JPH04252941A - 欠陥検出方法および装置 - Google Patents

欠陥検出方法および装置

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Publication number
JPH04252941A
JPH04252941A JP2662191A JP2662191A JPH04252941A JP H04252941 A JPH04252941 A JP H04252941A JP 2662191 A JP2662191 A JP 2662191A JP 2662191 A JP2662191 A JP 2662191A JP H04252941 A JPH04252941 A JP H04252941A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
defect
polarizing filter
inspected
reflected light
Prior art date
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Pending
Application number
JP2662191A
Other languages
English (en)
Inventor
Shiro Sone
曽根 至朗
Masakazu Iwasa
岩佐 正和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2662191A priority Critical patent/JPH04252941A/ja
Publication of JPH04252941A publication Critical patent/JPH04252941A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被検査部材の表面を光
学的に走査して表面の欠陥を検出する表面欠陥検査方法
および装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、被検査部材の表面をレーザー
などの光で走査し、この表面による反射光の光量変化を
検出することにより表面の欠陥(疵)を検出するものが
ある。すなわち表面の欠陥のある部分と欠陥のない背景
部分との反射光量の差(変化)を検出するものである。
【0003】しかし被検査部材の表面の性状によっては
、この従来の方法では欠陥を高精度に検出できないとい
う問題があった。例えば表面に細かい凹凸からなるザラ
ザラとした表面処理が施されている場合や、模様的なむ
ら(いわゆる地合)が大きい場合などでは、背景部分か
らの反射光には多くのノイズが含まれることになり、微
小な欠陥からの信号がこのノイズに隠れてしまうからで
ある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、欠陥
を含まない背景部分からの反射光を除いて、主としてき
ずなどの欠陥部分からの反射光だけを検出することによ
り欠陥を高検度に判別できるようにする欠陥検出方法を
提供することを目的とする。また本発明は、この方法の
実施に直接使用する装置を提供することを他の目的とす
る。
【0005】
【発明の構成】本発明によれば前記の目的は、被検査部
材の表面を光学的に走査して得られる反射光の光量の変
化に基づいて、前記表面の欠陥の有無を検出する欠陥検
出方法において、前記表面による反射光を偏光フィルタ
を介して検出する一方、前記偏光フィルタと前記入射光
との偏光方向をほぼ直角に設定したことを特徴とする欠
陥検出方法により達成される。
【0006】また前記他の目的は、被検査部材の表面を
光学的に走査して得られる反射光の光量を光検出器で検
出し、この検出した光量の変化に基づいて前記表面の欠
陥の有無を検出する欠陥検出装置において、前記表面へ
の入射光が通る第1の偏光フィルタと、前記反射光が通
る第2の偏光フィルタとを備え、前記第1および第2の
偏光フィルタの偏光軸方向をほぼ直交させたことを特徴
とする表面欠陥装置により達成される。ここに光源とし
て偏光光源を射出するレーザー光源を用いることにより
第1の偏光フィルタを省くことができる。
【0007】
【実施例】図1は本発明の一実施例装置を示す図、図2
はその原理説明図、図3は各偏光フィルタの偏光軸方向
を示す模式図、図4は微分信号におけるSおよびNの説
明図である。
【0008】図1において符号10は鋼板やプラスチッ
クフィルムや紙などの被検査部材であり、供給ロール1
2から巻取りロール14に巻取られる。16はレーザー
光源である。この光源16が射出するレーザー光18は
直線偏光していないものであり、円偏光となっている。 この入射光18は回転するポリゴナルミラー20によっ
て検査対象10の主走査ライン22上に導かれ、この主
走査ライン22上を左から右へ走査する。この主走査ラ
イン22の近傍には導光ロッド24が対向配置され、主
走査ライン22上を走査したレーザ光18の検査対象1
0の表面による反射光がこの導光ロッド24内に入る。 この導光ロッド24の両端には光電子増倍管(フォトマ
ルチプライヤ)からなる光検出器26(26a、26b
)が取付けられ、導光ロッド24内に入った反射光の強
度はこれら光検出器26により検出される。
【0009】両光検出器26a、26bの出力はプリア
ンプ(図示せず)を経て加算器30で加算され、アナロ
グ画像信号xが得られる。このアナログ画像信号xは検
査対象10の表面のもしくは内部の性状に対応した濃淡
信号である。このアナログ画像信号xは微分フィルタ3
4において微分され疵部周辺が強調されて図4に示すよ
うになる。
【0010】微分後の微分信号Yは多値化手段38にお
いて所定のしきい値と比較されて多値化例えば二値化さ
れ、所定のしきい値より大きい又は小さい時には欠陥検
出手段40により欠陥と判断され欠陥信号が出力される
。その結果が欠陥の座標と共にプリンタなどの欠陥記録
手段42に記録される。この欠陥信号は他の機器に送っ
て別の処理に利用してもよい。
【0011】ポリゴナルミラー20から被検査部材10
の表面に向って射出される入射光18の光路には第1の
偏光フィルタ50が介在されている。また表面から反射
光が導光ロッド24に至る光路には第2の偏光フィルタ
52が介在する。この第2の偏光フィルタ52は導光ロ
ッド24の長さ方向に長くなっているのは勿論である。
【0012】これらの第1、第2の偏光フィルタ50、
52の偏光軸は、図3に矢印⇒で示す方向に設定されて
いる。すなわち両者の偏光軸方向はほぼ直交するように
設定されている。なおこの図3では矢印⇒は、光軸を紙
面に垂直にした状態での偏光軸方向を模式的に示したも
のである。また、Aは入射光18の被検査部材10の表
面の入射点を示す。
【0013】従ってこの実施例によれば、光源16を出
た円偏光のレーザー光は第1の偏光フィルタ50におい
て矢印⇒方向(図3)の直線偏光となって被検査部材1
0の表面に入射する。入射点Aで反射された反射光は、
次に第2の偏光フィルタ52に入り、ここで前記第1の
偏光フィルタ50の偏光成分が除かれる。すなわち第1
の偏光フィルタの偏光方向にほぼ直交する成分(直交成
分)のみが通過して光検出器26に入る。
【0014】表面に欠陥が無い時には入射光の偏光方向
は表面で大きな変化を受けることなく反射される。この
ため第2の偏光フィルタ52を通過する光量はほとんど
無くなる。しかし表面に僅かなきずなどの欠陥があると
、この欠陥により入射光18の偏光方向が変化する。 このため第2の偏光フィルタ52を通過する光量が大き
く増える。
【0015】一般的には本発明者らの経験によれば、表
面欠陥の誤検出、過検出を少なくして安定した検出を行
うためには、S/Nが2.5以上であることが望ましい
。ここでS/Nとは、図4に示す様に検査対象の背景部
の微分信号レベル(N)に対する疵部の微分信号レベル
(S)の比を表す。例えば鋼板に対して、入射角および
反射角をともに30°とした実験例では、光検出器26
から得たアナログ微分信号YのS/Nは、次表のように
なった。
【0016】
【表1】
【0017】ここに、従来法とは偏光フィルタを使用し
ない方法を表す。この表においてスリーバはスリ疵状の
欠陥、ドロスはメッキむらである。
【0018】この結果によれば、小さいスリーバに対し
てもS/Nは4.6で十分に判別できるレベルである。 スリ疵、押し疵、メッキむらに対してはS/Nが十分に
大きくなり、検出力が向上したことが解る。また汚れに
対してはS/Nが小さくなり、検出力向上の効果がない
ことが解る。これらの結果本発明は凹凸のある欠陥や鋭
いスリ疵などに対して特に有効であることが解る。図3
において第1の偏光フィルタ50の偏光軸の方向は、入
射光18に対して直交する方向で任意の方向に設定でき
る。
【0019】以上の実施例では光源16は円偏光のレー
ザー光を射出するが、これを代えて直線偏光を射出する
光源、例えば半導体レーザーを用いてもよい。この場合
には第1の偏光フィルタ50を省くことができる。なお
この場合には、光源の光の偏光方向にほぼ直交するよう
に第2の偏光フィルタ52を設定することは勿論である
。以上の実施例では、アナログ画像信号をアナログ微分
フィルタを通して疵を検出しているが、アナログ画像信
号をA/D変換し,デジタル微分フィルタを通して疵を
検出する方法も可能であり、上記実施例と同様偏光の利
用で検出力を向上させることができる。
【0020】なお本発明は前記実施例のように走査光を
走査線にそって移動させるフライングスポット方式の走
査を行うものだけでなく、走査線上の画像を光検出器に
導くフライングイメージ方式のものにも適用できる。
【0021】
【発明の効果】請求項1の発明は以上のように、疵部よ
り反射する反射光のうち、入射光の偏光方向にほぼ直交
する反射光の偏光成分のみを検出し、その光量により欠
陥を判別するものであるから、欠陥を高精度に判別する
ことができる。(請求項1)
【0022】また請求項2の装置によれば、この請求項
1の方法の実施に直接用いる欠陥検出装置が得られる。 ここに光源自身が偏光光線を射出する場合には第1の偏
光フィルタを省いて、構成を簡単にすることができる(
請求項3)。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例装置を示す図
【図2】その原
理説明図
【図3】各偏光フィルタの偏光方向を示す模式図
【図4
】微分信号におけるSおよびNを説明する図
【符号の説明】
10  被検査部材 16  光源 18  入射光 26  光検出器 50  第1の偏光フィルタ 52  第2の偏光フィルタ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  被検査部材の表面を光学的に走査して
    得られる反射光の光量の変化に基づいて、前記表面の欠
    陥の有無を検出する欠陥検出方法において、前記表面に
    よる反射光を偏光フィルタを介して検出する一方、前記
    偏光フィルタと前記入射光との偏光方向をほぼ直角に設
    定したことを特徴とする欠陥検出方法。
  2. 【請求項2】  被検査部材の表面を光学的に走査して
    得られる反射光の光量を光検出器で検出し、この検出し
    た光量の変化に基づいて前記表面の欠陥の有無を検出す
    る欠陥検出装置において、前記表面への入射光が通る第
    1の偏光フィルタと、前記反射光が通る第2の偏光フィ
    ルタとを備え、前記第1および第2の偏光フィルタの偏
    光軸方向をほぼ直交させたことを特徴とする表面欠陥装
    置。
  3. 【請求項3】  前記第1の偏光フィルタに代えて、前
    記入射光を射出する光源として偏光光線を射出するレー
    ザー光源を用いる請求項2の表面欠陥検査装置。
JP2662191A 1991-01-29 1991-01-29 欠陥検出方法および装置 Pending JPH04252941A (ja)

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JP2662191A Pending JPH04252941A (ja) 1991-01-29 1991-01-29 欠陥検出方法および装置

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JP (1) JPH04252941A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012086628A1 (ja) * 2010-12-21 2012-06-28 住友化学株式会社 防眩処理用金型の検査装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012086628A1 (ja) * 2010-12-21 2012-06-28 住友化学株式会社 防眩処理用金型の検査装置

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