JPH04270243A - 含フッ素化合物および含フッ素化合物を含有する潤滑剤組成物および磁気記録媒体 - Google Patents
含フッ素化合物および含フッ素化合物を含有する潤滑剤組成物および磁気記録媒体Info
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Landscapes
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- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高精度な潤滑が要求される精密機械，精密部品
の潤滑剤あるいは界面活性剤，離型剤，防錆剤等に有用
な新規含フッ素化合物とその製造方法およびその含フッ
素化合物を含有する潤滑剤組成物およびその含フッ素化
合物を潤滑剤層に含有させた磁気テープ，磁気ディスク
等の磁気記録媒体に関するものである。
の潤滑剤あるいは界面活性剤，離型剤，防錆剤等に有用
な新規含フッ素化合物とその製造方法およびその含フッ
素化合物を含有する潤滑剤組成物およびその含フッ素化
合物を潤滑剤層に含有させた磁気テープ，磁気ディスク
等の磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術
機械装置，部品の小型化、高精度化に伴いそれらの摺動
部における潤滑形態も流体潤滑から境界潤滑へと移行し
てきている。とりわけ、ＶＴＲ，磁気ディスク等の電子
機器，電子部品においては、記録密度の向上を目的とし
た強磁性金属薄膜の採用により、磁気テープや磁気ディ
スクと磁気ヘッドとの摺動には高精度の潤滑が必要とな
ってきた。たとえば、蒸着テープやハードディスクでは
その耐久性，実用信頼性を確保しながら磁気記録媒体と
磁気ヘッドとのスペーシングロスを極力小さくして高出
力化を計るために、磁性層表面の潤滑剤層はわずか数１
０Åの厚さとなるように形成される。したがって、この
潤滑剤層を形成させる材料としては、特に潤滑性能に優
れた有機化合物の開発が重要な課題となっている。
部における潤滑形態も流体潤滑から境界潤滑へと移行し
てきている。とりわけ、ＶＴＲ，磁気ディスク等の電子
機器，電子部品においては、記録密度の向上を目的とし
た強磁性金属薄膜の採用により、磁気テープや磁気ディ
スクと磁気ヘッドとの摺動には高精度の潤滑が必要とな
ってきた。たとえば、蒸着テープやハードディスクでは
その耐久性，実用信頼性を確保しながら磁気記録媒体と
磁気ヘッドとのスペーシングロスを極力小さくして高出
力化を計るために、磁性層表面の潤滑剤層はわずか数１
０Åの厚さとなるように形成される。したがって、この
潤滑剤層を形成させる材料としては、特に潤滑性能に優
れた有機化合物の開発が重要な課題となっている。
金属薄膜型磁気記録媒体用の潤滑剤としては、その分子
内にフロロカーボン鎖を有するものが金属薄膜との適合
性に優れているため、多数のフロロカーボン系潤滑剤が
提案されている（たとえば、特開昭６１−１０７５２７
号公報，特開昭６１−１０７５２８号公報，特開昭６１
−１０７５２９号公報，特開昭６２−９２２２５号公報
，特開昭６２−９２２２６号公報，特開昭６２−９２２
２７号公報）。また、パーフロロアルキルポリエーテル
鎖から成る化合物を磁気記録媒体用の潤滑剤としたもの
も提案されている（たとえば、米国特許第３，７７８，
３０８号、特開昭６０−１０９０２８号公報）。
内にフロロカーボン鎖を有するものが金属薄膜との適合
性に優れているため、多数のフロロカーボン系潤滑剤が
提案されている（たとえば、特開昭６１−１０７５２７
号公報，特開昭６１−１０７５２８号公報，特開昭６１
−１０７５２９号公報，特開昭６２−９２２２５号公報
，特開昭６２−９２２２６号公報，特開昭６２−９２２
２７号公報）。また、パーフロロアルキルポリエーテル
鎖から成る化合物を磁気記録媒体用の潤滑剤としたもの
も提案されている（たとえば、米国特許第３，７７８，
３０８号、特開昭６０−１０９０２８号公報）。
一方、本発明の含フッ素化合物に類似の分子構造を有す
るものとしては、 （式中、Ｒ６は水素または炭素数１〜１２の脂肪族アル
キル基を示し、Ｒ８は炭素数１，２または５の脂肪族ア
ルキレン基を示し、ｈは０〜８の整数を示す。］ が界面活性剤として提案されている（米国特許第３，７
９８，２６５号）。
るものとしては、 （式中、Ｒ６は水素または炭素数１〜１２の脂肪族アル
キル基を示し、Ｒ８は炭素数１，２または５の脂肪族ア
ルキレン基を示し、ｈは０〜８の整数を示す。］ が界面活性剤として提案されている（米国特許第３，７
９８，２６５号）。
つぎに、本発明の含フッ素化合物の製造方法と類似の方
法もしくは本発明の含フッ素化合物と類似の化合物の製
造方法を提示している先行文献について述べる。
法もしくは本発明の含フッ素化合物と類似の化合物の製
造方法を提示している先行文献について述べる。
一般式［ＩＩ］および［ＩＸ］で表わされる含フッ素化
合物の製造方法と類似の方法または一般式［ＩＩＩ］で
表わされる含フッ素化合物と類似の化合物の製造方法が
、特開昭６１−２５７２２６号公報において含フッ素ア
ルキルコハク酸誘導体の製造方法として提案されている
。これは具体的には、パーフロロアルキル基付高級アル
コールとアルキル無水コハク酸とのほぼ等モル混合物を
大気中、６０〜１５０℃に加熱して反応させることによ
り含フッ素アルキルコハク酸誘導体を得るというもので
ある。
合物の製造方法と類似の方法または一般式［ＩＩＩ］で
表わされる含フッ素化合物と類似の化合物の製造方法が
、特開昭６１−２５７２２６号公報において含フッ素ア
ルキルコハク酸誘導体の製造方法として提案されている
。これは具体的には、パーフロロアルキル基付高級アル
コールとアルキル無水コハク酸とのほぼ等モル混合物を
大気中、６０〜１５０℃に加熱して反応させることによ
り含フッ素アルキルコハク酸誘導体を得るというもので
ある。
一般式［ＶＩＩ］で表わされる含フッ素化合物と類似の
化合物の製造方法が、特開昭６４−７０４５０号公報に
おいて含窒素パーフルオロカルボン酸フルオリドの製造
方法として提案されている。これは具体的には、３−ジ
アルキルアミノ−ｎ−酪酸の反応性誘導体を液体フッ化
水素中において電解処理することにより、パーフルオロ
（３−ジアルキルアミノ−ｎ−酪酸フルオリド）を得る
というものである。
化合物の製造方法が、特開昭６４−７０４５０号公報に
おいて含窒素パーフルオロカルボン酸フルオリドの製造
方法として提案されている。これは具体的には、３−ジ
アルキルアミノ−ｎ−酪酸の反応性誘導体を液体フッ化
水素中において電解処理することにより、パーフルオロ
（３−ジアルキルアミノ−ｎ−酪酸フルオリド）を得る
というものである。
一般式［ＶＩＩＩ］で表わされる含フッ素化合物の製造
方法と類似の方法が、特開昭６１−２４５４７号公報に
おいてパーフルオロブテニロキシ基を有するフタル酸ジ
エステルの製法として提案されている。これは具体的に
は、パーフルオロブテニロキシ基を有する無水フタル酸
１モルに対して炭素数１〜１５のアルキル基を有する脂
肪族アルコール２〜２０モルと濃硫酸０．０１〜１モル
とを加え、アルコールの還流下または１００〜１５０℃
で３０分間から２４時間反応させることによってパーフ
ルオロブテニロキシ基を有するフタル酸ジエステルを得
るというものである。
方法と類似の方法が、特開昭６１−２４５４７号公報に
おいてパーフルオロブテニロキシ基を有するフタル酸ジ
エステルの製法として提案されている。これは具体的に
は、パーフルオロブテニロキシ基を有する無水フタル酸
１モルに対して炭素数１〜１５のアルキル基を有する脂
肪族アルコール２〜２０モルと濃硫酸０．０１〜１モル
とを加え、アルコールの還流下または１００〜１５０℃
で３０分間から２４時間反応させることによってパーフ
ルオロブテニロキシ基を有するフタル酸ジエステルを得
るというものである。
一般式［Ｘ］で表わされる含フッ素化合物と類似の化合
物の製造方法が、特開昭５４−８４５２４号公報におい
て過フッ化アルキル置換半エステルおよび半アミドの製
法として提案されている。これは具体的には、無水マレ
イン酸とヒドロキシまたはアミノ置換非イオン性化合物
（たとえば、脂肪族アルキルアルコールまたは脂肪族ア
ルキルアミン）とを室温または５０〜１００℃で反応さ
せてマレイン酸半エステルまたはマレイン酸半アミドと
した後、さらにこれに過フッ化アルキルアルキレンチオ
ールを塩基触媒の存在下に３０〜７５℃で付加させるこ
とにより過フッ化アルキル置換半エステルまたは同半ア
ミドを得るというものである。なお、この化合物は上記
の反応の手順を逆にすることによっても得ることができ
る。
物の製造方法が、特開昭５４−８４５２４号公報におい
て過フッ化アルキル置換半エステルおよび半アミドの製
法として提案されている。これは具体的には、無水マレ
イン酸とヒドロキシまたはアミノ置換非イオン性化合物
（たとえば、脂肪族アルキルアルコールまたは脂肪族ア
ルキルアミン）とを室温または５０〜１００℃で反応さ
せてマレイン酸半エステルまたはマレイン酸半アミドと
した後、さらにこれに過フッ化アルキルアルキレンチオ
ールを塩基触媒の存在下に３０〜７５℃で付加させるこ
とにより過フッ化アルキル置換半エステルまたは同半ア
ミドを得るというものである。なお、この化合物は上記
の反応の手順を逆にすることによっても得ることができ
る。
発明が解決しようとする課題
金属薄膜型磁気記録媒体用の潤滑剤は金属薄膜表面ある
いは保護膜表面と磁気ヘッド表面に強く付着してそれら
の表面に潤滑剤による被覆層を形成し、それらの被覆層
の接触点、すなわち磁気記録媒体と磁気ヘッドとの摺動
面において潤滑剤分子間で容易にせん断されることが重
要である。ところで、磁気記録媒体用の潤滑剤として従
来公知のパーフロロアルキルポリエーテルはその分子表
面のほとんどすべてがフッ素原子で覆われているために
分子間のせん断性は良好であるが、その分子の極性が弱
いために金属薄膜表面あるいは保護膜表面と磁気ヘッド
表面に付着する力は弱い。この欠点を改善するために、
パーフロロアルキルポリエーテルの分子末端に各種の極
性基を導入したものが提案されているが、その分子量が
３，０００以上のものは極性基導入の効果があまり得ら
れず、極性基の効果を高めるために分子量を低減すると
、パーフロロアルキルポリエーテル分子間の相互作用が
小さいためにそれ自体の蒸発による潤滑剤の減少が生じ
る。すなわち、パーフロロアルキルポリエーテルやその
末端基変性物は金属薄膜表面あるいは保護膜表面と磁気
ヘッド表面への付着性や安定性が悪く、その結果、これ
らの化合物を金属薄膜型磁気記録媒体用の潤滑剤に用い
たものは耐久信頼性、特に磁性金属の凝着が磁気ヘッド
表面で発生しやすい低湿度環境下における性能に問題を
有していた。
いは保護膜表面と磁気ヘッド表面に強く付着してそれら
の表面に潤滑剤による被覆層を形成し、それらの被覆層
の接触点、すなわち磁気記録媒体と磁気ヘッドとの摺動
面において潤滑剤分子間で容易にせん断されることが重
要である。ところで、磁気記録媒体用の潤滑剤として従
来公知のパーフロロアルキルポリエーテルはその分子表
面のほとんどすべてがフッ素原子で覆われているために
分子間のせん断性は良好であるが、その分子の極性が弱
いために金属薄膜表面あるいは保護膜表面と磁気ヘッド
表面に付着する力は弱い。この欠点を改善するために、
パーフロロアルキルポリエーテルの分子末端に各種の極
性基を導入したものが提案されているが、その分子量が
３，０００以上のものは極性基導入の効果があまり得ら
れず、極性基の効果を高めるために分子量を低減すると
、パーフロロアルキルポリエーテル分子間の相互作用が
小さいためにそれ自体の蒸発による潤滑剤の減少が生じ
る。すなわち、パーフロロアルキルポリエーテルやその
末端基変性物は金属薄膜表面あるいは保護膜表面と磁気
ヘッド表面への付着性や安定性が悪く、その結果、これ
らの化合物を金属薄膜型磁気記録媒体用の潤滑剤に用い
たものは耐久信頼性、特に磁性金属の凝着が磁気ヘッド
表面で発生しやすい低湿度環境下における性能に問題を
有していた。
一方、前記先行文献に記載されるフロロカーボン系潤滑
剤は金属薄膜との適合性に優れているため、金属薄膜型
磁気記録媒体に適用されてきたが、湿度が１０％ＲＨ以
下となる低湿度環境下においては充分な耐久性が得られ
ないという問題を有していた。
剤は金属薄膜との適合性に優れているため、金属薄膜型
磁気記録媒体に適用されてきたが、湿度が１０％ＲＨ以
下となる低湿度環境下においては充分な耐久性が得られ
ないという問題を有していた。
以上のことを考慮して種々検討した結果、同一分子内に
フロロアルキルエーテル末端基と脂肪族炭化水素末端基
と特定の極性末端基とを有する含フッ素化合物が金属薄
膜型磁気記録媒体用の潤滑剤として最適であるという結
論に達した。
フロロアルキルエーテル末端基と脂肪族炭化水素末端基
と特定の極性末端基とを有する含フッ素化合物が金属薄
膜型磁気記録媒体用の潤滑剤として最適であるという結
論に達した。
ところで、本発明の含フッ素化合物の製造にあたり前記
従来技術による方法を用いると、つぎに述べる種々の問
題が有り、本発明の含フッ素化合物を製造することが困
難もしくは不可能であった。
従来技術による方法を用いると、つぎに述べる種々の問
題が有り、本発明の含フッ素化合物を製造することが困
難もしくは不可能であった。
一般式［ＩＩ］および［ＩＸ］で表わされる含フッ素化
合物の製造にあたり特開昭６１−２５７２２６号公報に
記載されている方法を用いると、フロロアルキルエーテ
ル基付アルコールの反応性がパーフロロアルキル基付高
級アルコールに比べて相当劣るため、その収率は１０％
以下と極めて低い水準にとどまるという問題を有してい
た。
合物の製造にあたり特開昭６１−２５７２２６号公報に
記載されている方法を用いると、フロロアルキルエーテ
ル基付アルコールの反応性がパーフロロアルキル基付高
級アルコールに比べて相当劣るため、その収率は１０％
以下と極めて低い水準にとどまるという問題を有してい
た。
一般式［ＩＩＩ］で表わされる含フッ素化合物の製造に
あたり特開昭６１−２５７２２６号公報に記載されてい
る方法を用いると、フロロアルキルエーテル末端基の脂
肪族アルキルカルボン酸もしくは脂肪族アルケニルカル
ボン酸への結合位置はカルボキシル基と隣接するα位ま
たはβ位炭素に限定され、本発明の製造方法によるα位
からω位炭素に至る種々の位置へ結合する含フッ素化合
物を得ることができないという問題を有していた。
あたり特開昭６１−２５７２２６号公報に記載されてい
る方法を用いると、フロロアルキルエーテル末端基の脂
肪族アルキルカルボン酸もしくは脂肪族アルケニルカル
ボン酸への結合位置はカルボキシル基と隣接するα位ま
たはβ位炭素に限定され、本発明の製造方法によるα位
からω位炭素に至る種々の位置へ結合する含フッ素化合
物を得ることができないという問題を有していた。
一般式［ＶＩＩ］で表わされる含フッ素化合物の製造に
あたり特開昭６４−７０４５０号公報に記載されている
方法を用いると、同一分子内の２つの脂肪族炭化水素末
端基はいずれもパーフロロアルキル基となるばかりでな
く、脂肪族長鎖アルキル基や脂肪族ポリアルキルオキサ
イド基への展開は困難であるという問題を有していた。
あたり特開昭６４−７０４５０号公報に記載されている
方法を用いると、同一分子内の２つの脂肪族炭化水素末
端基はいずれもパーフロロアルキル基となるばかりでな
く、脂肪族長鎖アルキル基や脂肪族ポリアルキルオキサ
イド基への展開は困難であるという問題を有していた。
一般式［ＶＩＩＩ］で表わされる含フッ素化合物の製造
にあたり特開昭６１−２４５４７号公報に記載されてい
る方法を用いると、酸無水物反応基はいずれもエステル
結合基となるばかりでなく、フロロアルキル基がパーフ
ロロブテニロキシ基に限定されるためにフロロアルキル
エーテル基への展開ができないという問題を有していた
。
にあたり特開昭６１−２４５４７号公報に記載されてい
る方法を用いると、酸無水物反応基はいずれもエステル
結合基となるばかりでなく、フロロアルキル基がパーフ
ロロブテニロキシ基に限定されるためにフロロアルキル
エーテル基への展開ができないという問題を有していた
。
一般式［Ｘ］で表わされる含フッ素化合物の製造にあた
り特開昭５４−８４５２４号公報に記載されている方法
を用いると、チオエーテル結合基はカルボキシル基に隣
接するα位とβ位炭素とに結合する混合物となり、本発
明の製造方法によるα位炭素のみに結合する単一含フッ
素化合物を得ることができないという問題を有していた
。
り特開昭５４−８４５２４号公報に記載されている方法
を用いると、チオエーテル結合基はカルボキシル基に隣
接するα位とβ位炭素とに結合する混合物となり、本発
明の製造方法によるα位炭素のみに結合する単一含フッ
素化合物を得ることができないという問題を有していた
。
本発明は上記の結論および新規の製造方法によりなされ
たものであり、金属薄膜型磁気記録媒体に対して良好な
耐久信頼性を付与する新規含フッ素化合物およびその含
フッ素化合物を含有する潤滑剤組成物およびその含フッ
素化合物を潤滑剤層に含有させた磁気テープ，磁気ディ
スク等の磁気記録媒体を提供することを目的とする。
たものであり、金属薄膜型磁気記録媒体に対して良好な
耐久信頼性を付与する新規含フッ素化合物およびその含
フッ素化合物を含有する潤滑剤組成物およびその含フッ
素化合物を潤滑剤層に含有させた磁気テープ，磁気ディ
スク等の磁気記録媒体を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するための本発明は、以下の１〜９に関
するものである。
するものである。
（１）一般式［Ｉ］
［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ２は炭素数０もしく
は１以上の脂肪族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアル
キレンオキサイド基を示し、Ｒ３およびＲ４は炭素数０
もしくは１以上の脂肪族アルキレン基を示し、Ｘは−Ｃ
ＯＯＲ５−，−ＣＯＮ（Ｒ６）− （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、ＷおよびＹはの中から選ばれる結合基を示し、
Ｚは の中から選ばれる結合基を示し、ｌ，ｍおよびｎは０も
しくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物。
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ２は炭素数０もしく
は１以上の脂肪族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアル
キレンオキサイド基を示し、Ｒ３およびＲ４は炭素数０
もしくは１以上の脂肪族アルキレン基を示し、Ｘは−Ｃ
ＯＯＲ５−，−ＣＯＮ（Ｒ６）− （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、ＷおよびＹはの中から選ばれる結合基を示し、
Ｚは の中から選ばれる結合基を示し、ｌ，ｍおよびｎは０も
しくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物。
（２）脂肪族アルキル無水コハク酸もしくは脂肪族アル
ケニル無水コハク酸と炭素数６〜５０のフロロアルキル
エーテル基付アルコールとをオートクレーブ中で付加反
応させることを特徴とする一般式［ＩＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ′２は脂肪族アルキ
レン基もしくは脂肪族ポリアルキレンオキサイド基を示
し、Ｘは −ＣＯＯＲ５−，−ＣＯＮ（Ｒ６）− （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、ｍおよびｎは０もしくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
ケニル無水コハク酸と炭素数６〜５０のフロロアルキル
エーテル基付アルコールとをオートクレーブ中で付加反
応させることを特徴とする一般式［ＩＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ′２は脂肪族アルキ
レン基もしくは脂肪族ポリアルキレンオキサイド基を示
し、Ｘは −ＣＯＯＲ５−，−ＣＯＮ（Ｒ６）− （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、ｍおよびｎは０もしくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
（３）脂肪族アルキルオキシ酸もしくは脂肪族アルケニ
オキシ酸と炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテル基
付カルボン酸ハライドとを塩基の存在下で低温で反応さ
せることを特徴とする一般式［ＩＩＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″２およびＲ４は炭
素数０もしくは１以上の脂肪族アルキレン基を示し、Ｘ
′は （ただし、Ｒ′５は脂肪族アルキレン基を示し、Ｒ６は
水素原子または炭素数１〜１２の脂肪族アルキル基を示
す。） の中から選ばれる結合基を示し、ｍは０もしくは１を示
す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
オキシ酸と炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテル基
付カルボン酸ハライドとを塩基の存在下で低温で反応さ
せることを特徴とする一般式［ＩＩＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″２およびＲ４は炭
素数０もしくは１以上の脂肪族アルキレン基を示し、Ｘ
′は （ただし、Ｒ′５は脂肪族アルキレン基を示し、Ｒ６は
水素原子または炭素数１〜１２の脂肪族アルキル基を示
す。） の中から選ばれる結合基を示し、ｍは０もしくは１を示
す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
（４）一般式［ＩＶ］
［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アル
キレン基を示す。］で表わされるフロロアルキルエーテ
ル基付第２アルキルアミンと一般式［Ｖ］ ［式中、Ｒは脂肪族アルキル末端基もしくは脂肪族アル
ケニル末端基を示し、Ｒ４は炭素数０もしくは１以上の
脂肪族アルキレン基を示し、Ｑはハロゲン原子を示す。
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アル
キレン基を示す。］で表わされるフロロアルキルエーテ
ル基付第２アルキルアミンと一般式［Ｖ］ ［式中、Ｒは脂肪族アルキル末端基もしくは脂肪族アル
ケニル末端基を示し、Ｒ４は炭素数０もしくは１以上の
脂肪族アルキレン基を示し、Ｑはハロゲン原子を示す。
］
で表わされるω−ハロアルキルカルボン酸エステルとを
弱アルカリの存在下で反応させて、一般式［ＶＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ，Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もし
くは脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″′２は脂肪族
アルキレン基を示し、Ｒ４は炭素数０もしくは１以上の
脂肪族アルキレン基を示す。］ で表わされる含フッ素化合物を合成した後、強アルカリ
でエステル結合基を加水分解させて片末端基をカルボキ
シル基とすることを特徴とする一般式［ＶＩＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ４は炭素数０もしくは１以上の脂肪
族アルキレン基を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
弱アルカリの存在下で反応させて、一般式［ＶＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ，Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もし
くは脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″′２は脂肪族
アルキレン基を示し、Ｒ４は炭素数０もしくは１以上の
脂肪族アルキレン基を示す。］ で表わされる含フッ素化合物を合成した後、強アルカリ
でエステル結合基を加水分解させて片末端基をカルボキ
シル基とすることを特徴とする一般式［ＶＩＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ４は炭素数０もしくは１以上の脂肪
族アルキレン基を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
（５）脂肪族アルキルアルコールもしくは脂肪族アルケ
ニルアルコールと炭素数６〜５０のフロロアルキルエー
テル基付アルコールとを各々別々に無水トリメリット酸
クロライドに段階的に反応させることによる一般式［Ｖ
ＩＩＩ］［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキ
ルエーテル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基
もしくは脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ′２は脂肪
族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアルキレンオキサイ
ド基を示し、Ｘは −ＣＯＯＲ５−，−ＣＯＮ（Ｒ６）− （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、Ｚ′はで表わされる結合基を示し、ｍは０もし
くは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
ニルアルコールと炭素数６〜５０のフロロアルキルエー
テル基付アルコールとを各々別々に無水トリメリット酸
クロライドに段階的に反応させることによる一般式［Ｖ
ＩＩＩ］［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキ
ルエーテル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基
もしくは脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ′２は脂肪
族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアルキレンオキサイ
ド基を示し、Ｘは −ＣＯＯＲ５−，−ＣＯＮ（Ｒ６）− （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、Ｚ′はで表わされる結合基を示し、ｍは０もし
くは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
（６）脂肪族アルキル基付無水チオリンゴ酸と炭素数６
〜５０のフロロアルキルエーテル基付アルコールとをオ
ートクレーブ中で付加反応させることを特徴とする一般
式［ＩＸ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ′１は脂肪族アルキル末端基を示し
、Ｒ′２は脂肪族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアル
キレンオキサイド基を示し、Ｘは （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、ｍおよびｎは０もしくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
〜５０のフロロアルキルエーテル基付アルコールとをオ
ートクレーブ中で付加反応させることを特徴とする一般
式［ＩＸ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ′１は脂肪族アルキル末端基を示し
、Ｒ′２は脂肪族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアル
キレンオキサイド基を示し、Ｘは （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、ｍおよびｎは０もしくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
（７）α−メルカプト脂肪族アルキルカルボン酸に炭素
数６〜５０のフロロアルキルエーテル基付アクリレート
または同メタクリレートを付加反応させることによる一
般式［Ｘ］ ［式中、Ｒ１は炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ′１は脂肪族アルキル末端基を示し
、Ｒ′２は脂肪族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアル
キレンオキサイド基を示し、Ｒ７は水素原子またはメチ
ル基を示し、Ｘは（ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１
以上の脂肪族アルキレン基を示し、Ｒ６は水素原子また
は炭素数１〜１２の脂肪族アルキル基を示す。）の中か
ら選ばれる結合基を示し、ｍは０もしくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
数６〜５０のフロロアルキルエーテル基付アクリレート
または同メタクリレートを付加反応させることによる一
般式［Ｘ］ ［式中、Ｒ１は炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ′１は脂肪族アルキル末端基を示し
、Ｒ′２は脂肪族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアル
キレンオキサイド基を示し、Ｒ７は水素原子またはメチ
ル基を示し、Ｘは（ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１
以上の脂肪族アルキレン基を示し、Ｒ６は水素原子また
は炭素数１〜１２の脂肪族アルキル基を示す。）の中か
ら選ばれる結合基を示し、ｍは０もしくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。
（８）一般式［Ｉ］で表わされる含フッ素化合物を含有
することを特徴とする潤滑剤組成物。
することを特徴とする潤滑剤組成物。
（９）非磁性支持体上に強磁性金属薄膜が形成されてい
る磁気記録媒体において、前記強磁性金属薄膜上に直接
あるいは保護膜を介して一般式［Ｉ］で表わされる含フ
ッ素化合物を少なくとも１種以上含有する潤滑剤層が形
成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
る磁気記録媒体において、前記強磁性金属薄膜上に直接
あるいは保護膜を介して一般式［Ｉ］で表わされる含フ
ッ素化合物を少なくとも１種以上含有する潤滑剤層が形
成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
本発明の含フッ素化合物の末端基としては、たとえば下
記に示すようなものがある。
記に示すようなものがある。
脂肪族炭化水素末端基すなわち脂肪族アルキル末端基お
よび脂肪族アルケニル末端基としては、（ただし、ｉお
よびｊは８以上の整数を示し、ｋは０もしくは１以上の
整数を示す。）等があり、これらの末端基の総炭素数は
８〜３０（好ましくは１２〜２６）が適しており、総炭
素数が７以下や３１以上では潤滑性が充分ではない。
よび脂肪族アルケニル末端基としては、（ただし、ｉお
よびｊは８以上の整数を示し、ｋは０もしくは１以上の
整数を示す。）等があり、これらの末端基の総炭素数は
８〜３０（好ましくは１２〜２６）が適しており、総炭
素数が７以下や３１以上では潤滑性が充分ではない。
フロロアルキルエーテル末端基としては、（ただし、ｐ
は１〜１５、ｑは１〜４５の整数を示す。） 等があり、これらの末端基の総炭素数は６〜５０（好ま
しくは１０〜３０）が適しており、総炭素数が５以下で
は潤滑性が充分ではなく、総炭素数が５１以上では極性
末端基の効果が低下する。
は１〜１５、ｑは１〜４５の整数を示す。） 等があり、これらの末端基の総炭素数は６〜５０（好ま
しくは１０〜３０）が適しており、総炭素数が５以下で
は潤滑性が充分ではなく、総炭素数が５１以上では極性
末端基の効果が低下する。
つぎに、本発明の含フッ素化合物の製造方法について説
明する。
明する。
一般式［ＩＩ］で表わされる含フッ素化合物は脂肪族ア
ルキル無水コハク酸もしくは脂肪族アルケニル無水コハ
ク酸とフロロアルキルエーテル基付アルコールとの等モ
ル混合物をオートクレーブ中で３ｋｇ／ｃｍ２以上の加
圧下で１００〜１５０℃に加熱して付加反応を行なわせ
ることにより収率良く製造することができる。なお、こ
の付加反応に関しては従来公知の常圧法では収率が著し
く低いため、本発明においては新たに加圧下で反応を行
なう方法を見い出すことにより高収率を得ることができ
た。この場合、圧力としては少なくとも３ｋｇ／ｃｍ２
は必要である。
ルキル無水コハク酸もしくは脂肪族アルケニル無水コハ
ク酸とフロロアルキルエーテル基付アルコールとの等モ
ル混合物をオートクレーブ中で３ｋｇ／ｃｍ２以上の加
圧下で１００〜１５０℃に加熱して付加反応を行なわせ
ることにより収率良く製造することができる。なお、こ
の付加反応に関しては従来公知の常圧法では収率が著し
く低いため、本発明においては新たに加圧下で反応を行
なう方法を見い出すことにより高収率を得ることができ
た。この場合、圧力としては少なくとも３ｋｇ／ｃｍ２
は必要である。
一般式［ＩＩＩ］で表わされる含フッ素化合物は脂肪族
アルキルオキシ酸もしくは脂肪族アルケニルオキシ酸と
トリエチルアミンやピリジン等の塩基との混合溶液（溶
媒としては、塩基自体か無水ベンゼンや無水エーテル等
の非プロトン性無水溶媒が適している。）にフロロアル
キルエーテル基付カルボン酸ハライドを氷冷下にオキシ
酸と等モルになるように徐々に添加し、酸ハライド反応
基とオキシ酸の水酸基とをエステル化反応させて副生す
る塩酸を塩基で捕獲、除去することにより製造すること
ができる。ところで、オキシ酸の水酸基にフロロアルキ
ルエーテル基を結合させる方法として、フロロアルキル
エーテル基付カルボン酸と常用の酸触媒と高温条件を用
いてエステル化反応を試みると、オキシ酸のカルボキシ
ル基がこの反応を阻害し、オキシ酸の水酸基にフロロア
ルキルエーテル基を結合させることができない。すなわ
ち、このエステル化反応はフロロアルキルエーテル基付
カルボン酸ハライドを用い、かつ、低温で反応させる方
法に限って進行することを見い出した。本発明の含フッ
素化合物はこの発見によって製造が可能となった。
アルキルオキシ酸もしくは脂肪族アルケニルオキシ酸と
トリエチルアミンやピリジン等の塩基との混合溶液（溶
媒としては、塩基自体か無水ベンゼンや無水エーテル等
の非プロトン性無水溶媒が適している。）にフロロアル
キルエーテル基付カルボン酸ハライドを氷冷下にオキシ
酸と等モルになるように徐々に添加し、酸ハライド反応
基とオキシ酸の水酸基とをエステル化反応させて副生す
る塩酸を塩基で捕獲、除去することにより製造すること
ができる。ところで、オキシ酸の水酸基にフロロアルキ
ルエーテル基を結合させる方法として、フロロアルキル
エーテル基付カルボン酸と常用の酸触媒と高温条件を用
いてエステル化反応を試みると、オキシ酸のカルボキシ
ル基がこの反応を阻害し、オキシ酸の水酸基にフロロア
ルキルエーテル基を結合させることができない。すなわ
ち、このエステル化反応はフロロアルキルエーテル基付
カルボン酸ハライドを用い、かつ、低温で反応させる方
法に限って進行することを見い出した。本発明の含フッ
素化合物はこの発見によって製造が可能となった。
一般式［ＶＩＩ］で表わされる含フッ素化合物は前記フ
ロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミンとω−ハ
ロアルキルカルボン酸エステルとの等モル混合溶液（溶
媒としてはアセトンやメチルエチルケトン等のプロトン
性溶媒が適している。）に炭酸ソーダや炭酸カリウム等
の弱アルカリ水溶液を添加し、加熱還流させることによ
り脱ハロゲン化反応と窒素・炭素結合反応を起こさせた
後、強アルカリでエステル結合基を加水分解させて片末
端基をカルボキシル基とすることにより製造することが
できる。この脱ハロゲン化反応において、カルボキシル
基はイミノ基と親和してω−ハロアルキル基のイミノ基
への攻撃を阻害する。すなわち、カルボキシル基の存在
は脱ハロゲン化反応を阻害するため、カルボキシル基を
エステル化するなどの方法によりマスキングすることに
よって窒素・炭素結合反応が進行することを見い出した
。本発明の含フッ素化合物はこの発見によって製造が可
能となった。
ロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミンとω−ハ
ロアルキルカルボン酸エステルとの等モル混合溶液（溶
媒としてはアセトンやメチルエチルケトン等のプロトン
性溶媒が適している。）に炭酸ソーダや炭酸カリウム等
の弱アルカリ水溶液を添加し、加熱還流させることによ
り脱ハロゲン化反応と窒素・炭素結合反応を起こさせた
後、強アルカリでエステル結合基を加水分解させて片末
端基をカルボキシル基とすることにより製造することが
できる。この脱ハロゲン化反応において、カルボキシル
基はイミノ基と親和してω−ハロアルキル基のイミノ基
への攻撃を阻害する。すなわち、カルボキシル基の存在
は脱ハロゲン化反応を阻害するため、カルボキシル基を
エステル化するなどの方法によりマスキングすることに
よって窒素・炭素結合反応が進行することを見い出した
。本発明の含フッ素化合物はこの発見によって製造が可
能となった。
一般式［ＶＩＩＩ］で表わされる含フッ素化合物は無水
トリメリット酸クロライドとトリエチルアミンやピリジ
ン等の塩基との混合溶液（溶媒としては、塩基自体が無
水ベンゼンや無水エーテル等の非プロトン性無水溶媒が
適している。）にフロロアルキルエーテル基付アルコー
ルを氷冷下に無水トリメリット酸クロライドと等モルに
なるように徐々に添加し、副生する塩酸を塩基で捕獲，
除去して得た無水トリメリット酸フロロアルキルエーテ
ルエステルに脂肪族炭化水素基付アルコールの等モルと
無水ベンゼンや無水ｎ−ヘプタン等の非プロトン性無水
溶媒を加え、７０〜１４０℃で加熱還流させて酸無水物
反応基に脂肪族炭化水素基付アルコールをエステル付加
反応させることにより製造することができる。
トリメリット酸クロライドとトリエチルアミンやピリジ
ン等の塩基との混合溶液（溶媒としては、塩基自体が無
水ベンゼンや無水エーテル等の非プロトン性無水溶媒が
適している。）にフロロアルキルエーテル基付アルコー
ルを氷冷下に無水トリメリット酸クロライドと等モルに
なるように徐々に添加し、副生する塩酸を塩基で捕獲，
除去して得た無水トリメリット酸フロロアルキルエーテ
ルエステルに脂肪族炭化水素基付アルコールの等モルと
無水ベンゼンや無水ｎ−ヘプタン等の非プロトン性無水
溶媒を加え、７０〜１４０℃で加熱還流させて酸無水物
反応基に脂肪族炭化水素基付アルコールをエステル付加
反応させることにより製造することができる。
無水トリメリット酸クロライドへのエステル化反応は酸
クロライド反応基への第１段反応の後、酸無水物反応基
へ第２段反応を起こさせることにより同一分子内に異な
るアルコールをエステル結合で導入することができ、さ
らに酸無水物反応基の一方のカルボニル基はカルボキシ
ル末端基となる。すなわち、第２段反応の際、前段でエ
ステル結合したアルコールは加水分解反応やエステル交
換反応を起こさないことを見い出した。本発明の含フッ
素化合物はこの発見によって製造が可能となった。
クロライド反応基への第１段反応の後、酸無水物反応基
へ第２段反応を起こさせることにより同一分子内に異な
るアルコールをエステル結合で導入することができ、さ
らに酸無水物反応基の一方のカルボニル基はカルボキシ
ル末端基となる。すなわち、第２段反応の際、前段でエ
ステル結合したアルコールは加水分解反応やエステル交
換反応を起こさないことを見い出した。本発明の含フッ
素化合物はこの発見によって製造が可能となった。
一般式［ＩＸ］で表わされる含フッ素化合物は脂肪族ア
ルキル基付無水チオリンゴ酸とフロロアルキルエーテル
基付アルコールとの等モル混合物をオートクレーブ中で
３ｋｇ／ｃｍ２以上の加圧下で、１００〜１５０℃に加
熱して付加反応を行なわせることにより収率良く製造す
ることができる。なお、この付加反応に関しては従来公
知の常圧法では収率が著しく低いため、本発明において
は新たに加圧下で反応を行なう方法を見い出すことによ
り高収率を得ることができた。この場合、圧力としては
少なくとも３ｋｇ／ｃｍ２は必要である。
ルキル基付無水チオリンゴ酸とフロロアルキルエーテル
基付アルコールとの等モル混合物をオートクレーブ中で
３ｋｇ／ｃｍ２以上の加圧下で、１００〜１５０℃に加
熱して付加反応を行なわせることにより収率良く製造す
ることができる。なお、この付加反応に関しては従来公
知の常圧法では収率が著しく低いため、本発明において
は新たに加圧下で反応を行なう方法を見い出すことによ
り高収率を得ることができた。この場合、圧力としては
少なくとも３ｋｇ／ｃｍ２は必要である。
一般式［Ｘ］で表わされる含フッ素化合物はα−メルカ
プト脂肪族アルキルカルボン酸とフロロアルキルエーテ
ル基付アクリレートまたは同メタクリレートとの等モル
混合溶液（溶媒としてはエタノールやメチルエチルケト
ン等のプロトン性溶媒が適している。）に酢酸ナトリウ
ムやトリエチルアミンやピリジン等の塩基触媒とハイド
ロキノン等の重合禁止剤を添加し、加熱還流させてメル
カプト基にアクリルまたはメタクリルの炭素２重結合基
を付加反応させることにより製造することができる。脂
肪族アルキルチオールの脂肪族アルキルオレフィンへの
付加反応については従来公知［たとえば、文献として有
機硫黄化学−合成反応編３３頁（発行所（株）化学同人
１９８２）がある。］であるが、チオールとしてα−メ
チルカプト脂肪族アルキルカルボン酸を用いた場合にも
カルボキシル基が前記付加反応を阻害することなく、進
行することを見い出した。本発明の含フッ素化合物はこ
の発見によって製造が可能となった。
プト脂肪族アルキルカルボン酸とフロロアルキルエーテ
ル基付アクリレートまたは同メタクリレートとの等モル
混合溶液（溶媒としてはエタノールやメチルエチルケト
ン等のプロトン性溶媒が適している。）に酢酸ナトリウ
ムやトリエチルアミンやピリジン等の塩基触媒とハイド
ロキノン等の重合禁止剤を添加し、加熱還流させてメル
カプト基にアクリルまたはメタクリルの炭素２重結合基
を付加反応させることにより製造することができる。脂
肪族アルキルチオールの脂肪族アルキルオレフィンへの
付加反応については従来公知［たとえば、文献として有
機硫黄化学−合成反応編３３頁（発行所（株）化学同人
１９８２）がある。］であるが、チオールとしてα−メ
チルカプト脂肪族アルキルカルボン酸を用いた場合にも
カルボキシル基が前記付加反応を阻害することなく、進
行することを見い出した。本発明の含フッ素化合物はこ
の発見によって製造が可能となった。
本発明の含フッ素化合物の製造に用いるフロロアルキル
エーテル原料としては、たとえば下記に示すようなもの
がある。
エーテル原料としては、たとえば下記に示すようなもの
がある。
フロロアルキルエーテル基付アルコールとしては、
（ただし、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪
族アルキル基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アルキレン基を
示し、ｐは１〜１５の整数を示し、ｑは１〜４５の整数
を示し、ｒは１以上の整数を示す。） 等がある。
族アルキル基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アルキレン基を
示し、ｐは１〜１５の整数を示し、ｑは１〜４５の整数
を示し、ｒは１以上の整数を示す。） 等がある。
フロロアルキルエーテル基付カルボン酸ハライドとして
は、 （ただし、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪
族アルキル基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アルキレン基を
示し、Ｘはフッ素原子または塩素原子を示し、ｐは１〜
１５の整数を示し、ｑは１〜４５の整数を示す。） 等がある。
は、 （ただし、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪
族アルキル基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アルキレン基を
示し、Ｘはフッ素原子または塩素原子を示し、ｐは１〜
１５の整数を示し、ｑは１〜４５の整数を示す。） 等がある。
フロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミンとして
は、 （ただし、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは脂肪族
アルケニル末端基を示し、ｐは１〜１５の整数を示し、
ｑは１〜４５の整数を示す。）等がある。
は、 （ただし、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは脂肪族
アルケニル末端基を示し、ｐは１〜１５の整数を示し、
ｑは１〜４５の整数を示す。）等がある。
フロロアルキルエーテル基付アクリレートとしては、
（ただし、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪
族アルキル基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アルキレン基を
示し、ｐは１〜１５の整数を示し、ｑは１〜４５の整数
を示し、ｒは１以上の整数を示す。） 等がある。
族アルキル基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アルキレン基を
示し、ｐは１〜１５の整数を示し、ｑは１〜４５の整数
を示し、ｒは１以上の整数を示す。） 等がある。
フロロアルキルエーテル基付メタクリレートとしては、
（ただし、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２の脂肪
族アルキル基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アルキレン基を
示し、ｐは１〜１５の整数を示し、ｑは１〜４５の整数
を示し、ｒは１以上の整数を示す。） 等がある。
族アルキル基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アルキレン基を
示し、ｐは１〜１５の整数を示し、ｑは１〜４５の整数
を示し、ｒは１以上の整数を示す。） 等がある。
本発明の潤滑剤組成物としては一般式［Ｉ］で表わされ
る含フッ素化合物単独あるいはこれらと他の潤滑剤との
混合物が適しており、前記他の潤滑剤としてはフロロカ
ーボン系潤滑剤の使用が好ましい。とりわけ、特開昭６
１−１０７５２７号公報，特開昭６１−１０７５２８号
公報，特開昭６１−１０７５２９号公報，特開昭６２−
９２２２５号公報，特開昭６２−９２２２６号公報，特
開昭６２−９２２２７号公報等に記載されているものが
好適である。さらにその他公知の潤滑剤，防錆剤等を混
合使用することもできる。
る含フッ素化合物単独あるいはこれらと他の潤滑剤との
混合物が適しており、前記他の潤滑剤としてはフロロカ
ーボン系潤滑剤の使用が好ましい。とりわけ、特開昭６
１−１０７５２７号公報，特開昭６１−１０７５２８号
公報，特開昭６１−１０７５２９号公報，特開昭６２−
９２２２５号公報，特開昭６２−９２２２６号公報，特
開昭６２−９２２２７号公報等に記載されているものが
好適である。さらにその他公知の潤滑剤，防錆剤等を混
合使用することもできる。
一般式［Ｉ］で表わされる含フッ素化合物は潤滑剤組成
物中に２０％以上、好ましくは３０％以上含有させるこ
とが必要で、２０％未満であると本発明の効果が得られ
難い。
物中に２０％以上、好ましくは３０％以上含有させるこ
とが必要で、２０％未満であると本発明の効果が得られ
難い。
つぎに、一般式［Ｉ］で表わされる含フッ素化合物を含
有する潤滑剤層を形成した強磁性金属薄膜型磁気記録媒
体の例について説明する。
有する潤滑剤層を形成した強磁性金属薄膜型磁気記録媒
体の例について説明する。
強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の磁性層上には前記潤滑
剤組成物が直接あるいは保護層を介して通常の湿式塗布
法あるいは真空蒸着等の乾式塗布法により形成される。
剤組成物が直接あるいは保護層を介して通常の湿式塗布
法あるいは真空蒸着等の乾式塗布法により形成される。
その付着量としては表面１ｍ２当り０．０５〜１００ｍ
ｇ、好ましくは０．１〜５０ｍｇとなるように薄層状に
存在させる。
ｇ、好ましくは０．１〜５０ｍｇとなるように薄層状に
存在させる。
強磁性金属薄膜としてはＣｏ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｃｒ
，Ｃｏ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ，
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｔａ等あるいはこれらの
部分酸化されたものが適用でき、これらの薄膜は真空蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メ
ッキ法等により形成される。また、必要に応じてＣｒ，
Ｔｉ等の下地層を設けることも可能であり、下地層を含
めた強磁性金属薄膜の厚みとしては５００〜５，０００
Åか適当である。強磁性金属薄膜の表面には必要に応じ
てＣｒ，Ｗ，ＮｉＰ等の金属系保護層、ＳｉＯ，ＳｉＣ
、カーボン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボ
ン等の無機系保護層、フッ素樹脂、シリコン樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリアミド樹脂、プラズマ重合生成物、放射
線重合生成物等の有機系保護層あるいは複合系保護層等
を形成させることができる。
，Ｃｏ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ，
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｔａ等あるいはこれらの
部分酸化されたものが適用でき、これらの薄膜は真空蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メ
ッキ法等により形成される。また、必要に応じてＣｒ，
Ｔｉ等の下地層を設けることも可能であり、下地層を含
めた強磁性金属薄膜の厚みとしては５００〜５，０００
Åか適当である。強磁性金属薄膜の表面には必要に応じ
てＣｒ，Ｗ，ＮｉＰ等の金属系保護層、ＳｉＯ，ＳｉＣ
、カーボン、グラファイト、ダイヤモンドライクカーボ
ン等の無機系保護層、フッ素樹脂、シリコン樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリアミド樹脂、プラズマ重合生成物、放射
線重合生成物等の有機系保護層あるいは複合系保護層等
を形成させることができる。
非磁性支持体としてはガラス、セラミックス等の酸化物
、Ａ■合金、Ｔｉ合金等の金属あるいはポリエステル、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポ
リアクリレート等のプラスチックス等を主体として用い
ることができる。さらに、その表面には必要に応じてＣ
ｏ−Ｐメッキ、ポリイミドコーティング膜等を形成させ
たものや微小粒状、山状、波状等の突起、テクスチャ加
工による突起等を設けたものが使用できる。それらの支
持体の表面粗さとしては最大高さＲｍａｘで５０〜６０
０Åが適当である。また、その形状としてはテープ、フ
ィルム、シート、ディスク、カード、ドラム等目的に応
じて選定することができる。
、Ａ■合金、Ｔｉ合金等の金属あるいはポリエステル、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポ
リアクリレート等のプラスチックス等を主体として用い
ることができる。さらに、その表面には必要に応じてＣ
ｏ−Ｐメッキ、ポリイミドコーティング膜等を形成させ
たものや微小粒状、山状、波状等の突起、テクスチャ加
工による突起等を設けたものが使用できる。それらの支
持体の表面粗さとしては最大高さＲｍａｘで５０〜６０
０Åが適当である。また、その形状としてはテープ、フ
ィルム、シート、ディスク、カード、ドラム等目的に応
じて選定することができる。
作用
本発明の含フッ素化合物は同一分子内にフロロアルキ
ルエーテル末端基と脂肪族炭化水素末端基と特定の極性
末端基とを有しており、その分子量が数１００〜３，０
００程度であるために極性末端基の効果が充分発揮され
、金属薄膜表面あるいは保護膜表面と磁気ヘッド表面に
この極性末端基が強く付着する。また、フロロアルキル
エーテル末端基は表面に露出してその表面の低エネルギ
ー化に寄与し、非粘着面を形成する。さらに、脂肪族炭
化水素末端基は柔軟な炭素−炭素結合鎖であり、かつ隣
接する他の分子の炭化水素鎖との適度な分子間相互作用
で配向するために良好な潤滑性を示す。
ルエーテル末端基と脂肪族炭化水素末端基と特定の極性
末端基とを有しており、その分子量が数１００〜３，０
００程度であるために極性末端基の効果が充分発揮され
、金属薄膜表面あるいは保護膜表面と磁気ヘッド表面に
この極性末端基が強く付着する。また、フロロアルキル
エーテル末端基は表面に露出してその表面の低エネルギ
ー化に寄与し、非粘着面を形成する。さらに、脂肪族炭
化水素末端基は柔軟な炭素−炭素結合鎖であり、かつ隣
接する他の分子の炭化水素鎖との適度な分子間相互作用
で配向するために良好な潤滑性を示す。
したがって、これらの各末端基の相乗効果により過酷な
低湿度環境を含む全環境において良好な潤滑性能を発現
し、金属薄膜型磁気記録媒体の耐久信頼性に関する問題
は解決されることになる。
低湿度環境を含む全環境において良好な潤滑性能を発現
し、金属薄膜型磁気記録媒体の耐久信頼性に関する問題
は解決されることになる。
実施例
以下、実施例１〜３９においては含フッ素化合物の例
とその製造方法について、実施例４０、７２においては
それらの含フッ素化合物を含有する潤滑剤組成物を用い
た磁気記録媒体の例について具体的に述べる。
とその製造方法について、実施例４０、７２においては
それらの含フッ素化合物を含有する潤滑剤組成物を用い
た磁気記録媒体の例について具体的に述べる。
式Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ
２ＯＨで表わされるフロロアルキルエーテル基付アルコ
ール６４．８ｇ（０．１０モル）とオクタデシル無水コ
ハク酸３５．３ｇ（０．１０モル）を攪拌翼を備えた１
■のガラス製耐圧オートクレーブに採取し、系内を窒素
置換した後、１２０℃で窒素圧３ｋｇ／ｃｍ２の下で５
時間攪拌しながら反応を行なった。この後、反応混合物
をイソプロピルエーテルに溶解し、−１０℃に冷却して
未反応のオクタデシル無水コハク酸を除去した。さらに
、反応混合物を油拡散ポンプを有する真空蒸留器に移し
、１００℃、約１×１０−３ｍｍＨｇの条件下で未反応
のフロロアルキルエーテル基付アルコールを除去して融
点８６℃の白色固体を収率９２％で得た。この白色固体
は赤外分光分析（ＩＲ）、ＧＰＣおよび有機質量分析（
ＦＤ−ＭＳ）により、出発原料および副生成物を含まな
い式Ａおよび式Ａ′で表わされる含フッ素化合物の混合
物であることが判明した。
２ＯＨで表わされるフロロアルキルエーテル基付アルコ
ール６４．８ｇ（０．１０モル）とオクタデシル無水コ
ハク酸３５．３ｇ（０．１０モル）を攪拌翼を備えた１
■のガラス製耐圧オートクレーブに採取し、系内を窒素
置換した後、１２０℃で窒素圧３ｋｇ／ｃｍ２の下で５
時間攪拌しながら反応を行なった。この後、反応混合物
をイソプロピルエーテルに溶解し、−１０℃に冷却して
未反応のオクタデシル無水コハク酸を除去した。さらに
、反応混合物を油拡散ポンプを有する真空蒸留器に移し
、１００℃、約１×１０−３ｍｍＨｇの条件下で未反応
のフロロアルキルエーテル基付アルコールを除去して融
点８６℃の白色固体を収率９２％で得た。この白色固体
は赤外分光分析（ＩＲ）、ＧＰＣおよび有機質量分析（
ＦＤ−ＭＳ）により、出発原料および副生成物を含まな
い式Ａおよび式Ａ′で表わされる含フッ素化合物の混合
物であることが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７０５ｃｍ−１、エステル１，７
７５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、酸無水物１，７５５ｃ
ｍ−１の吸収ピーク消滅ＧＰＣ；フロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料およびオクタデシル無水コハク 酸原料検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，０００に主ピーク有実施例２ 分子量７００、ｐ，ｑは１〜９の整数）で表わされるフ
ロロアルキルエーテル基付アルコール７０．０ｇ（０．
１０モル）とテトラデシル無水コハク酸２９．７ｇ（０
．１０モル）を攪拌翼を備えた１ｌのガラス製耐圧オー
トクレーブに採取し、系内を窒素置換した後、１００℃
で窒素圧５ｋｇ／ｃｍ２の下で６時間撹拌しながら反応
を行なった。この後、反応混合物をイソプロピルエーテ
ルに溶解し、−１０℃に冷却して未反応のテトラデシル
無水コハク酸を除去した。さらに、反応混合物を油拡散
ポンプを有する真空蒸留器に移し、１００℃，約１×１
０−３ｍｍＨｇの条件下で未反応のフロロアルキルエー
テル基付アルコールを除去して融点約６０℃の白色固体
を収率９６％で得た。この白色固体はＩＲ，ＧＰＣおよ
びＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まな
い式Ｂおよび式Ｂ′で表わされる含フッ素化合物の混合
物であることが判明した。
７５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、酸無水物１，７５５ｃ
ｍ−１の吸収ピーク消滅ＧＰＣ；フロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料およびオクタデシル無水コハク 酸原料検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，０００に主ピーク有実施例２ 分子量７００、ｐ，ｑは１〜９の整数）で表わされるフ
ロロアルキルエーテル基付アルコール７０．０ｇ（０．
１０モル）とテトラデシル無水コハク酸２９．７ｇ（０
．１０モル）を攪拌翼を備えた１ｌのガラス製耐圧オー
トクレーブに採取し、系内を窒素置換した後、１００℃
で窒素圧５ｋｇ／ｃｍ２の下で６時間撹拌しながら反応
を行なった。この後、反応混合物をイソプロピルエーテ
ルに溶解し、−１０℃に冷却して未反応のテトラデシル
無水コハク酸を除去した。さらに、反応混合物を油拡散
ポンプを有する真空蒸留器に移し、１００℃，約１×１
０−３ｍｍＨｇの条件下で未反応のフロロアルキルエー
テル基付アルコールを除去して融点約６０℃の白色固体
を収率９６％で得た。この白色固体はＩＲ，ＧＰＣおよ
びＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まな
い式Ｂおよび式Ｂ′で表わされる含フッ素化合物の混合
物であることが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７０５ｃｍ−１、エステル１，７
５５ｃｍ−１の収率ピーク出現、酸無水物１，７７５ｃ
ｍ−１の吸収ピーク消滅ＧＰＣ；フロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料およびテトラデシル無水コハク 酸原料検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，０００に主ピーク有式Ｆ■Ｃ３
Ｆ６Ｏ■ｐＣ２Ｆ４ＣＨ２ＯＨ（平均分子量２，４８０
、ｐは１〜１５の整数）で表わされるフロロアルキルエ
ーテル基付アルコール２８３ｇ（０．１０モル）とオク
タデセニル無水コハク酸３５．０ｇ（０．１０モル）を
攪拌翼を備えた１ｌのガラス製耐圧オートクレーブに採
取し、系内を窒素置換した後、１４０℃で窒素圧１０ｋ
ｇ／ｃｍ２の下で８時間撹拌しながら反応を行なった。
５５ｃｍ−１の収率ピーク出現、酸無水物１，７７５ｃ
ｍ−１の吸収ピーク消滅ＧＰＣ；フロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料およびテトラデシル無水コハク 酸原料検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，０００に主ピーク有式Ｆ■Ｃ３
Ｆ６Ｏ■ｐＣ２Ｆ４ＣＨ２ＯＨ（平均分子量２，４８０
、ｐは１〜１５の整数）で表わされるフロロアルキルエ
ーテル基付アルコール２８３ｇ（０．１０モル）とオク
タデセニル無水コハク酸３５．０ｇ（０．１０モル）を
攪拌翼を備えた１ｌのガラス製耐圧オートクレーブに採
取し、系内を窒素置換した後、１４０℃で窒素圧１０ｋ
ｇ／ｃｍ２の下で８時間撹拌しながら反応を行なった。
この後、反応混合物をイソプロピルエーテルに溶解し、
−１０℃に冷却して未反応のオクタデセニル無水コハク
酸を除去した。さらに、反応混合物を油拡散ポンプを有
する真空蒸留器に移し、１４０℃，約１×１０−４ｍｍ
Ｈｇの条件下で未反応のフロロアルキルエーテル基付ア
ルコールを除去してワックス状半固体を収率８２％で得
た。このワックス状半固体はＩＲ，ＧＰＣおよびＦＤ−
ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まない式Ｃお
よび式Ｃ′で表わされる含フッ素化合物の混合物である
ことが判明した。
−１０℃に冷却して未反応のオクタデセニル無水コハク
酸を除去した。さらに、反応混合物を油拡散ポンプを有
する真空蒸留器に移し、１４０℃，約１×１０−４ｍｍ
Ｈｇの条件下で未反応のフロロアルキルエーテル基付ア
ルコールを除去してワックス状半固体を収率８２％で得
た。このワックス状半固体はＩＲ，ＧＰＣおよびＦＤ−
ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まない式Ｃお
よび式Ｃ′で表わされる含フッ素化合物の混合物である
ことが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７０５ｃｍ−１、エステル１，７
５５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、酸無水物１，７７５ｃ
ｍ−１の吸収ピーク消滅ＧＰＣ；クロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料およびオクタデセニル無水コハ ク酸原料検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ２，８３０に主ピーク有均分子量１
，２８０、ｐ，ｑは１〜２０の整数）で表わされるフロ
ロアルキルエーテル基付アルコール１２８ｇ（０．１０
モル）とデシル無水コハク酸２４．０ｇ（０．１０モル
）を実施例１と同様の条件で製造して無色透明液体を収
率８７％で得た。この無色透明液体はＩＲ，ＧＰＣおよ
びＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まな
い式ＤおよびＤ′で表わされる含フッ素化合物の混合物
であることが判明した。
５５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、酸無水物１，７７５ｃ
ｍ−１の吸収ピーク消滅ＧＰＣ；クロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料およびオクタデセニル無水コハ ク酸原料検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ２，８３０に主ピーク有均分子量１
，２８０、ｐ，ｑは１〜２０の整数）で表わされるフロ
ロアルキルエーテル基付アルコール１２８ｇ（０．１０
モル）とデシル無水コハク酸２４．０ｇ（０．１０モル
）を実施例１と同様の条件で製造して無色透明液体を収
率８７％で得た。この無色透明液体はＩＲ，ＧＰＣおよ
びＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まな
い式ＤおよびＤ′で表わされる含フッ素化合物の混合物
であることが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７０５ｃｍ−１、エステル１，７
７５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、酸無水物１，７５５ｃ
ｍ−１の吸収ピーク消滅ＧＰＣ；フロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料およびデシル無水コハク酸原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，５２０に主ピーク有実施例５〜
８ 実施例１と同様の条件で下記に示す含フッ素化合物を製
造した。
７５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、酸無水物１，７５５ｃ
ｍ−１の吸収ピーク消滅ＧＰＣ；フロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料およびデシル無水コハク酸原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，５２０に主ピーク有実施例５〜
８ 実施例１と同様の条件で下記に示す含フッ素化合物を製
造した。
実施例５
実施例６
および
実施例７
および
実施例８
および
実施例９
式Ｆ■ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ■３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＯ
Ｆで表わされるフロロアルキルエーテル基付カルボン酸
フロライド６６．４ｇ（０．１０モル）と無水ジエチル
エーテル３００ｍｌを攪拌翼と滴下ロートを備えた１ｌ
のフラスコに採取し、５℃以下に冷却後、α−ヒドロキ
シパルミチン酸２７．２ｇ（０．１０モル）を溶解した
無水ピリジン１００ｍｌを撹拌下に約２時間で滴下して
反応を行なった。反応終了後、この溶液を５％塩酸で洗
浄し、つづけて蒸溜水で水層のｐＨが７になるまで繰り
返し洗浄した後、この溶液を無水芒硝で乾燥させた。つ
ぎに、ジエチルエーテルを−１０℃冷却して未反応のα
−ヒドロキシパルミチン酸を除去した。さらに、反応混
合物を油拡散ポンプを有する真空蒸留器に移し、１００
℃，約１×１０−３ｍｍＨｇの条件下で未反応のフロロ
アルキルエーテル原料から加水分解生成したフロロアル
キルエーテル基付カルボン酸を除去して融点７６℃の白
色固体を得た。この白色固体はＩＲ，ＧＰＣおよびＦＤ
−ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まない式Ｅ
で表わされる含フッ素化合物であることか判明した。
Ｆで表わされるフロロアルキルエーテル基付カルボン酸
フロライド６６．４ｇ（０．１０モル）と無水ジエチル
エーテル３００ｍｌを攪拌翼と滴下ロートを備えた１ｌ
のフラスコに採取し、５℃以下に冷却後、α−ヒドロキ
シパルミチン酸２７．２ｇ（０．１０モル）を溶解した
無水ピリジン１００ｍｌを撹拌下に約２時間で滴下して
反応を行なった。反応終了後、この溶液を５％塩酸で洗
浄し、つづけて蒸溜水で水層のｐＨが７になるまで繰り
返し洗浄した後、この溶液を無水芒硝で乾燥させた。つ
ぎに、ジエチルエーテルを−１０℃冷却して未反応のα
−ヒドロキシパルミチン酸を除去した。さらに、反応混
合物を油拡散ポンプを有する真空蒸留器に移し、１００
℃，約１×１０−３ｍｍＨｇの条件下で未反応のフロロ
アルキルエーテル原料から加水分解生成したフロロアル
キルエーテル基付カルボン酸を除去して融点７６℃の白
色固体を得た。この白色固体はＩＲ，ＧＰＣおよびＦＤ
−ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まない式Ｅ
で表わされる含フッ素化合物であることか判明した。
ＩＲ；エステル１，７５５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、
水酸基３，３３０ｃｍ−１の吸収ピーク消滅 ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付カルボン酸および
α−ヒドロキシパルミチン酸 原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ９１７に主ピーク有実施例１０ 式ＣＦ３Ｏ■ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ■ｐ■ＣＦ２Ｏ■
ｑＣＦ２ＣＯＣ■（平均分子量７５０、ｐ、ｑは１〜９
の整数）で表わされるフロロアルキルエーテル基付カル
ボン酸クロライド７５．０ｇ（０．１０モル）と無水ジ
エチルエーテル３００ｍ■を攪拌翼と滴下ロートを備え
た１■のフラスコに採取し、５℃以下に冷却後、１２−
ヒドロキシステアリン酸３０．１ｇ（０．１０モル）を
溶解した無水ピリジン１００ｍ■を攪拌下に約２時間で
滴下して反応を行なった。反応終了後、実施例９と同様
な精製処理を行なって融点６２℃の白色固体を得た。こ
の白色固体はＩＲ、ＧＰＣおよびＦＤ−ＭＳにより、出
発原料および副生成物を含まない式Ｆで表わされる含フ
ッ素化合物であることが判明した。
水酸基３，３３０ｃｍ−１の吸収ピーク消滅 ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付カルボン酸および
α−ヒドロキシパルミチン酸 原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ９１７に主ピーク有実施例１０ 式ＣＦ３Ｏ■ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ■ｐ■ＣＦ２Ｏ■
ｑＣＦ２ＣＯＣ■（平均分子量７５０、ｐ、ｑは１〜９
の整数）で表わされるフロロアルキルエーテル基付カル
ボン酸クロライド７５．０ｇ（０．１０モル）と無水ジ
エチルエーテル３００ｍ■を攪拌翼と滴下ロートを備え
た１■のフラスコに採取し、５℃以下に冷却後、１２−
ヒドロキシステアリン酸３０．１ｇ（０．１０モル）を
溶解した無水ピリジン１００ｍ■を攪拌下に約２時間で
滴下して反応を行なった。反応終了後、実施例９と同様
な精製処理を行なって融点６２℃の白色固体を得た。こ
の白色固体はＩＲ、ＧＰＣおよびＦＤ−ＭＳにより、出
発原料および副生成物を含まない式Ｆで表わされる含フ
ッ素化合物であることが判明した。
ＩＲ；エステル１．７５５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、
水酸基３，３３０ｃｍ−１の吸収ピーク消滅 ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付カルボン酸および
１２−ヒドロキシステアリン 酸原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，０５０に主ピーク有実施例１１ ９−オキシ−１２−オクタデセン酸３０．０ｇ（０．１
０モル）と無水ピリジン３００ｍ■を攪拌翼と滴下ロー
トを備えた１■のフラスコに採取し、５℃以下に冷却後
、式Ｆ■Ｃ３Ｆ６Ｏ■ｐＣ２Ｆ４ＣＯＣ■（平均分子量
２，５１０、ｐは１〜１５の整数）で表わされるフロロ
アルキルエーテル基付カルボン酸クロライド２５１ｇ（
０．１０モル）を溶解した無水ジエチルエーテル３００
ｍ■を攪拌下に約３時間で滴下して反応を行なった。反
応終了後、実施例９と同様な精製処理を行なってワック
ス状半固体を得た。このワックス状半固体はＩＲ、ＧＰ
ＣおよびＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を
含まない式Ｇで表わされる含フッ素化合物であることが
判明した。
水酸基３，３３０ｃｍ−１の吸収ピーク消滅 ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付カルボン酸および
１２−ヒドロキシステアリン 酸原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，０５０に主ピーク有実施例１１ ９−オキシ−１２−オクタデセン酸３０．０ｇ（０．１
０モル）と無水ピリジン３００ｍ■を攪拌翼と滴下ロー
トを備えた１■のフラスコに採取し、５℃以下に冷却後
、式Ｆ■Ｃ３Ｆ６Ｏ■ｐＣ２Ｆ４ＣＯＣ■（平均分子量
２，５１０、ｐは１〜１５の整数）で表わされるフロロ
アルキルエーテル基付カルボン酸クロライド２５１ｇ（
０．１０モル）を溶解した無水ジエチルエーテル３００
ｍ■を攪拌下に約３時間で滴下して反応を行なった。反
応終了後、実施例９と同様な精製処理を行なってワック
ス状半固体を得た。このワックス状半固体はＩＲ、ＧＰ
ＣおよびＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を
含まない式Ｇで表わされる含フッ素化合物であることが
判明した。
ＩＲ；エステル１，７５５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、
水酸基３，３３０ｃｍ−１の吸収ピーク消滅 ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付カルボン酸および
９−オキシ−１２−オクタデ セン酸原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ２，７６０に主ピーク有実施例１２ 式ＣＣ■Ｆ２Ｏ■ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ■ｐ■ＣＦ２
Ｏ■ｑＣＦ２ＣＯＣ■（平均分子量１，３１０、ｐ、ｑ
は１〜２０の整数）で表わされるフロロアルキルエーテ
ル基付カルボン酸クロライドとβ−ヒドロキシミリスチ
ン酸を用いて実施例９と同様の条件で製造して無色透明
液体を得た。この無色透明液体はＩＲ、ＧＰＣおよびＦ
Ｄ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まない式
Ｈで表わされる含フッ素化合物であることが判明した。
水酸基３，３３０ｃｍ−１の吸収ピーク消滅 ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付カルボン酸および
９−オキシ−１２−オクタデ セン酸原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ２，７６０に主ピーク有実施例１２ 式ＣＣ■Ｆ２Ｏ■ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ■ｐ■ＣＦ２
Ｏ■ｑＣＦ２ＣＯＣ■（平均分子量１，３１０、ｐ、ｑ
は１〜２０の整数）で表わされるフロロアルキルエーテ
ル基付カルボン酸クロライドとβ−ヒドロキシミリスチ
ン酸を用いて実施例９と同様の条件で製造して無色透明
液体を得た。この無色透明液体はＩＲ、ＧＰＣおよびＦ
Ｄ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まない式
Ｈで表わされる含フッ素化合物であることが判明した。
ＩＲ；エステル１，７５５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、
水酸基３，３３０ｃｍ−１の吸収ピーク消滅 ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付カルボン酸および
β−ヒドロキシミリスチン酸 原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，５５０に主ピーク有実施例１３
〜１５ 実施例９と同様の条件で下記に示す含フッ素化合物を製
造した。
水酸基３，３３０ｃｍ−１の吸収ピーク消滅 ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付カルボン酸および
β−ヒドロキシミリスチン酸 原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，５５０に主ピーク有実施例１３
〜１５ 実施例９と同様の条件で下記に示す含フッ素化合物を製
造した。
実施例１３
実施例１４
実施例１５
実施例１６
式Ｆ■ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ■３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ
２ＮＨＣ１８Ｈ３７で表わされるフロロアルキルエーテ
ル基付第２アルキルアミン９０．０ｇ（０．１０モル）
と３−ヨードプロピオン酸メチル２１．４ｇ（０．１０
モル）とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）３００ｍｌを攪
拌翼と滴下ロートを備えた１ｌのフラスコに採取し、昇
温と攪拌を行ないながら炭酸ソーダ１５．９ｇを溶解し
た蒸留水１００ｍｌを約１時間で滴下した後、さらに８
時間還流と撹拌を続けて反応を完結させた。反応終了後
、反応溶液からＭＥＫを留去し、反応混合物をヘキサン
溶液とした。この溶液を蒸留水で水層のｐＨが７になる
まで繰り返し洗浄した後、この溶液を無水芒硝で乾燥さ
せた。
２ＮＨＣ１８Ｈ３７で表わされるフロロアルキルエーテ
ル基付第２アルキルアミン９０．０ｇ（０．１０モル）
と３−ヨードプロピオン酸メチル２１．４ｇ（０．１０
モル）とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）３００ｍｌを攪
拌翼と滴下ロートを備えた１ｌのフラスコに採取し、昇
温と攪拌を行ないながら炭酸ソーダ１５．９ｇを溶解し
た蒸留水１００ｍｌを約１時間で滴下した後、さらに８
時間還流と撹拌を続けて反応を完結させた。反応終了後
、反応溶液からＭＥＫを留去し、反応混合物をヘキサン
溶液とした。この溶液を蒸留水で水層のｐＨが７になる
まで繰り返し洗浄した後、この溶液を無水芒硝で乾燥さ
せた。
つぎに、ヘキサンを留去し、反応混合物をイソプロピル
エーテル（ＩＰＥ）溶液とした後、５℃に冷却して未反
応のフロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミン原
料を除去した。つぎに、ＩＰＥを留去し、反応混合物を
メタノール溶液とした後、０℃に冷却して未反応の３−
ヨードプロピオン酸メチル原料を除去した。このように
して得られた式Ｊで表わされる含フッ素化合物のメチル
エステル９８．７ｇ（０．１０モル）と苛性ソーダ１３
．０ｇを溶解した９０％エタノール１５０ｍｌを攪拌翼
と滴下ロートを備えた１ｌのフラスコに採取し、３時間
還流と撹拌を続けた後、６Ｎ塩酸を反応溶液が酸性にな
るまで滴下して沈澱物を生成させた。この沈澱物をクロ
ロホルム溶液とし、蒸留水で水層のｐＨが７になるまで
繰り返し洗浄した後、この溶液を無水芒硝で乾燥させた
。つぎに、クロロホルムを留去し、反応生成物をヘキサ
ン溶液とした後、室温で再結晶させて融点１１０℃の白
色固体を得た。この白色固体は赤外分光分析（ＩＲ），
ＧＰＣおよび有機質量分析（ＦＤ−ＭＳ）により、出発
原料および副生成物を含まない式Ｊで表わされる含フッ
素化合物であることが判明した。
エーテル（ＩＰＥ）溶液とした後、５℃に冷却して未反
応のフロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミン原
料を除去した。つぎに、ＩＰＥを留去し、反応混合物を
メタノール溶液とした後、０℃に冷却して未反応の３−
ヨードプロピオン酸メチル原料を除去した。このように
して得られた式Ｊで表わされる含フッ素化合物のメチル
エステル９８．７ｇ（０．１０モル）と苛性ソーダ１３
．０ｇを溶解した９０％エタノール１５０ｍｌを攪拌翼
と滴下ロートを備えた１ｌのフラスコに採取し、３時間
還流と撹拌を続けた後、６Ｎ塩酸を反応溶液が酸性にな
るまで滴下して沈澱物を生成させた。この沈澱物をクロ
ロホルム溶液とし、蒸留水で水層のｐＨが７になるまで
繰り返し洗浄した後、この溶液を無水芒硝で乾燥させた
。つぎに、クロロホルムを留去し、反応生成物をヘキサ
ン溶液とした後、室温で再結晶させて融点１１０℃の白
色固体を得た。この白色固体は赤外分光分析（ＩＲ），
ＧＰＣおよび有機質量分析（ＦＤ−ＭＳ）により、出発
原料および副生成物を含まない式Ｊで表わされる含フッ
素化合物であることが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７１０ｃｍ−１の吸収ピーク出現
ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミ
ン原料および３−ヨードプロ ピオン酸メチル原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ９７２に主ピーク有実施例１７ （平均分子量８９０、ｐ，ｑは１〜９の整数）で表わさ
れるフロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミン８
９．０ｇ（０．１０モル）とヨード酢酸メチル２０．０
ｇ（０．１０モル）とＭＥＫ３００ｍｌを攪拌翼と滴下
ロートを備えた１ｌのフラスコに採取し、昇温と撹拌を
行ないながら炭酸ソーダ１５．９ｇを溶解した蒸留水１
００ｍｌを約１時間で滴下した後、さらに８時間還流と
撹拌を続けて反応を完結させた。反応終了後、実施例１
６と同様な精製処理を行なって得た式Ｋで表わされる含
フッ素化合物のメチルエステル９６．４ｇ（０．１０モ
ル）と苛性ソーダ１３．０ｇを溶解した９０％エタノー
ル１５０ｍｌを攪拌翼と滴下ロートを備えた１ｌのフラ
スコに採取し、３時間還流と攪拌を続けた後、６Ｎ塩酸
を反応溶液が酸性になるまで滴下して沈澱物を生成させ
た。この沈澱物を実施例１６と同様な精製処理を行なっ
て融点８５℃の白色固体を得た。この白色固体はＩＲ，
ＧＰＣおよびＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成
物を含まない式Ｋで表わされる含フッ素化合物であるこ
とが判明した。
ン原料および３−ヨードプロ ピオン酸メチル原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ９７２に主ピーク有実施例１７ （平均分子量８９０、ｐ，ｑは１〜９の整数）で表わさ
れるフロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミン８
９．０ｇ（０．１０モル）とヨード酢酸メチル２０．０
ｇ（０．１０モル）とＭＥＫ３００ｍｌを攪拌翼と滴下
ロートを備えた１ｌのフラスコに採取し、昇温と撹拌を
行ないながら炭酸ソーダ１５．９ｇを溶解した蒸留水１
００ｍｌを約１時間で滴下した後、さらに８時間還流と
撹拌を続けて反応を完結させた。反応終了後、実施例１
６と同様な精製処理を行なって得た式Ｋで表わされる含
フッ素化合物のメチルエステル９６．４ｇ（０．１０モ
ル）と苛性ソーダ１３．０ｇを溶解した９０％エタノー
ル１５０ｍｌを攪拌翼と滴下ロートを備えた１ｌのフラ
スコに採取し、３時間還流と攪拌を続けた後、６Ｎ塩酸
を反応溶液が酸性になるまで滴下して沈澱物を生成させ
た。この沈澱物を実施例１６と同様な精製処理を行なっ
て融点８５℃の白色固体を得た。この白色固体はＩＲ，
ＧＰＣおよびＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成
物を含まない式Ｋで表わされる含フッ素化合物であるこ
とが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７１０ｃｍ−１の吸収ピーク出現
ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミ
ン原料およびヨード酢酸メチ ル原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ９５０に主ピーク有実施例１８ 式Ｆ■Ｃ３Ｆ６Ｏ■ｐＣ２Ｆ４ＣＨ２ＮＨＣ１８Ｈ３５
（平均分子量２，７３０）ｐは１〜１５の整数）で表わ
されるフロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミン
と１２−ブロモドデカン酸メチルを原料として、実施例
１６と同様の製造方法によってワックス状半固体を得た
。このワックス状半固体はＩＲ，ＧＰＣおよびＦＤ−Ｍ
Ｓにより、出発原料および副生成物を含まない式Ｌで表
わされる含フッ素化合物であることが判明した。
ン原料およびヨード酢酸メチ ル原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ９５０に主ピーク有実施例１８ 式Ｆ■Ｃ３Ｆ６Ｏ■ｐＣ２Ｆ４ＣＨ２ＮＨＣ１８Ｈ３５
（平均分子量２，７３０）ｐは１〜１５の整数）で表わ
されるフロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミン
と１２−ブロモドデカン酸メチルを原料として、実施例
１６と同様の製造方法によってワックス状半固体を得た
。このワックス状半固体はＩＲ，ＧＰＣおよびＦＤ−Ｍ
Ｓにより、出発原料および副生成物を含まない式Ｌで表
わされる含フッ素化合物であることが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７１０ｃｍ−１の吸収ピーク出現
ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミ
ン原料および１２−ブロモド デカン酸メチル原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ２，９３０に主ピーク有実施例１９ （平均分子量１，４２０、ｐ，ｑは１〜２０の整数）で
表わされるフロロアルキルエーテル基付第２アルキルア
ミンと６−ヨードヘキサン酸メチルを原料として、実施
例１６と同様の製造方法によってワックス状半固体を得
た。このワックス状半固体はＩＲ，ＧＰＣおよびＦＤ−
ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まない式Ｍで
表わされる含フッ素化合物であることが判明した。
ン原料および１２−ブロモド デカン酸メチル原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ２，９３０に主ピーク有実施例１９ （平均分子量１，４２０、ｐ，ｑは１〜２０の整数）で
表わされるフロロアルキルエーテル基付第２アルキルア
ミンと６−ヨードヘキサン酸メチルを原料として、実施
例１６と同様の製造方法によってワックス状半固体を得
た。このワックス状半固体はＩＲ，ＧＰＣおよびＦＤ−
ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まない式Ｍで
表わされる含フッ素化合物であることが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７１０ｃｍ−１の吸収ピーク出現
ＧＰＣ；フロロアルキルエーテル基付第２アルキルアミ
ン原料および６−ヨードヘキ サン酸メチル原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，５３０に主ピーク有実施例２０ 式Ｆ■ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ■３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ
２ＯＨで表わされるフロロアルキルエーテル基付アルコ
ール６４．８ｇ（０．１０モル）を溶解した無水ジエチ
ルエーテル３００ｍｌを撹拌下に約３時間で滴下して反
応を行なった。反応終了後、この溶液を５％塩酸で洗浄
し、つづけて蒸留水で水層のｐＨが７になるまで繰り返
し洗浄した後、この溶液を無水芒硝で乾燥させた。つぎ
に、ジエチルエーテルを留去し、反応混合物を油拡散ポ
ンプを有する真空蒸留器に移し、１００℃、約１×１０
−３ｍｍＨｇの条件下で未反応のフロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料を除去して無水トリメリット酸フ
ロロアルキルエーテルエステル７２．０ｇを得た。この
生成物７２．０ｇ（０．０８８モル）とステアリルアル
コール２３．８ｇ（０．８８モル）と無水ベンゼン３０
０ｍｌとを攪拌翼を備えた１ｌのフラスコに採取し、加
熱還流して反応を行なった。反応終了後、反応溶液を室
温で一昼夜放置して反応生成物を再結晶させた。さらに
、この反応生成物をアセトンから再結晶させて融点４２
℃の白色固体を得た。この白色固体はＩＲ，ＧＰＣおよ
びＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まな
い式ＮおよびＮ′で表わされる含フッ素化合物であるこ
とが判明した。
ン原料および６−ヨードヘキ サン酸メチル原料 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，５３０に主ピーク有実施例２０ 式Ｆ■ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ■３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ
２ＯＨで表わされるフロロアルキルエーテル基付アルコ
ール６４．８ｇ（０．１０モル）を溶解した無水ジエチ
ルエーテル３００ｍｌを撹拌下に約３時間で滴下して反
応を行なった。反応終了後、この溶液を５％塩酸で洗浄
し、つづけて蒸留水で水層のｐＨが７になるまで繰り返
し洗浄した後、この溶液を無水芒硝で乾燥させた。つぎ
に、ジエチルエーテルを留去し、反応混合物を油拡散ポ
ンプを有する真空蒸留器に移し、１００℃、約１×１０
−３ｍｍＨｇの条件下で未反応のフロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料を除去して無水トリメリット酸フ
ロロアルキルエーテルエステル７２．０ｇを得た。この
生成物７２．０ｇ（０．０８８モル）とステアリルアル
コール２３．８ｇ（０．８８モル）と無水ベンゼン３０
０ｍｌとを攪拌翼を備えた１ｌのフラスコに採取し、加
熱還流して反応を行なった。反応終了後、反応溶液を室
温で一昼夜放置して反応生成物を再結晶させた。さらに
、この反応生成物をアセトンから再結晶させて融点４２
℃の白色固体を得た。この白色固体はＩＲ，ＧＰＣおよ
びＦＤ−ＭＳにより、出発原料および副生成物を含まな
い式ＮおよびＮ′で表わされる含フッ素化合物であるこ
とが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７０５ｃｍ−１、エステル１，７
５５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、酸無水物１，７７５ｃ
ｍ−１の吸収ピーク消滅ＧＰＣ；フロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料、ステアリルアルコール原料、 無水トリメリット酸クロライド原料お よびその他副生成物 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，０９３に主ピーク有実施例２１
〜３０ 実施例２０と同様の条件で下記に示す含フッ素化合物を
製造した。
５５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、酸無水物１，７７５ｃ
ｍ−１の吸収ピーク消滅ＧＰＣ；フロロアルキルエーテ
ル基付アルコール原料、ステアリルアルコール原料、 無水トリメリット酸クロライド原料お よびその他副生成物 検出されず ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，０９３に主ピーク有実施例２１
〜３０ 実施例２０と同様の条件で下記に示す含フッ素化合物を
製造した。
実施例２１
実施例２２
実施例２３
実施例２４
実施例２５
実施例２６
実施例２７
実施例２８
実施例２９
実施例３０
実施例３１
式ＣＣ■Ｆ２Ｏ■ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ■ｐ■ＣＦ２
Ｏ■ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＨで表わされるフロロアルキルエ
ーテル基付アルコール（平均分子量１，０００、ｐ、ｑ
は１〜７の整数）１００ｇとテトラデシル無水チオリン
ゴ酸３３ｇとを１■のガラス製オートクレーブに採取し
窒素置換後、１４０℃で窒素圧９〜１０ｋｇ／ｃｍ２の
下で２時間反応させることにより、乳白色コロイド状液
状物（２５℃）１３０ｇを得た。ＩＲによりカルボン酸
１，７０５ｃｍ−１およびエステル１，７７５ｃｍ−１
の吸収ピーク出現、酸無水物１，７５５ｃｍ−１の吸収
ピーク消滅を確認、式Ｏおよび式Ｏ′で表わされる含フ
ッ素化合物の混合物であることが判明した。
Ｏ■ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＨで表わされるフロロアルキルエ
ーテル基付アルコール（平均分子量１，０００、ｐ、ｑ
は１〜７の整数）１００ｇとテトラデシル無水チオリン
ゴ酸３３ｇとを１■のガラス製オートクレーブに採取し
窒素置換後、１４０℃で窒素圧９〜１０ｋｇ／ｃｍ２の
下で２時間反応させることにより、乳白色コロイド状液
状物（２５℃）１３０ｇを得た。ＩＲによりカルボン酸
１，７０５ｃｍ−１およびエステル１，７７５ｃｍ−１
の吸収ピーク出現、酸無水物１，７５５ｃｍ−１の吸収
ピーク消滅を確認、式Ｏおよび式Ｏ′で表わされる含フ
ッ素化合物の混合物であることが判明した。
実施例３２
式Ｆ■ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ■４ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ
２ＯＨで表わされるフロロアルキルエーテル基付アルコ
ール７６ｇとオクタデシル無水チオリンゴ酸３８ｇとを
ガラス製オートクレーブ内で１２０℃で窒素圧４〜５ｋ
ｇ／ｃｍ２の下で１０時間反応させ、融点６３℃の白色
固体１１０ｇを得た。ＩＲによりカルボン酸１，７０５
ｃｍ−１およびエステル１，７５５ｃｍ−１の吸収ピー
ク出現、酸無水物吸収ピーク消滅を確認、式Ｐおよび式
Ｐ′で表わされる含フッ素化合物の混合物であることが
判明した。
２ＯＨで表わされるフロロアルキルエーテル基付アルコ
ール７６ｇとオクタデシル無水チオリンゴ酸３８ｇとを
ガラス製オートクレーブ内で１２０℃で窒素圧４〜５ｋ
ｇ／ｃｍ２の下で１０時間反応させ、融点６３℃の白色
固体１１０ｇを得た。ＩＲによりカルボン酸１，７０５
ｃｍ−１およびエステル１，７５５ｃｍ−１の吸収ピー
ク出現、酸無水物吸収ピーク消滅を確認、式Ｐおよび式
Ｐ′で表わされる含フッ素化合物の混合物であることが
判明した。
実施例３３
式ＣＦ３Ｏ■ＣＦ２ＣＦ２Ｏ■ｐ■ＣＦ２Ｏ■ｑＣＦ２
ＣＯＮ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ（平均分子量９００
、ｐ、ｑは１〜７の整数）９０ｇとヘプタデシル無水チ
オリンゴ酸３７ｇとをガラス製オートクレーブ内で１４
０℃で窒素圧９〜１０ｋｇ／ｃｍ２の下で２時間反応さ
せることにより乳白色コロイド状液状物（２５℃）１２
０ｇを得た。ＩＲによりカルボン酸１，７０５ｃｍ−１
およびエステル１，７５５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、
酸無水物ピーク消滅を確認、式Ｑおよび式Ｑ′で表わさ
れる含フッ素化合物であることが判明した。
ＣＯＮ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ（平均分子量９００
、ｐ、ｑは１〜７の整数）９０ｇとヘプタデシル無水チ
オリンゴ酸３７ｇとをガラス製オートクレーブ内で１４
０℃で窒素圧９〜１０ｋｇ／ｃｍ２の下で２時間反応さ
せることにより乳白色コロイド状液状物（２５℃）１２
０ｇを得た。ＩＲによりカルボン酸１，７０５ｃｍ−１
およびエステル１，７５５ｃｍ−１の吸収ピーク出現、
酸無水物ピーク消滅を確認、式Ｑおよび式Ｑ′で表わさ
れる含フッ素化合物であることが判明した。
実施例３４
式ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ■ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ■ｐＣ
Ｆ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨで表わされるフロロアルキルエー
テル基付アルコール（平均分子量１，０００）１００ｇ
とオクタデシル無水チオリンゴ酸３８ｇとをガラス製オ
ートクレーブ内で１４０℃で窒素圧９〜１０ｋｇ／ｃｍ
−１の下で２時間反応させることにより乳白色コロイド
状液状物（２５℃）１２０ｇを得た。ＩＲによりカルボ
ン酸１，７０５ｃｍ−１およびエステル１，７５５ｃｍ
−１の吸収ピーク出現、酸無水物ピーク消滅を確認、式
Ｒおよび式Ｒ′で表わされる含フッ素化合物であること
が判明した。
Ｆ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨで表わされるフロロアルキルエー
テル基付アルコール（平均分子量１，０００）１００ｇ
とオクタデシル無水チオリンゴ酸３８ｇとをガラス製オ
ートクレーブ内で１４０℃で窒素圧９〜１０ｋｇ／ｃｍ
−１の下で２時間反応させることにより乳白色コロイド
状液状物（２５℃）１２０ｇを得た。ＩＲによりカルボ
ン酸１，７０５ｃｍ−１およびエステル１，７５５ｃｍ
−１の吸収ピーク出現、酸無水物ピーク消滅を確認、式
Ｒおよび式Ｒ′で表わされる含フッ素化合物であること
が判明した。
実施例３５
式ＣＦ３Ｏ■ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ■ｐ■ＣＦ２Ｏ■
ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２（平均分子量７９０
、ｐ、ｑは１〜９の整数）で表わされるフロロアルキル
エーテル基付アクリレート７９．０ｇ（０．１０モル）
とα−メルカプトミリスチン酸２６．０ｇ（０．１０モ
ル）と酢酸ナトリウム５０ｇとハイドロキノン１ｇと９
５％エタノール３００ｍ■とを攪拌翼を備えた１■のフ
ラスコに採取し、６時間加熱還流を続けて付加反応を行
なわせた。反応終了後、エタノールと未反応のフロロア
ルキルエーテル基付アクリレートを真空蒸留により留去
し、反応生成物に蒸留水を加えてイソプロピルエーテル
で抽出精製することにより融点３５℃の白色固体８６ｇ
を得た。この白色固体はＩＲおよびＦＤ−ＭＳにより出
発原料および副生成物を含まない式Ｓで表わされる含フ
ッ素化合物であることが判明した。
ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２（平均分子量７９０
、ｐ、ｑは１〜９の整数）で表わされるフロロアルキル
エーテル基付アクリレート７９．０ｇ（０．１０モル）
とα−メルカプトミリスチン酸２６．０ｇ（０．１０モ
ル）と酢酸ナトリウム５０ｇとハイドロキノン１ｇと９
５％エタノール３００ｍ■とを攪拌翼を備えた１■のフ
ラスコに採取し、６時間加熱還流を続けて付加反応を行
なわせた。反応終了後、エタノールと未反応のフロロア
ルキルエーテル基付アクリレートを真空蒸留により留去
し、反応生成物に蒸留水を加えてイソプロピルエーテル
で抽出精製することにより融点３５℃の白色固体８６ｇ
を得た。この白色固体はＩＲおよびＦＤ−ＭＳにより出
発原料および副生成物を含まない式Ｓで表わされる含フ
ッ素化合物であることが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７０５ｃｍ−１、エステル１，７
５５ｃｍ−１ピークが存在、チオール２，６００ｃｍ−
１、炭素炭素二重結合１，６４０ｃｍ−１ピーク消滅。
５５ｃｍ−１ピークが存在、チオール２，６００ｃｍ−
１、炭素炭素二重結合１，６４０ｃｍ−１ピーク消滅。
ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ９８０に主ピーク有り。
実施例３６
α−メルカプトステアリン酸２８．２ｇと次式で示され
るフロロポリエーテルアクリレート（分子量７０３） Ｆ■ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ■３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２
ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２７０．３ｇおよび９５％エタノール
４００ｍ■を使用し実施例３５と同様の方法にて白色固
体（融点７９℃）８１ｇを得た。分析の結果式Ｔで表わ
される含フッ素化合物であることが判明した。
るフロロポリエーテルアクリレート（分子量７０３） Ｆ■ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ■３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２
ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２７０．３ｇおよび９５％エタノール
４００ｍ■を使用し実施例３５と同様の方法にて白色固
体（融点７９℃）８１ｇを得た。分析の結果式Ｔで表わ
される含フッ素化合物であることが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７０５ｃｍ−１、エステル１，７
５５ｃｍ−１ピークが存在、チオール２，６００ｃｍ−
１、炭素炭素二重結合１，６４０ｃｍ−１ピークが消滅
。
５５ｃｍ−１ピークが存在、チオール２，６００ｃｍ−
１、炭素炭素二重結合１，６４０ｃｍ−１ピークが消滅
。
ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ９８５に主ピーク有り。
実施例３７
α−メルカプトラウリン酸２１．０ｇと次式で示される
フロロポリエーテルアクリレート（平均分子量１，００
０） Ｆ■ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ■ｐＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣ
ＯＣＨ＝ＣＨ２１００ｇおよび９５％エタノール５００
ｍ■を使用し実施例３５と同様の方法にて白色状半固体
７６ｇを得た。分析の結果式Ｕで表わされる含フッ素化
合物であることが判明した。
フロロポリエーテルアクリレート（平均分子量１，００
０） Ｆ■ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ■ｐＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣ
ＯＣＨ＝ＣＨ２１００ｇおよび９５％エタノール５００
ｍ■を使用し実施例３５と同様の方法にて白色状半固体
７６ｇを得た。分析の結果式Ｕで表わされる含フッ素化
合物であることが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７０５ｃｍ−１、エステル１，７
５５ｃｍ−１ピークが存在、チオール２，６００ｃｍ−
１、炭素炭素二重結合１，６４０ｃｍ−１ピークが消滅
。
５５ｃｍ−１ピークが存在、チオール２，６００ｃｍ−
１、炭素炭素二重結合１，６４０ｃｍ−１ピークが消滅
。
ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，２００に主ピーク有り。
実施例３８
α−メルカプトステアリン酸２８．２ｇと次式で示され
るフロロポリエーテルアクリレート（平均分子量１，３
５０、ｐ、ｑは１〜２０の整数）１００ｇおよび９５％
エタノール ＣＣ■Ｆ２Ｏ■ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ■ｐ■ＣＦ２Ｏ
■ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２４００ｍ■を使用
し実施例３５と同様の方法にて白色半固体１０３ｇを得
た。分析の結果式Ｖで表わされる含フッ素化合物である
ことが判明した。
るフロロポリエーテルアクリレート（平均分子量１，３
５０、ｐ、ｑは１〜２０の整数）１００ｇおよび９５％
エタノール ＣＣ■Ｆ２Ｏ■ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ■ｐ■ＣＦ２Ｏ
■ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２４００ｍ■を使用
し実施例３５と同様の方法にて白色半固体１０３ｇを得
た。分析の結果式Ｖで表わされる含フッ素化合物である
ことが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７０５ｃｍ−１、エステル１，７
５５ｃｍ−１ピークが存在、チオール２，６００ｃｍ−
１、炭素炭素二重結合１，６４０ｃｍ−１ピークが消滅
。
５５ｃｍ−１ピークが存在、チオール２，６００ｃｍ−
１、炭素炭素二重結合１，６４０ｃｍ−１ピークが消滅
。
ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，６００に主ピーク有り。
実施例３９
α−メルカプトステアリン酸２９．３ｇと次式で示され
るフロロポリエーテルアクリレート（平均分子量１，４
００）１００ｇおよび９５％エタノール４００ｍｌを使
用し Ｆ■ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ■ｐＣＦ■ＣＦ３■ＣＯ■
ＯＣ２Ｈ４）４ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２実施例３５と同様の
方法にて白色半固体９５ｇを得た分析の結果式Ｗで表わ
される含フッ素化合物であることが判明した。
るフロロポリエーテルアクリレート（平均分子量１，４
００）１００ｇおよび９５％エタノール４００ｍｌを使
用し Ｆ■ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ■ｐＣＦ■ＣＦ３■ＣＯ■
ＯＣ２Ｈ４）４ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２実施例３５と同様の
方法にて白色半固体９５ｇを得た分析の結果式Ｗで表わ
される含フッ素化合物であることが判明した。
ＩＲ；カルボン酸１，７０５ｃｍ−１、エステル１，７
５５ｃｍ−１ピークが存在、チオール２，６００ｃｍ−
１、炭素炭素二重結合１，６４０ｃｍ−１ピークが消滅
。
５５ｃｍ−１ピークが存在、チオール２，６００ｃｍ−
１、炭素炭素二重結合１，６４０ｃｍ−１ピークが消滅
。
ＦＤ−ＭＳ；ｍ／ｅ１，７００に主ピーク有り。
実施例４０
ポリエステルフィルム内に添加されたシリカ微粒子によ
る勾配のゆるやかな粒状突起（平均高さ７０Å、直径１
μｍ）が表面１００μｍ２当り数個存在し、しかも重合
触媒残渣に起因する微粒子による比較的大きな突起を極
力低減させたポリエステルフィルムの表面に、直径１５
０Åのシリカコロイド粒子を核とし紫外線硬化エポキシ
樹脂を結合剤とする急峻な山状突起を１ｍｍ２当り１×
１０−個となるように形成させたものを非磁性基板とし
た。その上に連続真空斜め蒸着法によりＣｏ−Ｎｉ強磁
性金属薄膜（Ｎｉ含有量２０％、厚膜１０００Å）を微
量の酸素の存在下で形成させた。薄膜中の酸素含有量は
原子分率で５％であった。
る勾配のゆるやかな粒状突起（平均高さ７０Å、直径１
μｍ）が表面１００μｍ２当り数個存在し、しかも重合
触媒残渣に起因する微粒子による比較的大きな突起を極
力低減させたポリエステルフィルムの表面に、直径１５
０Åのシリカコロイド粒子を核とし紫外線硬化エポキシ
樹脂を結合剤とする急峻な山状突起を１ｍｍ２当り１×
１０−個となるように形成させたものを非磁性基板とし
た。その上に連続真空斜め蒸着法によりＣｏ−Ｎｉ強磁
性金属薄膜（Ｎｉ含有量２０％、厚膜１０００Å）を微
量の酸素の存在下で形成させた。薄膜中の酸素含有量は
原子分率で５％であった。
この試料に前記本発明の含フッ素化合物あるいはそれら
と従来公知の潤滑剤との混合物を各々別々に金属薄膜表
面１ｍ２当り１０ｍｇの存在量となるように塗布して潤
滑剤層を形成させた後、所定幅に裁断して磁気テープを
作製した。これらのテープを２３℃、５％ＲＨ環境下で
市販ビデオデッキに掛けて繰り返し走行時の出力特性を
測定し、ＲＦ出力が初期値に対し３ｄＢ低下するかある
いは出力変動の発生し始めるまでの走行回数を求めた。
と従来公知の潤滑剤との混合物を各々別々に金属薄膜表
面１ｍ２当り１０ｍｇの存在量となるように塗布して潤
滑剤層を形成させた後、所定幅に裁断して磁気テープを
作製した。これらのテープを２３℃、５％ＲＨ環境下で
市販ビデオデッキに掛けて繰り返し走行時の出力特性を
測定し、ＲＦ出力が初期値に対し３ｄＢ低下するかある
いは出力変動の発生し始めるまでの走行回数を求めた。
これらの結果を第１表に示す。なお、用いた本発明の含
フッ素化合物は前記の実施例番号で第１表中に示した。
フッ素化合物は前記の実施例番号で第１表中に示した。
また、本発明の含フッ素化合物と従来公知の潤滑剤との
混合物により潤滑剤層を形成した例も併せて記した。
混合物により潤滑剤層を形成した例も併せて記した。
第１表より、本発明の含フッ素化合物を含有する潤滑剤
層を有する磁気テープ試料はすべて低湿度中における繰
り返し走行耐久性に優れていることがわかる。一方、従
来公知の潤滑剤のみから成る潤滑剤層を有する磁気テー
プ試料は比較例の通り、低湿度中での耐久性に劣る。
層を有する磁気テープ試料はすべて低湿度中における繰
り返し走行耐久性に優れていることがわかる。一方、従
来公知の潤滑剤のみから成る潤滑剤層を有する磁気テー
プ試料は比較例の通り、低湿度中での耐久性に劣る。
実施例７２
直径９５ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのＡｌ合金板の表面に厚
さ２５μｍの非磁性Ｎｉ−Ｐ合金メッキを施し、テクス
チャ加工により平均粗さ５０Å、最大高さ３００Åの突
起を形成したものを非磁性基板とした。その上にスパッ
タリング法によって厚さ１、３００ÅのＣｒ下地と厚さ
６００ÅのＣｏ−Ｎｉ強磁性金属薄膜を形成し、さらに
その上にスパッタリング法によって厚さ２００Åのグラ
ファイト保護層を形成させたものを試料Ａとする。前記
において、グラファイト保護層の代わりにプラズマＣＶ
Ｄ法によって厚さ５０Åのダイヤモンドライクカーボン
保護層を形成させたものを試料Ｂとする。これらの試料
に前記本発明の含フッ素化合物あるいはそれらと従来公
知の潤滑剤との混合物を各々別々に保護層表面１ｍ２当
り１０ｍｇの存在量となるように塗布して潤滑剤層を形
成させた。
さ２５μｍの非磁性Ｎｉ−Ｐ合金メッキを施し、テクス
チャ加工により平均粗さ５０Å、最大高さ３００Åの突
起を形成したものを非磁性基板とした。その上にスパッ
タリング法によって厚さ１、３００ÅのＣｒ下地と厚さ
６００ÅのＣｏ−Ｎｉ強磁性金属薄膜を形成し、さらに
その上にスパッタリング法によって厚さ２００Åのグラ
ファイト保護層を形成させたものを試料Ａとする。前記
において、グラファイト保護層の代わりにプラズマＣＶ
Ｄ法によって厚さ５０Åのダイヤモンドライクカーボン
保護層を形成させたものを試料Ｂとする。これらの試料
に前記本発明の含フッ素化合物あるいはそれらと従来公
知の潤滑剤との混合物を各々別々に保護層表面１ｍ２当
り１０ｍｇの存在量となるように塗布して潤滑剤層を形
成させた。
これらの磁気ディスクを２３℃、５％ＲＨ環境下でＣＳ
Ｓ耐久試験を実施し、摩擦係数が１．０を超えた時点の
ＣＳＳ回数またはヘッドクラッシュ発生時のＣＳＳ回数
で耐久性の判定を行なった。
Ｓ耐久試験を実施し、摩擦係数が１．０を超えた時点の
ＣＳＳ回数またはヘッドクラッシュ発生時のＣＳＳ回数
で耐久性の判定を行なった。
これらの結果を第２表に示す。なお、用いた本発明の含
フッ素化合物は前記の実施例番号で第２表中に示した。
フッ素化合物は前記の実施例番号で第２表中に示した。
また、本発明の含フッ素化合物と従来公知の潤滑剤との
混合物により潤滑剤層を形成した例も併せて記した。
混合物により潤滑剤層を形成した例も併せて記した。
第２表より、本発明の含フッ素化合物を含有する潤滑剤
層を有する磁気ディスク試料はすべて低湿度中における
ＣＳＳ耐久性に優れていることがわかる。一方、従来公
知の潤滑剤のみから成る潤滑剤層を有する磁気ディスク
試料は比較例の通り、低湿度中での耐久性に劣る。
層を有する磁気ディスク試料はすべて低湿度中における
ＣＳＳ耐久性に優れていることがわかる。一方、従来公
知の潤滑剤のみから成る潤滑剤層を有する磁気ディスク
試料は比較例の通り、低湿度中での耐久性に劣る。
発明の効果
本発明用の含フッ素化合物は同一分子内にフロロアルキ
ルエーテル末端基と脂肪族炭化水素末端基とカルボキシ
ル末端基とを有する特異構造のものであり、それらの各
末端基の相乗効果により過酷な低湿度環境を含む全環境
において良好な潤滑性能を発現する。
ルエーテル末端基と脂肪族炭化水素末端基とカルボキシ
ル末端基とを有する特異構造のものであり、それらの各
末端基の相乗効果により過酷な低湿度環境を含む全環境
において良好な潤滑性能を発現する。
したがって、本発明の含フッ素化合物はそれ単独での利
用はもちろんのこと、それらと従来公知の化合物との混
合物から成る潤滑剤として、さらにはそれらを潤滑剤層
とする磁気記録媒体として利用できるためにその工業的
価値は非常に大きい。
用はもちろんのこと、それらと従来公知の化合物との混
合物から成る潤滑剤として、さらにはそれらを潤滑剤層
とする磁気記録媒体として利用できるためにその工業的
価値は非常に大きい。
Claims (9)
- 【請求項１】一般式［Ｉ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ２は炭素数０もしく
は１以上の脂肪族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアル
キレンオキサイド基を示し、Ｒ３およびＲ４は炭素数０
もしくは１以上の脂肪族アルキレン基を示し、Ｘは−Ｃ
ＯＯＲ５−，−ＣＯＮ（Ｒ６）− （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、ＷおよびＹはの中から選ばれる結合基を示し、
Ｚは の中から選ばれる結合基を示し、ｌ，ｍおよびｎは０も
しくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物。 - 【請求項２】脂肪族アルキル無水コハク酸もしくは脂肪
族 アルケニル無水コハク酸と炭素数６〜５０のフロロアル
キルエーテル基付アルコールとをオートクレーブ中で付
加反応させることを特徴とする一般式［ＩＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ′２は脂肪族アルキ
レン基もしくは脂肪族ポリアルキレンオキサイド基を示
し、Ｘは −ＣＯＯＲ５−，−ＣＯＮ（Ｒ６）− （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、ｍおよびｎは０もしくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。 - 【請求項３】脂肪族アルキルオキシ酸もしくは脂肪族ア
ル ケニオキシ酸と炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル基付カルボン酸ハライドとを塩基の存在下で低温で反
応させることを特徴とする一般式［ＩＩＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″２およびＲ４は炭
素数０もしくは１以上の脂肪族アルキレン基を示し、Ｘ
１は （ただし、Ｒ′５は脂肪族アルキレン基を示し、Ｒ６は
水素原子または炭素数１〜１２の脂肪族アルキル基を示
す。） の中から選ばれる結合基を示し、ｍは０もしくは１を示
す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。 - 【請求項４】一般式［ＩＶ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アル
キレン基を示す。］で表わされるフロロアルキルエーテ
ル基付第２アルキルアミンと一般式［Ｖ］ ［式中、Ｒは脂肪族アルキル末端基もしくは脂肪族アル
ケニル末端基を示し、Ｒ４は炭素数０もしくは１以上の
脂肪族アルキレン基を示し、Ｑはハロゲン原子を示す。 ］ で表わされるω−ハロアルキルカルボン酸エステルとを
弱アルカリの存在下で反応させて、一般式［ＶＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ，Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もし
くは脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″′２は脂肪族
アルキレン基を示し、Ｒ４は炭素数０もしくは１以上の
脂肪族アルキレン基を示す。］ で表わされる含フッ素化合物を合成した後、強アルカリ
でエステル結合基を加水分解させて片末端基をカルボキ
シル基とすることを特徴とする一般式［ＶＩＩ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末端基もしくは
脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ″′２は脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ４は炭素数０もしくは１以上の脂肪
族アルキレン基を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。 - 【請求項５】脂肪族アルキルアルコールもしくは脂肪族
ア ルケニルアルコールと炭素数６〜５０のフロロアルキル
エーテル基付アルコールとを各々別々に無水トリメリッ
ト酸クロライドに段階的に反応させることによる一般式
［ＶＩＩＩ］［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロア
ルキルエーテル末端基を示し、Ｒ１は脂肪族アルキル末
端基もしくは脂肪族アルケニル末端基を示し、Ｒ′２は
脂肪族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアルキレンオキ
サイド基を示し、Ｘは −ＣＯＯＲ５−，−ＣＯＮ（Ｒ６）− （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、Ｚ′はで表わされる結合基を示し、ｍは０もし
くは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。 - 【請求項６】脂肪族アルキル基付無水チオリンゴ酸と炭
素 数６〜５０のフロロアルキルエーテル基付アルコールと
をオートクレーブ中で付加反応させることを特徴とする
一般式［ＩＸ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ′１は脂肪族アルキル末端基を示し
、Ｒ′２は脂肪族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアル
キレンオキサイド基を示し、Ｘは （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、ｍおよびｎは０もしくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。 - 【請求項７】α−メルカプト脂肪族アルキルカルボン酸
に炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテル基付アクリ
レートまたは同メタクリレートを付加反応させることに
よる一般式［Ｘ］ ［式中、Ｒｆは炭素数６〜５０のフロロアルキルエーテ
ル末端基を示し、Ｒ′１は脂肪族アルキル末端基を示し
、Ｒ′２は脂肪族アルキレン基もしくは脂肪族ポリアル
キレンオキサイド基を示し、Ｒ７は水素原子またはメチ
ル基を示し、Ｘは−ＣＯＯＲ５−，−ＣＯＮ（Ｒ６）− （ただし、Ｒ５は炭素数０もしくは１以上の脂肪族アル
キレン基を示し、Ｒ６は水素原子または炭素数１〜１２
の脂肪族アルキル基を示す。）の中から選ばれる結合基
を示し、ｍは０もしくは１を示す。］ で表わされる含フッ素化合物の製造方法。 - 【請求項８】一般式［Ｉ］で表わされる含フッ素化合物
を 含有することを特徴とする潤滑剤組成物。 - 【請求項９】非磁性支持体上に強磁性金属薄膜が形成さ
れ ている磁気記録媒体において、前記強磁性金属薄膜上に
直接あるいは保護膜を介して一般式［Ｉ］で表わされる
含フッ素化合物を少なくとも１種以上含有する潤滑剤層
が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33798390A JPH0819046B2 (ja) | 1990-09-04 | 1990-11-30 | 含フッ素化合物および含フッ素化合物を含有する潤滑剤組成物および磁気記録媒体 |
| US07/672,447 US5188747A (en) | 1990-09-04 | 1991-03-20 | Fluorine-containing lubricant compounds |
| EP91105058A EP0473871B1 (en) | 1990-09-04 | 1991-03-28 | Fluorine-containing compounds |
| DE69116959T DE69116959T2 (de) | 1990-09-04 | 1991-03-28 | Fluor enthaltende Verbindungen |
| US07/903,494 US5266724A (en) | 1990-09-04 | 1992-06-24 | Fluorine-containing compounds |
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23488390 | 1990-09-04 | ||
| JP26089890 | 1990-09-28 | ||
| JP2-234883 | 1990-10-05 | ||
| JP2-260898 | 1990-10-05 | ||
| JP2-269119 | 1990-10-05 | ||
| JP26911990 | 1990-10-05 | ||
| JP33798390A JPH0819046B2 (ja) | 1990-09-04 | 1990-11-30 | 含フッ素化合物および含フッ素化合物を含有する潤滑剤組成物および磁気記録媒体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13907295A Division JP2553831B2 (ja) | 1990-09-04 | 1995-06-06 | 含フッ素化合物および含フッ素化合物を含有する潤滑剤組成物および磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04270243A true JPH04270243A (ja) | 1992-09-25 |
| JPH0819046B2 JPH0819046B2 (ja) | 1996-02-28 |
Family
ID=27477602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33798390A Expired - Fee Related JPH0819046B2 (ja) | 1990-09-04 | 1990-11-30 | 含フッ素化合物および含フッ素化合物を含有する潤滑剤組成物および磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0819046B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07173105A (ja) * | 1993-10-19 | 1995-07-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 含フッ素カルボン酸アミン塩及びそれを表面に付与した磁気記録媒体 |
| WO1999003954A1 (fr) * | 1997-07-16 | 1999-01-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Composition lubrifiante, support d'enregistrement magnétique et procédé de production d'un support d'enregistrement magnétique |
| US6103677A (en) * | 1998-02-10 | 2000-08-15 | Hitachi Maxell, Ltd. | Lubricant and magnetic recording medium comprising the same |
| JP2010013593A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Panasonic Corp | 磁気記録媒体の潤滑剤 |
| JP2017061420A (ja) * | 2015-09-24 | 2017-03-30 | 株式会社ネオス | 含フッ素カルボン酸化合物 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP33798390A patent/JPH0819046B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07173105A (ja) * | 1993-10-19 | 1995-07-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 含フッ素カルボン酸アミン塩及びそれを表面に付与した磁気記録媒体 |
| WO1999003954A1 (fr) * | 1997-07-16 | 1999-01-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Composition lubrifiante, support d'enregistrement magnétique et procédé de production d'un support d'enregistrement magnétique |
| US6303227B1 (en) | 1997-07-16 | 2001-10-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Lubricant composition magnetic recording medium, and process for producing magnetic recording medium |
| US6103677A (en) * | 1998-02-10 | 2000-08-15 | Hitachi Maxell, Ltd. | Lubricant and magnetic recording medium comprising the same |
| JP2010013593A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Panasonic Corp | 磁気記録媒体の潤滑剤 |
| JP2017061420A (ja) * | 2015-09-24 | 2017-03-30 | 株式会社ネオス | 含フッ素カルボン酸化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0819046B2 (ja) | 1996-02-28 |
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