gである。これらの有機溶媒は
単独でも併用しても用いることかできる。
、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリ
エチレングリコール、l、4−ブタンジオール、■、5
−ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリコール
が好ましく用いられる。そしてこれらグリコール類の好
ましい使用量は現像液112当り5〜500gで、より
好ましくは20〜200gである。これらの有機溶媒は
単独でも併用しても用いることかできる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き現像
抑制剤を含んだ現像液を用いて現像地理することにより
極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることができる
。
抑制剤を含んだ現像液を用いて現像地理することにより
極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることができる
。
上記の組成になる現像液のpH値は9〜12であるが、
保恒性および写真特性上からpH値は10〜11の範囲
が好ましい。
保恒性および写真特性上からpH値は10〜11の範囲
が好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件で処
理することができる。処理温度は、例えば現像温度は5
0°C以下が好ましく、特に30°C前後が好ましく、
また現像時間は3分以内に終了することが一般的である
が、特に好ましくは2分以内が好効果をもたらすことが
多い。また現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安
定、定蓄、さらに必要に応して前硬膜、中和等の工程を
採用することは任意であり、これらは適宜省略すること
もできる。さらにまた、これらの処理は皿現像、枠現像
などいわゆる手現像旭理でも、ローラー現像、ハンガー
現像など機械現像であってもよい。
理することができる。処理温度は、例えば現像温度は5
0°C以下が好ましく、特に30°C前後が好ましく、
また現像時間は3分以内に終了することが一般的である
が、特に好ましくは2分以内が好効果をもたらすことが
多い。また現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安
定、定蓄、さらに必要に応して前硬膜、中和等の工程を
採用することは任意であり、これらは適宜省略すること
もできる。さらにまた、これらの処理は皿現像、枠現像
などいわゆる手現像旭理でも、ローラー現像、ハンガー
現像など機械現像であってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
実施例−1
(紫外線吸収剤の固体微粒子分散)
紫外線吸収剤の分散は、ボールに容器にH2O1000
g ゼラチン
120g紫外線吸収剤
200gドデシルスルホン酸エステルナトリ
ウム塩 10g7素化オクチルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム塩 2gマット剤(SiO
z平均粒径5μm) 5g
と酸化ジルコニウムのビーズを入れて容器を密閉し5日
間ボールミル分散した。分散後前記ビーズを取り除き分
散液を得た。
g ゼラチン
120g紫外線吸収剤
200gドデシルスルホン酸エステルナトリ
ウム塩 10g7素化オクチルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム塩 2gマット剤(SiO
z平均粒径5μm) 5g
と酸化ジルコニウムのビーズを入れて容器を密閉し5日
間ボールミル分散した。分散後前記ビーズを取り除き分
散液を得た。
(ハロゲン化銀乳剤試料の調製)
pH3、0の酸性雰囲気下でコンドロールドダブルジェ
ット法によりロジウムを銀1モル当たり10”モル含有
する下記表−■に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成単分
散度の粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニ
ンが1%のゼラチン水溶液1Q当たり30Il1g含有
する系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4
−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザインデンを
ハロゲン化銀1モル当たり600+u加えた後水洗、脱
塩した。
ット法によりロジウムを銀1モル当たり10”モル含有
する下記表−■に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成単分
散度の粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニ
ンが1%のゼラチン水溶液1Q当たり30Il1g含有
する系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4
−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザインデンを
ハロゲン化銀1モル当たり600+u加えた後水洗、脱
塩した。
その後、ハロゲン化銀1モル当たり60+I1gの6−
メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザ
インデンを加えた後、硫黄増感をした。硫黄増感後安定
剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、
7−チトラザインデンを加えた。
メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザ
インデンを加えた後、硫黄増感をした。硫黄増感後安定
剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、
7−チトラザインデンを加えた。
このハロゲン化銀乳剤に下記添加剤を夫々の塗布量にな
るように添加し、2軸延伸時に一塩化ヒニリデンーメチ
ルメタアクリレートーメタクリル酸(90: 8 :
2)ラテックス下引処理(厚さ1μm)をした1100
p厚のポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布した
。
るように添加し、2軸延伸時に一塩化ヒニリデンーメチ
ルメタアクリレートーメタクリル酸(90: 8 :
2)ラテックス下引処理(厚さ1μm)をした1100
p厚のポリエチレンテレフタレート支持体上に塗布した
。
ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート−
アクリル酸3元共重合ポリマー1.0g/m” サポニン 200+++9/+
”ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムハイドロキノ
ン スチレン−マレイン酸共重合体 没食子酸ブチルエステル 5−メチルベンゾトリアゾール 本発明の固体微粒子分散染料 100mg/m” 200TRg/II+2 200111g/11’ 5001119/lI2 306/m” 表−1に示す 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸
30mg/l112イナートオセインゼラチン
1.5g/l112銀量
2.8y/ra2上記乳剤層の上に下記保護膜層を塗
布した。
アクリル酸3元共重合ポリマー1.0g/m” サポニン 200+++9/+
”ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムハイドロキノ
ン スチレン−マレイン酸共重合体 没食子酸ブチルエステル 5−メチルベンゾトリアゾール 本発明の固体微粒子分散染料 100mg/m” 200TRg/II+2 200111g/11’ 5001119/lI2 306/m” 表−1に示す 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸
30mg/l112イナートオセインゼラチン
1.5g/l112銀量
2.8y/ra2上記乳剤層の上に下記保護膜層を塗
布した。
(乳剤層保護膜)
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル300mg/
肩2 マット剤:合成シリカ(平均粒径3.5μ、)100+
ag/+n2 酸処理ゼラチン !−29/11”支
持体に対し乳剤層と反対側の面に下記バッキング層なら
びに保護膜層を塗布した。
肩2 マット剤:合成シリカ(平均粒径3.5μ、)100+
ag/+n2 酸処理ゼラチン !−29/11”支
持体に対し乳剤層と反対側の面に下記バッキング層なら
びに保護膜層を塗布した。
(パツキン・グ層)
ラテックスボリマー:
チレン共重合体
サポニン
バッキング染料
(a)
ブチルアクリ
レードース
0−5g/m”
200o+g/n+2
オセインゼラチン
2−09/11”
バッキング層保護膜
ジオクチルスルホコハク酸エステル
300 m g/’鶏2
マット剤: メタクリル酸メチル(平均粒径4.0μ”
) 1100n/+m”
オセインゼラチン(等電点4.9)1.1g7′l11
2弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム50m
g/m” こうして得られた試料を下記に示す方法により露光し、
下記に示す現像液、定着液を使用して現像処理した。評
価は以下のようにして行った。
) 1100n/+m”
オセインゼラチン(等電点4.9)1.1g7′l11
2弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム50m
g/m” こうして得られた試料を下記に示す方法により露光し、
下記に示す現像液、定着液を使用して現像処理した。評
価は以下のようにして行った。
[現像液処方]
(組成A)
純水(イオン交換水) 150++
+Qエチレンジアミン四酢酸ニナトリウム塩 2gジエ
チレングリコール 509亜硫酸カリ
ウム(55%W/V水溶液) 100m+2炭酸
カリウム 50gハイドロキ
ノン 15g5−メチルベンゾ
トリアゾール 200m91−フェニル−5−
メルカプトテトラゾール 30+119水酸化カリウム 使用液のpI(を10.4にする魚 臭化カリウム 4.5g(組成
り) 純水(イオン交換水) 3富Qジエ
チレングリコール 50gエチレンジ
アミン四酢酸二ナトリウム塩2519酢酸(90%水溶
液) 0.3ttrQ5−二トロ
インダゾール 110119現像液の使
用時に水500■中に上記組成A1組成りの順に溶かし
、112に仕上げて用いた。
+Qエチレンジアミン四酢酸ニナトリウム塩 2gジエ
チレングリコール 509亜硫酸カリ
ウム(55%W/V水溶液) 100m+2炭酸
カリウム 50gハイドロキ
ノン 15g5−メチルベンゾ
トリアゾール 200m91−フェニル−5−
メルカプトテトラゾール 30+119水酸化カリウム 使用液のpI(を10.4にする魚 臭化カリウム 4.5g(組成
り) 純水(イオン交換水) 3富Qジエ
チレングリコール 50gエチレンジ
アミン四酢酸二ナトリウム塩2519酢酸(90%水溶
液) 0.3ttrQ5−二トロ
インダゾール 110119現像液の使
用時に水500■中に上記組成A1組成りの順に溶かし
、112に仕上げて用いた。
[定着液処方1
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム
(72,5%W/V水溶液) 240
+1Q亜硫酸ナトリウム 17g
酢酸ナトリウム・3水塩 6.5g硼
酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g酢酸(90%W/V水溶液) 1
3.6mQ(組成り) 純水(イオン交換水) 17raQ
硫酸(50%W/v)水溶液) 4.7
9硫酸アルミニウム (AQ20.換算含量が8.1%W/Vの水溶液) 2
6.59定着液の使用時に水500m+2中に上記組成
人、組成りの順に溶かし、IQに仕上げて用いた。この
定着液のpHは約4.3であった。
+1Q亜硫酸ナトリウム 17g
酢酸ナトリウム・3水塩 6.5g硼
酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g酢酸(90%W/V水溶液) 1
3.6mQ(組成り) 純水(イオン交換水) 17raQ
硫酸(50%W/v)水溶液) 4.7
9硫酸アルミニウム (AQ20.換算含量が8.1%W/Vの水溶液) 2
6.59定着液の使用時に水500m+2中に上記組成
人、組成りの順に溶かし、IQに仕上げて用いた。この
定着液のpHは約4.3であった。
[現像処理条件1
(工 程) (温 度) (時 間)現 像
38℃ 20秒定 着
28℃ 20秒水 洗 常温
20秒 露光方法 米国ヒユージョン(FUSION)社製、無電極放電管
光源をガラス板下に装着し、ガラス面上には第1図に示
す貼り込み跡、抜き文字品質を評価できるように原稿と
感光材料を重ね露光した。
38℃ 20秒定 着
28℃ 20秒水 洗 常温
20秒 露光方法 米国ヒユージョン(FUSION)社製、無電極放電管
光源をガラス板下に装着し、ガラス面上には第1図に示
す貼り込み跡、抜き文字品質を評価できるように原稿と
感光材料を重ね露光した。
写真性能評価方法
(1) 貼り込み跡
第1図に於いて貼り込み用ベース3,5上に網フィルム
2を載せて、更に網フィルムの周辺を透明な製版用スコ
ッチテープで固定しておき、露光現像処理した後このテ
ープ跡(貼り込み跡)がないときを「5」跡が目立ち最
も悪いレベルを「1」として5段階評価をした。
2を載せて、更に網フィルムの周辺を透明な製版用スコ
ッチテープで固定しておき、露光現像処理した後このテ
ープ跡(貼り込み跡)がないときを「5」跡が目立ち最
も悪いレベルを「1」として5段階評価をした。
(2)抜き文字品質
抜き文字品質は、vg1図に於ける網フィルム2の50
%の網点面積を持つ部分が、返し用感光材料1に50%
の網点面積となるように適正露光したとき第1図に於け
る線画フィルム4上の50μmの線巾が再現される画質
を言い、非常に良い抜き文字画質を「5」とし、最も悪
いレベルを「l」として5段階評価をした。
%の網点面積を持つ部分が、返し用感光材料1に50%
の網点面積となるように適正露光したとき第1図に於け
る線画フィルム4上の50μmの線巾が再現される画質
を言い、非常に良い抜き文字画質を「5」とし、最も悪
いレベルを「l」として5段階評価をした。
本発明の紫外線吸収剤の固体微粒子分散体を含有する層
を設けたハロゲン化銀写真感光材料は貼り込み後の優れ
ていることが分かる。またテトラゾリウム化合物あるい
はヒドラジン化合物を含有すると更に貼り込み跡及び抜
き文字品質が優れていることが分かる。
を設けたハロゲン化銀写真感光材料は貼り込み後の優れ
ていることが分かる。またテトラゾリウム化合物あるい
はヒドラジン化合物を含有すると更に貼り込み跡及び抜
き文字品質が優れていることが分かる。
第1図は抜き文字、返し作業時の原稿と、感光材料の位
置関係を示すものである。 1・・・返し用感光材料 2・・・網点画像フィルム 3.5・・・貼り込みベース 4・・・線画ポジ像のフィルム 6・・・カントマスクフィルム
置関係を示すものである。 1・・・返し用感光材料 2・・・網点画像フィルム 3.5・・・貼り込みベース 4・・・線画ポジ像のフィルム 6・・・カントマスクフィルム
Claims (2)
- (1)紫外部に吸収特性を有する固体微粒子分散体を含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - (2)ヒドラジン化合物またはテトラゾリウム化合物を
含有することを特徴とする請求項1記載のハロゲン化銀
写真感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10584590A JP2811497B2 (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | 貼り込み跡の改良されたハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10584590A JP2811497B2 (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | 貼り込み跡の改良されたハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH043048A true JPH043048A (ja) | 1992-01-08 |
JP2811497B2 JP2811497B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=14418356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10584590A Expired - Fee Related JP2811497B2 (ja) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | 貼り込み跡の改良されたハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2811497B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50103739U (ja) * | 1974-01-29 | 1975-08-27 | ||
JPH04159538A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1990
- 1990-04-19 JP JP10584590A patent/JP2811497B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50103739U (ja) * | 1974-01-29 | 1975-08-27 | ||
JPS545084Y2 (ja) * | 1974-01-29 | 1979-03-05 | ||
JPH04159538A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2811497B2 (ja) | 1998-10-15 |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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