JPH06192154A - 含フッ素エーテル化合物の製造方法 - Google Patents

含フッ素エーテル化合物の製造方法

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JPH06192154A
JPH06192154A JP4359075A JP35907592A JPH06192154A JP H06192154 A JPH06192154 A JP H06192154A JP 4359075 A JP4359075 A JP 4359075A JP 35907592 A JP35907592 A JP 35907592A JP H06192154 A JPH06192154 A JP H06192154A
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Shigeru Kurosawa
茂 黒澤
Akira Sekiya
章 関屋
Takashi Arimura
隆志 有村
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高次金属フッ素化合物を用い、穏和な反応条
件下での位置選択的なフッ素化反応により含フッ素エー
テル化合物の選択的な製造方法を提供する。 【構成】 一般式 CF3−CH2−O−R (式中、Rはジフルオロメチル基又は2,2,2−トリ
フルオロエチル基を示す)で表わされる含フッ素エーテ
ル化合物を、高次金属フッ素化物をフッ素化剤として用
いて、そのメチレン位をモノフッ素化することを特徴と
する一般式 CF3−CFH−O−R (式中、Rは前記と同じ意味を持つ)で表される含フッ
素エーテル化合物の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は含フッ素エーテル化合
物の特定位置の水素を高次金属フッ素化物を用いモノフ
ッ素化し、吸入麻酔剤剤として有用な含フッ素エーテル
化合物を製造するものである。
【0002】
【従来の技術】1,2,2,2−テトラフルオロエチル
−ジフルオロメチルエーテル(CF3CFHOCF2H)
は、吸入麻酔剤として利用されている有用な化合物であ
る(USP 4,874,901、UKP GB2219292Aなど)。また、
1,2,2,2−テトラフルオロエチル−2,2,2−
トリフルオロエチルエーテル(CF3CFHOCH2CF
3)は、冷媒、洗浄剤を用途とするフロン代替候補化合
物としても注目されている(DEP 4006952A1)。これら
含フッ素エーテル化合物の合成法において、原料の含フ
ッ素エーテル化合物の特定位置の水素を選択的にモノフ
ッ素化する反応は知られていなかった。
【0004】従来、1,2,2,2−テトラフルオロエ
チル−ジフルオロメチルエーテルは、2,2,2−トリ
フルオロエチル−ジフルオロメチルエーテルを原料とし
て反応性の高いフッ素ガスを使用して合成されている
(USP 3,897,502)。実用上の観点からは爆発性のある危
険なフッ素ガスの使用は不便であり、このフッ素化反応
では原料の反応率と目的化合物の選択性は共に低い。つ
まり、フッ素ガスを用いた含フッ素エーテル化合物の直
接フッ素化反応では、反応は爆発的に起こるため反応の
制御が難しく、複数の生成物や分解物が生じるため反応
の選択性に乏しい。
【0005】一方、高次金属フッ化物をフッ素化剤とし
て用いて含フッ素エーテル化合物を製造する方法も知ら
れているが、この場合は、原料とするエーテル化合物中
の複数の炭素原子についた水素原子の反応性に差が小さ
いことから、複数のフッ素原子が結合した多くのフッ素
化物の混合物や多くの異性体が生成する。高次金属フッ
化物は強力なルイス酸であり、フッ素化反応中にエーテ
ル結合の開裂を伴う。従って高次金属フッ化物は選択的
なモノフッ素化には適さないとされていた(M.Brandwoo
d et al., J. Fluorine Chem., 5, 521 (1975))。従っ
て、これまでに高次金属フッ化物を用いて、含フッ素エ
ーテル化合物を位置選択的にモノフッ素化した例は知ら
れていない。以上のように、従来法は必ずしも有用な方
法とは言えない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高次金属フ
ッ素化合物を用い、穏和な反応条件下での位置選択的な
フッ素化反応により含フッ素エーテル化合物の選択的な
製造方法を提供することをその課題としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の含フッ素エ
ーテル化合物は、これを高次金属フッ素化合物をフッ素
化剤として用いてフッ素化するときには、そのエーテル
結合の分解が起らず、位置選択的にモノフッ素化し得る
ことを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに
至った。すなわち、本発明によれば、一般式 CF3−CH2−O−R (式中、Rはジフルオロメチル基又は2,2,2−トリ
フルオロエチル基を示す)で表わされる含フッ素エーテ
ル化合物を、高次金属フッ素化物をフッ素化剤として用
いて、そのメチレン位をモノフッ素化することを特徴と
する一般式 CF3−CFH−O−R (式中、Rは前記と同じ意味を持つ)で表される含フッ
素エーテル化合物の製造方法が提供される。
【0008】本発明でフッ素化剤として用いる高次金属
フッ素化合物としては、分子中にフッ素原子を3個以上
有する従来公知のもの、例えば、三フッ化マンガン(M
nF3)、三フッ化コバルト(CoF3)、カリラムテト
ラフルオロコバルテート(KCoF4)等が挙げられ
る。この高次金属フッ素化合物は、原料含フッ素エーテ
ル化合物1モルに対し、40〜70モル、好ましくは6
0〜70モルの割合で用いられる。
【0009】原料の含フッ素エーテル化合物と高次金属
フッ素化合物との反応は、75〜200℃の温度範囲、
好ましくは80〜100℃以下で実施する。200℃を
越える高温度においては、非選択的なフッ素化反応やエ
ーテル結合の開裂が生じる場合がある。このため、上記
の温度において、かつ、穏やかに昇温して反応させるこ
とが望ましい。原料化合物とフッ素化剤との組み合わせ
によって目的の生成物が収率よく得られる反応最適温度
が異なるために、所望の化合物に合わせて最適な反応温
度を選択することが望ましい。
【0010】反応は気相において、回分式あるいは連続
的に行うことができ、フッ素化剤と原料化合物との接触
時間は、特段の限定はないが、通常、1時間〜6時間程
度とするのが好ましい。以上の諸条件において含フッ素
エーテル化合物を高次金属フッ化物、好ましくは三フッ
化マンガンと反応させることにより、50〜200℃の
反応条件下で、原料化合物のメチレン位にフッ素原子を
一個導入した含フッ素エーテル化合物を選択的に製造す
ることが可能となる。
【0011】
【実施例】以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発明
の含フッ素エーテル化合物の製造法について説明する。
【0012】実施例1 内容積150mlのステンレス製の反応容器に200ミ
リモルのMnF3を加え、真空ラインを用いて3ミリモ
ルの2,2,2−トリフルオロエチル−ジフルオロメチ
ルエーテルを−196℃で加えた。この反応容器を除々
に加熱し、室温まで1時間で昇温した。次いで、温度7
5℃で6時間加熱した。得られた反応混合物より、副生
するフッ化水素をフッ化ナトリウムに吸着させて除去
し、次いで異なる温度のトラップを通して生成物を分離
し、それぞれの蒸気圧と重量測定により回収量を求め
た。この実験条件での主反応生成物は赤外吸収、1Hと1
9Fの核磁気共鳴スペクトル、分子量測定から、メチレ
ン位の水素原子がモノフッ素化された1,2,2,2−
テトラフルオロエチル−ジフルオロメチルエーテルであ
ることが明らかとなった。
【0013】表1に前記反応結果を示す。この場合、反
応収率は、19F−NMRより算出した。反応選択性は
回収生成物より原料回収量分を除いて算出した。
【0014】
【表1】
【0015】実施例2 ジ(2,2,2−トリフルオロエチル)エーテルのフッ
素化を、実施例1と同様の方法で行った。
【0016】この実験条件での主反応生成物は、赤外吸
収、1Hと19Fの核磁気共鳴スペクトル、分子量測定か
ら、メチレン位の水素原子がモノフッ素化された1,
2,2,2−テトラフルオロエチル−2,2,2−トリ
フルオロエチルエーテルであることが明らかとなった。
表2にその反応結果を示す。この場合、反応収率は、1
9F−NMRより算出した。反応選択性は回収生成物よ
り原料回収量分を除いて算出した。
【0017】
【表2】
【0018】
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明の製
造法により含フッ素エーテル化合物の位置選択的なモノ
フッ素化が収率良く行え、原料化合物のメチレン位にフ
ッ素数が一個増加した含フッ素エーテル化合物の製造が
可能となる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 CF3−CH2−O−R (式中、Rはジフルオロメチル基又は2,2,2−トリ
    フルオロエチル基を示す)で表わされる含フッ素エーテ
    ル化合物を、高次金属フッ素化物をフッ素化剤として用
    いて、そのメチレン位をモノフッ素化することを特徴と
    する一般式 CF3−CFH−O−R (式中、Rは前記と同じ意味を持つ)で表される含フッ
    素エーテル化合物の製造方法。
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