JPH04248424A - 波形解析装置 - Google Patents

波形解析装置

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Publication number
JPH04248424A
JPH04248424A JP1336991A JP1336991A JPH04248424A JP H04248424 A JPH04248424 A JP H04248424A JP 1336991 A JP1336991 A JP 1336991A JP 1336991 A JP1336991 A JP 1336991A JP H04248424 A JPH04248424 A JP H04248424A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
eye pattern
level
cross point
determining means
histogram
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1336991A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoko Kobayashi
直子 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP1336991A priority Critical patent/JPH04248424A/ja
Publication of JPH04248424A publication Critical patent/JPH04248424A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は波形解析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の波形解析装置は、図4に示すよう
に、発光素子などの被測定物30からの光波形データを
測定するサンプリングオシロスコープ1と、サンプリン
グオシロスコープ1により測定されたデータを保存する
データ保存部2と、データ保存部2に保存されているデ
ータをベルを基準としてヒストグラムを作成しアイパタ
ーンの上端レベル,下端レベル算出を行なうアイパター
ン上・下端レベル決定手段3と、アイパターンの立ち上
がり,立ち下がり部分を関数近似するアイパターン関数
作成手段5と、作成された関数の交点を求めてクロスポ
イントを算出するクロスポイント算出手段6とを具備す
る。
【0003】サンプリングオシロスコープ1により測定
されたアイパターンのサンプリングデータをデータ保存
部2に保存しておく。アイパターン上・下端レベル決定
手段3を実行する。内容は、図2に示すように保存され
ているデータについてレベルに関して図2(a)のよう
にヒストグラムをとる。図2(b)に示すように、アイ
パターン上端7の部分がピーク9に、アイパターン下端
8の部分がピーク10に対応する。これにより、アイパ
ターンの上端,下端のレベルが決定する。アイパターン
関数作成手段5では、全サンプリングデータのマトリッ
クス分布をとり、図5の立ち下がり部分20、立ち上が
り部分21に対応する部分をデータの分布状態から判定
する。立ち下がり部分20、立ち上がり部分21に対応
する部分から立ち上がり、立ち下がり状態を示す各関数
を作成する(例えば最小二乗法)。クロスポイント算出
手段6では、立ち上がり、立ち下がり両関数曲線の交点
を求め、アイパターンのクロスポイントを算出する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の波形解
析装置は、アイパターンのクロスポイントを決定するに
当たって関数を作成する必要がある。関数作成は全サン
プリングデータの分布を調査する必要があるため大量の
データを扱うためメモリの使用量が膨大のなってしまう
ため、関数作成手段で用いられるメモリは、高価な大容
量のものが必要となる。また、算出時間も長時間にわた
るという欠点がある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の波形解析装置は
、被測定物の光出力波形を測定するサンプリングオシロ
スコープと、前記サンプリングオシロスコープの光波形
測定データを取り込むデータ保存部と、前記データ保存
部に保存されているデータをレベルを基準としてヒスト
グラムを作成しアイパターンの上端レベル,下端レベル
算出を行なうアイパターン上・下端レベル決定手段と、
前記アイパターン上・下端レベル決定手段で決定した上
端と下端レベルの間を分割しその分割範囲内で各々時間
を基準としてヒストグラムを作成しそのピークの分布に
よりクロスポイントを算出するアイパターンクロスポイ
ント決定手段とを具備すること特徴とする。
【0006】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
【0007】図1は本発明の一実施例を示すブロック図
である。被測定物30の光出力波形をサンプリングオシ
ロスコープ1で測定する。測定データをデータ保存部2
に保存する。アイパターン上・下端レベル決定手段3を
実行する。内容は、データ保存部2に保存されているデ
ータについてレベルに関するヒストグラムをとる(図2
(a))。アイパターン上端7の部分がピーク9に、ア
イパターン下端8の部分がピーク10に対応する。これ
によりアイパターンの上端,下端のレベルが決定する。 次にアイパターンクロスポイント決定手段4の内容を説
明する。まず、図3(a)のように上端,下端レベル間
を分割する。分割レベル11を、図3(b) に示すよ
うに、時間に関してヒストグラムをとる。立ち下がり部
分がピーク15、立ち上がり部分がピーク16のように
ヒストグラム上に2つのピークが現れる。方向22へ分
割レベルを移動して行くと、分割レベル12で、ヒスト
グラムのピーク位置は、図3(c) に示すように、ピ
ーク17、ピーク18となり、分割レベル11のピーク
位置に比べ、間隔が小さくなってきている。同様に繰り
返して行くと分割レベル13のとき、図3( d)に示
すようにピーク19のみが現れる。ピーク19の時間お
よびレベルがクロスポイントとなる。
【0008】よって、立ち上がり、立ち下がりの関数を
作成する必要がなくなるため大容量のメモリを用いる必
要はなくなり、また、サンプリング点の分布を調査する
必要がないため、測定時間の短縮も図れる。
【0009】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、立ち上
がり、立ち下がりの関数を作成する必要がなくなるため
大容量のメモリを用いる必要がなくなり、またサンプリ
ング点の分布を調査する必要はないため、測定時間の短
縮が図れるとともに、光波形の片端からクロスポイント
を検索して行くことにより、全データを検索する場合に
比べ、半分の時間でクロスポイントを決定できるという
効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のブロック図である。
【図2】図1の実施例におけるアイパターン上・下端レ
ベル決定ヒストグラムを示す図である。
【図3】図1の実施例におけるクロスポイント決定ヒス
トグラムを示す図である。
【図4】従来例のブロック図である。
【図5】アイパターンを例示する図である。
【符号の説明】
1    サンプリングオシロスコープ2    デー
タ保存部 3    アイパターン上・下端レベル決定手段4  
  アイパターンクロスポイント決定手段5    ア
イパターン関数作成手段 6    クロスポイント算出手段 7    アイパターン上端 8    アイパターン下端 9    ピーク 10    ピーク 11    分割レベル 12    分割レベル 13    分割レベル 14    クロスポイント 15    ピーク 16    ピーク 17    ピーク 18    ピーク 19    ピーク 20    立ち下がり部分 21    立ち上がり部分 22    方向

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  被測定物の光出力波形を測定するサン
    プリングオシロスコープと、前記サンプリングオシロス
    コープの光波形測定データを取り込むデータ保存部と、
    前記データ保存部に保存されているデータをレベルを基
    準としてヒストグラムを作成しアイパターンの上端レベ
    ル,下端レベル算出を行なうアイパターン上・下端レベ
    ル決定手段と、前記アイパターン上・下端レベル決定手
    段で決定した上端と下端レベルの間を分割しその分割範
    囲内で各々時間を基準としてヒストグラムを作成しその
    ピークの分布によりクロスポイントを算出するアイパタ
    ーンクロスポイント決定手段とを具備すること特徴とす
    る波形解析装置。
JP1336991A 1991-02-04 1991-02-04 波形解析装置 Pending JPH04248424A (ja)

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JP1336991A JPH04248424A (ja) 1991-02-04 1991-02-04 波形解析装置

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JPH04248424A true JPH04248424A (ja) 1992-09-03

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JP (1) JPH04248424A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007218737A (ja) * 2006-02-16 2007-08-30 Yokogawa Electric Corp アイパターン測定方法およびその装置
JP2021110688A (ja) * 2020-01-15 2021-08-02 株式会社明電舎 半導体素子診断装置および半導体素子診断方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007218737A (ja) * 2006-02-16 2007-08-30 Yokogawa Electric Corp アイパターン測定方法およびその装置
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