JPH04283521A - オレフィン類の製造方法 - Google Patents

オレフィン類の製造方法

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JPH04283521A
JPH04283521A JP3072047A JP7204791A JPH04283521A JP H04283521 A JPH04283521 A JP H04283521A JP 3072047 A JP3072047 A JP 3072047A JP 7204791 A JP7204791 A JP 7204791A JP H04283521 A JPH04283521 A JP H04283521A
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JP
Japan
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group
mmol
compound
atom
palladium
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Pending
Application number
JP3072047A
Other languages
English (en)
Inventor
Tamejirou Hiyama
爲次郎 檜山
Yasuo Hatanaka
康夫 畠中
Noriko Wakasa
のり子 若狭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sagami Chemical Research Institute
Original Assignee
Sagami Chemical Research Institute
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Publication date
Application filed by Sagami Chemical Research Institute filed Critical Sagami Chemical Research Institute
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Publication of JPH04283521A publication Critical patent/JPH04283521A/ja
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般式[III]
【化4
】 (式中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R
8、R9およびR10は各々独立に水素原子、アルキル
基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシル基、シリル基またはハロゲン原子であり、R1と
R2、R3とR4、R2とR5またはR1とR3は結合
している炭素原子をともない一体となって環を形成し得
る。さらにR6とR7、R6とR8、R7とR9、R8
とR10またはR9とR10は結合している炭素と一体
となって環を形成し得る。nは0または1 を表す。)
で表されるオレフィン類の製造法に関する。
【0002】本発明の方法によればイブプロフェン、ナ
プロキセン等、抗炎症剤として有用な2−アリールプロ
パン酸類の合成中間体として重要である3−アリール−
1−ブテンを光学活性体を含めて種々合成できる[参考
例およびTetrahedron,42,4095(1
986)を参照]。
【0003】また、α−クルクメンなど香料成分として
有用なテルペン類を種々合成できる[”香料化学総覧”
巻II、広川書店、P431(1972)]。
【0004】
【従来の技術】一般式[III]で表されるオレフィン
類の従来の合成法としては、(1)クロチルトリブチル
スズ化合物やクロチルホウ素化合物またはクロチル銅化
合物などの有機金属反応剤を有機ハロゲン化物やエノー
ルトリフラートと反応させる方法[Tetrahedr
on  Lett.,21,2599(1980);J
.Am.Chem.Soc.,103,1969(19
81);J.Org.Chem.,55,1695(1
990)]。
【0005】(2)グリニャール反応剤とハロゲン化ア
リルと反応させる方法[Helv.Chim.Acta
,17,352(1934)]。
【0006】(3)カルボニル化合物を塩基存在下、四
級ホスホニウム塩と反応させる方法[Org.Reac
t.,14,270(1965)]。
【0007】(4)二級アルコールを酸触媒の存在下、
脱水して作る方法[Org.Synth.,Col.V
ol.I,183(1941)]。
【0008】(5)塩基を用いるハロゲン化物の脱ハロ
ゲン化水素反応により作る方法[J.Am.Chem.
Soc.,63,126(1941)]などがある。
【0009】これらの方法のうち(1)および(2)の
方法では反応の位置選択性が低いためしばしば分離困難
な複数の生成物を与える欠点がある。
【0010】(3)の方法では基質であるカルボニル化
合物の合成が煩雑であり、高価なホスホニウム塩を使用
し、かつ副生するホスフィンオキシドの分離が面倒であ
る点がおおきな欠点である。
【0011】(4)の方法は強い酸性条件下で反応を行
うため、酸に弱い基質を用いることができないうえ、基
質のアルコールの合成が煩雑であるという欠点がある。
【0012】(5)の方法は強い塩基性条件下で反応を
行うため、塩基に弱い基質を用いることができないうえ
、塩基とハロゲンの交換反応のため収率が著しく低いな
どの欠点がある。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らはかかる欠
点を除き、官能基を有するオレフィン類の高選択的な製
造法につき検討を加えた結果、クロチルトリフルオロシ
ラン、プレニルトリフルオロシランをはじめとするアリ
ルシラン類とハロゲン化物またはエステル類を第10族
遷移金属触媒および求核反応剤共存下反応させることに
より、前記一般式[III]で表されるオレフィン類が
官能基を保護する必要なく、かつ位置選択的に得られる
ことを見いだし本発明を完成した。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は第10族金属触
媒および求核反応剤共存下、下記一般式[I]
【001
5】
【化5】
【0016】(式中、R1、R2、R3、R4およびR
5は各々独立に水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アルコキシル基、シリル基
またはハロゲン原子であり、R1とR2、R3とR4、
R2とR5またはR1とR3は結合している炭素原子を
ともない一体となって環を形成し得る。Raはフッ素原
子、塩素原子、臭素原子またはアルコキシル基であり、
RbおよびRcはアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、アルコキシル基、フッ素原子、塩素
原子または臭素原子である。)で示される有機ケイ素化
合物と下記一般式[II]
【0017】
【化6】
【0018】(式中、R6、R7、R8、R9およびR
10は各々独立にアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、または水素原子を表し、Yは脱離基
を表す。R6 とR7、R6とR8、R7とR9、R8
とR10またはR9とR10は結合している 炭素と 
一体となって環を形成し得る。nは0または1を表す。 )で表される不飽和化合物とを反応させることにより、
前記一般式[III]で表されるオレフィン類を製造す
る方法である。
【0019】本発明に用いる前記一般式[I]で表され
る有機ケイ素化合物は(1)銅触媒およびトリエチルア
ミン存在下、トリクロロシランとハロゲン化アリルを反
応させる方法[J.Organomet.Chem.,
96,C1(1975)]あるいは(2)アリルマグネ
シウム化合物とクロロシラン類を反応させる方法[Te
trahedron  Lett.,1871(197
6)]により容易に合成されるアリルトリクロロシラン
類をフッ化銅または三フッ化アンチモンによりフッ素化
する[Organometallics,5,1490
(1986);Tetrahedron,39,983
(1958)]かまたはピリジン共存下、アルコールで
処理してアルコキシル化する[J.Org.Chem.
,23,50(1958)]ことで得られる。
【0020】用いることができる有機ケイ素化合物とし
てはたとえば、(E)−2−ブテニルトリフルオロシラ
ン、(Z)−2−ブテニルトリフルオロシラン,(E)
−2−ブテニル(メチル)ジフルオロシラン、(E)−
2−ブテニル(ジメチル)フルオロシラン、(E)−2
−ブテニル(フェニル)ジフルオロシラン、(E)−2
−ブテニルトリメトキシシラン、(E)−2−ブテニル
トリエトキシシラン、(E)−2−ブテニルトリクロロ
シラン、3−メチル−2−ブテニルトリフルオロシラン
、3−メチル−2−ブテニル(メチル)ジフルオロシラ
ン、3−メチル−2−ブテニル(ジメチル)フルオロシ
ラン、3−メチル−2−ブテニル(フェニル)ジフルオ
ロシラン、3−メチル−2−ブテニルトリメトキシシラ
ン、3−メチル−2−ブテニルトリクロロシラン、(E
)−3−フェニル−2−プロペニルトリフルオロシラン
、(E)−3−フェニル−2−プロペニル(メチル)ジ
フルオロシラン、(E)−3−フェニル−2−プロペニ
ル(ジメチル)フルオロシラン、(E)−3−フェニル
−2−プロペニルトリメトキシシラン、[(E)−3−
フェニル−2−プロペニル]トリエトキシシラン、(2
−メチル−2−プロペニル)トリフルオロシラン、(2
−メチル−2−プロペニル)トリメトキシシラン、(2
−メチル−2−プロペニル)トリエトキシシラン、(1
−メチル−2−ブテニル)トリフルオロシラン、(1−
メチル−2−ブテニル)トリメトキシシラン、(1−メ
チル−2−ブテニル)トリエトキシシラン、[(E)−
3−フルオロ−2−プロペニル]トリフルオロシラン、
[(E)−3−フルオロ−2−プロペニル]トリメトキ
シシラン、[(E)−3−フルオロ−2−プロペニル]
トリイソプロポキシシラン、[(E)−3−メトキシ−
2−プロペニル]トリフルオロシラン、[(E)−3−
メトキシ−2−プロペニル]トリエトキシシラン、[(
E)−3−メトキシ−2−プロペニル]トリイソプロポ
キシシラン、[(E)−3−シアノ−2−プロペニル]
トリフルオロシラン、[(E)−3−シアノ−2−プロ
ペニル]トリメトキシ)シラン、[(E)−3−シアノ
−2−プロペニル]トリイソプロポキシシラン、(2−
フェニル−2−ブテニル)トリフルオロシラン、[(E
)−3−メトキシ−2−プロペニル]トリフルオロシラ
ン、[(E)−3−トリメチルシリル−2−プロペニル
]トリフルオロシラン、[(E)−3−クロロ−2−プ
ロペニル]トリフルオロシランを用いることができる。
【0021】他方の原料である前記一般式[II]で表
される不飽和化合物は容易に合成できかつ工業的に入手
容易な化合物である。一般式[II]の式中の脱離基と
しては臭素原子、ヨウ素原子、塩素原子、トリフルオロ
メタンスルホキシル基、メタンスルホキシル基、p−ト
ルエンスルホキシル基、アセトキシル基およびトリフル
オロアセトキシル基が例示でき、一般式[II]の式中
の脱離基を除いた基としては4−アセチルフェニル基、
3−アセチルフェニル基、2−アセチルフェニル基、4
−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、2−
メトキシフェニル基、4−シアノフェニル基、3−シア
ノフェニル基、2−シアノフェニル基、4−ブロモフェ
ニル基、3−ブロモフェニル基、2−ブロモフェニル基
、4−アミノフェニル基、3−アミノフェニル基、2−
アミノフェニル基、2−(6−メトキシナフチル)基、
4−イソプロピルフェニル基、4−(1−オキシ−2−
メチルプロピル)フェニル、4−(3−フルオロフェニ
ルオキシ)フェニル基、3−ベンゾイルフェニル基、4
−(3’−フルオロビフェニル)基、3−フェニルオキ
シフェニル基、(E)−2−フェニルエテニル基、(Z
)−2−フェニルエテニル基、1,3−ブタジエニル基
、(E)−2−(トリメチルシリル)エテニル基、1−
ヘキセニル基、シンナミル基、ゲラニル基、クロチル基
、2−プロペニル基が例示できる。さらに具体的には4
−ヨードアセトフェノン、4−ブロモアセトフェノン、
4−アセチルフェニルトリフラート、3−ヨードアセト
フェノン、3−ブロモアセトフェノン、3−アセチルフ
ェニルトリフラート、2−ヨードアセトフェノン、2−
ブロモアセトフェノン、2−アセチルフェニルトリフラ
ート、4−メトキシヨードベンゼン、4−メトキシブロ
モベンゼン、4−メトキシフェニルトリフラート、3−
メトキシヨードベンゼン、3−メトキシブロモベンゼン
、3−メトキシフェニルトリフラート、4−シアノヨー
ドベンゼン、4−シアノブロモベンゼン、4−シアノフ
ェニルトリフラート、4−ブロモヨードベンゼン、4−
ブロモフェニルトリフラート、3−ブロモヨードベンゼ
ン、3−ブロモフェニルトリフラート、2−ブロモヨー
ドベンゼン、2−ブロモフェニルトリフラート、2−ヨ
ードアニリン、2ーブロモアニリン、2ーアミノフェニ
ルトリフラート、3−ヨードアニリン、3ーブロモアニ
リン、3ーアミノフェニルトリフラート、4−ヨードア
ニリン、4ーブロモアニリン、4ーアミノフェニルトリ
フラート、2−ヨード−6−メトキシナフタレン、2−
ブロモ−6−メトキシナフタレン、6−メトキシナフチ
ルトリフラート、4−ヨードフェニル(イソプロピル)
ケトン、3−ブロモフェニル(イソプロピル)ケトン、
4−トリフルオロメタンスルホキシフェニル(イソプロ
ピル)ケトン、4−(2−メチルプロピル)ヨードベン
ゼン、4−(2−メチルプロピル)ブロモベンゼン、4
−(2−メチルプロピル)フェニルトリフラート、4−
(3−フルオロフェニルオキシ)ヨードベンゼン、4−
(3−フルオロフェニルオキシ)ブロモベンゼン、4−
(3−フルオロフェニルオキシ)フェニルトリフラート
、3−ヨードベンゾフェノン、3−ブロモベンゾフェノ
ン、3−トリフルオロメタンスルホキシベンゾフェノン
、3−フルオロ−4’−ヨードビフェニル、4’−ブロ
モ−3−フルオロビフェニル、3’−フルオル−4−ト
リフルオロメタンスルホキシビフェニル、3−フェニル
オキシヨードベンゼン、3−フェニルオキシブロモベン
ゼン、3−フェノキシフェニルトリフラート、2−ヨー
ドスチレン、2ーブロモスチレン、1−ヨードヘキセン
、(E)−2−ブロモ−1−(トリメチルシリル)エテ
ン、(E)−1−ブロモ−1、3−ブタジエン、1−ブ
ロモヘキセン、1−ヘキセニルトリフルオロアセタート
、酢酸シンナミル、酢酸ゲラニル、酢酸アリル、ヨウ化
シンナミル、臭化シンナミル、臭化クロチル、1−ブロ
モ−3−メチル−2−ブテン、臭化アリルなどを用いる
ことができる。
【0022】本発明は求核反応剤共存下で反応を行うこ
とが必須の条件である。求核反応剤としてはトリス(ジ
エチルアミノ)スルホニウムジフルオロトリメチルシリ
カート、トリス(ジメチルアミノ)スルホニウムジフル
オロトリメチルシリカート、トリス(ジメチルアミノ)
スルホニウムビフルオリド、テトラブチルアンモニウム
フルオリド,テトラブチルアンモニウムビフルオリド、
ベンジルトリメチルアンモニウムフルオリドなどのフッ
化オニウム塩、フッ化セシウム、フッ化カリウム、フッ
化ナトリウムなどの金属フッ化物、トリエチルアミン、
ジエチルアミン、エチルアミン、トリプロピルアミン、
ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジイソプロピルア
ミン、エチルジイソプロピルアミン、モルホリン、ピリ
ジン、アニリンなどのアミン類を単独または混合して用
いることができる。フッ化物イオン剤およびアミンの使
用量は前記一般式[I]で表される有機ケイ素化合物に
対し、触媒量ないし過剰量の範囲で使用することができ
る。
【0023】使用する第10族金属触媒としては、パラ
ジウムテトラキス(トリフェニルホスフィン)、パラジ
ウムジベンジリデンアセトン、パラジウムベンジリデン
アセトンクロロホルム等のPd(0)錯体、アリル塩化
パラジウム2量体、塩化パラジウムビス(トリフェニル
ホスフィン)、塩化パラジウム[ビス(ジフェニルホス
フィノ)フェロセン]、塩化パラジウム[ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)プロパン]、塩化パラジウム[ビス(
ジフェニルホスフィノ)ブタン]、塩化パラジウム[ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)エタン]などのPd(II
)錯体、塩化パラジウム[(R)−N、N−ジメチル−
1−フェロセニルエチルアミン]、塩化パラジウム[(
R)−N、N−ジメチル−1−(S)−2−(ジフェニ
ルホスフィノフェロセニル)エチルアミン]、塩化パラ
ジウム[(R)−N、N−ジメチル−(S)−1’,2
−ビス(ジフェニルホスフィノフェロセニル)エチルア
ミン]、塩化パラジウム[(S)−N、N−ジメチル−
(R)−1’,2−ビス(ジフェニルホスフィノフェロ
セニル)エチルアミン]、塩化パラジウム[(R)−1
−(S)−1’,2−ビス(ジフェニルホスフィノフェ
ロセニル)エチルアセタート]、塩化パラジウム[(S
)−1−((R)−1’,2−ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)フェロセニル)エチルアセタート]、塩化パラジ
ウム[(R)−1−((S)−1’,2−ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)フェロセニル)エチルアルコール]、
塩化パラジウム[(S)−1−((R)−1’,2−ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル)エチルアル
コール]、塩化パラジウム[(R)−N−メチル−N−
(2−ヒドロキシエチル)−1−(S)−1’,2−ビ
ス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセニルエチルアミ
ン]、塩化パラジウム[(S)−N−メチル−N−(2
−ヒドロキシエチル)−1−(R)−1’,2−ビス(
ジフェニルフォスフィノ)フェロセニルエチルアミン]
、塩化パラジウム[(R)−2,2’−ビス(ジフェニ
ルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(以下、BIN
APと略称する。)]、塩化パラジウム[(S)−BI
NAP]、塩化パラジウム[(+)−2,3−O−イソ
プロピリデン−2,3−ジヒドロキシ−1,4−ビス(
ジフェニルホスフィノ)ブタン(以下、DIOPと略称
する。)]、などの光学活性パラジウム錯体、テトラキ
ス(トリフェニルホスフィン)ニッケル、塩化ニッケル
ビス(トリフェニルホスフィン)などのニッケル錯体、
テトラキス(トリフェニルホスフィン)白金などの白金
錯体をあげることができる。また酢酸パラジウムやパラ
ジウムジベンジリデンアセトンなどのパラジウム体とホ
スフィン配位子を組み合わせて触媒として用いることが
できる。ホスフィン配位子としてはトリフェニルホスフ
ィン、ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、ビス
(ジフェニル2−ヒドロキシエチル)−1−(R)−1
’,2−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセニル
エチルアミン、(+)−DIOP,(−)−DIOP,
(R)−BINAP,(S)−BINAPを用いること
ができる。 使用量はいわゆる触媒量でよい。
【0024】本発明は溶媒中で行う事が望ましく、特に
非プロトン性溶媒中で行うことが反応効率の点から好ま
しい。例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、テト
ラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、アセトニトリ
ル、ジエチルエーテル、N,N−ジメチルイミダゾリジ
ノン等を単独あるいは混合して用いることができる。反
応は0−120℃の範囲でおこなうことができるが、反
応の効率の点から室温−100℃の間でおこなうことが
望ましい。以下、実施例および参考例により本発明をさ
らに詳しく説明する。
【0025】
【実施例】実施例1
【0026】
【化7】
【0027】アルゴン雰囲気下、4−アセチルヨードベ
ンゼン49mg(0.2mmol)およびテトラキス(
トリフェニルホスフィン)パラジウム12mg(0.0
1mmol)のテトラヒドロフラン溶液(2mL)に(
E)−2−ブテニルトリフルオロシラン42mg(0.
3mmol)およびフッ化テトラブチルアンモニウムの
テトラヒドロフラン溶液0.3mL(1.0M、0.3
mmol)を加え、室温下、30分攪拌した後、封管中
、80℃で18.5時間反応させた。室温に冷却後、溶
媒を留去し得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)で精製したとこ
ろ3−(4−アセチルフェニル)−1−ブテン34mg
を得た(収率95%)。
【0028】1H−NMR(CDCl3):δ1.37
(d,J=6.8Hz,3H),2.56(s,3H)
,3.56(m,1H),5.08(m,2H),6.
02(ddd,J=6.38,9.67,17.6Hz
,1H),7.30(d,J=8.3Hz,2H)、7
.90(d,J=8.3Hz,2H).
【0029】I
R(neat):3120,1690,1610,11
85,1018,960,920,830cm−1.
【0030】実施例2
【0031】
【化8】
【0032】テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム12mg(0.01mmol)およびフッ化テ
トラブチルアンモニウム(0.3mmol)存在下、実
施例1と同様に4−アセチルブロモベンゼン40mg(
0.2mmol)と(E)−2−ブテニルトリフルオロ
シランを反応させ3−(4−アセチルフェニル)−1−
ブテン34mgを得た(収率98%)。スペクトルデー
ターは実施例1で得たものと同一であった。
【0033】実施例3
【0034】
【化9】
【0035】テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム12mg(0.01mmol)およびフッ化テ
トラブチルアンモニウム(0.3mmol)存在下、実
施例1と同様に3−メトキシヨードベンゼン47mg(
0.2mmol)と(E)−2−ブテニルトリフルオロ
シラン42mg(0.3mmol)を100℃で反応さ
せ3−(3−メトキシフェニル)−1−ブテン18mg
を得た(収率56%)。
【0036】1H−NMR(CDCl3):δ1.37
(d,J=6.0Hz,3H),3.43(m,1H)
,3.80(S,3H),5.07(m,2H),6.
03(ddd,J=6.0,10.5,17.4Hz)
,6.60−7.43(m,4H).
【0037】IR
(neat):1595,1480,1250,104
0,990,915,840,780cm−1.
【0038】実施例4
【0039】
【化10】
【0040】テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム12mg(0.01mmol)およびフッ化テ
トラブチルアンモニウム(0.3mmol)存在下、実
施例1と同様に4−シアノヨードベンゼン46mg(0
.2mmol)と(E)−2−ブテニルトリフルオロシ
ラン42mg(0.3mmol)を100℃で反応させ
、3−(4−シアノフェニル)−1−ブテン23mgを
得た(収率73%)。
【0041】1H−NMR(CDCl3):δ1.36
(d,J=6.0Hz,3H),3.56(m,1H)
,5.15(m,2H),5.96(ddd,J=6.
00,10.5,17.5Hz,1H),7.33(d
,J=7.8Hz,2H),7.63(d,J=7.8
Hz,2H).
【0042】IR(neat):3050,2950,
2222,1605,1500,1010,915,8
35,728cm−1.
【0043】実施例5
【0044】
【化11】
【0045】テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム12mg(0.01mmol)およびフッ化テ
トラブチルアンモニウム(0.3mmol)存在下、実
施例1と同様に2−ブロモヨードベンゼン57mg(0
.2mmol)と(E)−2−ブテニルトリフルオロシ
ラン42mg(0.3mmol)を100℃で反応させ
、3−(2−ブロモフェニル)−1−ブテン33mgを
得た(収率78%)。
【0046】1H−NMR(CDCl3):δ1.35
(d,J=7.5Hz,3H),4.03(m,1H)
,5.13(m,2H),6.05(ddd,J=6.
3,11.1,210Hz,1H),6.96−7.3
6(m,3H),7.60(d,J=9.0Hz,1H
).
【0047】IR(neat):2890,1473,
1025,920,755,645cm−1.
【004
8】MS(70eV)(m/z,rel.int.):
212(24),210(23,M+),130(50
),116(100),115(37).
【0049】
実施例6
【0050】
【化12】
【0051】テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム12mg(0.01mmol)およびフッ化テ
トラブチルアンモニウム(0.3mmol)存在下、実
施例1と同様に2−アミノヨードベンゼン44mg(0
.2mmol)と(E)−2−ブテニルトリフルオロシ
ラン42mg(0.3mmol)を100℃で反応させ
、3−(2−アミノフェニル)−1−ブテン12mgを
得た(収率39%)。
【0052】1H−NMR(CDCl3):δ1.35
(d,J=7.5Hz,3H),3.10−3.83(
m,3H)、5.07(m,2H),5.95(ddd
,J=6.0,9.3,18Hz),6.58−7.1
8(m,4H).
【0053】IR(neat):3400,1620,
1500,1450,1280,918,750cm−
1.
【0054】実施例7
【0055】
【化13】
【0056】テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム12mg(0.01mmol)およびフッ化テ
トラブチルアンモニウム(0.3mmol)存在下、実
施例1と同様に4−アセチルヨードベンゼン49mg(
0.2mmol)と3−メチル−2−ブテニルトリフル
オロシラン46mg(0.3mmol)を100℃で反
応させ、3−(4−アセチルフェニル)−3−メチル−
1−ブテン26mgを得た(収率70%)。
【0057】1H−NMR(CDCl3):δ1.42
(s,6H),2.58(s,3H),5.09(m,
2H),6.09(dd,J=10.1,17.6Hz
,1H),7.46(d,J=8.1Hz、2H),7
.92(d,J=8.1Hz,2H ).
【0058】
IR(neat):3010,1685,1605,1
100,1015,960,915,830cm−1.
【0059】実施例8
【0060】
【化14】
【0061】テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム12mg(0.01mmol)およびフッ化テ
トラブチルアンモニウム(0.3mmol)存在下、実
施例1と同様に3−メトキシヨードベンゼン47mg(
0.2mmol)と3−メチル−2−ブテニルトリフル
オロシラン46mg(0.3mmol)を100℃で反
応させ、3−(3−メトキシフェニル)−3−メチル−
1−ブテン18mgを得た(収率51%)。
【0062】1H−NMR(CDCl3):δ1.37
(s,6H),3.81(s,3H),5.06(m,
2H),6.07(dd,J=10.1,17.6Hz
,1H,6.66−7.45(m,4H).
【0063
】IR(neat):3010,1603,1490,
1262,1160,1045,915,780,70
0cm−1.
【0064】実施例9
【0065】
【化15】
【0066】テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム12mg(0.01mmol)およびフッ化テ
トラブチルアンモニウム(0.3mmol)存在下、実
施例1と同様に4−(2−メチルプロピル)ブロモベン
ゼン42mg(0.2mmol)と(E)−2−ブテニ
ルトリフルオロシラン42mg(0.3mmol)を1
00℃で反応させ、3−[4−(2−メチルプロピル)
フェニル]−1−ブテン17mgを得た(収率46%)
【0067】1H−NMR(CDCl3):δ0.9.
(d,J=6.37Hz,6H),1.35(m,1H
),1.83(m,1H),2.44(d,J=7.0
3Hz,2H),3.43(m,1H),5.03(m
,2H),6.02(ddd,J=6.37,9.89
,17.36Hz,1H),7.09(m,4H).
【0068】IR(neat):3010,1518,
1470,1110,915,848,802,737
cm−1.
【0069】実施例10
【0070】
【化16】
【0071】テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム12mg(0.01mmol)およびフッ化テ
トラブチルアンモニウム(0.3mmol)存在下、実
施例1と同様に1−(4−ブロモフェニル)−2−メチ
ルプロパノン45mg(0.2mmol)と(E)−2
−ブテニルトリフルオロシラン42mg(0.3mmo
l)を100℃で反応させ、1−[4−(1−メチル−
2−プロペニル)フェニル]−2−メチルプロパノン3
8mgを得た(収率94%)。
【0072】1H−NMR(CDCl3):δ1.21
(d,J=6.9Hz,6H),1.37(d,J=6
.9Hz,3H),3.56(m,2H),5.08(
m,2H),6.03(ddd,J=6.0,9.9,
17.7Hz,1H),7.32(d,J=8.1Hz
,2H),7.93(d,J=8.1Hz,2H).
【0073】IR(neat):3010,1690,
1610,1470,1385,984,920,85
5,710cm−1.
【0074】実施例11
【0075】
【化17】
【0076】テトラキス(トリフェニルホスフィン)パ
ラジウム12mg(0.01mmol)およびフッ化テ
トラブチルアンモニウム(0.3mmol)存在下、実
施例1と同様に酢酸シンナミル35mg(0.2mmo
l)と(E)−2−ブテニルトリフルオロシラン42m
g(0.3mmol)を60℃で反応させ、1−フェニ
ル−4−メチル−1,5−ヘキサジエン18mgを得た
(収率54%)。
【0077】1H−NMR(CDCl3):1.16(
d,J=6.0Hz,3H),2.27(m,3H),
5.00(m.2H),5.55−6.53(m,3H
),7.33(m,5H).
【0078】IR(nea
t):3010,1642,1500,1450,97
0,915,740,698cm−1.
【0079】実施例12
【0080】
【化18】
【0081】パラジウム触媒として塩化パラジウム[(
R)−BINAP]20mg(0.025mmol)お
よびフッ化テトラブチルアンモニウム(0.3mmol
)存在下、実施例1と同様に4−アセチルフェニルトリ
フラート134mg(0.5mmol)と(E)−2−
ブテニルトリフルオロシラン210mg(1.5mmo
l)を80℃で反応させたところ、(S)体32%ee
の3−(4−アセチルフェニル)−1−ブテン48mg
を得た(収率56%)。[α]D−6.74o)ベンゼ
ン,c=2.7,20℃)。スペクトルについては実施
例1で得たものと同一であった。
【0082】実施例13
【0083】
【化19】
【0084】アルゴン雰囲気下、4−アセチルフェニル
トリフラート134mg(0.5mmol)と塩化パラ
ジウム[(R)−N−メチル−N−(2−ヒドロキシエ
チル)−1−(S)−1’、2−ビス(ジフェニルホス
フィノ)フェロセニルエチルアミン]16.4mg(0
.025mmol)および(R)−N−メチル−N−(
2−ヒドロキシエチル)−1−(S)−1’、2−ビス
(ジフェニルフォスフィノ)フェロセニルエチルアミン
32.8mg(0.050mmol)のTHF溶液(3
mL)にトリエチルアミン101mg(1.0mmol
)および(E)−2−ブテニルトリフルオロシラン21
0mg(1.5mmol)を加え、封管中、100℃で
12時間攪拌した。減圧下、溶媒を留去し得られた粗生
成物をカラムクロマトグラフィーで精製した。 (S)体38%eeの3−(4−アセチルフェニル)−
1−ブテン37mgを得た(収率43%)。[α]D−
7.840(ベンゼン、c=2.0,20℃)。スペク
トルについては実施例1で得たものと同一であった。
【0085】実施例14
【0086】
【化20】
【0087】実施例10と同様な実験手順によりパラジ
ウム触媒として塩化パラジウム[(R)−BINAP]
20mg(0.025mmol)を用いて、4−アセチ
ルフェニルトリフラート134mg(0.5mmol)
と(E)−2−ブテニルトリエトキシシラン218mg
(1.0mmol)を80℃で反応させたところ、(S
)体24%eeの3−(4−アセチルフェニル)−1−
ブテン20mgを得た(収率23%)。[α]D−5.
200(ベンゼン、c=2.7、20℃)。スペクトル
については実施例1で得たものと同一であった。
【0088】参考例1
【0089】
【化21】
【0090】実施例10得た1−[4−(1−メチル−
2−プロペニル)フェニル]−2−メチルプロパノン2
02mg(1.0mmol)および炭酸カリウム69m
g(0.5mmol)をt−ブチルアルコール(40m
L)および水(25mL)の混合溶媒に溶かす。この溶
液に氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム1.07g、過マン
ガン酸カリウム40mg(0.25mmol)および炭
酸カリウム69mg(0.5mmol)の水溶液(75
mL)を加える。0℃で2時間攪拌した後、塩酸(1N
)を加えpH1にし、ピロ亜過硫酸ナトリウムを溶液の
色が消えるまでくわえた。溶液をジクロロメタンで抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去し
た。得られた粗精製物をカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル)で精製し、2−[4−(1−オキソ−2−メ
チルプロピル)フェニル]プロパン酸153mgを得た
(収率70%)。
【0091】1H−NMR(CDCl3)δ:1.19
(d,J=6.9Hz,6H),1.51(d,J=6
.0Hz,3H),3.33−3.95(m,2H),
5.16(bs,1H),7.42(d,J=8.1H
z,2H),7.93(d,J=8.1Hz,2H),
9.78(bs,1H).
【0092】IR(neat):2900,1743,
1715,1687,1610,1468,1385,
985,869,710cm−1.
【0093】参考例2
【0094】
【化22】
【0095】参考例1で得た2−[4−(1−オキソ−
2−メチルプロピル)フェニル]プロパン酸50mg(
0.23mmol)をトリフルオロ酢酸0.21mLに
溶かし、氷冷下、トリエチルシラン63mgを加えた後
、室温で23時間攪拌した。減圧下、トリフルオロ酢酸
を留去し得られた粗精製物をカラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル)により精製し、白色結晶の2−[4−(
2−メチルプロピル)フェニル]プロパン酸(イブプロ
フェン)31mgを得た(収率78%)。融点74℃。
【0096】1H−NMR(CDCl3)δ:0.88
(d,J=6.6Hz,6H),1.47(d,J=6
.9Hz,3H),1.84(m,1H),2.45(
d,J=6.9Hz,1H),3.71(q,J=6.
9Hz,1H),7.08(d,J=7.2Hz,2H
),7.24(d,J=7.2Hz,2H),9.67
(bs,1H).
【0097】IR(KBr):3200,3000,1
743,1715,1687,1610,985,86
0,710cm−1.
【0098】参考例3
【0099】
【化23】
【0100】実施例8で得た3−[4−(2−メチルプ
ロピル)フェニル]−1−ブテン75mg(0.40m
mol)および炭酸カリウム43mg(0.20mmo
l)をt−ブチルアルコール(16mL)および水(1
0mL)の混合溶媒に溶かす。この溶媒に氷冷下、過ヨ
ウ素酸ナトリウム428mg(2.0mmol)、過マ
ンガン酸カリウム16mg(0.10mmol)および
炭酸カリウム43mg(0 .20mmol)の水溶液
(30mL)を加える。0℃で2時間撹拌した後、塩酸
(1N)を加えPH1にし、ピロ亜過硫酸ナトリウムを
溶液の色が消えるまでくわえた。溶液をジクロロメタン
で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒を
留去した。得られた粗精製物をカラムクロマトグラフィ
−(酢酸エチル)により精製し、白色結晶の2−〔4−
(2−メチルプロピル)フェニル〕プロパン酸(イブプ
ロフェン)67mgを得た(収率95%)。融点74℃
。、スペクトルデ−タ−は参考例2で得た物と一致した

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  第10族遷移金属触媒および求核反応
    剤の共存下において、一般式[I] 【化1】 で表される有機ケイ素化合物と一般式[II]【化2】 で表される不飽和化合物を反応させることからなる一般
    式[III] 【化3】 で表されるオレフィン類の製造方法 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、
    R8、R9およびR10は各々、独立に水素原子、アル
    キル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ア
    ルコキシル基、シリル基またはハロゲン原子であり、R
    aはフッ素原子、塩 素原子、臭素原子またはアルコキ
    シル基であり、RbおよびRcはアルキル基、アリール
    基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシル基、フ
    ッ素原子、塩素  原子または臭素原子である。Yは脱
    離基を表す。nは0または1を表す。R1 とR2、R
    3とR4、R2とR5またはR1とR3結合している炭
    素原子をともない一体となって環を形成し得る。さらに
    R6とR7、R6とR8、R7とR9、R8とR10ま
    たはR9とR10は結合している炭素と一体となって環
    を形成し得る。)。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0982286A3 (en) * 1998-08-26 2001-01-03 Takasago International Corporation Diene compounds and process for preparing the same
US7960571B2 (en) 2005-04-14 2011-06-14 Kyoto University Silicon-based cross-coupling reagent and production method of organic compound using the same
KR20180088724A (ko) * 2015-12-02 2018-08-06 우미코레 아게 운트 코 카게 3차 아릴 아민의 제조를 위한 부흐발트-하르트비히 아릴화 방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0982286A3 (en) * 1998-08-26 2001-01-03 Takasago International Corporation Diene compounds and process for preparing the same
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