JPH043017A - Ｐｌｚｔ光シャッタアレーの電極形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明はＰＬＺＴ　（透明なセラミック）の複屈折を
利用して平面デイスプレィや光シャッタ等の表、バ装置
に用いるＰＬＺＴ光シャッタアレーの電極形成方法に係
り、更に詳しくは各光シャッタの駆動電圧を有効に利用
するようにしたＰＬＺＴ光シャッタアレーの電極形成方
法に関するものである。

〔従　来　例］ 近年、ＰＺＴにＬａを添加した透明なセラミックのＰＬ
ＺＩ’（ＰｂＯ，ＬａＯ，ＺｒＯ□、Ｔｉｅ）が光シャ
ッタやデイスプレィに用いられようとしている。このＰ
ＬＺＴを２次元光シヤツタや平面デイスプレィ等の表示
装置に用いる場合、例えば第１０図および第１１図に示
される表向電極や溝型電極構造が採られる。

第１０図に示す表面電極の場合、ＰＬＺＴ基板１上に駆
動電極（信号系）２および共通電極（ＧＮＤ）　３を形
成し、それら電極２，３間に電圧を印加することにより
、内部に電場を発生させ、その部分の偏光面を回転させ
ることにより光透過率を制御することができる。

こ九に対して、第１１図に示す溝型電極の場合。

駆動電極４と共通電極５との間に電圧を印加すると、丘
記表面電極の場合より有効な電場を発生させることがで
き、即動電圧の低下が望める。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、上記表面電極や溝型電極によるＰＬＺＴ基板に
は以ドの欠点がある。

（］）光の透過方向に垂直な電場成分のみが透過率の制
御寄与するにもかかわらず、第１０図および第１１図の
二点鎖線に示されるように、ＰＬＺＴ基板１内に発生す
る電場がどうしても一曲するため、それら電極間に印加
した電圧が有効に働いていないことになり、即動電圧を
より低下させることが難しい。

（２）ＰＬＺＴ基板１に複数の光シャッタを形成した場
合、隣接光シャッタに電場が漏れ、クロストークが悪い
。

（３）ＰＬＺＴ基板１は、電歪特性を有しているため、
電圧印加により歪が生じ、しかもその歪が電極（駆動電
極および共通電極）付近に集中し、光透過率の劣化を招
くだけなく、光漏れが発生する。

この発明は、第１２図に示されるように、駆動電＠６お
よび共通電極７を光シャッタ８の両端面に形成すれば、
つまり電極６，７を縦型とすれば、各光シャッタ８にお
いて発生する電場が透過する光の方向と直角になり（同
図の二点鎖線に示す）。

上記（１）から（３）に示す欠点が解消することに着目
してなされたものであり、その目的はＰＬＺＴ基板を用
いて縦型電極を簡単な工程で作製することができ、趣！
電極の低ドやクロストークを抑えることができ、歪によ
る光漏れ、寿命の低下の改善を図ることができるように
した）’ＬＺＴ光シャッタアレーの電極形成方法を提供
することにある。

［課題を解決するための手段］ ■−，記目的を達成す・るために、この発明のＰＬＺＴ
光シャッタアレーの電極形成方法は、ＰＬＺＴ基板と仮
留め用基板とを可剥＃ｉＩ能な接着剤で接着し、その円
−ＺＴ基板にリフトオフ可能な樹脂を塗布した後、この
樹脂の面から少なくとも上記接着剤に達する溝を並列に
形成し、上記樹脂の面および溝内に渡って導電膜を形成
し、その後上記樹脂を除去してその樹脂面に形成した導
電膜を剥離し、それら溝と直角方向の溝を所定間隔で形
成し、て上記ＰＬＺＴ基板をマトリックス状に分割して
独立の光シャッタを形成し、しかる後その分割したＰＬ
ＺＴ基板に透明基板を透明接着剤で接着固定し、上記仮
留め用基板を剥離し、上記透明基板に各独立の光シャッ
タを貼り付け、かつ、上記溝に形成した膜をそれら光シ
ャッタの電極としたことを要旨とする。

［作　　用コ ４〕記方法としたので、仮留め用基板に貼り付けたＰＬ
ＺＴｊ＋Ｇ板を分割して各独立の光シャッタをマトリッ
クス状に形成する。そして、その仮留め用基板に形成し
たまま、それら各独立した光シャッタを透明の接着剤で
透明基板に接着固定した後、その仮留め用基板を剥離し
たので、透明基板に貼り付けられた各光シャッタは独立
にマトリックス状になる。また、上記ＰＬＺＴ基板を分
割する溝に導電膜を成膜したので、各独立の光シャッタ
の両端はその成膜した導電膜による電極となる。さらに
、それら電極は縦型であるため、各光シヤツタ内部に発
生する電場は略直線状になり、各光シャッタに入射する
光と１＠直角となる。

［実　施　例］ 以）、この発明の実施例を第１図乃至第９図に基ついて
説明する。なお、図中、第１０図および第１１図と同一
部分および相当部分には同一符号を付し重複説明を省略
する。

第１図および第２図はこの発明のｌ’ＬＺＴ光シャッタ
アレーの電極形成方法により得たＰＬＺＴ光シャッタア
レー装置の概略的部分斜視図および側断面図を示してお
り、ｌ）Ｌ　Ｚ　Ｔ基板１をマトリックス状に分割して
得た各独立の各光シャッタ（画素）ｌａが透明の接着剤
９で透明基板（例えばガラス板）１０に接着固定されて
いる。それら光シャッタ１ａの両端部には導電膜（金属
膜）１１による縦型の電極（駆動電極、共通＊極）が形
成されている。

次に、上記金属膜１１を縦型の電極とする独立の光シャ
ッタ１ａの作製工程を説明すると、まず第３図に示され
ているように、ＰＬＺＴ基板１と仮留め用基板１２とを
可剥１１＝Ｉ能な接着剤（あるいはワックス等）１３で
接着固定した後、そのＰＬＺＴ基板１にリフトオフ可能
な樹脂、例えばポリイミド樹脂１４を塗布する。接着剤
９としては透明のもので、光硬化型や熱硬化型のものを
用いるとよい。

続いて、第４図に示されているように、塗布したポリイ
ミド樹脂１４のＦから少なくとも接着剤９に達する深さ
の溝１５をダイシングソーによって複数本平行に形成し
、ＰＬＺＴ基板１を完全に複数列に切断する。このとき
、その溝１５の深さは、ＰＬＺＴ基板１を完全に切断す
ればよいため、仮留め用基板１２に達してもよい。

続いて、第５図に示されているように、上記ポリイミド
樹脂１４の面および溝１５の内面に渡って真空蒸着やス
パッタリング法等によって金属膜１１を成膜する。その
後、第６図および第７図に示されているように、塗布し
たポリイミド樹脂１４を剥離液によって除去し、例えば
強アルカリ液に浸してポリイミド樹脂１４を溶かすと、
そのポリイミド樹脂１４のトに成膜した金属膜１１が除
去され、金属膜１１は溝１５の内側のみとなる。

続いて、第７図の二点鎖線に示されているように、４−
記溝１５より深く、つまり溝１５に形成した金属膜１２
を完全に切断する程度に深く、かつ、その溝１５と直角
の溝１６をダイシングソーによって複数本並列に形成す
る。この場合、上記溝１５．１６の間隔は光シャッタ１
ａの大きさに応じて変えればよい。すると、第８図に示
されているように、それら溝１５．１６により、各独立
した光シャッタ１ａが仮留め用基板１２にマトリックス
状に形成され、それら光シャッタ１ａの両端面の金属膜
１１が縦型の電極（駆動電極、共通電極）となる。

続いて、第９図に示されているように、各種−ｑの光シ
ャッタ１ａのトに透明な接着剤９でガラス板１０を接着
し、その後仮留め用基板１２を一１！する。

この場合、その接着剤を除去する剥離液を用いるとよい
。また、仮留め用基板Ｉ２をダイシングソー等によって
切断し、各独立の光シャッタ１ａの面を研磨するように
してもよい。これにより、第１図および第２図に示され
ているように、ガラス板ｌＯにはマトリックス状に独１
７シた光シャッタ１ａが形成され、しかも各光シャッタ
１ａの両端には金属膜１１による縦型の電極が形成され
る。

このように、スパッタリング法、リフトオフ法による金
属膜１１の成膜およびダイシングソーによる切断等の通
常工程で、独立したＰＬＺＴの光シャッタ１ａを２次元
に配列し、それら光シャッタ１ａの電極（駆動電極およ
び共通電極）を縦型としたので。

隣接光シャッタ１ａへの電場、歪の漏れがなくなり、ク
ロストークを抑えることができ、またその歪による光漏
れや寿命の低トを改善することができる。さらに、各光
シャッタ↓ａの電極が縦型であるため、それら電極間に
発生する′電場が光の透過方向と直角になり、印加電圧
を有効に利用できることができ、駆動電圧の低ドを図る
ことができる。

「発明の効果」 以上説明したように、この発明のＰＬＺＴ光シャッタア
レーの電極形成方法によれば、ＰＬＺＴ基板と仮留め用
基板とを再剥離可能な接着剤で接着し、その円７１ｒ基
板にリフトオフｇ丁能な樹脂を塗布した後、二の樹脂の
面から少なくとも上記接着剤に達する溝を１猿列に形成
し、に記樹脂の面および溝内に渡って導電膜を形成し、
その後上記樹脂を除去してその樹脂布に形成した導電膜
を剥離し、それら溝と直角方向の溝を所定間隔で形成し
て上記用、ＺＴ基扱をマトリックス状に分割して独立の
光シャッタを形成し、しかる後その分割したＰＬＺＴ基
板に透明基板を透明接着剤で接着固定し、上記仮留め用
基板を剥離したので、透明基板には各独立の光シャッタ
がマトリックス状に配置され、かつ、上記溝に形成した
導電膜が光シャッタの電極（縦型）になるため、隣接シ
ャッタへの電場や歪が漏れることもなく、したがってク
ロストークを抑えることができ、しかも歪による光漏れ
や寿命の低ドを抑えることかでき、また光シャッタの電
極が縦型であることから、駆動電圧の低下を図ることが
でき、平面デイスプレィや光シャッタ等の表示装置とし
て用いるＰＬＺＴ光シャッタアレーが実現可能となると
いう効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図はこの発明の一実施例を示し、　Ｐ
Ｉ、ＺＴ光シャッタアレーの電極形成方法が適用される
ＰＬＺＴ光シャッタアレーの概略的部分斜視図および側
断面図、第３図乃至第９図は上記円、ＺＴ光シャッタア
レーの電極形成方法を説明するための工程図、第１０図
および第１１図はＰＬＺＴ光シャッタアレーの表面電極
および溝型電極を説明する図、第１２図はＰＬＺＴ光シ
ャッタアレーの縦型電極を説明する図である。 図中、１はＰＬＺＴ基板、１ａは光シャッタ（画素）、
９は接着剤（透明の）、１０はガラス板（透明基板）、
１１は導電膜（金属膜）、１２は仮留め用基板、１３は
接着剤、　１４はポリイミド樹脂（リフトオフ可能なレ
ジスト等）、１５．１６は溝である。 特許出願人　株式会社富士通ゼネラル 代理人　弁理士　　大　原　　拓　也 第６図 ９図 第１１図 第１２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）ＰＬＺＴ基板と仮留め用基板とを再剥離可能な接
   着剤で接着し、そのＰＬＺＴ基板にリフトオフ可能な樹
   脂を塗布した後、該樹脂の面から少なくとも前記接着剤
   に達する溝を並列に形成し、前記樹脂の面および溝内に
   渡って導電膜を形成し、その後前記樹脂を除去してその
   樹脂面に形成した導電膜を剥離し、それら溝と直角方向
   の溝を所定間隔で形成して前記ＰＬＺＴ基板をマトリッ
   クス状に分割して独立の光シャッタを形成し、しかる後
   その分割したＰＬＺＴ基板に透明基板を透明接着剤で接
   着固定し、前記仮留め用基板を剥離し、 前記透明基板に各独立の光シャッタを貼り付け、かつ、
   前記溝に形成した膜をそれら光シャッタの電極としたこ
   とを特徴とするＰＬＺＴ光シャッタアレーの電極形成方
   法。