JPH06279331A - 高純度のペルフルオロ−4−メチル−2−ペンテンおよびその製造方法並びに使用方法 - Google Patents
高純度のペルフルオロ−4−メチル−2−ペンテンおよびその製造方法並びに使用方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 1000ppm以下のペルフルオロ−2−メ
チル−2−ペンテンを含有するペルフルオロ−4−メチ
ル−2−ペンテンおよびこれを主として高い含有量のペ
ルフルオロ−2−メチル−2−ペンテンを含有するペル
フルオロ−4−メチル−2−ペンテンからなる出発原料
を低級アルカノールおよび触媒量の塩基で処理し、そし
てペルフルオロ−2−メチル−2−ペンテンとの反応に
より生成した高沸点化合物を除去することによって製造
する。 【目的】 このものは、クロロフルオロ炭素の代替物と
して使用できる。
チル−2−ペンテンを含有するペルフルオロ−4−メチ
ル−2−ペンテンおよびこれを主として高い含有量のペ
ルフルオロ−2−メチル−2−ペンテンを含有するペル
フルオロ−4−メチル−2−ペンテンからなる出発原料
を低級アルカノールおよび触媒量の塩基で処理し、そし
てペルフルオロ−2−メチル−2−ペンテンとの反応に
より生成した高沸点化合物を除去することによって製造
する。 【目的】 このものは、クロロフルオロ炭素の代替物と
して使用できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、1000ppm以下、
好ましくは100ppm以下、特に10ppm以下のペ
ルフルオロ−2−メチル−2−ペンテン(以下、化合物
IIと言う)を含有するペルフルオロ−4−メチル−2
−ペンテン(以下、化合物Iと言う)に関する。本発明
は更に、対応する出発原料からの化合物(II)の除去
によってかゝる高純度の化合物(I)を製造する方法に
関する。本発明はまた、かゝる高純度の化合物(I)を
クロロフルオロ炭素の代替物として使用する方法に関す
る。
好ましくは100ppm以下、特に10ppm以下のペ
ルフルオロ−2−メチル−2−ペンテン(以下、化合物
IIと言う)を含有するペルフルオロ−4−メチル−2
−ペンテン(以下、化合物Iと言う)に関する。本発明
は更に、対応する出発原料からの化合物(II)の除去
によってかゝる高純度の化合物(I)を製造する方法に
関する。本発明はまた、かゝる高純度の化合物(I)を
クロロフルオロ炭素の代替物として使用する方法に関す
る。
【0002】
【従来技術および発明の解決しようとする課題】化合物
(I)、特にそのトランス異性体は、ヘキサフルオロプ
ロペンの二量化における主要生成物である。しかしなが
ら、全ての公知のヘキサフルオロプロペンの二量化にお
いて、一定の割合の化合物(II)が生成し、これは吸
入により毒性である。
(I)、特にそのトランス異性体は、ヘキサフルオロプ
ロペンの二量化における主要生成物である。しかしなが
ら、全ての公知のヘキサフルオロプロペンの二量化にお
いて、一定の割合の化合物(II)が生成し、これは吸
入により毒性である。
【0003】ヘキサフルオロプロペンの二量化を非プロ
トン性溶剤中でNH基を含有しないアミンおよび金属弗
化物の付加生成物の存在下に行う高い割合の化合物
(I)および低い含有量の化合物(II)を有するヘキ
サフルオロプロペンの二量体の製造方法が提案されてい
る(1992年8月27日のドイツ特許出願第42 2
8592.5号明細書)。この方法は、化合物(II)
の含有量が0.2%未満まで低減した二量化生成物を得
ている。
トン性溶剤中でNH基を含有しないアミンおよび金属弗
化物の付加生成物の存在下に行う高い割合の化合物
(I)および低い含有量の化合物(II)を有するヘキ
サフルオロプロペンの二量体の製造方法が提案されてい
る(1992年8月27日のドイツ特許出願第42 2
8592.5号明細書)。この方法は、化合物(II)
の含有量が0.2%未満まで低減した二量化生成物を得
ている。
【0004】
【課題を解決するための手段】主として化合物(I)か
らなる混合物中の化合物(II)の含有量を、該混合物
を低級アルコールおよび触媒量の塩基とで処理すること
によって1000ppm以下の含有量にまで低減するこ
とを見出した。この方法で、化合物(II)を、蒸留に
よって化合物(I)から直ちに分離することができる高
沸点化合物に転化する。
らなる混合物中の化合物(II)の含有量を、該混合物
を低級アルコールおよび触媒量の塩基とで処理すること
によって1000ppm以下の含有量にまで低減するこ
とを見出した。この方法で、化合物(II)を、蒸留に
よって化合物(I)から直ちに分離することができる高
沸点化合物に転化する。
【0005】本発明の好ましい実施態様をより実際的に
記載する。好適な塩基は、穏やかな条件の場合には、す
なわち特に低温を使用する場合には本質的にアルカリ金
属水酸化物、例えばNaOHまたはKOHであり、何故
ならそうしなければ反応の選択率が減少するからであ
る。アルカリ金属およびアンモニウム炭酸塩および炭酸
水素塩、例えば炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウムまた
はテトラメチルアンモニウムが好適である。更にまた、
金属弗化物、特にアルカリ金属弗化物、例えば。KFを
使用することができるが、これはその場合に弗素イオン
を洗浄水に通過させなければならないということを注目
すべきである。特に好ましくは、非常に少量で有効であ
り、そして高い選択率を保証する三級アミン、例えば低
級トリアルキルアミンまたはアルキルまたはアルキレン
基においてエーテル酸素を含有してもよいペルアルキル
化キレートダイマーあるいはトリアミンである。かゝる
アミンは、ドイツ特許出願第42 28 592.5号
明細書の方法に提案されている。化合物(II)1モル
当り、0.05ないし0.1モルのアミンが好ましい。
記載する。好適な塩基は、穏やかな条件の場合には、す
なわち特に低温を使用する場合には本質的にアルカリ金
属水酸化物、例えばNaOHまたはKOHであり、何故
ならそうしなければ反応の選択率が減少するからであ
る。アルカリ金属およびアンモニウム炭酸塩および炭酸
水素塩、例えば炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウムまた
はテトラメチルアンモニウムが好適である。更にまた、
金属弗化物、特にアルカリ金属弗化物、例えば。KFを
使用することができるが、これはその場合に弗素イオン
を洗浄水に通過させなければならないということを注目
すべきである。特に好ましくは、非常に少量で有効であ
り、そして高い選択率を保証する三級アミン、例えば低
級トリアルキルアミンまたはアルキルまたはアルキレン
基においてエーテル酸素を含有してもよいペルアルキル
化キレートダイマーあるいはトリアミンである。かゝる
アミンは、ドイツ特許出願第42 28 592.5号
明細書の方法に提案されている。化合物(II)1モル
当り、0.05ないし0.1モルのアミンが好ましい。
【0006】好ましい出発原料は、ドイツ特許出願第4
2 28 592.5号明細書に提案されている方法の
生成物である。これらの生成物は、一方においてほんの
少量の化合物(II)しか含有しておらず、また他方に
おいて粗製生成物として本発明の方法に好適な触媒とし
ての既に好適なアミン(弗化物ありまたはなしで)を含
有している。
2 28 592.5号明細書に提案されている方法の
生成物である。これらの生成物は、一方においてほんの
少量の化合物(II)しか含有しておらず、また他方に
おいて粗製生成物として本発明の方法に好適な触媒とし
ての既に好適なアミン(弗化物ありまたはなしで)を含
有している。
【0007】しかしながら、化合物(II)以外に有為
な含有量の化合物(I)を有するその他の出発原料、例
えば米国特許第2918501号明細書に従ってヘキサ
フルオロプロペンのハロゲン化物およびアルキル置換ア
ミド、フェニルアミンおよびスルホキシドからなる群か
ら選択された溶剤でのオレゴマー化によって得られるも
のも使用することができる。ヘキサフルオロプロペンの
更に別の公知の二量化および三量化の方法において、使
用される触媒はアセトニトリル中のトリス−〔2−(2
H−ヘキサフルオロプロポキシ)エチル〕アミン〔Ha
lasz等,Chem.Ber.106(1973年)
第2950〜2955頁)またはアルカリ金属ハロゲン
化物とクラウンエーテルとの錯塩(米国特許第4042
638号明細書)である。
な含有量の化合物(I)を有するその他の出発原料、例
えば米国特許第2918501号明細書に従ってヘキサ
フルオロプロペンのハロゲン化物およびアルキル置換ア
ミド、フェニルアミンおよびスルホキシドからなる群か
ら選択された溶剤でのオレゴマー化によって得られるも
のも使用することができる。ヘキサフルオロプロペンの
更に別の公知の二量化および三量化の方法において、使
用される触媒はアセトニトリル中のトリス−〔2−(2
H−ヘキサフルオロプロポキシ)エチル〕アミン〔Ha
lasz等,Chem.Ber.106(1973年)
第2950〜2955頁)またはアルカリ金属ハロゲン
化物とクラウンエーテルとの錯塩(米国特許第4042
638号明細書)である。
【0008】好適な低級アルカノールは、化合物(I
I)と高沸点化合物を生成することができる全ての化合
物である。容易に除去できるアルカノール、すなわち水
溶性化合物を選択するのが有利である。好適なアルカノ
ールは、1ないし6個の炭素原子および直鎖または分枝
あるいは環式であってよいアルキル残基を有している。
1ないし3個の炭素原子を有するアルカノール、特にメ
タノールは特に速やかにかつ選択的に反応するので好ま
しい。
I)と高沸点化合物を生成することができる全ての化合
物である。容易に除去できるアルカノール、すなわち水
溶性化合物を選択するのが有利である。好適なアルカノ
ールは、1ないし6個の炭素原子および直鎖または分枝
あるいは環式であってよいアルキル残基を有している。
1ないし3個の炭素原子を有するアルカノール、特にメ
タノールは特に速やかにかつ選択的に反応するので好ま
しい。
【0009】アルカノールは、化合物(II)の含有量
に基づいて化学量論量的に過剰量で使用するのが好まし
い。アルカノールの主要部分が反応の後に上相として分
離し、従って直ちに除去でき当該方法にリサイクルでき
るので少しの過剰が有利である。実際に選択される量
は、精製されるべき化合物(I)の容量に基づいてある
いはヘキサフルオロプロペンのオレゴマー化生成物の容
量に基づいて約5ないし15容量%である。
に基づいて化学量論量的に過剰量で使用するのが好まし
い。アルカノールの主要部分が反応の後に上相として分
離し、従って直ちに除去でき当該方法にリサイクルでき
るので少しの過剰が有利である。実際に選択される量
は、精製されるべき化合物(I)の容量に基づいてある
いはヘキサフルオロプロペンのオレゴマー化生成物の容
量に基づいて約5ないし15容量%である。
【0010】出発原料のアルカノールによる処理は、液
相中で、通常約−20℃ないし約40℃、有利には0℃
ないし約35℃、好ましくは15℃ないし30℃、特に
20℃ないし25℃の温度で行われる。出発原料が低級
アルカノールと二相混合物を生成するので、アルカノー
ルと化合物(II)との間の良好な接触を提供しなけれ
ばならない。通例の装置内で激しく攪拌または浸透する
と反応時間が短縮される。
相中で、通常約−20℃ないし約40℃、有利には0℃
ないし約35℃、好ましくは15℃ないし30℃、特に
20℃ないし25℃の温度で行われる。出発原料が低級
アルカノールと二相混合物を生成するので、アルカノー
ルと化合物(II)との間の良好な接触を提供しなけれ
ばならない。通例の装置内で激しく攪拌または浸透する
と反応時間が短縮される。
【0011】転化は、通例の分析方法を用いて、例えば
ガスクロマトグラフィーによって監視することができ
る。処理時間は、勿論化合物(II)の含有量の所望と
される減少、アルカノールの反応性および触媒の有効性
に依存する。通常、6時間までの時間、主として3時間
までの時間で化合物(II)の含有量を10ppm以下
に減少するのに十分である。
ガスクロマトグラフィーによって監視することができ
る。処理時間は、勿論化合物(II)の含有量の所望と
される減少、アルカノールの反応性および触媒の有効性
に依存する。通常、6時間までの時間、主として3時間
までの時間で化合物(II)の含有量を10ppm以下
に減少するのに十分である。
【0012】処理の終了の際に、反応混合物を二相に分
離し、そしてアルコール相を除去する。これは、新たな
バッチのために更に精製することなに使用することがで
きる。
離し、そしてアルコール相を除去する。これは、新たな
バッチのために更に精製することなに使用することがで
きる。
【0013】化合物(I)−含有相は、蒸留により化合
物(II)から生成した高沸点生成物から分離される。
従って、化合物(I)は、分析測定レベル以下の化合物
(II)の含有量で得ることができる。
物(II)から生成した高沸点生成物から分離される。
従って、化合物(I)は、分析測定レベル以下の化合物
(II)の含有量で得ることができる。
【0014】本発明により得られる高純度の化合物
(I)は、約95%のトランス含有量を有するシス−ト
ランス混合物である。これはまた、クロロフルオロ炭素
の代替物としての使用に干渉をしない割合のヘキサフル
オロプロペンのトリマーを含有する。
(I)は、約95%のトランス含有量を有するシス−ト
ランス混合物である。これはまた、クロロフルオロ炭素
の代替物としての使用に干渉をしない割合のヘキサフル
オロプロペンのトリマーを含有する。
【0015】本発明により得られる化合物(I)は、変
圧器、冷却および断熱媒体として特に好適であり殊に電
気および電子的沃素の二相蒸発冷却に、例えば高電圧断
熱なしに気体または液体の二相蒸発冷却媒体、特に熱交
換管における媒体として、または熱エネルギーが一相対
流により冷却されるべき気体、液体または固体材料から
加熱されるべき別の気体、液体または固体材料に通過さ
せる熱変換媒体として使用するのに好適である(199
2年10月6日のドイツ特許出願第4233531.0
号明細書)。
圧器、冷却および断熱媒体として特に好適であり殊に電
気および電子的沃素の二相蒸発冷却に、例えば高電圧断
熱なしに気体または液体の二相蒸発冷却媒体、特に熱交
換管における媒体として、または熱エネルギーが一相対
流により冷却されるべき気体、液体または固体材料から
加熱されるべき別の気体、液体または固体材料に通過さ
せる熱変換媒体として使用するのに好適である(199
2年10月6日のドイツ特許出願第4233531.0
号明細書)。
【0016】
【実施例】以下の実施例は、本発明を説明するためのも
のである。 実施例1 ヘキサフルオロプロペン(HFP)の製造 これらの実験は、電気磨きされたステンレス鋼製で制御
可能な攪拌器、ガス状のヘキサフルオロプロペン用の測
定された導入口および液体並びに固体用の計量転化促進
手段が付された16リットル容器中で行われた。容器の
加熱および冷却は、外部プレート熱交換器を有する回路
により±1℃の精度に制御することができる。
のである。 実施例1 ヘキサフルオロプロペン(HFP)の製造 これらの実験は、電気磨きされたステンレス鋼製で制御
可能な攪拌器、ガス状のヘキサフルオロプロペン用の測
定された導入口および液体並びに固体用の計量転化促進
手段が付された16リットル容器中で行われた。容器の
加熱および冷却は、外部プレート熱交換器を有する回路
により±1℃の精度に制御することができる。
【0017】触媒溶液を先ず以下の成分から実験室内で
製造する。 −1.5リットルのアセトニトリル(少量の水素化カル
シウムで乾燥し、3Å分子篩上で保存)、 −69.7g(0.6モル)のN,N,N’,N’−テ
トラメチルエチレンジアミン(4Å分子篩上で乾燥)、 −34.9g(0.6モル)の弗化カリウム粉末(粉末
を180℃/0.5mバールで攪拌することによって乾
燥)。
製造する。 −1.5リットルのアセトニトリル(少量の水素化カル
シウムで乾燥し、3Å分子篩上で保存)、 −69.7g(0.6モル)のN,N,N’,N’−テ
トラメチルエチレンジアミン(4Å分子篩上で乾燥)、 −34.9g(0.6モル)の弗化カリウム粉末(粉末
を180℃/0.5mバールで攪拌することによって乾
燥)。
【0018】これらの成分をこの順序で乾燥窒素下に攪
拌器操作下に添加し、そして30ないし40℃で1時間
激しく攪拌する。この結果、ほとんど固形弗化カリウム
を含有しない黄色溶液が得られる。
拌器操作下に添加し、そして30ないし40℃で1時間
激しく攪拌する。この結果、ほとんど固形弗化カリウム
を含有しない黄色溶液が得られる。
【0019】ついで、この溶液を注意深くN2 −パージ
された16リットル容器に導入する。頂部のバルブを閉
鎖した状態で、この容器を40℃に加熱し、ついで16
kgのガス状HFPを6時間かけて攪拌器を操作しなが
ら計量添加する。この反応は、若干の発熱反応である。
冷却することによって40ないし50℃で内部温度を保
持する。この混合物を更に2時間40℃で反応させ、つ
いで攪拌器を消して15℃にまで冷却する。
された16リットル容器に導入する。頂部のバルブを閉
鎖した状態で、この容器を40℃に加熱し、ついで16
kgのガス状HFPを6時間かけて攪拌器を操作しなが
ら計量添加する。この反応は、若干の発熱反応である。
冷却することによって40ないし50℃で内部温度を保
持する。この混合物を更に2時間40℃で反応させ、つ
いで攪拌器を消して15℃にまで冷却する。
【0020】容器の底部バルブを通して、14kgの粗
製製をゆっくりと圧力を等しくするためにHFP供給ラ
インにより容器に接続された(呼吸ライン)容に引き抜
く。2kgの生成物が容器中の軽質触媒相に残る。
製製をゆっくりと圧力を等しくするためにHFP供給ラ
インにより容器に接続された(呼吸ライン)容に引き抜
く。2kgの生成物が容器中の軽質触媒相に残る。
【0021】この粗製生成物をガスクロマトグラフィー
によって分析する。分析のために、熱伝導性測定器を有
する充填カラム(PORASIL C(商標名)上の5
%のGRXR)を使用する(キャリヤーガス:ヘリウ
ム)。成分の評価は、本質的に純粋な関連化合物との滞
留時間および面積因子の比較により予め測定された。弗
素−含有生成物に関して、以下の分布が得られる。 CF3 −CF3 =CF2 0.2% (CF3 )2 CFH 0.1% トランス−(CF3 )2 CFCF=CF−CF3 (I) 90.1% シス−(CF3 )2 CFCF=CF−CF3 (I) 5.0% (CF3 )2 C=CF−CF2 CF3 (II) 0.4% ΣHFPトリマー 4.2% 。
によって分析する。分析のために、熱伝導性測定器を有
する充填カラム(PORASIL C(商標名)上の5
%のGRXR)を使用する(キャリヤーガス:ヘリウ
ム)。成分の評価は、本質的に純粋な関連化合物との滞
留時間および面積因子の比較により予め測定された。弗
素−含有生成物に関して、以下の分布が得られる。 CF3 −CF3 =CF2 0.2% (CF3 )2 CFH 0.1% トランス−(CF3 )2 CFCF=CF−CF3 (I) 90.1% シス−(CF3 )2 CFCF=CF−CF3 (I) 5.0% (CF3 )2 C=CF−CF2 CF3 (II) 0.4% ΣHFPトリマー 4.2% 。
【0022】282.4MHzにおける粗製生成物の19
F−NMR分析(CDCl3 /R113,標準:CF3
CO2 H中の溶液)により、(I)のトランス−とシス
−ダイマーの比率がこれらの2種類化合物のモル比であ
ることを確認された。これは、二重結合に結合された弗
素原子の積分値を評価することによって決定された。こ
れらの2種類の異性体に関する19F−NMRデータを以
下に示す(標準:トリフルオロ酢酸)。
F−NMR分析(CDCl3 /R113,標準:CF3
CO2 H中の溶液)により、(I)のトランス−とシス
−ダイマーの比率がこれらの2種類化合物のモル比であ
ることを確認された。これは、二重結合に結合された弗
素原子の積分値を評価することによって決定された。こ
れらの2種類の異性体に関する19F−NMRデータを以
下に示す(標準:トリフルオロ酢酸)。
【0023】
【化1】 2つの更に別のバッチを容器中に残存する触媒も用いて
加工し、14kgのHFPが各々の場合に反応する。最
大限度の第3回のチャージ後に、触媒溶液を生成物から
分離する。GC分析により下記の生成物分布が得られ
た。
加工し、14kgのHFPが各々の場合に反応する。最
大限度の第3回のチャージ後に、触媒溶液を生成物から
分離する。GC分析により下記の生成物分布が得られ
た。
【0024】 バッチ2 CF3 −CF3 =CF2 0.5% (CF3 )2 CFH 0.1% トランス−(CF3 )2 CFCF=CF−CF3 (I) 90.1% シス−(CF3 )2 CFCF=CF−CF3 (I) 5.1% (CF3 )2 C=CF−CF2 CF3 (II) 0.4% (CF3 )2 CH−CF2 CF2 CF3 0.1% ΣHFPトリマー 3.7% 。
【0025】 バッチ3 CF3 −CF3 =CF2 1.0% (CF3 )2 CFH 0.2% トランス−(CF3 )2 CFCF=CF−CF3 (I) 90.3% シス−(CF3 )2 CFCF=CF−CF3 (I) 5.0% (CF3 )2 C=CF−CF2 CF3 (II) 0.2% (CF3 )2 CH−CF2 CF2 CF3 0.1% ΣHFPトリマー 3.2% 。
【0026】毒性の高いペルフルオロ−2−メチル−1
−ペンテンは、これらのバッチのいずれにおいても検出
できなかった。全量43.5kgが粗製生成物を一緒に
することによって得られた。この材料はなおも痕跡量の
触媒溶液から誘導された不純物を含有している(特に、
約0.03%のテトラメチルエチレンジアミン)。
−ペンテンは、これらのバッチのいずれにおいても検出
できなかった。全量43.5kgが粗製生成物を一緒に
することによって得られた。この材料はなおも痕跡量の
触媒溶液から誘導された不純物を含有している(特に、
約0.03%のテトラメチルエチレンジアミン)。
【0027】本発明による精製 上記の粗製生成物を3リットルのメタノールと一緒に2
時間約20℃で激しく攪拌した。生成物相をRasch
ig環で満たされた垂直バブルカラム中での向流スクラ
ビングにより精製した。このカラムは、10リットルの
水が充填されていた。弗化生成物を頂部から計量添加
し、そしてカラムを滴り落とした。これと同時に、向流
の20リットルの水を底部末端で導入した。精製された
生成物は器中にカラムの底部で回収する。上澄み水層の
除去の後、生成物(43kg)は、0.005%未満の
水を含有していた。
時間約20℃で激しく攪拌した。生成物相をRasch
ig環で満たされた垂直バブルカラム中での向流スクラ
ビングにより精製した。このカラムは、10リットルの
水が充填されていた。弗化生成物を頂部から計量添加
し、そしてカラムを滴り落とした。これと同時に、向流
の20リットルの水を底部末端で導入した。精製された
生成物は器中にカラムの底部で回収する。上澄み水層の
除去の後、生成物(43kg)は、0.005%未満の
水を含有していた。
【0028】最終的な精製のために、スクラビングされ
た生成物を常圧で冷却管および器を冷却装置により0℃
に冷却された充填カラムを介して蒸留した。45.5な
いし49.0℃の沸点範囲を有する主要フラクションが
得られた。
た生成物を常圧で冷却管および器を冷却装置により0℃
に冷却された充填カラムを介して蒸留した。45.5な
いし49.0℃の沸点範囲を有する主要フラクションが
得られた。
【0029】GCによる組成: トランス−(I) 94.7% シス−(I) 5.3%。
【0030】化合物(II)の含有量は、10ppm以
下である。これは、最適化されたGC分析におる化合物
(II)に関する検出限界である。質量収率は、使用し
たヘキサフルオロプロパンに基づいて90%である。
下である。これは、最適化されたGC分析におる化合物
(II)に関する検出限界である。質量収率は、使用し
たヘキサフルオロプロパンに基づいて90%である。
【0031】実施例2 300ml(482g)の以下の組成を有する混合物を
使用した。 トランス−(I) 89.8% シス−(I) 4.9% 化合物(II) 5.2% HEPトリマー 0.1%。
使用した。 トランス−(I) 89.8% シス−(I) 4.9% 化合物(II) 5.2% HEPトリマー 0.1%。
【0032】この混合物を30mlの無水エタノールお
よび1.69gのトリエチルアミン(化合物(II)に
基づいて10モル%に相当)と一緒に4時間23℃で激
しく攪拌した。次いで、この混合物を三回、各々0.5
リットルの氷水で抽出した。有機相を少量の硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、次いで常圧で器が0℃に冷却されたカラ
ムを介して蒸留した。46ないし49℃の沸点範囲を有
する426gの主要フラクションが得られた。以下の組
成がGCおよび19F−NMRにより測定された。 トランス−(I) 94.8% シス−(I) 5.2% 化合物(II) 320ppm。
よび1.69gのトリエチルアミン(化合物(II)に
基づいて10モル%に相当)と一緒に4時間23℃で激
しく攪拌した。次いで、この混合物を三回、各々0.5
リットルの氷水で抽出した。有機相を少量の硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、次いで常圧で器が0℃に冷却されたカラ
ムを介して蒸留した。46ないし49℃の沸点範囲を有
する426gの主要フラクションが得られた。以下の組
成がGCおよび19F−NMRにより測定された。 トランス−(I) 94.8% シス−(I) 5.2% 化合物(II) 320ppm。
【0033】蒸留残留物を分岐管カラムを介して分別し
た。59ないし61℃の沸点範囲を有する6.2gの第
1のフラクションが得られ、そしてこのものは、(CF
3 ) 2 CH−CF2 CF2 CF3 として同定された。1
07℃ないし110℃で蒸留した主要フラクション(2
4.3g)は、19F−NMRおよび1 H−NMRに基づ
いて2種類の下記のエーテルを2.1:1のモル比で含
有していた。
た。59ないし61℃の沸点範囲を有する6.2gの第
1のフラクションが得られ、そしてこのものは、(CF
3 ) 2 CH−CF2 CF2 CF3 として同定された。1
07℃ないし110℃で蒸留した主要フラクション(2
4.3g)は、19F−NMRおよび1 H−NMRに基づ
いて2種類の下記のエーテルを2.1:1のモル比で含
有していた。
【0034】
【化2】 および
【0035】
【化3】 実施例3 エタノールの代わりにメタノールを使用した以外は実施
例2に記載の通りに反応および後処理を行った。2時間
後に捕捉されたサンプルのGCは、既にこの時点で化合
物(II)の含有量が0.1%未満であることを示し
た。4時間の反応時間後に、後処理により以下のフラク
ションが得られた。
例2に記載の通りに反応および後処理を行った。2時間
後に捕捉されたサンプルのGCは、既にこの時点で化合
物(II)の含有量が0.1%未満であることを示し
た。4時間の反応時間後に、後処理により以下のフラク
ションが得られた。
【0036】 トランス−(I) 94.9% シス−(I) 5.1% 化合物(II) 118ppm からなる439gの主要フラクション(沸点46ないし
48.5℃)、2.8gの(CF3 )2 CH−CF2 C
F2 CF3 (沸点59ないし62℃)13.5gの
48.5℃)、2.8gの(CF3 )2 CH−CF2 C
F2 CF3 (沸点59ないし62℃)13.5gの
【0037】
【化4】 と
【0038】
【化5】 との混合物(沸点95ないし98℃)。2種類のエーテ
ルは、3.7:1のモル比で存在する。
ルは、3.7:1のモル比で存在する。
Claims (10)
- 【請求項1】 1000ppm以下のペルフルオロ−2
−メチル−2−ペンテンを含有するペルフルオロ−4−
メチル−2−ペンテン。 - 【請求項2】 100ppm以下のペルフルオロ−2−
メチル−2−ペンテンを含有するペルフルオロ−4−メ
チル−2−ペンテン。 - 【請求項3】 10ppm以下のペルフルオロ−2−メ
チル−2−ペンテンを含有するペルフルオロ−4−メチ
ル−2−ペンテン。 - 【請求項4】 主として高い含有量のペルフルオロ−2
−メチル−2−ペンテンを含有するペルフルオロ−4−
メチル−2−ペンテンからなる出発原料を低級アルカノ
ールおよび触媒量の塩基で処理し、そしてペルフルオロ
−2−メチル−2−ペンテンとの反応により生成した高
沸点化合物を除去することを含む、1000ppm以下
のペルフルオロ−2−メチル−2−ペンテンを含有する
ペルフルオロ−4−メチル−2−ペンテンを製造する方
法。 - 【請求項5】 低級アルカノールを、ペルフルオロ−2
−メチル−2−ペンテンの含有量に基づいて化学量論的
に過剰に使用する請求項4の方法。 - 【請求項6】 1ないし3個の炭素原子を有するアルカ
ノールを使用する請求項4または5の方法。 - 【請求項7】 アルカノールでの処理を0ないし35℃
の温度で行う請求項4ないし6の1つまたはそれ以上の
方法。 - 【請求項8】 使用する塩基が三級アミンである請求項
4〜7の1つまたはそれ以上の方法。 - 【請求項9】 処理を3時間までの時間に渡っておこな
う請求項4〜7の1つまたはそれ以上の方法。 - 【請求項10】 請求項1ないし3いずれかに記載の化
合物または請求項4ないし9いずれかに記載の通りに得
られた生成物をクロロフルオロ炭素の代替物として使用
する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4241969A DE4241969A1 (de) | 1992-12-12 | 1992-12-12 | Hochreines Perfluor-(4-methyl-2-penten), seine Herstellung und Verwendung |
DE4241969:7 | 1992-12-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06279331A true JPH06279331A (ja) | 1994-10-04 |
Family
ID=6475100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5309459A Withdrawn JPH06279331A (ja) | 1992-12-12 | 1993-12-09 | 高純度のペルフルオロ−4−メチル−2−ペンテンおよびその製造方法並びに使用方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5557020A (ja) |
EP (1) | EP0602482B1 (ja) |
JP (1) | JPH06279331A (ja) |
DE (2) | DE4241969A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008540413A (ja) * | 2005-05-02 | 2008-11-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ヘキサフルオロプロペン二量体の精製プロセス |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040089839A1 (en) * | 2002-10-25 | 2004-05-13 | Honeywell International, Inc. | Fluorinated alkene refrigerant compositions |
AU2006308717B2 (en) * | 2005-11-01 | 2012-07-19 | The Chemours Company Fc, Llc. | Compositions comprising fluoroolefins and uses thereof |
RU2399607C2 (ru) * | 2006-04-03 | 2010-09-20 | Е.И.Дюпон Де Немур Энд Компани | Селективно взаимодействующие олефины, содержащие концевую группу cf2, в смеси |
WO2018172919A1 (en) | 2017-03-21 | 2018-09-27 | 3M Innovative Properties Company | Heat transfer fluids and methods of using same |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA668929A (en) * | 1963-08-20 | F. Knaack Donald | Process for the preparation of fluorocarbon compounds | |
US2918501A (en) * | 1958-02-27 | 1959-12-22 | Du Pont | Internally unsaturated perfluoroolefins and preparation thereof |
DE1219460B (de) * | 1963-11-07 | 1966-06-23 | Hoechst Ag | Verfahren zur Reinigung von 2, 2, 2-Trifluor-1-chlor-1-bromaethan, welches als Verunreinigung 1, 1, 1, 4, 4, 4-Hexafluor-2, 3-dichlorbuten-2 enthaelt |
US3917724A (en) * | 1973-02-09 | 1975-11-04 | Hoechst Ag | Process for preparing oligomers of hexafluoropropene |
JPS51125307A (en) * | 1975-04-17 | 1976-11-01 | Central Glass Co Ltd | Process for preparation of hexafluoropropene oligomers |
SU615057A1 (ru) * | 1976-08-02 | 1978-07-15 | Предприятие П/Я Г-4567 | Способ очистки симметричного дифтордихлорэтилена |
US4766261A (en) * | 1984-09-17 | 1988-08-23 | Adamantech, Inc. | Purification of fluorocarbons |
DE3837506A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-10 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von oligomeren des hexafluorpropenoxids |
US4973774A (en) * | 1989-11-02 | 1990-11-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Chlorofluorohydrocarbon purification process |
DE4115025A1 (de) * | 1991-05-08 | 1992-11-12 | Hoechst Ag | Verfahren zur entfernung olefinischer verunreinigungen aus 1,1,1,2,3,3,3-heptafluorpropan |
US5254774A (en) * | 1992-12-28 | 1993-10-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Preparation of hexafluoropropene oligomers |
US5352785A (en) * | 1993-03-30 | 1994-10-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Continuous process for purifying perfluorochemical compositions |
-
1992
- 1992-12-12 DE DE4241969A patent/DE4241969A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-12-04 EP EP93119570A patent/EP0602482B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-04 DE DE59300410T patent/DE59300410D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-09 JP JP5309459A patent/JPH06279331A/ja not_active Withdrawn
-
1994
- 1994-10-12 US US08/321,982 patent/US5557020A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008540413A (ja) * | 2005-05-02 | 2008-11-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ヘキサフルオロプロペン二量体の精製プロセス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0602482A1 (de) | 1994-06-22 |
DE59300410D1 (de) | 1995-08-31 |
US5557020A (en) | 1996-09-17 |
EP0602482B1 (de) | 1995-07-26 |
DE4241969A1 (de) | 1994-06-16 |
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---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010306 |