JPH04270307A - 光学副集成部品 - Google Patents
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
成部品に関する。更に詳細には、本発明は様々な光学部
品の位置決め用の複数個のエッチング開口を有するシリ
コン基板を含む光学副集成部品に関する。
、そのコンパクト性や比較的高い効率および出力の制御
容易性などの利点により、広範な用途で使用されている
。しかし、これらのデバイスには様々な要件が賦課され
ている。耐久性に関して、光デバイスの冷却がしばしば
必要になる。なぜなら、長期間にわたって高温動作を続
けるとデバイスに深刻な損傷を与え、最悪の場合には、
デバイスを破壊してしまうからである。更に、デバイス
からの出力光強度はその接合温度の関数なので、支持構
造は、動作状態のデバイス中の高電流密度により発生さ
れた熱を効率的に消散できるものでなければならない。
部品を有するこれらの半導体光デバイスの組立体に関す
る議論は別の関心事である。常用の光学副集成部品の殆
どは、支持構造が多数の異なる部材から構成されている
。例えば、常用の光学副集成部品は能動(例えば、レー
ザ)デバイス用に1個の部材を使用し、受動部品用に別
の部材を使用している。従って、許容可能なカップリン
グ損失を所望の最小レベルにするため、この2個の部材
を心合わせしなければならない。
ての必要な光学部品を保持することもできる。このよう
な取付部材を使用する場合、各取付部材は例えば、正確
なダイキャスト成形品を使用し、個別的に作製される。 更に、各部品を取付部材に固着させる際に、能動的な心
合わせ動作がしばしば必要となる。その結果、光学副集
成部品はしばしば、比較的長く、高価で、長たらしい組
立方法が必要な、比較的高価な光波送信機の部品である
。更に、寸法、光学部品の個数および構成の変更はしば
しば、完全な光学副集成部品の再設計を必要とする。
設計で、比較的簡単に組立られる(すなわち、能動的心
合わせを殆ど必要としない)、しかも、従来技術で得ら
れていたものよりも一層高容量で安価な製造が可能な光
学副集成部品の開発が強く求められている。
効率的にコントロールすることのできる、アイソレータ
含有光学副集成部品の開発が強く求められている。
発明の光学副集成部品、更に詳細には、様々な光学部品
を位置決めするための複数個のエッチング開口部を有す
るシリコン基板系光学副集成部品により解決される。
必要な光学部品を位置決めするための複数個の開口部を
形成する。特定の実施例では、シリコン基板をエッチン
グし、第1(例えば、副集成部品とファイバの結合用)
のレンズの位置決め用の第1の開口部、アイソレータ光
学部品の位置決め用の第2の開口部および第2(例えば
、レーザとアイソレータの結合用)のレンズの位置決め
用の第3の開口部を形成する。レーザダイオードチップ
キャリアの位置決め用の第4の開口部を形成させること
もできる。
ターン付けし、そして、エッチングし、数百個の副集成
部品を同時に形成する。別の実施例では、(アイソレー
タ用の)第2の開口部は省略することもできる。このデ
ザインは、残りの部品からのレーザの分離が不必要な低
速用途に特に適している。別法として、この第2の開口
部を使用し、第3のレンズまたはファイバのような他の
受動光学部品を保持することもできる。
レーザと同じ基板上に配設されていることである。これ
により、両方の部品とも、同じ(コントロールされた)
温度で動作させるために、同じ熱電冷却器(TEC)で
冷却される。更に、アイソレータの磁石は光学副集成部
品を構成する残りの部品から熱的に分離されている。前
記のように、従来技術のデザインにおける磁石の冷却は
不要であり、単にTECの冷却負荷を増大させるだけで
ある。
、片持ちばり集成装置内にシリコン基板を保持し、磁石
と基板との間の物理的接触を避けるような態様でアイソ
レータの磁石のオープンコア領域を通すことにより行わ
れる。レーザの付近で、基板の下側に取着された支持部
材を使用し、基板と共に片持ちばり集成装置を形成し、
そして、シリコン基板と磁石との物理的接触を防止する
。
TEC)である。この熱電冷却器はレーザダイオードお
よびアイソレータ光学部品の付近で、基板の下側に都合
よく取着されている。サブマウント材料としてシリコン
を使用すると、基板を通してTECからレーザおよびア
イソレータ光学部品への比較的迅速な温度変化伝達がも
たらされる。
に使用されるエッチング方法が比較的簡単であり、この
エッチング方法をコントロールすることにより、組立の
結果として起こる時宜的な(そして、コスト的な)能動
心合わせを行う必要なしに、開口中に配置された各種の
部品間で必要な光学的心合わせを形成することができる
。
位置を線引きするのに使用されるマスクを単に変更する
ことによりサブマウント(シリコン基板)の外観を改め
ることができる。
に説明する。複数の図において同様な部品は同じ符号番
号で示されている。下記の説明の全体を通じて、様々な
光学部品を保持するのに使用されるシリコン基板は“サ
ブマウント”と呼ぶ。このサブマウントを含む集成装置
およびこの集成装置に取着された各種光学部品は“光学
副集成部品”または単に“副集成部品”と呼ぶ。
板系光サブマウント10の一例の斜視図である。図示さ
れた構成では、サブマウント10はシリコン基板11か
らなる。このシリコン基板は、複数個の光デバイスを配
置するための複数個の開口部を有するように加工されて
いる。この開口部は基板の上面13に形成されている。 図1に示された実施例では、シリコン基板は第1のレン
ズを配置するための第1の開口部12を有するように形
成されている。図示されているように、開口部12は矩
形の台形のように形成されている。
する側壁14,16を有する。開口部12は、円筒形状
の屈折率分布形(GRIN)レンズ(図2参照)を内部
に配置するのに適した所定の寸法を有するように形成さ
れている。このGRINレンズは、レンズに入る平行化
光信号の焦点を外部光通信媒体(例えば、取着された光
ファイバのコア領域(図2参照))に合わせるために使
用される。方形または球形状のレンズの場合、異なる大
きさの開口部が必要となる。
沿ってシリコン基板の上面に第2の開口部20が形成さ
れている。この第2の開口部は比較的小さく、また、方
形の形をしている。更に、内方へ向かって傾斜する側壁
を有する。開口部20は第2のレンズ(例えば、球面レ
ンズ)を保持するのに使用される。この球面レンズは能
動光デバイス(例えば、レーザ)から出る光を平行化す
るのに使用される。能動デバイスからの入力ビームを球
面レンズが捉え、このレンズが平行化出力信号を形成す
るような適当な寸法を構成するように第2の開口部20
は形成されている。
に基板11のz軸に沿って、第1の開口部12と第2の
開口部20の間に形成されている。この開口部22も底
面28に向かって内方へ傾斜する側壁24,26を有す
る矩形の台形状をしている。後の図で示されるように、
この開口部22は光アイソレータの光学部品部分を保持
するのに使用される。前記のように、光アイソレータは
、反射光がレーザ活性領域に再入するのを防止すること
が望ましいような、高ビットレート用途で使用される。
物理的寸法はGRINレンズの寸法よりも若干小さい。 従って、開口部22は開口部12よりも若干小さい。下
記で詳細に説明するように、開口部内に配置される各種
の部品の寸法により指示されるように、開口部の相対的
寸法は異なる。比較的浅い第4の開口部30が開口部2
0の背後に配置されている。開口部30は能動光デバイ
スを保持するチップキャリアを配置するために使用され
る。別の実施例では、チップキャリアは基板11の上面
13に直接取着することもできる。
を使用する光学副集成部品32の斜視図である。代表的
なパッケージング順序では、GRINレンズ34および
球面レンズ36は例えば、ガラスハンダを使用し開口部
12および20内にそれぞれ配置され、取着される。好
都合なことに、開口部12,20の傾斜側壁はその端部
をシリコン基板11と物理的に接触させる。次いで、事
前に接合されたレーザ40を保持するチップキャリア3
8は開口部30内に配設された金属接点と心合わせされ
、そして、この接点にハンダ付けされる(または、別法
として、基板上面13に直接取り付ける)。
ッチングする方法は申し分なくコントロールされ、レー
ザ40とレンズ36との間の心ずれ公差を例えば、±5
μmとすることができる。チップキャリア38の配置に
続いて、アイソレータ44の光学部品部分42を開口部
22に取着する。図2に示されるように、背面モニタ4
6を配置し、レーザ40の後面から発光された光を遮断
することができる。背面モニタ46からの出力は外部モ
ニタ回路(図示されていない)に結合される。この外部
モニタ回路は、例えば、レーザバイアス電流を制御する
ことにより、一定の出力を維持するようにレーザを調整
する機能を果たす。
品47の直近くに配置し、レーザ40および部品42付
近のパッケージ化集成装置の雰囲気温度をモニタする。 センサ47からの出力を熱電冷却器(TEC)48に伝
達する。この熱電冷却器はセンサ47からの信号に応答
して、レーザ40およびアイソレータ光学部品42の動
作温度を調節し、比較的一定なレーザ/アイソレータ光
学部品温度を維持する。
、TEC48を、レーザ40およびアイソレータ光学部
品42の双方の付近で、シリコン基板11の下面に取着
できることである。サブマウント材料としてシリコンを
選択することはこの目的に特に適っている。なぜなら、
シリコンは優れた伝熱特性を示すことが知られており、
TEC48の如何なる温度変化も基板11を通してレー
ザ40およびアイソレータ光学部品42に即座に伝達さ
れるからである。
Cを使用しない場合、シリコン基板とは別に、例えば、
支持ブロック50をレーザ40の付近で光学副集成部品
の下側に取着することもできる。
図2に示されるように使用し、片持ちばり配列を構成す
る。特に、基板11の一端51は支持ブロック50に対
して片持ちされる。このような片持ちばりデザインはア
イソレータ44の永久磁石部分52(点線で図示されて
いる)が、シリコン基板11に接触することなく、副集
成部品上を滑動し、また、アイソレータ光学部品42の
周囲に配置させることができるので、片持ちばりデザイ
ンは本発明の光学副集成部品には好都合である。2個の
部品は物理的に接触しないので、TEC48(または基
板11に取着された他の全てのTEC)の動作の結果に
よるシリコン基板11の如何なる温度変化も磁石52に
は伝達されない。従って、TEC48と磁石52との間
の熱的分離は磁石52の不必要な冷却を防止する。
。ここには特に、アイソレータ光学部品42と永久磁石
52の配置およびこの系を通過する中心射線の通路が図
示されている。開口部20に対するアイソレータ42の
角度配向はこの図から明白である。特に、アイソレータ
光学部品42は中心射線および開口部20に対して所定
の角度(例えば、6°)で傾斜されている。このように
傾斜させる目的は優れた分離性を得るためであり、現在
の光学副集成部品に関する議論と密接な関係はない。 更に、図3に示されるように、接続用ファイバ54は斜
めに切り取られた端面55(例えば、6°の角度に形成
されている)を含み、反射を更に低減させることもでき
る。
の図において、光学部品間の通路が、レーザ40と背面
モニタ46との間の信号通路と共に、明瞭に図示されて
いる。この付属開口部内の各部品の配置状態もこの図か
ら明確に理解できる。背面モニタ46とレーザ40との
心合わせはこの図から自明である。更に、図示されてい
るように、各部品は各開口部の底面に着底させる必要は
ない。その理由は、実際には、部品と開口部との物理的
接触は開口部の側壁に沿ってなされるからである。図4
において、GRINレンズ34は特に開口部12の底面
18よりも上に位置に配置されるように特別に図示され
ている。従って、サブマウント10の製造方法は、各種
のエッチング方法の深さに関連する変動に対して若干寛
容性があるものと思われる。
口部を有するシリコンサブマウント10を製造するため
の方法の一例について以下説明する。下記の説明および
添付図面は1個のシリコンサブマウントの製造に関する
ものであるが、言うまでもなく、シリコンウエハがこの
製造方法にかけられた場合、数百個のシリコンサブマウ
ントを同時に製造できる。更に、下記の製造方法の工程
および/または順序は特に独特なものではなく、様々な
変更例を用いることにより本発明の範囲内のシリコン基
板系サブマウントを形成することもできる。
基板11を準備する。<100>配向を使用すると、そ
の後の上面13のエッチングにより傾斜付側壁を有する
開口部が形成される。なぜなら、側壁<111>配向は
<100>シリコンのエッチング速度に対して比較的緩
慢(約1:25の比率)な速度でエッチングされるから
である。
厚い(例えば、約5000Å)酸化膜60を基板11の
上面13に成長させる。次いで、(周知の露光技術を用
いて)この酸化膜60をパターン付けし、開口部12,
20および22の位置を線引きする。その後、これらの
領域内の酸化膜をエッチングし、開口部12,20およ
び22の位置の基板11の上面13上に比較的薄い(例
えば、約1000Å)酸化膜を残す。
る基板を示す。その後、図6に示されるように、チップ
キャリア38,背面モニタ46および温度センサ47の
最後の電気的接続のために必要なメタライズ層64を酸
化膜上の適当な箇所に堆積させる。次いで、基板11の
後面に第2のメタライズ(金属)層66をスパッタする
。この第2の金属層66は完成副集成部品用の信号接地
として機能する。
ーン付けすると共に、エッチングし、開口部12および
20の位置における基板11の表面13を露出させる。 緩衝酸化膜エッチングはこの目的に使用できる。次いで
、この露出シリコン表面13を所定時間にわたってエッ
チングし、図7に示されるように、レンズ36を載置す
るのに十分な開口部を形成する。特に、深さd2 は1
00〜200μmの範囲内である。前記のように、深さ
は全て単なる一例として挙げられているものであり、各
デザインにおいて、光学部品の寸法に応じて様々な変更
を行う必要がある。
の所定領域内のシリコン表面13上の酸化膜60を除去
することによりアイソレータ光学部品42用の開口部2
0を形成した。次いで、基板をマスクし、開口部12お
よび20の位置だけ露光した。その後、アイソレータ光
学部品42用として適当な深さd3を有する開口部20
を形成するのに十分な所定時間にわたって露光箇所をエ
ッチングした。特に、この深さは400〜500μmの
範囲内である。
における二次エッチングにより約d2 +d3 の深さ
d1 が形成される。この深さはGRINレンズ34の
配置に十分な深さである。ここで、d1 は500〜7
00μmの範囲内である。前記の説明から明らかなよう
に、必要な寸法に応じて、開口部12,20および22
は3個の別々のパターンとエッチング手順で形成するこ
とができる。更に、前記のように、チップキャリア38
を配置するために、開口部20の背後に第4の開口部3
0を形成することもできる。開口部30は比較的浅く、
その深さは10〜20μm程度である。図8は開口部3
0を含む加工済みサブマウントを示す。
ン基板系光学副集成部品68の斜視図である。同一平面
接続副集成部品と呼ばれるこの実施例では、基板を貫通
する導通穴を使用することにより、基板11の上面13
に信号接地平面を形成する。特に、第1の接続70およ
び第2の接続72により、レーザ40に対する高周波信
号接続が形成されている。第1の接続70は第1の金属
ストリップ74に取着されている。ストリップ74は続
いてチップキャリア74に取着されている。第2の接続
72は一連の導通穴(図示されていない)により第2の
金属ストリップ76に接続されている。第2の金属スト
リップは基板11の下側に配置されている(図9で点線
で示されている)。第1の金属ストリップ74,シリコ
ン基板11および第2の金属ストリップ76はストリッ
プラインを形成し、外部信号源(図示されていない)と
レーザとの間の高周波相互接続をもたらす。
キャリア38上に配置し、ストリップラインに対するレ
ーザのインピーダンス整合を行う。シリコン基板系高周
波相互接続の一例に関する完全な説明は、発明の名称が
“半導体光デバイス用のシリコン基板系取付構造体”と
いう米国特許出願第287778号明細書(1988年
12月21日出願)に開示されている。この明細書に開
示されているように、シリコン基板を加工し、レーザの
付近に導通穴を形成し、下側の金属ストリップを上面の
レーザ接点に接続する。インピーダンス整合抵抗と共に
、このような導通穴接続を使用することにより、2Gb
/sを超えるデータ速度における比較的しっかりとした
高周波接続がもたらされる。
も様々な変更例を実施することができる。例えば、波長
選択的フィルタまたはダイクロイックフィルタなどのよ
うな様々な光学フィルタをシリコンサブマウント開口部
内に配置し、付属の能動デバイスと光学的に心合わせす
ることもできる。更に、シリコンサブマウント中に適当
に配置された必要な受動部品と共に、能動デバイスのア
レー構造体を含む単一のサブマウントも製造できる。別
法として、本発明の光学副集成部品は発光素子,受光素
子および必要なレンズ作用部品とフィルタ部品を含む光
トランシーバー副集成部品として製造することもできる
。
アイソレータ光学部品がレーザと同じ基板上に配設され
ているので、両方の部品とも、同じ(コントロールされ
た)温度で動作させるために、同じ熱電冷却器(TEC
)で冷却される。
品を構成する残りの部品から熱的に分離されているので
、従来技術におけるような磁石の冷却は不要となる。
されるエッチング方法は比較的簡単であり、このエッチ
ング方法をコントロールすることにより、組立の結果と
して起こる時宜的な(そして、コスト的な)能動心合わ
せを行う必要なしに、開口中に配置された各種の部品間
で必要な光学的心合わせが果たされる。
に使用されるマスクを単に変更することによりサブマウ
ント(シリコン基板)の外観を改めることができる。
ウントの斜視図である。
るために各種の光学部品が取付された図1のサブマウン
トの斜視図である。
らしてあることを特に図示する、図2の集成装置の平面
図である。
された開口部の深さを図示するための、図2の集成装置
の断面図である。
使用された加工順序の一例の模式的断面図である。
使用された加工順序の一例の模式的断面図である。
使用された加工順序の一例の模式的断面図である。
使用された加工順序の一例の模式的断面図である。
発明により作製された別のシリコン基板系サブマウント
の斜視図である。
ン基板 12 第1の開口部 13 シリコン基板上面 14,16 第1の台形開口部の傾斜側壁18 第
1の台形開口部の底面 20 第2の開口部 22 第3の開口部 24,26 第3の台形開口部の傾斜側壁28 第
3の台形開口部の底面 30 第4の開口部 32 光学副集成部品 34 GRINレンズ 36 球面レンズ 38 チップキャリア 40 レーザ 42 アイソレータ光学部品部分 44 アイソレータ 46 背面モニタ 48 熱電冷却器(TEC) 50 支持ブロック 52 永久磁石 60 酸化膜 64 メタライズ層 66 第2のメタライズ層 68 別のシリコン基板系光学副集成部品70 第
1の接続 72 第2の接続 74 第1の金属ストリップ 76 第2の金属ストリップ 78 薄膜抵抗
Claims (24)
- 【請求項1】 複数個の光デバイス(例えば、34,
36,40,44);大きな上面(例えば、13)を有
するように画成されたシリコン基板(例えば、11)、
前記シリコン基板は、基板上面に形成された複数個の開
口部(例えば、12,20,22,30)を有し、複数
個の開口部は前記複数個の光デバイスを配置し、これら
のデバイス間で光学的心合わせをするために配設されて
いる;および、シリコン基板との間で片持ちばり配列構
成を形成するために、前記シリコン基板に対して配置さ
れた支持部材(例えば、48,50);からなる光学副
集成部品。 - 【請求項2】 複数個の光デバイスは少なくとも1個
の能動光デバイスを含む請求項1の光学副集成部品。 - 【請求項3】 少なくとも1個の能動光デバイスはレ
ーザからなる請求項2の光学副集成部品。 - 【請求項4】 少なくとも1個の能動光デバイスは支
持部材付近のシリコン基板上面の開口部内に配置されて
いる請求項2の光学副集成部品。 - 【請求項5】 複数個の光デバイスは光アイソレータ
を更に含む請求項2の光学副集成部品。 - 【請求項6】 光アイソレータは、能動光デバイスと
光学的心合わせさせるためにシリコン基板上面の開口部
内に配置されたアイソレータ光学部品;および、シリコ
ン基板と物理的に接触しないように、アイソレータ光学
部品の周囲に配置された永久磁石;からなる請求項5の
光学副集成部品。 - 【請求項7】 複数個の光デバイスは少なくとも1個
の受動光学部品を更に有する請求項2の光学副集成部品
。 - 【請求項8】 少なくとも1個の受動光学部品は、光
学副集成部品から出る光信号を外部の光通信媒体に接続
するための第1のレンズ;および能動光デバイスからの
光出力を平行光線束化するために能動光デバイスに結合
された第2のレンズ;からなる請求項7の光学副集成部
品。 - 【請求項9】 外部光通信媒体は光ファイバからなる
請求項8の光学副集成部品。 - 【請求項10】 第1のレンズは、平行光線束化入力
光束を集束化出力光束に変換するための、円筒形状の屈
折率分布形(GRIN)レンズからなり;また、第2の
レンズは、第2のレンズに入射した光入力信号を平行光
線束化するための球面レンズからなる請求項8の光学副
集成部品。 - 【請求項11】 シリコン基板は、第1のレンズ用の
第1の開口部、前記第1の開口部は深さd1 の比較的
台形状をしている;および、第2のレンズ用の第2の開
口部、前記第2の開口部は深さd2 の比較的方形の錐
体状の形状をしている;を含む請求項10の光学副集成
部品。 - 【請求項12】 深さd1 は約500〜700μm
の範囲内であり、深さd2 は約100〜200μmの
範囲内である請求項11の光学副集成部品。 - 【請求項13】 支持部材は熱電冷却器からなる請求
項2の光学副集成部品。 - 【請求項14】 熱電冷却器は、前記シリコン基板を
通して能動光デバイスへの伝熱路を形成するようにシリ
コン基板に対して配置されている請求項13の光学副集
成部品。 - 【請求項15】 複数個の光デバイスは、シリコン基
板上面の開口部内に配置され、熱電冷却器と前記シリコ
ン基板からの伝熱路に沿って配設されたアイソレータ光
学部品を含む光アイソレータからなる請求項14の光学
副集成部品。 - 【請求項16】 少なくとも1個の能動光デバイスは
光学チップキャリア上に配設され、前記光学チップキャ
リアは前記シリコン基板の上面に取着されている請求項
2の光学副集成部品。 - 【請求項17】 チップキャリアはシリコン基板上面
内に形成された開口部内に取着され、開口部の深さは、
光デバイスの活性領域が前記シリコン基板上面よりも上
の部分にのこるような深さである請求項16の光学副集
成部品。 - 【請求項18】 少なくとも1個の能動光デバイスは
、第2の能動デバイスとして、第1の能動デバイスの背
面から出る光信号を遮断する位置に配置された背面モニ
タを更に有する請求項2の光学副集成部品。 - 【請求項19】 シリコン基板は<100>配向シリ
コンからなり、複数の開口部は内方へ向かって傾斜する
<111>配向側壁を含む請求項1の光学副集成部品。 - 【請求項20】 能動半導体光デバイス(例えば、4
0);反射信号が前記能動半導体光デバイスに再入する
ことを防止するための分離手段(例えば、44);前記
分離手段からの出力を結合光導波媒体に集束させるため
の、前記分離手段の背後に配置された第1のレンズ(例
えば、36);前記能動デバイスからの出力を前記分離
手段の入力へ平行光線束にするための、前記能動デバイ
スと前記分離手段の間に配置された第2のレンズ(例え
ば、36);および、前記分離手段および前記第1およ
び第2のレンズを配置するための、シリコン基板上面に
形成された複数個の開口部(例えば、12,20,22
,30)を含むシリコン基板、複数個の開口部は前記分
離手段および前記第1および第2のレンズの間で光学的
心合わせを形成するために設けられている;からなる光
学副集成部品。 - 【請求項21】 分離手段は、シリコン基板中の開口
部内に配置されたアイソレータ光学部品;および、前記
アイソレータ光学部品の付近で、前記シリコン基板を取
り囲むように配置された永久磁石;からなり、副集成部
品は、前記永久磁石と前記シリコン基板との間で物理的
接触がなされない片持ちばり光学副集成部品が形成され
るように、シリコン基板下面に取着された支持部材を更
に含む請求項20の光学副集成部品。 - 【請求項22】 支持部材は能動半導体光デバイスお
よびアイソレータ光学部品の付近のシリコン基板下面に
取着された熱電冷却器からなる請求項21の光学副集成
部品。 - 【請求項23】 第1のレンズは、前記シリコン基板
中の比較的矩形の錐体形開口部内に配置された、GRI
Nレンズからなり、また、第2のレンズはシリコン基板
中の比較的方形の錐体形開口部内に配置された、球面レ
ンズからなる請求項20の光学副集成部品。 - 【請求項24】 シリコン基板は能動デバイスチップ
キャリアを配置するための開口部を含むように形成され
ている請求項20の光学副集成部品。
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