JPH04301547A - 表面検査装置 - Google Patents
表面検査装置Info
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- JPH04301547A JPH04301547A JP9126791A JP9126791A JPH04301547A JP H04301547 A JPH04301547 A JP H04301547A JP 9126791 A JP9126791 A JP 9126791A JP 9126791 A JP9126791 A JP 9126791A JP H04301547 A JPH04301547 A JP H04301547A
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- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 35
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 13
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表面検査装置及びその
方法に係わり、さらに詳しくは、大型液晶ディスプレイ
等を検査ステ−ジに載置して顕微鏡で拡大して、電極パ
タ−ンの損傷、ピンホ−ルの有無を検査する装置及びそ
の方法に関する。
方法に係わり、さらに詳しくは、大型液晶ディスプレイ
等を検査ステ−ジに載置して顕微鏡で拡大して、電極パ
タ−ンの損傷、ピンホ−ルの有無を検査する装置及びそ
の方法に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶ディスプレイの電極パタ−ンの形成
にはフォトリソグラフィ技術が利用されており、露光、
エッチング、洗浄の工程を繰り返すことにより、電極パ
タ−ンをガラス基板上に形成する。所期する電極パタ−
ンが正確に形成されているか、ピンホ−ル等の欠陥が無
いかどうかは、顕微鏡を使用して拡大検査している。こ
の顕微鏡検査においては、観察ステ−ジに搭載した基板
の所望部位を手動又は自動により顕微鏡の観察視野に案
内し、テレビカメラでこれを撮影しモニタに表示して行
う。近年、液晶ディスプレイはワ−プロのディスプレイ
やテレビモニタとしても使用され、大型液晶ディスプレ
イが製造され始めている。現在、大型液晶ディスプレイ
用として、製造ラインでは300×300、650×6
50(mm)の基板のものが製造されている。
にはフォトリソグラフィ技術が利用されており、露光、
エッチング、洗浄の工程を繰り返すことにより、電極パ
タ−ンをガラス基板上に形成する。所期する電極パタ−
ンが正確に形成されているか、ピンホ−ル等の欠陥が無
いかどうかは、顕微鏡を使用して拡大検査している。こ
の顕微鏡検査においては、観察ステ−ジに搭載した基板
の所望部位を手動又は自動により顕微鏡の観察視野に案
内し、テレビカメラでこれを撮影しモニタに表示して行
う。近年、液晶ディスプレイはワ−プロのディスプレイ
やテレビモニタとしても使用され、大型液晶ディスプレ
イが製造され始めている。現在、大型液晶ディスプレイ
用として、製造ラインでは300×300、650×6
50(mm)の基板のものが製造されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のような大型基板
の検査に、従来のような装置の機構をそのまま使用する
とすれば、X−Yステ−ジ機構の大型化は避けられず、
それに伴い巨大な検査装置とならざるを得ない。また、
このような大型化したX−Yステ−ジ機構の移動精度を
維持するには、高精度の部品加工が必要であると共に、
誤差を補正するための複雑な処理が必要となり、装置の
高価格化は避けられない。
の検査に、従来のような装置の機構をそのまま使用する
とすれば、X−Yステ−ジ機構の大型化は避けられず、
それに伴い巨大な検査装置とならざるを得ない。また、
このような大型化したX−Yステ−ジ機構の移動精度を
維持するには、高精度の部品加工が必要であると共に、
誤差を補正するための複雑な処理が必要となり、装置の
高価格化は避けられない。
【0004】本発明は上記欠点に鑑み案出されたもので
、本発明の目的は被検物の大きさに比較してより小さい
移動で被検物表面の全体を検査できる表面検査装置を提
供することにある。
、本発明の目的は被検物の大きさに比較してより小さい
移動で被検物表面の全体を検査できる表面検査装置を提
供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は次のような特徴を有している。 (1) 顕微鏡光学系を有する観察光学系と、該観察
光学系により得られる像の方向を回転させる像方向回転
手段と、被検物を載置する載置台と、該載置台を所定角
度回転させる回転機構と、前記載置台をX−Y方向に移
動するX−Y移動機構と、前記載置台を回転させる回転
機構の回転と前記像方向回転手段による像回転とを連動
させる機構を有することを特徴としている。
に、本発明は次のような特徴を有している。 (1) 顕微鏡光学系を有する観察光学系と、該観察
光学系により得られる像の方向を回転させる像方向回転
手段と、被検物を載置する載置台と、該載置台を所定角
度回転させる回転機構と、前記載置台をX−Y方向に移
動するX−Y移動機構と、前記載置台を回転させる回転
機構の回転と前記像方向回転手段による像回転とを連動
させる機構を有することを特徴としている。
【0006】(2) (1)の回転機構の所定角度と
は180度であり、被検物を2分割して検査することを
特徴としている。
は180度であり、被検物を2分割して検査することを
特徴としている。
【0007】(3) (1)の回転機構の所定角度と
は90度、180度、270度であり、被検物を4分割
して検査することを特徴としている。
は90度、180度、270度であり、被検物を4分割
して検査することを特徴としている。
【0008】(4) (1)の像方向回転手段とは顕
微鏡光学系中に配置されたイメ−ジロ−テ−タであるこ
とを特徴としている。
微鏡光学系中に配置されたイメ−ジロ−テ−タであるこ
とを特徴としている。
【0009】(5) (1)の載置台を回転させる回
転機構は、載置台と共にX−Y移動機構によりX−Y方
向に移動する構造となっていることを特徴としている。
転機構は、載置台と共にX−Y移動機構によりX−Y方
向に移動する構造となっていることを特徴としている。
【0010】(6) (1)の表面検査装置の載置台
をX−Y方向に移動するX−Y移動機構の制御デ−タは
載置台及び像の回転角と同期して変換することを特徴と
している。
をX−Y方向に移動するX−Y移動機構の制御デ−タは
載置台及び像の回転角と同期して変換することを特徴と
している。
【0011】(7) 被検物が載置された載置台をX
−Y方向に移動して、被検物の表面を検査する方法にお
いて、被検物の検査領域を複数に分割する過程と、分割
された一つの領域の検査が終了したときは前記載置台を
所定量回転させる過程と、該載置台の回転に連動して観
察像を回転させる過程と、からなることを特徴としてい
る。
−Y方向に移動して、被検物の表面を検査する方法にお
いて、被検物の検査領域を複数に分割する過程と、分割
された一つの領域の検査が終了したときは前記載置台を
所定量回転させる過程と、該載置台の回転に連動して観
察像を回転させる過程と、からなることを特徴としてい
る。
【0012】
【実施例】図1は本発明の1実施例の要部の配置を示す
要部配置図である。1は被検物であるガラス基板であり
、フォトリソグラフィ技術により電極パタ−ンが形成さ
れている。2はガラス基板1を載置する載置台で、ガラ
ス基板1は載置台2に真空吸着されている。3は載置台
2を軸回りに回転させるとともに、上下(Z軸)方向に
駆動する駆動機構を収納する筐体である。筐体3内の駆
動機構は、載置台2を軸回りに回転するためのステッピ
ングモ−タ4等の駆動機構と、その駆動機構全体を上下
(Z軸)方向に駆動する駆動機構とからなる。載置台2
の回転位置はステッピングモ−タ4の制御デ−タにより
得られるが、別個に検出器を設けて検出しても良い。
要部配置図である。1は被検物であるガラス基板であり
、フォトリソグラフィ技術により電極パタ−ンが形成さ
れている。2はガラス基板1を載置する載置台で、ガラ
ス基板1は載置台2に真空吸着されている。3は載置台
2を軸回りに回転させるとともに、上下(Z軸)方向に
駆動する駆動機構を収納する筐体である。筐体3内の駆
動機構は、載置台2を軸回りに回転するためのステッピ
ングモ−タ4等の駆動機構と、その駆動機構全体を上下
(Z軸)方向に駆動する駆動機構とからなる。載置台2
の回転位置はステッピングモ−タ4の制御デ−タにより
得られるが、別個に検出器を設けて検出しても良い。
【0013】5は案内軸であり、案内軸5には送りねじ
が形成されており、X軸駆動用サ−ボモ−タ6により案
内軸5が回転して、載置台2及び筐体3をX方向に案内
する。このX方向に駆動する機構全体は、Y軸駆動用サ
−ボモ−タ7によりY方向に移動可能になっている。X
方向、Y方向の各位置は、サ−ボモ−タ6、7の各回転
を検出する位置検出器8、9により検出される。
が形成されており、X軸駆動用サ−ボモ−タ6により案
内軸5が回転して、載置台2及び筐体3をX方向に案内
する。このX方向に駆動する機構全体は、Y軸駆動用サ
−ボモ−タ7によりY方向に移動可能になっている。X
方向、Y方向の各位置は、サ−ボモ−タ6、7の各回転
を検出する位置検出器8、9により検出される。
【0014】10は顕微鏡光学系を含む顕微鏡部である
。11は顕微鏡のマウントに嵌合可能なアダプタであり
、アダプタ11を介してイメ−ジロ−テ−タ12は顕微
鏡光学系と同軸にされる。アダプタ11を介してイメ−
ジロ−テ−タ12を取り付けるので、アダプタ11の種
類を選択するだけで、市販の顕微鏡にもイメ−ジロ−テ
−タ12を自由に挿入できる。イメ−ジロ−テ−タ12
は、顕微鏡像を90度、180度、270度回転するよ
う制御される。イメ−ジロ−テ−タ12を回転するステ
ッピングモ−タ13は、マイクロコンピュ−タにより載
置台2を軸回りに回転する駆動機構の動作と関連制御さ
れる。なお、顕微鏡像を回転すること自体は画像処理技
術によっても可能であるが、処理時間のロス等を考慮す
れば光学的に像を回転することが望ましい。14は顕微
鏡の像を撮影するテレビカメラであり、、撮影像はテレ
ビモニタ15に表示される。
。11は顕微鏡のマウントに嵌合可能なアダプタであり
、アダプタ11を介してイメ−ジロ−テ−タ12は顕微
鏡光学系と同軸にされる。アダプタ11を介してイメ−
ジロ−テ−タ12を取り付けるので、アダプタ11の種
類を選択するだけで、市販の顕微鏡にもイメ−ジロ−テ
−タ12を自由に挿入できる。イメ−ジロ−テ−タ12
は、顕微鏡像を90度、180度、270度回転するよ
う制御される。イメ−ジロ−テ−タ12を回転するステ
ッピングモ−タ13は、マイクロコンピュ−タにより載
置台2を軸回りに回転する駆動機構の動作と関連制御さ
れる。なお、顕微鏡像を回転すること自体は画像処理技
術によっても可能であるが、処理時間のロス等を考慮す
れば光学的に像を回転することが望ましい。14は顕微
鏡の像を撮影するテレビカメラであり、、撮影像はテレ
ビモニタ15に表示される。
【0015】以上の構成の装置の動作を次に説明する。
図示しない搬送機構により載置台2に搬送されたガラス
基板1は、載置台2に真空吸着され、固定される。図2
は顕微鏡光学系とガラス基板の位置関係を説明する図で
あり、ガラス基板の表面は4分割して各領域(図上A、
B、C、Dで示す)ごとに順次検査される。検査開始時
の顕微鏡光学系はA領域のほぼ中心を観察するように位
置合わせされている。
基板1は、載置台2に真空吸着され、固定される。図2
は顕微鏡光学系とガラス基板の位置関係を説明する図で
あり、ガラス基板の表面は4分割して各領域(図上A、
B、C、Dで示す)ごとに順次検査される。検査開始時
の顕微鏡光学系はA領域のほぼ中心を観察するように位
置合わせされている。
【0016】案内軸5、サ−ボモ−タ6、7等で構成さ
れるX−Y軸駆動機構を駆動して、ガラス基板1と顕微
鏡光学系を相対的に移動させる。ガラス基板1上のパタ
−ン像は一定の間隔で規則正しく並んでいるので、所定
のステップ間隔でX−Y軸駆動機構の駆動を制御し、A
領域での欠陥の有無を検査する。A領域での欠陥検査に
要するX−Y方向の移動量は、ガラス基板1の各方向で
の長さをx、yとすると、各x/2、y/2である。
れるX−Y軸駆動機構を駆動して、ガラス基板1と顕微
鏡光学系を相対的に移動させる。ガラス基板1上のパタ
−ン像は一定の間隔で規則正しく並んでいるので、所定
のステップ間隔でX−Y軸駆動機構の駆動を制御し、A
領域での欠陥の有無を検査する。A領域での欠陥検査に
要するX−Y方向の移動量は、ガラス基板1の各方向で
の長さをx、yとすると、各x/2、y/2である。
【0017】A領域の検査が終了すると、載置台2を軸
回りに回転するためのステッピングモ−タ4等からなる
駆動機構が働き、載置台2をccw方向に90度回転し
、B領域を顕微鏡の観察領域内に置く。A領域の観察時
にパタ−ン像が正立像として観察されるように光学設計
されているので、載置台2を回転させてB領域を観察領
域に置いたときのパタ−ン像はccw方向に90度回転
している。ステッピングモ−タ13によりイメ−ジロ−
テ−タ12をcw方向に90/2度回転することにより
、パタ−ン像はA領域を観察したときと同様な状態で観
察できる。また、A領域でのパタ−ン検査と全く同様に
B領域での検査を行うために、A領域における駆動デ−
タを90度軸回転させた変換デ−タを、X−Y軸駆動機
構の駆動デ−タとして使用する。
回りに回転するためのステッピングモ−タ4等からなる
駆動機構が働き、載置台2をccw方向に90度回転し
、B領域を顕微鏡の観察領域内に置く。A領域の観察時
にパタ−ン像が正立像として観察されるように光学設計
されているので、載置台2を回転させてB領域を観察領
域に置いたときのパタ−ン像はccw方向に90度回転
している。ステッピングモ−タ13によりイメ−ジロ−
テ−タ12をcw方向に90/2度回転することにより
、パタ−ン像はA領域を観察したときと同様な状態で観
察できる。また、A領域でのパタ−ン検査と全く同様に
B領域での検査を行うために、A領域における駆動デ−
タを90度軸回転させた変換デ−タを、X−Y軸駆動機
構の駆動デ−タとして使用する。
【0018】同様に、B領域が観察領域にある状態から
、さらに載置台2をccw方向に90度回転すると、C
領域が顕微鏡の観察領域に置かれ、イメ−ジロ−テ−タ
7をcw方向にさらに90/2度回転する。座標変換さ
れた駆動デ−タに基づいてX−Y軸駆動機構を制御して
検査を行う。D領域の検査はC領域のときに比較して、
さらに載置台2をccw方向に90度、イメ−ジロ−テ
−タ7をcw方向に90/2度回転する。
、さらに載置台2をccw方向に90度回転すると、C
領域が顕微鏡の観察領域に置かれ、イメ−ジロ−テ−タ
7をcw方向にさらに90/2度回転する。座標変換さ
れた駆動デ−タに基づいてX−Y軸駆動機構を制御して
検査を行う。D領域の検査はC領域のときに比較して、
さらに載置台2をccw方向に90度、イメ−ジロ−テ
−タ7をcw方向に90/2度回転する。
【0019】
【発明の効果】本発明の表面検査装置及びその方法によ
れば、被検物の大きさに比較してより小さい移動で被検
物表面の全体を検査でき、装置の大型化を抑制すること
ができる。
れば、被検物の大きさに比較してより小さい移動で被検
物表面の全体を検査でき、装置の大型化を抑制すること
ができる。
【図1】1実施例の要部の配置を示す要部配置図である
。
。
【図2】顕微鏡光学系とガラス基板の位置関係を説明す
る説明図である。
る説明図である。
1 ガラス基板
2 載置台
3 筐体
4,13 ステッピングモ−タ
5 案内軸
6,7 サ−ボモ−タ
8,9 位置検出器
10 顕微鏡部
11 アダプタ
12 イメ−ジロ−テ−タ
14 テレビカメラ
15 テレビモニタ
Claims (7)
- 【請求項1】 顕微鏡光学系を有する観察光学系と、
該観察光学系により得られる像の方向を回転させる像方
向回転手段と、被検物を載置する載置台と、該載置台を
所定角度回転させる回転機構と、前記載置台をX−Y方
向に移動するX−Y移動機構と、前記載置台を回転させ
る回転機構の回転と前記像方向回転手段による像回転と
を連動させる機構とを有することを特徴とする表面検査
装置。 - 【請求項2】 請求項1の回転機構の所定角度とは1
80度であり、被検物を2分割して検査することを特徴
とする表面検査装置。 - 【請求項3】 請求項1の回転機構の所定角度とは9
0度、180度、270度であり、被検物を4分割して
検査することを特徴とする表面検査装置。 - 【請求項4】 請求項1の像方向回転手段とは顕微鏡
光学系中に配置されたイメ−ジロ−テ−タであることを
特徴とする表面検査装置。 - 【請求項5】 請求項1の載置台を回転させる回転機
構は、載置台と共にX−Y移動機構によりX−Y方向に
移動する構造となっていることを特徴とする表面検査装
置。 - 【請求項6】 請求項1の表面検査装置の載置台をX
−Y方向に移動するX−Y移動機構の制御デ−タを載置
台及び像の回転角と同期して変換することを特徴とする
表面検査装置。 - 【請求項7】 被検物が載置された載置台をX−Y方
向に移動して、被検物の表面を検査する方法において、
被検物の検査領域を複数に分割する過程と、分割された
一つの領域の検査が終了したときは前記載置台を所定量
回転させる過程と、該載置台の回転に連動して観察像を
回転させる過程と、からなることを特徴とする表面検査
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3091267A JP3053449B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3091267A JP3053449B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 表面検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04301547A true JPH04301547A (ja) | 1992-10-26 |
JP3053449B2 JP3053449B2 (ja) | 2000-06-19 |
Family
ID=14021661
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3091267A Expired - Fee Related JP3053449B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 表面検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3053449B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10293088A (ja) * | 1997-04-18 | 1998-11-04 | Fujimori Gijutsu Kenkyusho:Kk | 基板表面検査装置 |
JP2008070238A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Olympus Corp | 基板検査装置 |
JP2012512426A (ja) * | 2008-12-15 | 2012-05-31 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 走査型顕微鏡 |
US11525994B2 (en) | 2016-03-31 | 2022-12-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Adapter, microscope adjustment method, microscope system, and storage medium |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102901738A (zh) * | 2012-11-15 | 2013-01-30 | 苏州华碧微科检测技术有限公司 | 一种钢化玻璃自爆的鉴定方法 |
-
1991
- 1991-03-28 JP JP3091267A patent/JP3053449B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10293088A (ja) * | 1997-04-18 | 1998-11-04 | Fujimori Gijutsu Kenkyusho:Kk | 基板表面検査装置 |
JP2008070238A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Olympus Corp | 基板検査装置 |
JP2012512426A (ja) * | 2008-12-15 | 2012-05-31 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 走査型顕微鏡 |
US9684159B2 (en) | 2008-12-15 | 2017-06-20 | Koninklijke Philips N.V. | Scanning microscope |
US11525994B2 (en) | 2016-03-31 | 2022-12-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Adapter, microscope adjustment method, microscope system, and storage medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3053449B2 (ja) | 2000-06-19 |
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