JPH04290795A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】本発明は、高エネルギー密度のレ
ーザビームを用いて情報の記録が可能な情報記録媒体に
関するものである。 【０００２】 【従来の技術】近年において、レーザ光等の高エネルギ
ー密度のビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用
化されている。この情報記録媒体は光ディスクと称され
、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには
大容量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用デ
ィスク・メモリなどとして使用されている。 【０００３】ＤＲＡＷ（Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　Ａｆ
ｔｅｒ　Ｗｒｉｔｅ）型の光ディスクは、基本構造とし
て、ガラス、合成樹脂などからなる円盤状の基板と、こ
の上に設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属また
は半金属；またはシアニン系、金属錯体系、キノン系等
の色素からなる記録層とを有する。なお、記録層が設け
られる側の基板表面には通常、基板の平面性の改善、記
録層との接着力の向上あるいは光ディスクの感度の向上
などの点から、高分子物質からなる中間層が設けられる
ことが多い。 【０００４】上記光ディスクへの情報の記録及び再生は
、レーザビームをディスク表面に照射することにより行
なわれる。この際、レーザビームは、通常ディスク表面
の所定の位置に行われる。レーザビームを案内して照射
予定位置に正確にたどる（一般にトラッキングと呼ばれ
る）ようにするため、凹溝のトラッキングガイド（プリ
グルーブ）が基板の表面に円環状（スパイラル状も含む
）に設けられることが一般的である。 【０００５】記録層を形成する記録材料としては上記の
ように金属類や色素等が知られているが、色素を用いた
情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高感度であ
るなど記録媒体自体の特性において長所を有する他に、
記録層を塗布法により簡単に形成することができるとい
う製造上の大きな利点を有している。しかしながら、色
素からなる記録層は、一般に反射率が低い、再生信号の
変調度、Ｃ／Ｎが低い等の特性上の問題、および色素記
録層が光の照射により経時的に劣化し易く耐光性が劣る
などの欠点を有している。 【０００６】すなわち、ＤＲＡＷ型光ディスクでも、Ｃ
Ｄフォーマット信号の高密度記録では（ＣＤ−ＤＲＡＷ
）、定線速度１．２〜１．４ｍ／秒という遅い速度で上
記信号の記録を行なう必要があり、その際記録した信号
を市販のＣＤプレーヤーで再生することが要求されてい
る。ＣＤプレーヤーで再生するには光ディスクの反射率
が少なくとも７０％以上あることが望ましい。 【０００７】反射率を高くするため、色素記録層の上に
さらに反射層を設けることが一般的に行なわれている。 このような例が、日経エレクトロニクス（１０７頁、１
９８９年１月２３日発行）に記載されており、これによ
ると上記記録媒体の記録層に用いられている色素は不明
であるが、その記録方法が、色素記録層のレーザ光の吸
収により色素が融解され、これに伴なってプラスチック
基板が加熱されて該基板が記録層側に盛り上ってピット
が形成されることによって行なわれるとの開示がなされ
ている。この反射層は金の蒸着膜である。これにより、
反射率の向上を図ることができる。 【０００８】また、上述したように色素記録層は一般に
、耐光性が劣り、光の存在下で保存すると書き込みが不
能になったり、記録後の読み出しのＣ／Ｎが劣化すると
いう問題点がある。このような耐光性を改良するために
、シアニン色素と共に、一重項酸素クエンチャーを含む
光情報記録媒体が、例えば特開昭５９−５５７９５号公
報に記載されている。しかしながら、このような一重項
酸素クエンチャー添加は、Ｃ／Ｎや変調度を低下させる
との問題がある。 【０００９】さらに、再生信号の変調度、Ｃ／Ｎが低い
等の特性上の問題については、下記のように考えられる
。すなわち、色素記録層は、一般にプリグルーブが形成
された基板上に色素を含む溶液を塗布し乾燥することに
よって形成されているが、その場合、グルーブ底部の色
素記録層膜厚はランド部の色素記録層膜厚よりも厚くな
る。そのため、基板のプリグルーブ溝の形状を反映して
形成された色素記録層の表面の溝の深さは、基板のプリ
グルーブ溝の深さよりも浅くなり、記録層に情報を記録
してプリグルーブに記録ピットを形成させたとき、色素
記録層の表面の溝の上部（基板のランド部を反映した部
分）と溝の底部との位相差が小さくなるために、記録ピ
ットの変調度が小さくなる。 【００１０】そのために、基板のプリグルーブの深さを
大きくして色素記録層の表面に形成される溝の深さを相
対的に深くすることによって記録ピットの変調度を大き
くすることが考えられるが、その場合は一般に反射率が
低下する傾向にある。 【００１１】また、基板上に予めピット（すなわちプリ
ピット）が形成されたＲＯＭ領域と、レーザーの照射に
よりデータ再生用のピットが形成されるプリグルーブか
らなる記録領域（記録可能領域）とを有する情報記録媒
体が提案されている（特開平２−４２６５２号公報参照
）。この情報記録媒体においては、色素からなる記録層
（レーザー吸収層）が記録領域にのみ設けられ、プリピ
ットが形成されたＲＯＭ領域には色素からなる記録層は
設けられていない。これは、プリピットが形成された領
域に色素からなる記録層を設けると、プリピット信号の
変調度が小さくなりＲＯＭ領域の情報を実用的に再生す
ることができなくなるためである。 【００１２】すなわち、色素からなる記録層は一般に色
素の溶液を塗布し乾燥することによって形成されるもの
であり、プリピット領域に色素溶液を塗布すると、前記
のプリグルーブ領域への色素溶液の塗布の場合と同様に
、プリピット部（穴部）の記録層の膜厚がプリピット間
部（ピットとピットとの間の部分で、前記ランド部に相
当する）の記録層の膜厚よりも大きくなり、そのために
、基板のプリピット部の形状を反映して形成された記録
層の表面の穴の深さは、基板のプリピットの深さよりも
浅くなり、ピット部とピット間部との位相差が小さくな
るために、プリピットの変調度が小さくなる。 【００１３】しかしながら、特開平２−４２６５２号公
報に記載されているような、プリピット領域（ＲＯＭ領
域）に色素層を設けず、記録領域にのみ色素層を設けた
情報記録媒体においては、色素層が設けられた部分と色
素層が設けられていない部分との境界部において、境界
を再現性よく形成することが困難であるとか、色素層の
エッジ部で膜厚が不均一になり易いとかの問題があり、
円環状の色素層の偏心が生じ易いなどの問題がある。 【００１４】従って、反射率が高く、変調度、Ｃ／Ｎな
どの記録再生特性に優れ且つ耐光性に優れた光ディスク
、さらにはこのような性能に優れたＲＯＭ領域を有する
光ディスクが望まれる。 【００１５】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、反射率が高
く、変調度、Ｃ／Ｎなどの記録再生特性に優れ且つ耐光
性に優れた情報記録媒体を提供することを目的とする。 【００１６】また、本発明は、記録された信号が市販の
ＣＤプレーヤーで再生可能な情報記録媒体を提供するこ
とを目的とする。 【００１７】さらに、本発明は、ＲＯＭ領域（再生専用
領域）と記録領域を有し、製造が容易な情報記録媒体を
提供することを目的とする。 【００１８】 【課題を解決するための手段】上記目的は、表面に、プ
リグルーブおよび／またはプリピットが円環状に設けら
れた円盤状基板上に、レーザーにより情報の記録が可能
な色素からなる記録層および金属からなる反射層が、こ
の順で積層されてなる情報記録媒体において、該記録層
が、色素の蒸着により形成された膜であることを特徴と
する情報記録媒体により達成することができる。 【００１９】上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様
は以下の通りである。 【００２０】１）該色素が、フタロシアニン系色素また
はナフタロシアニン系色素であることを特徴とする上記
情報記録媒体。 【００２１】２）該基板が、プリピットおよびプリグル
ーブ域が形成されていることを特徴とする上記情報記録
媒体。 【００２２】３）該記録層のプリグルーブ底部の光学的
膜厚とプリグルーブ間（ランド部）部の光学的膜厚との
差がλ／８以下であることを特徴とする上記情報記録媒
体。 【００２３】４）該記録層のプリピット底部の光学的膜
厚とプリピット間部の光学的膜厚との差がλ／８以下で
あることを特徴とする上記情報記録媒体。 【００２４】５）上記金属がＣｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、
Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼からなる群より選
ばれる少なくとも一種であることを特徴とする上記情報
記録媒体。 【００２５】６）該反射層の上に、さらに保護層が設け
られたことを特徴とする上記情報記録媒体。 【００２６】尚、本発明の蒸着は、真空蒸着、スパッタ
リングおよびイオンプレーティングを含む。 【００２７】 【発明の効果】本発明の情報記録媒体は、プリグルーブ
および／またはプリピットを有する基板上に、蒸着が可
能で耐光性に優れた色素を蒸着することにより形成され
た記録層および金属からなる反射層が、積層された構成
を有している。本発明では、記録層として耐光性に優れ
た材料を用いているので得られる光ディスクの耐光性も
当然優れており、記録層上に反射層を設けているため反
射率においても向上している。さらに、本発明では記録
層材料である色素を蒸着によりプリグルーブ上またはプ
リピット上に形成している。このため基板のプリグルー
ブ底部の色素記録層の膜厚とランド部の色素記録層の膜
厚とがほぼ同じになることから、基板のプリグルーブの
深さを小さくすることができ、変調度および反射率が共
に大きい情報記録媒体が得られる。また、プリピット底
部の色素層の膜厚とプリピット間部の色素層の膜厚とが
ほぼ同じになるので、プリピットの位相差が大きくなり
プリピットについても変調度の大きい情報記録媒体を得
ることができる。 【００２８】特に、プリピットからなる再生専用領域（
ＲＯＭ領域）に色素記録層を形成してもプリピットの変
調度が大きいので、再生専用領域およびプリグルーブか
らなる記録領域の両方に、色素記録層を形成することが
可能になり、再生専用領域および記録領域の両方を有す
る光ディスクの製造が容易になるとの効果も得ることが
できる。さらに、得られる光ディスクは反射率が顕著に
高いので、ＣＤフォーマット信号を記録して市販のＣＤ
プレーヤーにて再生が可能であるため、ＣＤ−ＤＲＡＷ
として有用である。 【００２９】［発明の詳細な記述］本発明の情報記録媒
体は、円盤状基板の上に、蒸着により形成された色素か
らなる記録層および反射層が積層された基本構造を有す
る。 【００３０】添付図面の図１を参照しながら本発明の情
報記録媒体の構成について説明する。 【００３１】図１は、本発明の情報記録媒体の一例を示
す断面図である。 【００３２】円盤状基板１１の表面には、内周側の領域
１７にはプリピット１５からなるＲＯＭ領域（再生専用
領域）が形成され、外周側の領域１８にはプリグルーブ
１６からなる記録領域１８が形成されている。そしてプ
リピットおよびプリグルーブ上には色素からからなる記
録層１２が色素の蒸着により形成されている。記録層１
２は、真空蒸着、スパッタリング等の蒸着により形成さ
れるので、プリピットの底部、プリグルーブ底部、プリ
ピット間部およびプリグルーブ間部に当たるランド部の
いずれでも記録層の膜厚はほぼ等しく、従って、記録層
表面の凹凸形状は、ほぼ基板の凹凸形状を反映している
。記録層上には、金属からなる反射層１３が真空蒸着等
により形成されている。従って、反射層表面の凹凸形状
も、ほぼ記録層の凹凸形状を反映している。反射層上に
は、保護層１４が形成されている。保護層は、塗布によ
り形成されている場合は、図のように反射層表面の凹凸
形状をあまり反映していない。 【００３３】従来、色素記録層は色素溶液を基板上に塗
布乾燥することにより形成していたため、基板上の凹凸
形状が記録層表面の形状に反映せず、プリグルーブやプ
リピットの底部の層厚がプリグルーブ間部（ランド部）
やプリピット間部に比べて厚いものであった。このため
、変調度等の特性において、充分とは言えなかった。 【００３４】上記図１に示すように、本発明では、耐光
性に優れた色素を蒸着することにより記録層をプリグル
ーブ上およびプリピット上に形成している。このため基
板のグルーブ（ピット）底部の色素記録層の膜厚とラン
ド部の色素記録層の膜厚とがほぼ同じになることから、
基板のプリグルーブの深さを小さくすることができ、変
調度および反射率が共に大きい情報記録媒体が得ること
ができる。さらに、記録層上に反射層を設けているため
反射率においても一層向上している。 【００３５】本発明の情報記録媒体は、たとえば以下の
ように製造することができる。 【００３６】本発明の円盤状基板は、従来の情報記録媒
体の基板として用いられている各種の材料から任意に選
択することができる。本発明の基板材料として、例えば
ガラス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート
等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合
体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファス
ポリオレフィンおよびポリエステルなどを挙げることが
でき、所望により併用してもよい。なお、これらの材料
はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うこ
とができる。上記材料の中で、耐湿性、寸法安定性およ
び価格などの点からポリカーボネートが好ましい。 【００３７】情報記録媒体の記録層が設けられる側の基
板表面には、平面性の改善、接着力の向上、感度の向上
および記録層の変質の防止の目的で、中間層が設けられ
てもよい。中間層の材料としてはたとえば、ポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイナト共重合体、ポリビニルアルコ
ール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、クシ型グ
ラフト重合体等の高分子物質；および色素、銀アセチリ
ド化合物、シランカップリング剤などの有機物質を挙げ
ることができる。 【００３８】中間層は、たとえば上記物質を適当な溶剤
に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布
液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョ
ンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することに
より形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．
００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜
１０μｍの範囲である。 【００３９】本発明の円盤状基板上には、アドレス信号
等の情報あるいは音楽情報等を表わすトラッキング用の
プレグルーブが形成されている。また、所望によりプリ
ピットが形成されていても良い。上記ポリカーボネート
などの樹脂材料を使用する場合は、樹脂材料を射出成形
あるいは押出成形などにより直接基板上にピットおよび
グルーブが設けられることが好ましい。 【００４０】またプリグルーブ等の形成を、プレグルー
ブ層を設けることにより行なってもよい。プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層
の形成は、まず精密に作られた母型（スタンパー）上に
上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混
合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたの
ち、基板または母型を介して紫外線の照射により液層を
硬化させて基板と液相とを固着させる。次いで、基板を
母型から剥離することによりプレグルーブ層の設けられ
た基板が得られる。プレグルーブ層の層厚は一般に０．
０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５
０μｍの範囲である。 【００４１】円盤状基板の上には、色素からなる記録層
が設けられる。 【００４２】本発明に使用される色素は、蒸着により膜
の形成が可能な色素であれば良く、例えば、フタロシア
ニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ナフトキノン系
色素、アントラキノン系色素、Ｎｉ，Ｃｒなどの金属錯
塩系色素を挙げることができる。フタロシアニン系色素
、ナフタロシアニン系色素が耐光性が優れているので好
ましい。 【００４３】上記フタロシアニン系色素およびナフタロ
シアニン系色素の中でも感度、蒸着性の観点から融点ま
たは昇華温度がが１００〜４００°Ｃの範囲が好ましい
。フタロシアニン系色素の例としては、下記のような化
合物を挙げることができる。 【００４４】フタロシアニン系色素は下記の一般式（Ｉ
）によって表わすことができる。 【００４５】 【化１】 【００４６】一般式（Ｉ）において、Ｍ１　は、水素原
子、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｐｂ
、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｓｎおよび希土類元素を表わし、
Ｒ１　は、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、
ｔ−ブチル基、フェニル基およびＦ、Ｃｌ、Ｂｒなどの
ハロゲンを表わす。 【００４７】具体的には下記の色素を挙げることができ
る。 【００４８】 １）フタロシアニン、ＣＩピグメント・ブルー１６　　
　　Ｃ３２Ｈ１８Ｎ８　２）フタロシアニン、Ｍｇ錯体
　　　　Ｃ３２Ｈ１６Ｎ８Ｍｇ３）フタロシアニン、Ｃ
ｒ錯体　　　　Ｃ３２Ｈ１６Ｎ８Ｃｒ４）フタロシアニ
ン、Ｆｅ錯体　　　　Ｃ３２Ｈ１６Ｎ８Ｆｅ５）フタロ
シアニン、Ｎｉ錯体　　　　Ｃ３２Ｈ１６Ｎ８Ｎｉ６）
フタロシアニン、Ｃｕ錯体；ＣＩピグメント・ブルー１
５　　　　Ｃ３２Ｈ１６Ｎ８Ｃｕ７）フタロシアニン、
Ｚｎ錯体　　　　Ｃ３２Ｈ１６Ｎ８Ｚｎ８）フタロシア
ニン、Ｇａ錯体　　　　Ｃ３２Ｈ１６Ｎ８Ｇａ９）フタ
ロシアニン、Ｐｂ錯体　　　　Ｃ３２Ｈ１６Ｎ８Ｐｂ１
０）　フタロシアニン、Ｌｕ錯体　　　　Ｃ３２Ｈ１６
Ｎ８Ｌｕ１１）　ヘキサデカヒドロフタロシアニン、　
　　　　　Ｃ３２Ｈ３４Ｎ８１２）　ヘキサデカヒドロ
フタロシアニン、Ｍｇ錯体　　　　Ｃ３２Ｈ３２Ｎ８Ｍ
ｇ１３）　ヘキサデカヒドロフタロシアニン、Ｎｉ錯体
　　　　Ｃ３２Ｈ３２Ｎ８Ｎｉ１４）　ヘキサデカヒド
ロフタロシアニン、Ｃｏ錯体　　　　Ｃ３２Ｈ３２Ｎ８
Ｃｏ１５）　ヘキサデカヒドロフタロシアニン、Ｃｕ錯
体　　　　Ｃ３２Ｈ３２Ｎ８Ｃｕ１６）　テトラフェニ
ルフタロシアニン、Ｃ５６Ｈ３４Ｎ８１７）　テトラフ
ェニルフタロシアニン、Ｍｎ錯体　　　　　　Ｃ５６Ｈ
３２Ｎ８Ｍｎ１８）　テトラフェニルフタロシアニン、
Ｃｏ錯体　　　　　　Ｃ５６Ｈ３２Ｎ８Ｃｏ１９）　テ
トラフェニルフタロシアニン、Ｐｄ錯体　　　　　　Ｃ
５６Ｈ３２Ｎ８Ｐｄ２０）　テトラフェニルフタロシア
ニン、Ｓｎ錯体　　　　　　Ｃ５６Ｈ３２Ｎ８Ｓｎ２１
）　テトラフェニルフタロシアニン、Ｐｂ錯体　　　　
　　Ｃ５６Ｈ３２Ｎ８Ｐｂ２２）　テトラ−ｔ−ブチル
フタロシアニン、　　　　　　Ｃ４８Ｈ５０Ｎ８２３）
　テトラ−ｔ−ブチルフタロシアニン、Ｍｇ錯体　　　
　Ｃ４８Ｈ５０Ｎ８Ｍｇ２４）　テトラ−ｔ−ブチルフ
タロシアニン、Ｎｉ錯体　　　　Ｃ４８Ｈ５０Ｎ８Ｎｉ
２５）　テトラ−ｔ−ブチルフタロシアニン、Ｃｏ錯体
　　　　Ｃ４８Ｈ５０Ｎ８Ｃｏ２６）　テトラ−ｔ−ブ
チルフタロシアニン、Ｃｕ錯体　　　　Ｃ４８Ｈ５０Ｎ
８Ｃｕ２７）　テトラ−ｔ−ブチルフタロシアニン、Ｐ
ｂ錯体　　　　Ｃ４８Ｈ５０Ｎ８Ｐｂ２８）　テトラ−
ｔ−ブチルフタロシアニン、Ｓｎ錯体　　　　Ｃ４８Ｈ
５０Ｎ８Ｓｎ２９）　テトラ−ｔ−ブチルフタロシアニ
ン、Ｐｄ錯体　　　　Ｃ４８Ｈ５０Ｎ８Ｐｄ３０）　フ
タロシアニン、４，４’，４’’，４’’’−テトラス
ルホン酸、テトラナトリウム塩；ＣＩアシッド・ブルー
２４９　　　　Ｃ３２Ｈ１８Ｎ８Ｏ１２Ｓ４　【００４
９】ナフタロシアニン系色素は下記の一般式（ＩＩ）に
よって表わすことができる。 【００５０】 【化２】 【００５１】一般式（ＩＩ）において、Ｍ２　は、水素
原子、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｐ
ｂ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｓｎまたは希土類元素を表わし
、Ｒ２　は、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基
、ｔ−ブチル基、フェニル基およびＦ、Ｃｌ、Ｂｒなど
のハロゲンを表わす。 【００５２】記録層は、たとえば上記色素を真空蒸着、
スパッタリングまたはイオンプレーティングすることに
より基板の上に形成することができる。色素を分解させ
ることなく、上記のように均一な膜厚で色素記録層を形
成するには、例えばフタロシアニンを用いて、真空度１
０−７〜１０−４Ｔｏｒｒの範囲、蒸着レート０．１〜
１０ｎｍ／秒の条件で蒸着を行なうことが好ましい。 【００５３】上記色素記録層は単層でも重層でもよいが
、その層厚は一般に、１０〜５５０ｎｍの範囲にあり、
好ましくは２０〜３００ｎｍの範囲にある。 【００５４】本発明の情報記録媒体における記録層の膜
厚（光学的膜厚）について、添付する図面を参照して詳
細に説明する。 【００５５】図２は、本発明の情報記録媒体の一実施例
の、プリグルーブにおける断面の一部を模式的に示す断
面図である。図３は、本発明の情報記録媒体の一実施例
の、プリピットにおける断面の一部を模式的に示す断面
図である。図４は、従来公知の情報記録媒体の、プリグ
ルーブにおける断面の一部を模式的に示す断面図である
。 【００５６】図４において、プラスチックからなる基板
４１の表面に色素からなる記録層４２が形成されている
。基板４１には、プリグルーブ４３が形成されている。 記録層４２は色素をその溶剤に溶解して調製した記録層
形成用溶液をスピンコート法により塗布し乾燥すること
によって形成されたものである。プリグルーブ４３のグ
ルーブ底部４５の記録層４２の膜厚ｔ６　は、基板４１
のランド部４４の記録層４２の膜厚ｔ５　よりも大きく
なっている。その結果、記録層４２の空気と接触する外
表面における溝形状の深さがプリグルーブ４４の深さｄ
３　よりも小さくなり、情報を記録するためにレーザ光
を照射してプリグルーブ４３に記録ピットを形成したと
き、記録層４２の溝の上部（基板のランド部に対応する
部分）と底部との位相差が小さくなるために、記録ピッ
トの変調度が小さくなるという問題があった。この問題
を解消するために、プリグルーブの深さを大きくしてい
る。しかし、プリグルーブの深さを大きくし過ぎるとプ
リグルーブ部の反射率が低下するという問題が生じる。 【００５７】図２において、プラスチックからなる基板
２１の表面に色素からなる記録層２２が形成されている
。基板２１には、プリグルーブ２３が形成されている。 記録層２２は色素を蒸着することによって形成されたも
のである。プリグルーブ２３のプリグルーブ底部２５の
記録層２２の光学的膜厚（ｎｒ　・ｔ２　）（但し、ｎ
ｒは記録層の屈折率であり、ｔ２はプリグルーブ底部２
５の記録層２２の膜厚である）と、基板２１のランド部
２４の記録層２２の光学的膜厚（ｎｒ　・ｔ１　）（但
し、ｎｒ　は記録層の屈折率であり、ｔ１　はランド部
２４の記録層２２の膜厚である）との差は、小さくなっ
ており、好ましくはλ／８以下となるように形成されて
いる。その結果、記録層２２の空気と接触する外表面に
おける溝形状の深さはプリグルーブ２３の深さｄ１　と
同じかまたは光学的膜厚でλ／８以下ほど小さくなって
おり、記録層２２のグルーブ部とランド部とで位相差が
大きく記録ピットの変調度が大きいものである。更にｎ
ｒ　・ｔ１　とｎｒ　・ｔ２　との差を上記のようにす
ることにより、プリグルーブ２３の深さｄ１　を小さく
することが可能となりプリグルーブ部の反射率が大きく
なる。 【００５８】図３において、プラスチックからなる基板
３１の表面に色素からなる記録層３２が形成されている
。基板３１には、プリピット３３が形成されている。 記録層３２は色素を蒸着することによって形成されたも
のである。プリピット３３のプリピット底部３５の記録
層３２の光学的膜厚（ｎｒ　・ｔ４　）（但し、ｎｒ　
は記録層の屈折率であり、ｔ４　はプリピット底部３５
の記録層３２の膜厚である）と、基板３１のピット間部
３４の記録層３２の光学的膜厚（ｎｒ　・ｔ３　）（但
し、ｎｒ　は記録層の屈折率であり、ｔ３　はプリピッ
ト間部３４の記録層３２の膜厚である）との差は、小さ
くなっており、好ましくはλ／８以下となるように形成
されている。その結果、記録層３２の空気と接触する外
表面における穴形状の深さはプリピット３４の深さｄ２
　と同じか又は光学的膜厚でλ／８以下ほど小さくなっ
ており、記録層３２のプリピット底部とプリピット間部
とで位相差が大きくピットの変調度が大きいものである
。その結果、基板のピット形成領域（ＲＯＭ領域）に記
録層が形成されていても、基板のプリピットを高い変調
度で再生することが可能となる。 【００５９】上記記録層の、上記ランド部および上記プ
リピット間部の層厚は、４０〜４００ｎｍ、特に６０〜
３００ｎｍ、更に特に８０〜２５０ｎｍであることが好
ましい。 【００６０】色素記録層上には反射層が設けられる。反
射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する反
射率が高い物質であり、その例としてはＭｇ、Ｓｅ、Ｙ
、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ
、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、
Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ
などの金属および半金属を挙げることができる。これら
のうちで好ましいものはＡｌ、Ａｕ、ＣｒおよびＮｉで
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上の組合せでまたは合金として用いてもよい。 【００６１】反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングするこ
とにより基板の上に形成することができる。反射層の層
厚は一般には１０〜３００ｎｍの範囲にある。 【００６２】また、色素記録層と反射層との間にはエン
ハンス層を設けてもよい。その材料としては、クシ型グ
ラフト重合体（例、マクロマー（東亜合成化学工業（株
）製））、銀アセチリドなどを挙げることができる。金
属記録層上にこのようなエンハンス層を設けてもよいの
は勿論である。 【００６３】反射層の上には、記録層などを物理的およ
び化学的に保護する目的で保護層が設けられることが好
ましい。この保護層は、基板の記録層が設けられていな
い側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよ
い。 【００６４】保護層に用いられる材料の例としてはＳｉ
Ｏ、ＳｉＯ２　、ＭｇＦ２　、ＳｎＯ２、Ｓｉ３　Ｎ４
　等の無機物質；熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬
化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。 【００６５】保護層は、たとえばプラスチックの押出加
工で得られたフィルムを接着層を介して記録層（反射層
）上および／または基板上にラミネートすることにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗
布し、乾燥することによっても形成することができる。 ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し
、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成する
ことができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤
、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じ
て添加してもよい。記録層上に直接保護層形成材料を塗
布する場合は、該記録層を保護層の塗布液の溶解作用か
ら守るため記録層上にポリブタジエンなどを塗布（その
際溶剤としては記録層を溶解しない溶剤を用いる）する
ことにより中間層を設けることが好ましい。中間層は、
金属等の薄膜を蒸着により設けてもよい。保護層の層厚
は一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。 【００６６】さらに、色素記録層上に保護層を形成する
の代わりに、記録層上にプラスチックのフィルムを基板
の内周及び外周にて融着して設けることにより記録層を
保護してもよい。 【００６７】本発明において、情報記録媒体は上述した
構成からなる単板であってもよいが、あるいは更に上記
構成を有する二枚の基板を記録層が内側となるように向
い合わせ、接着剤等を用いて接合することにより、貼合
せタイプの記録媒体を製造することもできる。あるいは
また、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記
構成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリ
ング状外側スペーサとを介して接合することにより、エ
アーサンドイッチタイプの記録媒体を製造することもで
きる。 【００６８】本発明の情報記録媒体は上記のように製造
することができる。 【００６９】情報の記録および再生方法は、上記情報記
録媒体を用いて、例えば次のように行なわれる。 【００７０】まず、情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォ
ーマットの場合は１．２〜１．４ｍ／秒）または定角速
度にて回転させながら、基板側から半導体レーザー光な
どの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録
層にピット（孔）が形成されることにより、あるいは記
録層に変色、会合状態の変化等により屈折率が変化する
ことにより情報が記録されると考えられる。記録光とし
ては６５０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する
半導体レーザービームが用いられる。 【００７１】上記のように記録された情報の再生は、情
報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半
導体レーザー光を基板側から照射して、その反射光を検
出することにより行なうことができる。なお、レーザー
光の照射は、フレキシブルディスクなどの場合、記録層
側から行なうこともある。 【００７２】 【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を記載
する。ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。 【００７３】［実施例１］円盤状のポリカーボネート基
板； （１）　寸法：外径が１２０ｍｍ、内径が１５ｍｍ、厚
さが１．２ｍｍ、屈折率が１．５８ （２）　直径４６〜８０ｍｍ領域：トラックピッチが１
．６μｍ、半値幅が０．６μｍおよび深さが１３０ｎｍ
のプリピットを形成することによりＥＦＭ信号が記録さ
れている、 （３）　直径８０〜１１８ｍｍ領域：トラックピッチが
１．６μｍ、半値幅が０．５５μｍおよび深さが５０ｎ
ｍのプリグルーブ形成されている、を光ディスクの基板
として用意した。 【００７４】下記の色素Ａ、（テトラキス−ｔ−ブチル
フタロシアネイト）マグネシウム：色素Ａ【００７５】 【化３】 【００７６】を、真空蒸着（圧力：１　×１０−５Ｔｏ
ｒｒ、蒸発源と基板間距離：５００ｍｍ、レート：１ｎ
ｍ／秒、電力：２００Ｗ）によりプリグルーブ底部の膜
厚が１３０ｎｍの記録層を形成した。 【００７７】上記色素記録層上に、ＡｕをＤＣスパッタ
リング（Ａｒ圧力：２Ｐａ、ターゲットと基板間距離：
９５ｍｍ、レート：２ｎｍ／秒、電力：４８０Ｗ）して
膜厚が１００ｎｍの反射層を形成した。 【００７８】さらに、反射層上に、紫外線硬化型樹脂（
商品名：３０７０、スリーボンド（株）製）をスピンコ
ート法により回転数２００ｒｐｍ　の速度で塗布した後
回転数１５００ｒｐｍで３０秒間レベレングさせ、次い
で紫外線（高圧水銀灯２００Ｗ／ｃｍ）を１０秒照射す
ることにより硬化させ、層厚２μｍ（外周端面の層厚２
〜１０μｍ）の保護層を形成した。 【００７９】このようにして、基板、色素記録層、反射
層および保護層からなる情報記録媒体を製造した。 【００８０】［比較例１］実施例１において、上記色素
Ａ２ｇをメチルシクロヘキサン１００ｍｌに溶解して色
素塗布液を調製し、実施例１と同じ基板上にスピンコー
ト法により回転数２００ｒｐｍ　の速度で塗布した後、
回転数２０００ｒｐｍで３０秒間乾燥してプリグルーブ
底部の膜厚が１３０ｎｍの記録層を形成した以外は実施
例１と同様にして情報記録媒体を製造した。 【００８１】得られた情報記録媒体について下記のよう
にしてその特性を評価した。 ［情報記録媒体の評価］上記で得られた情報記録媒体を
、ディスク評価装置（ＮＡ：０．５、レーザー波長：７
８０ｎｍ）　およびＥＦＭエンコーダ（ＫＥＮ−ＷＯＯ
Ｄ）を用いて、記録する際のレーザーパワー（記録パワ
ー）を７ｍＷ、定線速度：１．３ｍ／秒にてプリグルー
ブの底部に記録を行なった。 【００８２】１）プリグルーブ（ＰＧ）底部、ＰＧ間部
、プリピット（ＰＰ）底部およびＰＰ間部の記録層の膜
厚および反射率 記録層の絶対膜厚を、断面部の超高分解能電子顕微鏡（
株式会社日立製作所製Ｓ９００）観察によって測定し、
上記ディスク評価装置にて得られた光ディスクの記録前
の反射率を測定した。 【００８３】２）１１Ｔ変調度（記録後）上記プリグル
ーブ（ＰＧ）上に記録されたＣＤフォーマットのＥＦＭ
信号のうち記録長１１Ｔの直流再生信号について、信号
部分とミラー部（信号の無い部分）の信号強度を測定し
、その変調度（Ｃ）を次式により求めた。 （ＳＨ：信号の最大強度、ＳＬ：信号の最小強度）【０
０８４】３）１１Ｔ変調度（既記録）上記ＲＯＭ領域に
既にプレピット（ＰＰ）として記録されているＣＤフォ
ーマットのＥＦＭ信号のうち記録長１１Ｔの直流再生信
号について、上記５）と同様にその変調度（Ｃ）を次式
により求めた。上記結果を表１に示す。 【００８５】 【表１】 【００８６】上記結果より明らかなように、実施例１の
本発明の色素を蒸着することにより形成した記録層は、
プリグルーブ（ＰＧ）底部、ＰＧ間部、プリピット（Ｐ
Ｐ）底部およびＰＰ間部の記録層の膜厚がほぼ等しく、
このためプリグルーブ部、プリピット部共に高い変調度
を示している。フタロシアニンの記録層の上に反射層が
形成されているの反射率においても高い値を示している
。一方、従来の塗布により形成された色素記録層を有す
る光ディスク（比較例１）は、プリグルーブ（ＰＧ）底
部、プリピット（ＰＰ）底部で記録層の膜厚が大きく、
このため特にプリピット部の変調度が低い値になってい
る。 【００８７】また、上記記録層の膜厚、反射率、および
これらを基にして計算された屈折率（ｎｒ　）および消
衰係数（ｋｒ　）より、実施例１および比較例１のプリ
グルーブ（ＰＧ）底部、ＰＧ間部、プリピット（ＰＰ）
底部およびＰＰ間部の光学的膜厚を求め、プリグルーブ
（ＰＧ）底部とＰＧ間部との光学的膜厚の差、プリピッ
ト（ＰＰ）底部とＰＰ間部との光学的膜厚の差を計算し
た。実施例１では、これらの差は、ほとんど無かったが
、比較例１では、約λ／４と大きかった。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の情報記録媒体の一例を示す断
面図である。

【図２】図２は、本発明の情報記録媒体の一実施例のプ
リグルーブの断面を模式的に示す断面図である。

【図３】図３は、本発明の情報記録媒体の一実施例のプ
リピットの断面を模式的に示す断面図である。

【図４】図４は、従来公知の情報記録媒体のプリグルー
ブの断面を模式的に示す断面図である。

【符号の説明】

１１、２１、３１、４１　　基板、 １２、２２、３２、４２　　記録層、 １３　　反射層 １４　　保護層 １６、２３、４３　　プリグルーブ、 １５、３３　　プリピット、 ２４、４４　　ランド部、 ３４　　プリピット間部、 ２５、４５　　プリグルーブ底部、 ３５　　プリピット底部

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　表面に、プリグルーブおよび／または
   プリピットが円環状に設けられた円盤状基板上に、レー
   ザーにより情報の記録が可能な色素からなる記録層およ
   び金属からなる反射層が、この順で積層されてなる情報
   記録媒体において、該記録層が、色素の蒸着により形成
   された膜であることを特徴とする情報記録媒体。
2. 【請求項２】　　該色素が、フタロシアニン系色素また
   はナフタロシアニン系色素である請求項１に記載の情報
   記録媒体。