JPH0424599Y2 - - Google Patents

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JPH0424599Y2
JPH0424599Y2 JP5640484U JP5640484U JPH0424599Y2 JP H0424599 Y2 JPH0424599 Y2 JP H0424599Y2 JP 5640484 U JP5640484 U JP 5640484U JP 5640484 U JP5640484 U JP 5640484U JP H0424599 Y2 JPH0424599 Y2 JP H0424599Y2
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valve
pressure
chamber
vacuum
evacuated
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は液体クロマトグラフ等が接続された質
量分析装置等に用いて有効な真空排気制御装置の
改良に関する。
第1図は、例えば液体クロマトグラフ等が接続
された質量分析装置に用いられる真空排気制御装
置の構成図である。図中1は質量分析装置のイオ
ン化室を示し、該イオン化室1には試料直接導入
のためのエアロツク室2が接続している。イオン
化室1には、液体クロマトグラフ3等の分析試料
供給源が接続される。該イオン化室1とエアロツ
ク室2との間には隔離弁(図示せず)が設けられ
ている。エアロツク室2には、第1バルブ4を介
して第1油回転ポンプ(以下第1RPと略す)5が
接続されている。6は第2バルブ7を介して接続
された油拡散ポンプ(以下DPと略す)であり、
該DP6には第3バルブ8を介して第2油回転ポ
ンプ(以下第2RPと略す)9が接続されている。
10はエアロツク室2とDP6の間に設けられた
第4バルブである。11はイオン化室1の圧力を
検出するための真空計であり、12は真空計11
よりの高圧側圧力検出信号(例えば5Torr)又は
低圧側圧力検出信号(例えば0.1Torr)に基づい
て第1バルブ、第2バルブ、第3バルブ及び第4
バルブの開閉動作の制御を行なうバルブ制御回路
である。13はバルブ制御回路12にスタート信
号を供給するためのスタートスイツチである。
以上の様に構成された装置において、予め第
1RP5及び第2RP9を駆動し、一定時間経過後ス
タートスイツチ13をオンにすると、バルブ制御
回路12は第3バルブ8を開状態として第2RP9
によりDP6のバツクを排気すると共に第1バル
ブ4を開状態として第1RP5によりエアロツク室
2及びイオン化室1の荒引を開始する(排気モー
ドA)。バルブ制御回路12は、イオン化室1が
第1RP5によつて荒引きされ、高圧側圧力検出レ
ベルである例えば5Torrまで排気されると、真空
計11よりの高圧側圧検出信号によつて第4バル
ブ10を開状態にすると同時に第1バルブ4を閉
状態としてエアロツク室2及びイオン化室1を
DP6による排気に切換える(排気モードB)。こ
こで、DP6による第4バルブ10を経由しての
排気は、エアロツク室2の排気を目的として設け
られたものであるが、DP6による第4バルブ1
0及びエアロツク室2を経由してのイオン化室1
の排気は、第2バルブ7を経由して直接イオン化
室1を排気するより排気速度は低下するが、第1
バルブ4を開状態としての荒引きより、第2バル
ブ7を開状態として本引きに切換える過程中間引
きに利用している。更に、バルブ制御回路12は
真空計11が低圧側圧力検出レベルである例えば
0.1Torrを検出すると第4バルブ10を閉状態と
して第2バルブ7を開状態としてイオン化室1を
中間引きから本引きに切換えてイオン化に適した
圧力に排気する(排気モードC)。
ところで、この様なシーケンスで排気される従
来の装置では、イオン化室1に例えば液体クロマ
トグラフ3が接続された装置では、該液体クロマ
トグラフ3より相当量の試料がイオン化室1内に
流入するため、該イオン化室1は略大気圧まで圧
力が上昇する場合がある。又、イオン化室1また
はエアロツク室2が故障等のためリークしている
場合は排気してもなかなか圧力が低下せず、略大
気圧まで圧力が上昇することがある。そのため、
第1バルブ4を閉状態として第4バルブ10を開
状態とする荒引きより中間引きに移行する時の高
圧側圧力検出レベルの設定が難しい。つまり、高
圧側圧力検出レベルを圧力の高い方で設定する
と、装置故障等による異常リークでも、第4バル
ブ10を開状態としてしまうことになりDP6の
損傷を招く結果となる。又、逆に高圧側圧力検出
レベルを圧力の低い方で設定すると、第1RP5で
荒引きを開始しても、いつまでも圧力が低下しな
いため第4バルブ10が開状態にならず、従つて
荒引きより中間引きに移行しない。更に、第4バ
ルブ10を閉状態とし第2バルブ7を開状態とし
て中間引きから本引きに移行する場合でも同様で
ある。この様に従来装置においては、真空計11
よりの圧力検出信号のみで排気モードA,B,C
の切り換えが行なわれているため、各バルブを開
閉するための圧力値の設定を行う際に、導入され
る試料量による圧力上昇を基準にするかあるいは
リークによる圧力上昇を基準にするか区別するの
が難しいという欠点があつた。
本考案は以上の点に鑑みなされたもので、被排
気室と、該被排気室を第1のバルブを介して排気
する低真空用の第1の真空ポンプと、前記被排気
室を第2のバルブを介して排気する高真空用の第
2の真空ポンプと、前記被排気室の圧力を検出す
る真空計と、該真空計からの検出信号に基づき前
記被排気室の圧力が所望の圧力に達したとき前記
第1のバルブを閉じると共に、第2のバルブを開
放させるバルブ制御手段とを備え、被排気室を複
数の排気モードに切換えて排気する装置におい
て、第1のバルブの開放から予め設定された時間
経過後に前記第2のバルブを被排気室の圧力に関
係なく強制的に開放するバルブ開放手段と、第2
のバルブが開放されてから所定時間経過後真空計
からの検出信号に基づき前記被排気室の圧力が所
望の圧力に達したか否かを判別する判別手段と、
該判別手段により被排気室の圧力が所望の圧力に
到達していないと判断されたとき該判別手段から
の信号に基づき第2のバルブを閉じるバルブ閉鎖
手段とを設けたことを特徴としている。
以下本考案の実施例を添付図面に基づき詳述す
る。
第2図は本考案の一実施例の構成図である。第
1図と同一部分には同一番号を付してその説明を
省略する。第2図において、14,15,16は
それぞれタイマーである。第1タイマー14は第
1バルブ4の開放と同時に動作して第4バルブ1
0を開状態にするまでの時間T1を設定するため
のタイマーである。第2タイマー15は第4バル
ブ10の開放と同時に動作し第2バルブ7を開状
態にするための信号を発生させると同時に第4バ
ルブ10を閉状態にする時間T2を設定するため
のタイマーである。又、第3タイマー16は第2
バルブ7の開放と同時に動作し、該第2バルブ7
を閉状態にする時間T3を設定するためのタイマ
ーである。17はそれぞれのタイマーよりの信号
に基づいて時間管理下で各バルブを開閉するため
の開閉信号を発生する第2のバルブ制御回路であ
る。18及び19はバルブ制御回路12よりのバ
ルブ開閉信号aと第2のバルブ制御回路17より
のバルブ開閉信号bとの論理和をとる論理和回路
である。
この様に構成された装置での動作を第3図によ
り説明する。
先ず、予め第1RP5及び第2RP9を駆動し、一
定時間経過した後スタートスイツチ13をオンに
すると、バルブ制御回路12は開閉信号aにより
第3バルブ8と開放信号bにより第1バルブ4を
開状態にする。これにより、第2RP9によりDP
6バツクの排気と第1RP5によりエアロツク室2
及びイオン化室の荒引きが開始され(排気モード
A)、第1バルブ4の開状態によつて第1タイマ
ー14が動作する。この第1タイマー14には、
第1バルブ4の開放後、第4バルブ10を開状態
とするまでの時間T1が設定されている。この時
間T1は、第1RP5の排気よりDP6の排気に切換
える場合に、DP6の排気作用を損わない圧力に
達する時間(この時間は経験的に基づいて決定す
る)、例えば数分が設定されている。この設定時
間T1が経過すると、第2のバルブ制御回路17
は、真空計11の圧力検出信号に関係なく開放信
号cを論理和回路18を介して第4バルブ10に
供給して時間管理下で第4バルブ10を開状態と
しDP6と第1RP5の排気を並行させると共に第
2タイマー15を動作させる(排気モードA+
B)。このDP6による排気援助によりシオン化室
1の圧力は低下するが、真空計11の高圧側圧力
検出レベルである例えば5Torrに達すると、バル
ブ制御回路12は真空計11の圧力検出信号によ
り圧力管理下で第1バルブ4を閉状態とすると共
に開放信号dを論理和回路18を介して第4バル
ブ10に供給する(この時、第4バルブ10はす
でに第2のバルブ制御回路17によりタイマー1
5に設定された時間T2の時間管理下で開状態と
なつている)。設定時間T2が経過すると第2のバ
ルブ制御回路17は、真空計11の圧力検出信号
に関係なく開放信号eにより第2バルブ7を時間
管理下で開状態とすると共に第2バルブ7を設定
時間T3で管理するためのタイマー16を動作さ
せる。このDP6の第4バルブ10と第2バルブ
7を介しての排気により、イオン化室1内は低圧
側圧力検出レベルである例えば0.1Torrまで低下
する(排気モードB+C)。イオン化室1内が低
圧側圧力検出レベルまで低下すると、バルブ制御
回路12は真空計11の低圧側圧力検出信号によ
り圧力管理下で第4バルブ10を閉状態とし開放
信号fを論理和回路19を介して第2バルブ7に
供給し第2バルブ7を開状態にする(この時、第
2バルブ7はすでに第2のバルブ制御回路17に
よりタイマー16に設定された時間T3の時間管
理下で開状態となつている)。以後、DP6により
第2バルブ7のみを介しての本引に移向してイオ
ン化に適した圧力まで排気する(排気モードC)。
この様に構成された装置では、例えば第1バル
ブ4が開状態で第4バルブ10も開状態として第
1RP5とDP6の並列排気(排気モードA+B)
で排気しても、故障等の原因で圧力が高圧側圧力
検出レベルである例えば5Torrまで低下しない場
合は真空計11よりの高圧側圧力検出信号は発生
しない。従つて、第2のバルブ制御回路17は第
1バルブを開状態(排気モードA)のままタイマ
ー15に設定された時間T2経過した時点で第4
バルブ10を閉状態にする。同様に、例えば第4
バルブ10が開状態で第2バルブ7も開状態(排
気モードB+C)としてDP6で排気しても、故
障等の原因で圧力が低圧側圧力検出レベルである
例えば0.1Torrまで低下しない場合は真空計11
よりの低圧側圧力検出信号は発生せず、従つて、
第4バルブ10は開状態(排気モードB)のまま
で、この様な場合にも、第2バルブ制御回路17
によりタイマー16に設定された時間T3が経過
した時点で第2バルブ7は閉状態となる。そのた
め、いずれの場合もイオン化室1の圧力が、何ら
かの原因で検出レベルまで低下しない場合は、各
タイマーによる時間管理によつて第2のバルブ制
御回路17が第2バルブ7及び第4バルブ10を
閉状態とするためDP6に損傷を与えることはな
い。この様に、真空計11よりの圧力検出信号と
タイマー回路よりの信号により排気モードの切り
換えが行なわれているため、各バルブを開閉する
ための圧力値の設定はあまり厳密に設定しなくて
もよい。又、圧力管理下では排気モードが切り替
わらない場合でも時間管理下で切り換えて進行さ
せることができる。更に、時間管理と圧力管理で
排気モードを切り換えているため、何らかの原因
でイオン化室の圧力が上昇した場合にはタイマー
回路よりの信号により第2バルブ7が閉状態とな
るため、時間でのみ管理する場合に比較してイオ
ン化室1の汚染や、DP6の損傷を防止すること
ができる。
尚、本実施例は例示であり、例えば設定時間
T2及び設定時間T3の時間内に真空計11よりの
圧力検出信号が発生しない場合には警報を発する
ようにしてもよい。
以上の様に本考案は質量分析装置等の真空排気
制御装置において、真空計よりの圧力検出信号と
タイマー回路よりの時間設定信号とによりバルブ
開閉制御を行なう様に構成されているため、各バ
ルブを開閉するための圧力値を厳密に設定する必
要がなく、更にはイオン化室の汚染とDPの破損
を防止した装置を提供する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来装置の構成図、第2図は本考案の
一実施例の構成図、第3図は本考案を説明するた
めのタイムチヤートである。 1……イオン化室、2……エアロツク室、3…
…液体クロマトグラフ、4,7,8,10……バ
ルブ、5,9……油回転ポンプ、6……油拡散ポ
ンプ、11……真空計、12……バルブ制御回
路、13……スイツチ、14,15,16……タ
イマー、17……第2のバルブ制御回路、18,
19……論理和回路。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 被排気室と、該被排気室を第1のバルブを介し
    て排気する低真空用の第1の真空ポンプと、前記
    被排気室を第2のバルブを介して排気する高真空
    用の第2の真空ポンプと、前記被排気室の圧力を
    検出する真空計と、該真空計からの検出信号に基
    づき前記被排気室の圧力が所望の圧力に達したと
    き前記第1のバルブを閉じると共に、第2のバル
    ブを開放させるバルブ制御手段とを備え、被排気
    室を複数の排気モードに切換えて排気する装置に
    おいて、第1のバルブの開放から予め設定された
    時間経過後に前記第2のバルブを被排気室の圧力
    に関係なく強制的に開放するバルブ開放手段と、
    第2のバルブが開放されてから所定時間経過後真
    空計からの検出信号に基づき前記被排気室の圧力
    が所望の圧力に達したか否かを判別する判別手段
    と、該判別手段により被排気室の圧力が所望の圧
    力に到達していないと判断されたとき該判別手段
    からの信号に基づき第2のバルブを閉じるバルブ
    閉鎖手段とを設けたことを特徴とする真空排気制
    御装置。
JP5640484U 1984-04-17 1984-04-17 真空排気制御装置 Granted JPS60168255U (ja)

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JP5640484U JPS60168255U (ja) 1984-04-17 1984-04-17 真空排気制御装置

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JPS60168255U JPS60168255U (ja) 1985-11-08
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2503234B2 (ja) * 1987-08-19 1996-06-05 日本電子株式会社 高真空排気制御装置
JP2551968B2 (ja) * 1988-03-18 1996-11-06 日本電子株式会社 真空装置における排気系

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JPS60168255U (ja) 1985-11-08

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