JPH04274039A - 光磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH04274039A JPH04274039A JP3417491A JP3417491A JPH04274039A JP H04274039 A JPH04274039 A JP H04274039A JP 3417491 A JP3417491 A JP 3417491A JP 3417491 A JP3417491 A JP 3417491A JP H04274039 A JPH04274039 A JP H04274039A
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Landscapes
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録媒体に関し
、特に４００ｎｍ程度の短波長光源により記録再生が可
能な高密度光磁気記録媒体の製造方法に関するものであ
る。
、特に４００ｎｍ程度の短波長光源により記録再生が可
能な高密度光磁気記録媒体の製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録媒体は、記録、消去が何度で
もおこなえる、書き換え可能な磁性層をそなえた高密度
光磁気記録媒体として研究開発が活発に行われている。 このような光磁気記録媒体の磁性層を構成する光磁気記
録材料のなかでも、希土類と遷移金属との非晶質合金か
らなる膜（以下、単にＲＥ−ＴＭ膜と称する）は、磁化
方向が膜面に対して垂直に配向した垂直磁化膜となるこ
と、保磁力が数ｋＯｅと大きいこと、スパッタリング、
真空蒸着またはその他の被膜技術で比較的容易に成膜が
可能であること等の点で、最も研究が進み実用化が進ん
でいる。
もおこなえる、書き換え可能な磁性層をそなえた高密度
光磁気記録媒体として研究開発が活発に行われている。 このような光磁気記録媒体の磁性層を構成する光磁気記
録材料のなかでも、希土類と遷移金属との非晶質合金か
らなる膜（以下、単にＲＥ−ＴＭ膜と称する）は、磁化
方向が膜面に対して垂直に配向した垂直磁化膜となるこ
と、保磁力が数ｋＯｅと大きいこと、スパッタリング、
真空蒸着またはその他の被膜技術で比較的容易に成膜が
可能であること等の点で、最も研究が進み実用化が進ん
でいる。
【０００３】このようなＲＥ−ＴＭ膜を用いた光磁気記
録媒体では、磁性層が垂直磁化膜であることから１０８
ビット／ｃｍ２ という極めて高密度な記録が可能で
ある。このＲＥ−ＴＭ膜を用いた光磁気記録媒体の光源
としては、一般に、波長が７８０ｎｍの半導体レーザー
が使用されている。このＲＥ−ＴＭ膜を用いた光磁気記
録媒体よりもさらに高い記録密度を達成するためには４
００ｎｍ程度の短波長光源が有力なものとして注目され
ている。しかしながら、上記のＲＥ−ＴＭ膜では短波長
における光磁気特性は良好なものでない。
録媒体では、磁性層が垂直磁化膜であることから１０８
ビット／ｃｍ２ という極めて高密度な記録が可能で
ある。このＲＥ−ＴＭ膜を用いた光磁気記録媒体の光源
としては、一般に、波長が７８０ｎｍの半導体レーザー
が使用されている。このＲＥ−ＴＭ膜を用いた光磁気記
録媒体よりもさらに高い記録密度を達成するためには４
００ｎｍ程度の短波長光源が有力なものとして注目され
ている。しかしながら、上記のＲＥ−ＴＭ膜では短波長
における光磁気特性は良好なものでない。
【０００４】そこで、４００ｎｍ程度の短波長において
優れた光磁気特性を有する新しい光磁気記録媒体として
、最近、Ｃｏ／ＰｔまたはＣｏ／Ｐｄ多層膜を用いた光
磁気記録材料が報告されている。このような文献として
例えば、電気学会全国大会，１９９０年４月，Ｓ．１７
−１３〜Ｓ．１７−１６「Ｃｏ／Ｐｔ，Ｃｏ／Ｐｄ多層
膜光磁気記録媒体」橋本俊一他、があった。該文献には
、Ｃｏ／ＰｔまたはＣｏ／Ｐｄ多層膜の光磁気的性質に
ついて、報告されており、その極薄膜において優れた光
磁気記録材料になる可能性があることが示唆されている
。
優れた光磁気特性を有する新しい光磁気記録媒体として
、最近、Ｃｏ／ＰｔまたはＣｏ／Ｐｄ多層膜を用いた光
磁気記録材料が報告されている。このような文献として
例えば、電気学会全国大会，１９９０年４月，Ｓ．１７
−１３〜Ｓ．１７−１６「Ｃｏ／Ｐｔ，Ｃｏ／Ｐｄ多層
膜光磁気記録媒体」橋本俊一他、があった。該文献には
、Ｃｏ／ＰｔまたはＣｏ／Ｐｄ多層膜の光磁気的性質に
ついて、報告されており、その極薄膜において優れた光
磁気記録材料になる可能性があることが示唆されている
。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ｃｏ／
ＰｔまたはＣｏ／Ｐｄ多層膜を光磁気記録媒体として使
用する場合には、保磁力（Ｈｃ）が数百Ｏｅと小さいた
めに、記録情報の安定性が悪く、またＣ／Ｎ等が小さく
実用的ではなかった。このようなＣｏ／ＰｔまたはＣｏ
／Ｐｄ多層膜の保磁力を改善するための方法として、成
膜条件（例えば、スパッタ時のガス圧、基板処理、下地
膜、成膜方法）によって保磁力を改善する余地があるこ
とが前記文献によって示唆されていた。
ＰｔまたはＣｏ／Ｐｄ多層膜を光磁気記録媒体として使
用する場合には、保磁力（Ｈｃ）が数百Ｏｅと小さいた
めに、記録情報の安定性が悪く、またＣ／Ｎ等が小さく
実用的ではなかった。このようなＣｏ／ＰｔまたはＣｏ
／Ｐｄ多層膜の保磁力を改善するための方法として、成
膜条件（例えば、スパッタ時のガス圧、基板処理、下地
膜、成膜方法）によって保磁力を改善する余地があるこ
とが前記文献によって示唆されていた。
【０００６】ところで、下地膜による方法は、膜を厚く
した場合には保磁力は３．０ｋＯｅ程度となるが、光磁
気記録媒体においてはディスクを高速で回転する必要が
あることや、記録時のレーザーの出力を抑える必要があ
ること、さらには、これらの多層膜が１０００Å程度以
上の膜厚においては角形比が低下し磁気特性が悪化する
といったことから、光磁気記録媒体として使用する場合
には膜厚を厚くすることができない。
した場合には保磁力は３．０ｋＯｅ程度となるが、光磁
気記録媒体においてはディスクを高速で回転する必要が
あることや、記録時のレーザーの出力を抑える必要があ
ること、さらには、これらの多層膜が１０００Å程度以
上の膜厚においては角形比が低下し磁気特性が悪化する
といったことから、光磁気記録媒体として使用する場合
には膜厚を厚くすることができない。
【０００７】そして、前記の成膜条件では、優れた光磁
気特性および光磁気ディスクに使用可能な条件である透
明な下地膜といった点を考慮した場合には、保磁力は通
常数百Ｏｅと小さく、大きくてもせいぜい１．０ｋＯｅ
程度が実現可能な値であった。このように、光磁気記録
媒体としてＣｏ／ＰｔまたはＣｏ／Ｐｄ多層膜を使用す
るにはまだ保磁力は不十分であり、さらに増大させる必
要があった。
気特性および光磁気ディスクに使用可能な条件である透
明な下地膜といった点を考慮した場合には、保磁力は通
常数百Ｏｅと小さく、大きくてもせいぜい１．０ｋＯｅ
程度が実現可能な値であった。このように、光磁気記録
媒体としてＣｏ／ＰｔまたはＣｏ／Ｐｄ多層膜を使用す
るにはまだ保磁力は不十分であり、さらに増大させる必
要があった。
【０００８】本発明は、以上述べたような従来技術の課
題を解決するためになされたもので、その目的とすると
ころは保磁力が大きく、しかも、高い記録密度を達成可
能な４００ｎｍ程度の短波長領域において優れた光磁気
特性を持つ、高密度光磁気記録媒体の製造方法を提供す
ることにある。
題を解決するためになされたもので、その目的とすると
ころは保磁力が大きく、しかも、高い記録密度を達成可
能な４００ｎｍ程度の短波長領域において優れた光磁気
特性を持つ、高密度光磁気記録媒体の製造方法を提供す
ることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明は、基板に、垂直磁化膜としての、Ｃｏ／Ｐ
ｔ多層膜またはＣｏ／Ｐｄ多層膜を設け、さらにこの上
に酸化制御層を設け、これを熱処理したものである。ま
た、本発明は、前記Ｃｏ／Ｐｔ多層膜およびＣｏ／Ｐｄ
多層膜の膜厚：Ｄが、３０Å≦Ｄ≦１０００Åであり、
また、Ｃｏ層厚（ｄｃｏ），Ｐｔ層厚（ｄｐｔ），Ｐｄ
層厚（ｄｐｄ）が、それぞれ、１Å≦ｄｃｏ≦１５Å，
２Å≦ｄｐｔ≦３０Å，２Å≦ｄｐｄ≦３０Åとなるよ
うにしたものである。
めに本発明は、基板に、垂直磁化膜としての、Ｃｏ／Ｐ
ｔ多層膜またはＣｏ／Ｐｄ多層膜を設け、さらにこの上
に酸化制御層を設け、これを熱処理したものである。ま
た、本発明は、前記Ｃｏ／Ｐｔ多層膜およびＣｏ／Ｐｄ
多層膜の膜厚：Ｄが、３０Å≦Ｄ≦１０００Åであり、
また、Ｃｏ層厚（ｄｃｏ），Ｐｔ層厚（ｄｐｔ），Ｐｄ
層厚（ｄｐｄ）が、それぞれ、１Å≦ｄｃｏ≦１５Å，
２Å≦ｄｐｔ≦３０Å，２Å≦ｄｐｄ≦３０Åとなるよ
うにしたものである。
【００１０】さらに本発明は、前記熱処理の温度：Ｔが
、１５０℃≦Ｔ≦４５０℃であり、熱処理の時間が１分
以上としたものである。
、１５０℃≦Ｔ≦４５０℃であり、熱処理の時間が１分
以上としたものである。
【００１１】
【作用】本発明において、基板に、垂直磁化膜としての
、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜またはＣｏ／Ｐｄ多層膜を熱処理す
ることにより、さらに保磁力を増大させることができる
。本発明において、酸化制御層は、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜ま
たはＣｏ／Ｐｄ多層膜の酸化量を制御できるものであり
、この層が無いと加熱処理したときに、記録層であるＣ
ｏ／Ｐｔ多層膜またはＣｏ／Ｐｄ多層膜が過度に酸化さ
れ、記録層が非磁性になってしまう。
、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜またはＣｏ／Ｐｄ多層膜を熱処理す
ることにより、さらに保磁力を増大させることができる
。本発明において、酸化制御層は、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜ま
たはＣｏ／Ｐｄ多層膜の酸化量を制御できるものであり
、この層が無いと加熱処理したときに、記録層であるＣ
ｏ／Ｐｔ多層膜またはＣｏ／Ｐｄ多層膜が過度に酸化さ
れ、記録層が非磁性になってしまう。
【００１２】
【実施例１】図１に、本発明の実施例１の光磁気記録媒
体の断面図を概略的に示している。ガラス基板上に、コ
バルトＣｏの薄膜と白金Ｐｔの薄膜が交互に積層された
、膜厚２５０ÅのＣｏ／Ｐｔ多層膜が記録層として被着
されている。この記録層上に、膜厚５００ÅのＰｔの薄
膜が酸化制御層として被着されている。Ｃｏ／Ｐｔ多層
膜においてはＣｏ層厚：４．７Å、Ｐｔ層厚：１２．０
Åとなっている。
体の断面図を概略的に示している。ガラス基板上に、コ
バルトＣｏの薄膜と白金Ｐｔの薄膜が交互に積層された
、膜厚２５０ÅのＣｏ／Ｐｔ多層膜が記録層として被着
されている。この記録層上に、膜厚５００ÅのＰｔの薄
膜が酸化制御層として被着されている。Ｃｏ／Ｐｔ多層
膜においてはＣｏ層厚：４．７Å、Ｐｔ層厚：１２．０
Åとなっている。
【００１３】次に、本実施例１の光磁気記録媒体の製造
方法を説明する。基板としてガラスを用意し、この基板
上に、ＣｏとＰｔをターゲットとしてスパッタリング装
置によりＣｏとＰｔとの薄膜を交互に積層し、Ｃｏ／Ｐ
ｔ多層膜の膜厚２５０Åとなるように形成した。次に、
Ｐｔをスパッタリングにより膜厚５００Åとなるように
被着させた。このようにして得られた基板被着体を、大
気中において２５０℃，３０分間熱処理して、光磁気記
録媒体を得た。
方法を説明する。基板としてガラスを用意し、この基板
上に、ＣｏとＰｔをターゲットとしてスパッタリング装
置によりＣｏとＰｔとの薄膜を交互に積層し、Ｃｏ／Ｐ
ｔ多層膜の膜厚２５０Åとなるように形成した。次に、
Ｐｔをスパッタリングにより膜厚５００Åとなるように
被着させた。このようにして得られた基板被着体を、大
気中において２５０℃，３０分間熱処理して、光磁気記
録媒体を得た。
【００１４】図３は、上記製造方法によって得られた、
光磁気記録媒体の膜の熱処理前後における、磁気特性の
変化を表した磁化曲線を示す。図３（ａ）は熱処理前の
磁化曲線であり、図３（ｂ）は前記のとおりの２５０℃
，３０分間熱処理を行った後の磁化曲線である。この図
３からは、基板−Ｃｏ／Ｐｔ多層膜−Ｐｔ薄膜からなる
基板被着体を上記のように熱処理を施すことにより、熱
処理前の保磁力が０．２ｋＯｅ程度であったものが、熱
処理後には２ｋＯｅと増大しているのが分かる。
光磁気記録媒体の膜の熱処理前後における、磁気特性の
変化を表した磁化曲線を示す。図３（ａ）は熱処理前の
磁化曲線であり、図３（ｂ）は前記のとおりの２５０℃
，３０分間熱処理を行った後の磁化曲線である。この図
３からは、基板−Ｃｏ／Ｐｔ多層膜−Ｐｔ薄膜からなる
基板被着体を上記のように熱処理を施すことにより、熱
処理前の保磁力が０．２ｋＯｅ程度であったものが、熱
処理後には２ｋＯｅと増大しているのが分かる。
【００１５】図５に、この光磁気記録媒体について光磁
気性能数（√Ｒ｜θＫ ｜）の測定を行なった結果を示
す。比較のために従来の光磁気記録媒体（ＲＥ−ＴＭ膜
）であるＴｂ２２Ｆｅ６７Ｃｏ１１についても同じ測定
を行った。図５から分かるように、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜は
短波長領域（４００ｎｍ程度）において、従来のＲＥ−
ＴＭ膜を用いた光磁気記録媒体よりも高い性能指数を示
していることが分かる。
気性能数（√Ｒ｜θＫ ｜）の測定を行なった結果を示
す。比較のために従来の光磁気記録媒体（ＲＥ−ＴＭ膜
）であるＴｂ２２Ｆｅ６７Ｃｏ１１についても同じ測定
を行った。図５から分かるように、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜は
短波長領域（４００ｎｍ程度）において、従来のＲＥ−
ＴＭ膜を用いた光磁気記録媒体よりも高い性能指数を示
していることが分かる。
【００１６】図７に、記録層として膜厚２５０ÅのＣｏ
／Ｐｔ多層膜を用い、酸化制御層として膜厚５００Åの
Ｐｔ薄膜を用いた光磁気記録媒体の熱処理温度に対する
保磁力を測定し、その関係を示す。ここで、熱処理時間
をすべて３０分とした。図７から分かるように、熱処理
温度を２５０℃とした場合に、保磁力は最大となってい
る。
／Ｐｔ多層膜を用い、酸化制御層として膜厚５００Åの
Ｐｔ薄膜を用いた光磁気記録媒体の熱処理温度に対する
保磁力を測定し、その関係を示す。ここで、熱処理時間
をすべて３０分とした。図７から分かるように、熱処理
温度を２５０℃とした場合に、保磁力は最大となってい
る。
【００１７】図９に、記録層として膜厚２５０ÅのＣｏ
／Ｐｔ多層膜を用い、酸化制御層として膜厚５００Åの
Ｐｔ薄膜を用いた光磁気記録媒体の熱処理時間に対する
保磁力を測定し、その関係をグラフとして示す。熱処理
温度を２００℃、２５０℃、３００℃の場合について行
なった。図９から分かるように、熱処理時間を３０分以
上とした場合に最大の保磁力が得られることが分かる。
／Ｐｔ多層膜を用い、酸化制御層として膜厚５００Åの
Ｐｔ薄膜を用いた光磁気記録媒体の熱処理時間に対する
保磁力を測定し、その関係をグラフとして示す。熱処理
温度を２００℃、２５０℃、３００℃の場合について行
なった。図９から分かるように、熱処理時間を３０分以
上とした場合に最大の保磁力が得られることが分かる。
【００１８】さらに、酸化制御層であるＰｔ薄膜の膜厚
と保磁力が最大となる熱処理温度との関係を図１１に示
す。Ｐｔ膜厚が３０００Å以上においては熱処理温度を
５００℃以上とする必要があり、この場合には多層膜の
積層構造が乱れたものとなってしまい磁気特性は悪化し
てしまう。また、熱処理温度が１５０℃未満ではＰｔ薄
膜の膜厚を０Åとしても保磁力の増大は見られない。
と保磁力が最大となる熱処理温度との関係を図１１に示
す。Ｐｔ膜厚が３０００Å以上においては熱処理温度を
５００℃以上とする必要があり、この場合には多層膜の
積層構造が乱れたものとなってしまい磁気特性は悪化し
てしまう。また、熱処理温度が１５０℃未満ではＰｔ薄
膜の膜厚を０Åとしても保磁力の増大は見られない。
【００１９】
【実施例２】図２に、本発明の実施例２の光磁気記録媒
体の断面図を概略的に示している。ガラス基板上にコバ
ルトＣｏの薄膜と白金Ｐｔの薄膜が交互に積層された膜
厚２５０ÅのＣｏ／Ｐｄ多層膜が記録層として被着され
ている。この記録層上に、膜厚５００ÅのＰｄの薄膜が
酸化制御層として被着されている。Ｃｏ／Ｐｄ多層膜に
おいてはＣｏ層厚：４．７Å、Ｐｄ層厚：１２．０Åと
なっている。
体の断面図を概略的に示している。ガラス基板上にコバ
ルトＣｏの薄膜と白金Ｐｔの薄膜が交互に積層された膜
厚２５０ÅのＣｏ／Ｐｄ多層膜が記録層として被着され
ている。この記録層上に、膜厚５００ÅのＰｄの薄膜が
酸化制御層として被着されている。Ｃｏ／Ｐｄ多層膜に
おいてはＣｏ層厚：４．７Å、Ｐｄ層厚：１２．０Åと
なっている。
【００２０】次に、本実施例２の光磁気記録媒体の製造
方法を説明する。実施例１と同じように、基板としてガ
ラスを用意し、この基板上にＣｏとＰｄをターゲットと
してスパッタリング装置によりＣｏとＰｄとの薄膜を交
互に積層し、Ｃｏ／Ｐｄ多層膜の膜厚２５０Åとなるよ
うに形成した。次に、この上にＰｄをスパッタリングに
より膜厚５００Åとなるように被着させた。このように
して得られた、基板被着体を大気中において、２５０℃
，３０分間熱処理を施して光磁気記録媒体を得た。
方法を説明する。実施例１と同じように、基板としてガ
ラスを用意し、この基板上にＣｏとＰｄをターゲットと
してスパッタリング装置によりＣｏとＰｄとの薄膜を交
互に積層し、Ｃｏ／Ｐｄ多層膜の膜厚２５０Åとなるよ
うに形成した。次に、この上にＰｄをスパッタリングに
より膜厚５００Åとなるように被着させた。このように
して得られた、基板被着体を大気中において、２５０℃
，３０分間熱処理を施して光磁気記録媒体を得た。
【００２１】図４は、上記製造方法によって得られた、
光磁気記録媒体の膜の熱処理前後における、磁気特性の
変化を表した磁化曲線を示す。図４（ａ）は熱処理前の
磁化曲線であり、図４（ｂ）は前記のとおりの２５０℃
，３０分間熱処理を行った後の磁化曲線である。この図
４（ａ），（ｂ）からは、基板−Ｃｏ／Ｐｄ多層膜−Ｐ
ｄ薄膜からなる基板被着体を上記のように熱処理を施す
ことにより、加熱処理前の保磁力が０．５ｋＯｅ程度で
あったものが、加熱処理後には３ｋＯｅと増大している
のが分かる。
光磁気記録媒体の膜の熱処理前後における、磁気特性の
変化を表した磁化曲線を示す。図４（ａ）は熱処理前の
磁化曲線であり、図４（ｂ）は前記のとおりの２５０℃
，３０分間熱処理を行った後の磁化曲線である。この図
４（ａ），（ｂ）からは、基板−Ｃｏ／Ｐｄ多層膜−Ｐ
ｄ薄膜からなる基板被着体を上記のように熱処理を施す
ことにより、加熱処理前の保磁力が０．５ｋＯｅ程度で
あったものが、加熱処理後には３ｋＯｅと増大している
のが分かる。
【００２２】図６に、この光磁気記録媒体について光磁
気性能数（√Ｒ｜θＫ ｜）の測定を行なった結果を示
す。比較のために従来の光磁気記録媒体（ＲＥ−ＴＭ膜
）であるＴｂ２２Ｆｅ６７Ｃｏ１１についても同じ測定
を行った。図６から分かるように、Ｃｏ／Ｐｄ多層膜は
短波長領域（４００ｎｍ程度）において、従来のＲＥ−
ＴＭ膜を用いた光磁気記録媒体よりも高い性能指数を示
していることが分かる。
気性能数（√Ｒ｜θＫ ｜）の測定を行なった結果を示
す。比較のために従来の光磁気記録媒体（ＲＥ−ＴＭ膜
）であるＴｂ２２Ｆｅ６７Ｃｏ１１についても同じ測定
を行った。図６から分かるように、Ｃｏ／Ｐｄ多層膜は
短波長領域（４００ｎｍ程度）において、従来のＲＥ−
ＴＭ膜を用いた光磁気記録媒体よりも高い性能指数を示
していることが分かる。
【００２３】図８に、記録層として膜厚２５０ÅのＣｏ
／Ｐｄ多層膜を用い、酸化制御層として膜厚５００Åの
Ｐｄ薄膜を用いた光磁気記録媒体の熱処理温度に対する
保磁力を測定し、その関係を示す。ここで、熱処理時間
はすべて３０分とした。図８から分かるように、熱処理
温度を２５０℃とした場合に、保磁力は最大となってい
る。
／Ｐｄ多層膜を用い、酸化制御層として膜厚５００Åの
Ｐｄ薄膜を用いた光磁気記録媒体の熱処理温度に対する
保磁力を測定し、その関係を示す。ここで、熱処理時間
はすべて３０分とした。図８から分かるように、熱処理
温度を２５０℃とした場合に、保磁力は最大となってい
る。
【００２４】図１０に、記録層として膜厚２５０ÅのＣ
ｏ／Ｐｄ多層膜を用い、酸化制御層として膜厚５００Å
のＰｄ薄膜を用いた光磁気記録媒体の熱処理時間に対す
る保磁力を測定し、その関係を示す。熱処理温度を２０
０℃、２５０℃、３００℃の場合について行なった。図
１０から分かるように、熱処理時間を３０分以上とした
場合に、最大の保磁力が得られることが分かる。
ｏ／Ｐｄ多層膜を用い、酸化制御層として膜厚５００Å
のＰｄ薄膜を用いた光磁気記録媒体の熱処理時間に対す
る保磁力を測定し、その関係を示す。熱処理温度を２０
０℃、２５０℃、３００℃の場合について行なった。図
１０から分かるように、熱処理時間を３０分以上とした
場合に、最大の保磁力が得られることが分かる。
【００２５】さらに、酸化制御層であるＰｄ薄膜の膜厚
と保磁力が最大となる熱処理温度との関係を図１２に示
す。Ｐｄ膜厚が３０００Å以上においては熱処理温度を
５００℃以上とする必要があり、この場合には多層膜の
積層構造が乱れたものとなってしまい磁気特性は悪化し
てしまう。また、熱処理温度が１５０℃未満ではＰｄ薄
膜の膜厚を０Åとしても保磁力の増大は見られない。
と保磁力が最大となる熱処理温度との関係を図１２に示
す。Ｐｄ膜厚が３０００Å以上においては熱処理温度を
５００℃以上とする必要があり、この場合には多層膜の
積層構造が乱れたものとなってしまい磁気特性は悪化し
てしまう。また、熱処理温度が１５０℃未満ではＰｄ薄
膜の膜厚を０Åとしても保磁力の増大は見られない。
【００２６】以上、本発明の実施例を詳細に説明したが
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能である。 例えば、前記実施例においては酸化制御層としてＰｔ薄
膜またはＰｄ薄膜を使用したが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜およびＣｏ／Ｐｄ
多層膜の熱処理（１５０℃≦Ｔ≦４５０℃）における酸
化量を制御できるものであればすべての膜が使用可能で
ある。
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能である。 例えば、前記実施例においては酸化制御層としてＰｔ薄
膜またはＰｄ薄膜を使用したが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜およびＣｏ／Ｐｄ
多層膜の熱処理（１５０℃≦Ｔ≦４５０℃）における酸
化量を制御できるものであればすべての膜が使用可能で
ある。
【００２７】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明は
、基板に、垂直磁化膜としての、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜また
はＣｏ／Ｐｄ多層膜を設け、さらにこの上に酸化制御層
を設け、これを熱処理して光磁気記録媒体を製造したの
で、この方法よって得られた光磁気記録媒体は、保磁力
が大きく、かつ高密度記録が可能な短波長領域（４００
ｎｍ程度）において優れた光磁気特性を有する垂直磁化
膜を有する。従って、本発明の光磁気記録媒体は、高密
度の情報を安定に記録再生することが可能である。
、基板に、垂直磁化膜としての、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜また
はＣｏ／Ｐｄ多層膜を設け、さらにこの上に酸化制御層
を設け、これを熱処理して光磁気記録媒体を製造したの
で、この方法よって得られた光磁気記録媒体は、保磁力
が大きく、かつ高密度記録が可能な短波長領域（４００
ｎｍ程度）において優れた光磁気特性を有する垂直磁化
膜を有する。従って、本発明の光磁気記録媒体は、高密
度の情報を安定に記録再生することが可能である。
【図１】本発明の実施例１の光磁気記録媒体の断面図を
概略的に示す。
概略的に示す。
【図２】本発明の実施例２の光磁気記録媒体の断面図を
概略的に示す。
概略的に示す。
【図３】実施例１における光磁気記録媒体の熱処理前お
よび熱処理後の磁化曲線を示す。
よび熱処理後の磁化曲線を示す。
【図４】実施例２における光磁気記録媒体の熱処理前お
よび熱処理後の磁化曲線を示す。
よび熱処理後の磁化曲線を示す。
【図５】本発明の実施例１と従来の光磁気記録媒体の各
波長に対する光磁気性能数（√Ｒ｜θＫ ｜）を示す。
波長に対する光磁気性能数（√Ｒ｜θＫ ｜）を示す。
【図６】本発明の実施例２と従来の光磁気記録媒体の各
波長に対する光磁気性能数（√Ｒ｜θＫ ｜）を示す。
波長に対する光磁気性能数（√Ｒ｜θＫ ｜）を示す。
【図７】本発明の実施例１の光磁気記録媒体の各熱処理
温度に対する保磁力の関係を示す。
温度に対する保磁力の関係を示す。
【図８】本発明の実施例２の光磁気記録媒体の各熱処理
温度に対する保磁力の関係を示す。
温度に対する保磁力の関係を示す。
【図９】本発明の実施例１の光磁気記録媒体の各熱処理
時間に対する保磁力の関係を示す。
時間に対する保磁力の関係を示す。
【図１０】本発明の実施例２の光磁気記録媒体の各熱処
理時間に対する保磁力の関係を示す。
理時間に対する保磁力の関係を示す。
【図１１】本発明の実施例１の光磁気記録媒体の酸化制
御層の膜厚と保磁力が最大となる熱処理温度との関係を
示す。
御層の膜厚と保磁力が最大となる熱処理温度との関係を
示す。
【図１２】本発明の実施例１の光磁気記録媒体の酸化制
御層の膜厚と保磁力が最大となる熱処理温度との関係を
示す。
御層の膜厚と保磁力が最大となる熱処理温度との関係を
示す。
Claims (4)
- 【請求項１】 基板に、垂直磁化膜としての、Ｃｏ／
Ｐｔ多層膜またはＣｏ／Ｐｄ多層膜を設け、さらにこの
上に酸化制御層を設け、これを熱処理することを特徴と
する光磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 前記Ｃｏ／Ｐｔ多層膜およびＣｏ／Ｐ
ｄ多層膜の膜厚：Ｄが、３０Å≦Ｄ≦１０００Åであり
、また、Ｃｏ層厚（ｄｃｏ），Ｐｔ層厚（ｄｐｔ），Ｐ
ｄ層厚（ｄｐｄ）が、それぞれ、１Å≦ｄｃｏ≦１５Å
，２Å≦ｄｐｔ≦３０Å，２Å≦ｄｐｄ≦３０Åである
ことを特徴とする請求項１記載の光磁気記録媒体の製造
方法。 - 【請求項３】 前記熱処理の温度：Ｔが、１５０℃≦
Ｔ≦４５０℃であり、熱処理の時間が１分以上であるこ
とを特徴とする請求項１記載の光磁気記録媒体の製造方
法。 - 【請求項４】 前記酸化制御層としてＰｔまたはＰｄ
からなる薄膜を用いたことを特徴とする請求項１記載の
光磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3034174A JP3069135B2 (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3034174A JP3069135B2 (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04274039A true JPH04274039A (ja) | 1992-09-30 |
| JP3069135B2 JP3069135B2 (ja) | 2000-07-24 |
Family
ID=12406845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3034174A Expired - Fee Related JP3069135B2 (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3069135B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6163509A (en) * | 1996-07-11 | 2000-12-19 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium and magneto-optical recorder using the medium |
-
1991
- 1991-02-28 JP JP3034174A patent/JP3069135B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6163509A (en) * | 1996-07-11 | 2000-12-19 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium and magneto-optical recorder using the medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3069135B2 (ja) | 2000-07-24 |
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