JPH043016A - Ｐｌｚｔ光シャッタアレーの電極形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明はＰＬＺＴ（透明なセラミック）の複屈折を利
用して平面デイスプレィや光シャッタ等の表示装置に用
いるＰＬＺＴ光シャッタアレーの電極形成方法に係り、
更に詳しくは各光シャッタの屏動電圧を有効に利用する
ようにしたＰＬＺＴ光シャッタアレーの電極形成方法に
関するものである。

［従　来　例］ 近年、ＰＺＴにＬａを添加した透明なセラミックのＰＬ
ＺＴ（ＰｂＯ，ＬａＯ，ＺｒＯ２，Ｔｉｅ）は、第７図
に示す構成にすと、光シャッタやデイスプレィに用いる
ことが可能である。すなわち、ＰＬＺＴ基板１に駆動電
極２および共通電極（ＧＮＤ）　３を形成し、そのＰＬ
ＺＴ基板１の両側にそれぞれ偏光子４と検光子５とを配
置し、それら電極２，３に電圧を印加すると、そのＰＬ
ＺＴ基板１内に電場が発生し、この電場で偏光面を回転
させることにより上記偏光子３側からの入射光を透過制
御することができるからである。

このようにして、ＰＬＺＴの電気光学効果を利用し、空
間変調素子やパネルデイスプレィが考えられ。

例えば第８図に示されるように、　ＰＬＺＴ基板１を光
シヤツタアレーとした場合の光学系を考えると、光源６
の前方にＰＬＺＴ基板１を配置し、このＰＬＺＴ基板１
に光学系レンズ７を配置し、ＰＬＺＴ基板１の各画素１
ａを表示画像に応じて制御することにより。

任意の画像を得ることが可能である。

しかし、ＰＬＺＴ基板１の中央部にある画素１ａと端部
（周辺部）にある画素１ａとでは入射光の角度が異なる
ため、それら画素１ａを制御する駆動電圧が同じである
と、十分な輝度の画像を得ることが困難である。

そこで、第９図に示されるように、ＰＬＺＴ基板１を彎
曲とし、各画素１ａに入射する光の角度が略直角になる
ようにすることが考えられる。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記ＰＬＺＴ基板１がセラミックスであ
るため、そのＰＬＺＴ基板１に彎曲をもたせて加工する
ことが困難である。また、彎曲したＰＬＺＴ基板１を得
ることができたとしても、そのＰＬＺＴ基板１−）＝、
に各画素１ａを駆動するための電極や配線パターン等を
バターニングする必要があるが、例えば通常のホトリソ
グラフィ工程によってその電極や配線パターン等、特に
微細なパターンをバターニングすることが極めて困難で
ある。

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、その目
的はＰＬＺＴ基板の各画素を彎曲状に配置できるように
したＰＬＺＴ光シャッタアレーの電極形成方法を提供す
ることにある。

［課題を解決するための手段］ １記目的を達成するために５この発明の光シヤツタアレ
ーの電極形成方法は、ＰＬＺＴ基板の一方の面には所定
間隔でランド電極を形成しており、上記ＰＬＺＴ基板に
接着する柔軟な透明基板（フレキシブルフィルム）には
上記ランド電極に接続するバンプおよびその接続電極を
外部に引き出すための配線パターンを形成しており、上
記ＰＬＺＴ基板と柔軟な透明基板とを透明接着剤で接着
固定した後。

この接着したＰＬＺＴ基板上にリフトオフ可能な樹脂を
塗布し、そのリフトオフ可能な樹脂の上から上記ランド
電極に対応し、少なくとも接着剤に達する深さの第１の
溝およびこの第１の溝より深く、それに平行な第２の溝
を複数本並列に形成し、その後上記リフトオフ可能な樹
脂および第１の溝。

第２の溝の内に渡って導電膜を成膜し、そのリフトオフ
可能な樹脂を剥離して上記第１および第２の溝の内側の
みに導電膜を成膜し、しかる後上記第１および第２の溝
に直角で、かつ、第１の溝と第２の溝との中間の深さの
第３の溝を複数本並列に形成し、上記ＰＬＺＴ基板を複
数に分割して独立側索を得、上記第１および第２の溝に
形成した導電膜をＬ記独立の画素の電極とし、上記透明
基板を折り曲げた際、上記独立の画素がその折り曲げに
沿うようにしたことを要旨とする。

［作　　用コ 上記方法としたので、柔軟な透明基板に接着固定された
ＰＬＺＴ基板がマトリックス状に分割されるため、その
透明基板には各独立した画素が形成される。すなわち、
上記透明基板を自在に折り曲げ可能であり、しかも各独
立の画素はその折り曲げに沿うことになり、例えばその
透明基板を彎曲すれば、光源からの光が各独立の画素に
直角に入射し、各画素の透過光の輝度が良好になる。

また、第１および第２の溝に形成した導電膜がそれら独
立の画素の電極となり、しかもその電極は縦型である。

しかって、各独立の画素の電極間に電圧を印加すると、
内部に発生する電場が直線状になるため、各画素の電極
の印加電圧（Ｗｉ動電圧）を低下させることが可能にな
り、しかも隣接画素のクロストークや歪等の漏れを防止
することにもなる。

［実　施　例］ 以下、この発明の実施例を第１図乃至第６図に基づいて
説明する。

第１図および第２図はこの発明の電極形成方法により得
たＰＬＺＴ光シャッタアレーの概略的部分断面図および
正面図を示しており、ＰＬＺＴ基板１の各画素８は透明
の接着剤９で独立に柔軟な透明基板（フレキシブルフィ
ルム）１０に接着しており、各画Ｊ！８はそのフレキシ
ブルフィルムＩＯの形状に沿っている。それら各画素８
は、少なくとも接着剤９に達する深さで、ランド電極１
２に接続する金属膜１１を形成した第１の溝１３．その
第１の溝１３より深く、平行で内側に金属膜１１を形成
した第２の溝１４および第１および第２の溝１３．１４
に直角で、それらの中間の深さの第３の溝（分割溝：第
１図の二点鎖線に示す）１５により、マトリックス状に
分割されている。そして、各独立の画素８は、第１の溝
１３に形成された金属膜１１による電極（駆動電極）、
第２の溝１４に形成された金属膜１１による電極（共通
電極）を有し、しかもそれら電極は縦型になっている。

この場合、各独立の画素８の電極は３極構造になってい
る。

一方、ＰＬＺＴ基板１に貼り合わせたフレキシブルフィ
ルムｌＯは、上記ランド電極１２と対向する位置にバン
ブ１６、および金属あるいはＩＴＯ（、［ｎｄｕｉｍ　
Ｔｉｎ０ｘｉｄｅ）等により、電極を含み、当該バンブ
１６を介して第１の溝１２の駆動電極を外部に引き出す
ための配線パターン（信号ライン）１７を有しており、
その貼り合わせた際、上記ランド電極１２とバンブ１６
とが接続し、上記ランド電極１２に接続している第１の
溝１３の駆動電極が外部に引き出しｉ７能になっている
。

次に、−１−記金属膜１１を電極とする画素８の作製工
程を説明すると、まず第３図に示されているように、　
ＰＬＺＴ基板１の一方の面に所定間隔でランド電極１２
を形成する。そのランド電極１２の形成面に接着するフ
レキシブルフィルム１０には一１二記ランド電極１２と
対向してバンブ１６を形成するとともに。

そのランド電極１２を外部に引き出す配線パターン１７
を形成する。その後、上記ＰＬＺＴ基板１とフレキシブ
ルフィルムｌＯとを接着剤９で接着固定し、さらにＰＬ
ＺＴ基板１の他方の面にリフトオフ可能な樹脂、レジス
ト等の高分子膜１８を塗布する。接着剤９としては、透
明で、ＰＬＺＴ基板１の振動を吸収するために硬化後も
柔軟性を有するもの、好ましくはシリコン系ゴムを用い
るとよい。なお、上記高分子膜１８はＰＬＺＴ基板１と
フレキシブルフィルム１０とを接着固定する前であって
もよい。

続いて、第４図に示されているように、塗布した高分子
膜１８の丘から少なくとも接着剤９に達し、かつ、ラン
ド電極１２に達する第１の溝１３をダイシングソーによ
って複数本平行に形成する。さらに、同じダイシングソ
ーによって、その第１の溝１３の間に、それより深い第
２の溝１４を複数本形成する。

なお、その第１および第２の溝１３．１４の間隔は画素
８の大きさに応じて変えればよい。

続いて、第５図および第６図に示されているように、上
記高分子ｓ１８の面および第１および第２の溝１３．１
４の内側に渡ってスパッタリング法によって金属１Ｉ１
１１を成膜する。その後、第６図に示されているように
、ＰＬＺＴ基板１の高分子膜１８を剥離液によって除去
すると、その高分子膜１８の上に成膜した金属膜１１が
除去され、第１および第２の溝１３の内側の面のみに金
属膜１１が残る。

続いて、第６図の二点鎖線に示されているように、上記
ＰＬＺＴ基板１の上から第１の溝１３より深く、かつ、
第２の溝１４より浅く、それら第１および第２の溝１３
．１４と直交するように、ダイシングソーによって第３
の溝１５を複数本並列に形成する。すると、ＰＬＺＴ基
板１がマトリックス状に分割され、各独立の画素８が得
られる。それら独立の画素８の両端にある第１および第
２の溝１３．１４の金属膜１１が電極となり、しかもそ
の電極は縦型となる。

すなわち、第１図および第２図に示されているように、
フレキシブルフィルム１０には各独立した画素８が２次
元配列される。また、フレキシブルフィルムＩＯを自在
に曲げることができ、２次元に配列されている各画素８
はそのフレキシブルフィルム１０に沿うことになる。

このように、ダイシンクソーによる切断、スパッタリン
グ法およびリフトオフ法による金属膜の成膜等の通常工
程で、独立したｌ）Ｌ　Ｚ　Ｔの画素８をフレキシブル
フィルム（柔軟な透明基板）１０に２次元に配列し、ま
たそれら画素８の電極（駆動電極および共通電極）を縦
型とだので、各画素８の配置をフレキシブルフィルムの
形状にしたがって変えることができ、そのフレキシブル
フィルム１０を彎曲にすれると、各画素８がその彎曲に
沿うことになり、例えば第９図の構成とした場合、光源
からの光が各画素８に略直角に入射するようになるため
、十分な輝度の画像を得ることができ、ＰＬＺＴのデイ
スプレィの実現が＝ｉＪ能となる。

また、各画素８を独立とし、かつ、それら画素８の電極
を縦型にしたので、ＰＬＺＴ内に発生する歪を一様にし
、その破損を防止することができ、しかもそれら電極間
に発生する電場が光の透過方向と直角にすることができ
るため、印加電圧を有効に利用できることになり、より
駆動電圧の低下を図ることができる。さらに、各画素８
が独立形式になるため、隣接画素８への電場の漏れがな
くなり、タロストークの向上を図ることができる。

［発明の効果］ 以上説明したように、この発明のＰＬＺＴ光シャッタア
レーの電極形成方法によれば、ＰＬＺＴ基板の一方の面
には所定間隔でランド電極を形成しており、このＰＬＺ
Ｔ基板に接着する柔軟な透明基板にはそのランド電極と
対向する位置にバンプを形成するとともに、このバンプ
を介して上記ランド電極を外部に引き出す配線パターン
を形成しており、上記ＰＬＺＴ基板と柔軟な透明基板と
の接着固定固定した後、そのＰ　Ｌ　Ｚ　Ｔ基板の他方
面に少なくとも上記ランド電極に達する溝を複数本並列
に形成するとともに、それら溝に金属膜を成膜するとと
もに、それら溝に直角方向の溝を複数本並列に形成し、
上記ＰＬＺＴ基板をマトリックス状に分割して独立画素
を得、かつ、上記溝に形成した金属膜をその独立の画素
の電極とし、上記柔軟な透明基板を自在に折り曲げた際
、それら独立の画素がその折り曲げに沿うようにしたの
で、柔軟な透明基板を任意の形状にすることができ、か
つ、各画素をその形状に沿わせることができるため、例
えばその各画素を彎曲状に沿わせることにより、光源か
らの光を各画素に略直角に入射させることができ、十分
な輝度が得られるようになり、ＰＬＺＴによるデイスプ
レィの実現が可能であるという効果大なるものがある。

　また、この発明によれば、各独立の画素の電極を縦型
としたので、その電極に印加する即動電圧の低下を図る
ことができ、しかも隣接画素へのクロストークの向上を
図ることができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図はこの発明の一実施例を示し、ＰＬ
ＺＴ光シャッタアレーの電極形成方法が適用されるＰＬ
ＺＴ光シャッタアレーの概略的側断面図および正面図、
第３図乃至第６図は上記ＰＬＺＴ光シャッタアレーの電
極形成方法を説明するための工程図、第７図はＰＬＺＴ
の光透過原理を説明する図、第８図および第９図はＰＬ
ＺＴを表示装置に用いた場合の概略的構成図である。 図中、１はＰ　Ｌ　Ｚ　’ｒ基板、８は画素、９は接着
剤（透明の）、１０は透明基板（柔軟な；フレキシブル
フィルム）、１１は導電膜（金属膜）、１２はランド電
極、１３は第１の溝（Ｎ動電極）、１４は第２の溝（共
通電極）、１５は第３の溝（分割溝）、１６はバンプ、
１７は配線パターン（電極を含む）、１８は高分子膜（
リフトオフ可能なレジスト等）である。 特許出願人　　株式会社　富士通セネラル代理人　弁理
士　　大　原　拓　也 第 図 第２図 第 図 ≠−１画素 １画素−ｍ−４ 第３図 第４図 第 図 第８図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ＰＬＺＴ基板の一方の面には所定間隔でランド電
   極を形成しており、前記ＰＬＺＴ基板に接着する柔軟な
   透明基板には前記ランド電極に接続するバンプおよびそ
   の接続電極を外部に引き出すための配線パターンを形成
   しており、 前記ＰＬＺＴ基板と柔軟な透明基板とを透明接着剤で接
   着固定した後、該接着したＰＬＺＴ基板上にリフトオフ
   可能な樹脂を塗布し、そのリフトオフ可能な樹脂の上か
   ら前記ランド電極に対応し、少なくとも接着剤に達する
   深さの第１の溝および該第１の溝より深く、それに平行
   な第２の溝を複数本並列に形成し、その後前記リフトオ
   フ可能な樹脂および第１の溝、第２の溝の内に渡って導
   電膜を成膜し、そのリフトオフ可能な樹脂を剥離して前
   記第１および第２の溝の内側のみに導電膜を成膜し、し
   かる後前記第１および第２の溝に直角で、かつ、第１の
   溝と第２の溝との中間の深さの第３の溝を複数本並列に
   形成し、前記ＰＬＺＴ基板を複数に分割して独立画素を
   得、前記第１および第２の溝に形成した導電膜を前記独
   立の画素の電極とし、前記透明基板を折り曲げた際、前
   記独立の画素がその折り曲げに沿うようにしたことを特
   徴とするＰＬＺＴ光シャッタアレーの電極形成方法。
2. （２）前記柔軟な透明基板はフレキシブルフィルムであ
   る請求項（１）記載のＰＬＺＴ光シャッタアレーの電極
   形成方法。