JPH04273839A - フツ素化エーテルの合成 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明はフッ素化エーテルの製造、及び特
に式：ＣＦ３ＣＨＦＯＣＨＦ２の２−ジフルオロメトキ
シ−１，１，１，２−テトラフルオロエタンに関する。

【０００２】デスフルランと呼ばれるこの化合物は、有
用な麻酔性を有することがしら知れている−例えばＥ．
Ｉ．Ｅｇｅｒ等、Ａｎａｅｓｔｈｅｓｉａ　　ａｎｄ　
　Ａｎａｌｇｅｓｉａ　　１９８７，Ｖｏｌｕｍｅ６６
（１０），ｐｐ．９７１−９７３、９７４−９７６、９
７７−９８２、９８３−９８５、１２２７−１２２９、
１２３０−１２３３及び１３１２−１３１５参照。

【０００３】この化合物は合衆国特許３，８９７，５０
２（実施例ＸＸＩ；カラム８、表１）及びカラム１，２
３行に挙げられており、そこに“本発明の方法で作るこ
とができるポリフルオロ含有生成物は、麻酔薬−感受性
空気呼吸哺乳類における麻酔薬としても有用である”と
述べられている。

【０００４】ＵＳ特許３，８９７，５０２に開示されて
いるこの化合物の製造法は２−ジフルオロメトキシ−１
，１，１−トリフルオロエタンの直接フッ素化を含む。 反応は完了するのに１３時間かかり、溶媒フレオンＥ３
中で、アルゴン中の２０％フ素ガスの混合物を用い、発
熱反応の制御のために−２０℃から−２５℃にて行う。

【０００５】この反応は高価な試薬を用い、低温で行わ
なければならず、速度が遅いので商業規模に発展させる
のは明らかに困難である。さらにフッ素ガスと部分的に
フッ素化された炭化水素化合物は爆発を起こし易いこと
は同業者に周知である。

【０００６】２−ジフルオロメトキシ−１，１，１，２
−テトラフルオロエタンへの他の発表された経路には以
下が含まれる。

【０００７】（ａ）ＣＨＣｌ２ＯＣＨ２ＣＯＣｌ又はＣ
ＨＣｌ２ＯＣＨＣｌＣＯＣｌ（あるいはこれら二つの混
合物）と四フッ素化硫黄の反応（Ｕ．Ｓ．特許４，８５
５，５１１）。これは毒性の高い気体試薬であり加圧下
で扱わなければならない四フッ素化硫黄を用いた多段階
反応である。大規模化には重大な取り扱いの問題があり
得る。

【０００８】（ｂ）ＣＦ３ＣＨＣｌＯＣＦ２Ｈとフッ素
化カリウムの反応。これはオートクレーブ中溶媒なしで
、２７８℃及び圧力５００ｐ．ｓ．ｉ．（３４５０ｋＰ
ａ）にて行う（Ｕ．Ｓ．特許４，８７４，９０１）、あ
るいは非プロトン性溶媒中（スルホラン）相移動触媒（
テトラメチルアンモニウムクロリド）を用いて２１０℃
で、この場合も加圧下で行うことができる（ＵＫ特許明
細書２，２１９，２９２）。これらの方法は加圧下で行
わなければならないので、高い資本経費及び大規模化の
問題−特に試薬の腐食性による問題に会う。これらは基
本的にバッチ法である。

【０００９】（ｃ）周囲温度におけるＣＦ３ＣＨＣｌＯ
ＣＦ２Ｈと三フッ化臭素の反応（欧州特許明細書３４１
，００４）。この方法は短時間に高収率（８７％）を与
えるが、臭素とフッ素から製造する試薬、三フッ化臭素
は毒性が高く、扱いが困難で、商業的量への大規模化に
おいて問題を起こす。

【００１０】従って大きな問題なしに工業規模で使用す
ることができる方法が必要である。ここで、デスフルラ
ンを含むある種のフッ素化脂肪族エーテルをフッ素化度
の低い対応するエーテルから、それを気相で固体フッ素
化遷移金属フッ素化剤と接触させることにより製造する
ことができることを見いだした。

【００１１】従って本発明は、次式

【００１２】

【化３】 　　　　［式中Ｒは、水素、フッ素、炭素数が１−６の
アルキル又は炭素数が１−６のフルオロアルキルであり
、Ｒ′は、水素、炭素数が１−６のアルキル又は炭素数
が１−６のフルオロアルキルであり、Ｒ″は、フッ素、
炭素数が１−６のアルキル又は炭素数が１−６のフルオ
ロアルキルである］のフッ素化エーテルの製造法におい
て、次式：

【００１３】

【化４】 ［Ｒ、Ｒ′及びＲ″は上記と同義である］のエーテルの
、気相における固体フッ素化遷移金属フッ素化剤との反
応を含むことを特徴とする方法を提供する。

【００１４】前述のフルオロアルキル基は、ペルフルオ
ロアルキル基が好ましい。

【００１５】方法の好ましい実行においてＲは、水素又
はフッ素、特に水素であり、Ｒ′は、水素又は１，２，
２，２−テトラフルオロエチル、特に水素であり、Ｒ″
は、フッ素である。

【００１６】新規方法を用いて、比較的入手の容易な２
−ジフルオロメトキシ−１，１，１−トリフルオロエタ
ン（ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨＦ２）を気相中、比較的穏やか
な条件下で、フッ素化剤として好ましくは三フッ化コバ
ルトを用いてフッ素化し、２−ジフルオロメトキシ−１
，１，１，２−テトラフルオロエタン、すなわちデスフ
ルランとすることができる。同時にジフルオロメトキシ
−１，１，１，２，２−ペンタフルオロエタンが製造さ
れる。

【００１７】三フッ化コバルト（塩化第２コバルト）が
好ましいフッ素化剤であるが、そのアルカリ金属錯体の
形態であることができ、炭素に結合している水素をフッ
素に置換するのに有効な他のフッ素化遷移金属、例えば
二フッ化銀、カリウムテトラフルオロコバルテート（Ｋ
ＣｏＦ４）、カリウムヘキサフルオロニッケレート（Ｋ
２ＮｉＦ６）、三フッ化マンガン、四フッ化セリウム、
フッ化水銀及びカリウムテトラフルオロアルゲンテート
も使用することができる。単純化のため、以下の議論で
は好ましい三フッ化コバルトに言及する。

【００１８】新規方法を行う場合、反応領域にフッ素を
通すことにより反応の間にフッ素化遷移金属フッ素化剤
をその場で再生し、三フッ化コバルトがフッ素キャリヤ
ーとして作用できるようにするのが有利である。従って
例えば以下の反応が同時に起こる： 　　ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨＦ２＋２ＣｏＦ３→ＣＦ３ＣＨ
ＦＯＣＨＦ２＋２ＣｏＦ２＋ＨＦ　　　　　　　　　　
　　２ＣｏＦ２＋Ｆ２　　　　　　→２ＣｏＦ３ 　　三フッ化コバルトに基づく方法は、例えばＰｒｅｐ
ｅｒａｔｉｏｎ，Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ，ａｎｄ　　Ｉ
ｎｄｕｓｔｒｉａｌ　　Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ　　
ｏｆ　　Ｏｒｇａｎｏｆｌｕｏｒｉｎｅ　　Ｃｏｍｐｏ
ｕｎｄｓ，編集　　Ｒ　　Ｅ　　Ｂａｎｋｓ、出版　　
Ｅｌｌｉｓ　　Ｈｏｒｗｏｏｄ／Ｗｉｌｅｙ，１９８２
，ｐ，４７に記載の通り、飽和フッ素化炭素の製造に商
業的に使用され、そこに記載されている装置は本発明の
方法に容易で使用することができる。従って本発明の方
法は、容易に商業的規模に発展させることができる２−
ジフルオロメトキシ−１，１，１，２−テトラフルオロ
エタンへの安全で経済的な経路を提供する。

【００１９】トリフルオロエタン出発材料の沸点は２９
．２℃なので、単に加熱するだけで気化することができ
る。一般にフッ素化はエーテル出発材料を１００℃−４
５０℃、好ましくは１５０℃−３００℃、特に約２２０
℃及び大気圧下にて三フッ化コバルトと接触させること
により行う。通常は三フッ化コバルトは大過剰であろう
。これは、通常撹拌などにより動かしながらエーテル出
発材料を気相で三フッ化コバルトの床に通すことにより
非常に簡単に行うことができる。

【００２０】本発明のある好ましい具体化において、出
発材料及びフッ素を連続的に反応容器に導入し、これら
の試薬の各導入速度を、活性フッ化剤の形態（例えばＣ
ｏＦ３）のコバルト（又は他の金属）の割合がコバルト
または他の金属全体の１０〜１００％、通常１０％〜８
０％、徳に３３〜６７％となるように調節する。

【００２１】出発材料は蒸気として導入するのが好まし
いが、液状で導入することもできる。必要なら、例えば
温度管理を容易にするためにキャリヤーガスと混合する
ことができるが、これは生産性を低下させる。

【００２２】デスフルラン製造のための２−ジフルオロ
メトキシ−１，１，１−トリフルオロエタン出発材料は
周知の方法、例えばトリフルオロエタノールとモノクロ
ロジフルオロメタンのアルカリ性条件下での反応により
得ることができる（例えばＵＫ特許１３５８９６０参照
）。

【００２３】必要な品質を得るための粗生成物の精製は
、高効率充填物を詰めたカラムを用いた分別蒸留などの
通常の方法により行うことができる。簡単な蒸留により
高純度（＞９９．９７％）のデスフルランを得ることが
できる。不純物（未変換出発材料以外）の量はそれぞれ
３０ｐｐｍ以下である。

【００２４】以下の実施例は本発明を説明するものであ
る。

【００２５】

【実施例】実施例１： ２−ジフルオロメトキシ−１，１，１，２−テトラフル
オロメタンの製造 ２−ジフルオロメトキシ−１，１，１−トリフルオロエ
タン（ＦＥＦＭＥ）（ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨＦ２）（５０
．０ｇ、０．３３モル）を、２２０℃の温度に保った三
フッ化コバルト（１０．０ｋｇ、８６．３モル）の撹拌
床に通した。揮発性混合生成物を−７９℃のトラップ中
で凝縮した。氷冷水で洗浄した後、３５．０ｇの粗生成
物を集めた。

【００２６】この物質の、質量分析器に連結したガスク
ロマトグラフィーによる分析により、以下の組成である
ことが示された：ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ３　　８．８％；
ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＨＦ２　　２８．８％；ＣＦ３ＣＨ２
ＯＣＦ３　　３．０％；ＣＦ３ＣＨＦＯＣＨＦ２　　５
４．８％；ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨＦ２　　４．６％。従っ
て目的化合物、２−ジフルオロメトキシ−１，１，１，
２−テトラフルオロエタン（ＣＦ３ＣＨＦＯＣＨＦ２）
の反応収率は３４．３％であった。

【００２７】高効率分別カラムを用いた実験室における
分別蒸留により目的化合物、デスフルランを高収率で得
た。そのプロトン及び１９Ｆｎ．ｍ．ｒ．スペクトルを
ヨーロッパ特許３４１，００４に記載のスペクトルと比
較することにより純粋な化合物をはっきり同定した。

【００２８】実施例２ ２−ジフルオロメトキシ−１，１，１，２−テトラフル
オロメタンの製造 ２−ジフルオロメトキシ−１，１，１−トリフルオロエ
タン（ＦＥＦＭＥ）を、別にフッ素を供給しながら二フ
ッ化コバルト／三フッ化コバルトの撹拌床中に３２．５
時間通した。電気分解によりフッ素を生成した。反応生
成物を水でごしごし洗い、酸性成分を除去し、圧縮及び
冷却により凝縮した。

【００２９】粗デスフルラン製造のための操作の詳細を
下表１及び２に示す。

【００３０】

【表１】 　　　　　　　　　　表１−デスフルラン製造のための
反応条件のまとめ　　合計ＦＥＦＭＥ（ＣＦ２ＣＨ２Ｏ
ＣＦ２Ｈ）供給：　　１０３ｋｇ　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　（０．６９ｋｇモル）　　Ｆ
ＥＦＭＥの供給速度　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　：　　２−４ｋｇ／時間　　合計フッ素供給
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　：　　２２−２５ＫＡ　　時間　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　≡〜８ｘ１０７クーロン　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　≡〜１６
ｋｇ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（
０．４ｋｇモル）＊　　Ｆ２供給速度　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　　
０．５−１ｋＡ／時間　　平均Ｆ２：ＦＥＦＭＥ供給比
（モル）　　　　　　　　：　　０．６：１　　運転時
間　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　：　　約３０時間　　反応器温度範
囲　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　：　　２４０−３００℃　　ＣｏＦ２チャージ　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
：　　１８０−２００ｋｇ　　ＣｏＦ２／ＣｏＦ３比範
囲　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　　０．
２−０．８に制御　　合計回収粗生成物　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　　〜８５ｋ
ｇ　　　　＊１ファラデー＝９６５００クーロン、及び
１モルのＦ２に２ファラデーを　　　　　　要すること
に基づく。効率１００％と仮定。

【００３１】

【表２】 　　　　　　　　　　表２−デスフルラン製造に関する
全反応収率、選択性及び物質収支　　１．反応収率 　　　　　　　　ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＦ３　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　：０．０６％　　
　　　　　　ＣＦ３ＣＦ２ＯＣＨＦ２　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　：２．６％　　　　　　
　　ＣＦ３ＣＨＦＯＣＦ３　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　：０．７％　　　　　　　　ＣＦ
３ＣＨ２ＯＣＦ３　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　：２．２％　　　　　　　　ＣＦ３ＣＨ
２ＯＣＨＦ２（非変換ＦＥＦＭＥ）　　：３２．７％　
　　　　　　　ＣＦ３ＣＨＦＯＣＨＦ２（デスフルラン
）　　　　　：３８．４％　　２．有機物収支　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　：７７％　　３．ＦＥＦＭＥの変換率　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：６７％
　　４．デスフルランへの選択性　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　：５７％実施例３ 粗デスフルランの実験室蒸留 （上記の要領で得た）粗デスフルランの２段階による実
験室蒸留を行い、麻酔剤品質のデスフルランが得られる
かどうか決定した。最初の蒸留は大量の低沸点物質の除
去のために行った。その後デスフルランをより大きなカ
ラムで蒸留した。

【００３２】粗デスフルラン（６．３６１ｋｇ）を５Ｌ
の丸底フラスコに充填し、１／１６″×１／１６″（１
．６ｍｍ×１．６ｍｍ）のステンレス鋼Ｄｉｘｏｎガー
ゼを詰めた３２″×１／２″（８１ｃｍ×１．３ｃｍ）
のカラムで蒸留した。冷却器には冷グリコールを流した
（約−１０℃）。

【００３３】品質の向上したデスフルランをその後４″
×１″（１０ｃｍ×２．５ｃｍ）のＫｎｉｔｍｅｓｈ（
ＲＴＭ）断片を詰めた５９″×１″（１．５ｍ×２．５
ｃｍ）のカラムで蒸留した。揺りバケットテークオフヘ
ッド、及び垂直冷却器系を使用し、冷却トラップ系を通
して排気した。平均蒸留速度は約４ｇ／時間、平均還流
比は約１７０：１であった。

【００３４】得られたグスクロマトグラフィーの結果に
より、後で留出した２個の留分（８４．９ｇ）は合計不
純物＜０．０５％の物質を与えた。分析法に従い最も良
い試料（１１．５ｇ）の合計不純物含有量は０．０３ｐ
ｐｍであった。

【００３５】実施例４ ヘキサフルオロプロピルトリフルオロエチルエーテル（
ＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ３：ＨＦＲＴＦＥ）の
製造 １リットルの三ツ口フラスコに撹拌機、ガラス入り口、
熱電対及び還流冷却器（Ｓトラップアダプターを用いて
）を取り付けた。

【００３６】反応器にトリフルオロエタノール（１８８
．９ｇ、１．８９モル）及び水酸化カリウム（１２．１
ｇ、約０．１９モル）を入れた。混合物を氷／塩浴によ
り２０℃に冷却し、その後ヘキサフルオロプロパン（Ｈ
ＦＰ）供給の間この温度を保った。

【００３７】ＨＦＰを１５０ｍｌ．／分で３時間供給し
た（合計ＨＦＰ供給約１．１０２モル）。

【００３８】供給の完了後、生成物を水洗して透明な液
体を得（２５０．３ｇ）、そのガスクロマトグラフィー
分析を行った。この分析により以下の生成物収率を算出
した：

【００３９】

【表３】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　トリフルオロエタノ　　ヘキサフルオロ
プ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　ール供給に対して　　　　ロペン供給
に対してヘキサフルオロプロペン： 　　　　　　　　回収％　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　−　　　　　　　　　　　　
　　　　１２．３ペンタフルオロアリルトリフル オロエチルエーテル：収率％　　　　　　　　　　　　
　　０．３　　　　　　　　　　　　　　０．５トリフ
ルオロプロピルトリフル オロエチルエーテル：収率％　　　　　　　　　　　　
４１．７　　　　　　　　　　　　７１．６２−トリフ
ルオロメチル−１，２ −ジフルオロビニル−２′，２′， ２′−トリフルオロエチルエーテル 　　　　　　（１）：収率％　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　１．３　　　　　　　　　　　　　　
２．３２−トリフルオロメチル−１，２− ジフルオロビニル−２′，２′，２′ −トリフルオロエチルエーテル（１１）　　　　　　　
　　　　　：収率％　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　６．２　　　　　　　　　　　　１０．７アリ
ル及びビニルエーテル中の二重結合はフッ化コバルトと
の反応によりフッ素で飽和されるので合わせた粗生成物
を三フッ化コバルト上でフッ素化した。

【００４０】粗ＨＦＰＴＦＥのフッ素化上記のトリフル
オロエタノールへのヘキサフルオロプロペンの添加によ
る粗生成物（１４２ｇ）を、三フッ化コバルトを含む水
平撹拌反応器に２２０℃にて揮発させた。生成物を−７
８℃に冷却したトラップ中に集め、仕上げをし、フッ素
化混合物（１００ｇ）を得た。

【００４１】この粗フッ素化材料は、ガスクロマトグラ
フィー連結質量分析により以下の組成を有することが示
された：

【００４２】

【表４】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　重量％　　　　　　参照文献　
　　　　　　　沸点℃　　　　ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣ
Ｆ２ＣＦ３　　　　　　０．８　　　　２，３（ｂ）　
　　　ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ３　　　　　５
．２　　　　　　３（ａ）　　　　ＣＦ３ＣＨＦＣＦ２
ＯＣＦ２ＣＦ３　　　１８．３　　　　　　＊　　　　
　　　　　　　４０−４５　　　　ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２
ＯＣＨ２ＣＦ３　　　　　　１．５　　　　　　＊　　
　　ＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ３　　６１．０　
　　　　　＊　　　　　　　　　　　　　　５４　　　
　ＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ３　　　１３．２　
　　　　　１　　　　　　　　　　　　　　７４＊新規
化合物 １　　　　Ｖ　　Ａ　　Ｇｕｂａｎｏｖ，Ａ　　Ｖ　　
Ｔｕｍａｎｏｖａ　　ａｎｄ　　Ｉ　　ＭＤｏｌｇｏｐ
ｏｌ′ｓｋｉｉ　　Ｚｈ．Ｏｂｓｈｃｈ．Ｋｈｉｍ，１
９６５３５（２）　　３８９〜４００ ２　　　　Ｕ．Ｓ．４，５２３，０３９（１９８５）３
　　（ａ）　　ＥＰ　　２６０，７７３（１９８８）３
　　（ｂ）　　Ｊａｐａｎ　　Ｋｏｋａｉ　　７８　　
２１、１１２ この混合物を大気圧下にてカラム上で分別蒸留し、沸点
５２−５６℃にて９３．３重量％の２−Ｈ−ヘキサフル
オロプロピル−１′Ｈ−テトラフルオロエチルエーテル
、及び６．０％の２−Ｈ−ヘキサフルオロプロピル−２
′，２′，２′−トリフルオロエチルエーテルを含む留
分を得た。

【００４３】生成物の成分の１９Ｆ　　ｎｍｒスペクト
ルは与えられた構造を満足した。

【００４４】本発明の主たる特徴及び態様は以下の通り
である。

【００４５】１．次式：

【００４６】

【化５】 　　　　［式中Ｒは、水素、フッ素、炭素数が１−６の
アルキル又は炭素数が１−６のフルオロアルキルであり
、Ｒ′は、水素、炭素数が１−６のアルキル又は炭素数
が１−６のフルオロアルキルであり、Ｒ″は、フッ素、
炭素数が１−６のアルキル又は炭素数が１−６のフルオ
ロアルキルである］のフッ素化エーテルの製造法におい
て、次式：

【００４７】

【化６】 ［式中、Ｒ、Ｒ′及びＲ″は、上記と同義である］のエ
ーテルの、気相における固体フッ素化遷移金属フッ素化
剤との反応を含むことを特徴とする方法。

【００４８】２．第１項に記載の方法においてＲが、水
素又はフッ素であり、Ｒ′が水素又は１，２，２，２−
テトラフフルオロエチルであり、Ｒ″がフッ素であるこ
とを特徴とする方法。

【００４９】３．第１項に記載の方法において、Ｒが水
素であり、Ｒ′が水素であり、Ｒ″がフッ素であること
を特徴とする方法。

【００５０】４．第１項に記載の方法において、該フッ
素化剤がフッ化第２コバルトであることを特徴とする方
法。

【００５１】５．第１項に記載の方法において、フッ素
化遷移金属フッ素化剤を、反応領域にフッ素を注入する
ことによりフッ素化の際にその場生成することを特徴と
する方法。

【００５２】６．第１項に記載の方法において、エーテ
ル出発材料を１００−４５０℃の温度範囲にて気相で固
体フッ素化遷移金属フッ素化剤の床に通すことを特徴と
する方法。

【００５３】７．２Ｈ−ヘキサフルオロプロピル−１′
Ｈ−テトラフルオロエチルエーテル。

【００５４】８．２Ｈ−ヘキサフルオロプロピル−ペン
タフルオロエチルエーテル。

【００５５】９．ヘプタフルオロプロピル−２′，２′
，２′−トリフルオロエチルエーテル。

【００５６】１０．第１〜６項のいずれかに記載の方法
で得たフッ素化エーテル。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　次式： 【化１】 　　　　［式中Ｒは、水素、フッ素、炭素数が１−６の
   アルキル又は炭素数が１−６のフルオロアルキルであり
   、Ｒ′は、水素、炭素数が１−６のアルキル又は炭素数
   が１−６のフルオロアルキルであり、Ｒ″は、フッ素、
   炭素数が１−６のアルキル又は炭素数が１−６のフルオ
   ロアルキルである］のフッ素化エーテルの製造法におい
   て、次式： 【化２】 ［式中、Ｒ、Ｒ′及びＲ″は、上記と同義である］のエ
   ーテルの、気相における固体フッ素化遷移金属フッ素化
   剤との反応を含むことを特徴とする方法。
2. 【請求項２】　　２Ｈ−ヘキサフルオロプロピル−１Ｈ
   −テトラフルオロエチルエーテル。
3. 【請求項３】　　２Ｈ−ヘキサフルオロプロピル−ペン
   タフルオロエチルエーテル。
4. 【請求項４】　　ヘプタフルオロプロピル−２′，２′
   ，２′−トリフルオロエチルエーテル。