JPH04239718A

JPH04239718A - 電子ビーム描画装置

Info

Publication number: JPH04239718A
Application number: JP659191A
Authority: JP
Inventors: Shoji Tanaka; 田中　勝爾
Original assignee: Toshiba Machine Co Ltd
Current assignee: Shibaura Machine Co Ltd
Priority date: 1991-01-23
Filing date: 1991-01-23
Publication date: 1992-08-27

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ラスタスキャン方式，
ベクタスキャン方式及び可変成形ビーム方式の電子ビー
ム描画技術を応用して、シャドウマスクや液晶ディスプ
レイの原板を作成する技術に係わり、特に大型基板に同
種図形を格子状に配列したマスクを製作するのに適した
電子ビーム描画装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＣＲＴのシャドウマスクや液晶ディスプ
レイなどを大量生産するための原板となるフォトマスク
は、従来から光学式プロッタで製作されている。この光
学式プロッタの一例を、図１を参照して簡単に説明する
。

【０００３】光源１，照明レンズ２，シャッタ３及び対
物レンズ４からなる縮小投影光学系を用いて、タレット
５にセットしたアパーチャ６のイメージを、Ｘ−Ｙテー
ブル７上に搭載した基板８に投影する。アパーチャ６と
して、円や矩形で種々のサイズの穴のあいたものを個別
に用意しておき、タレット５に複数個セットしておけば
、タレット５を回転させることにより所望形状のアパー
チャ６を自動選択できる。なお、図示していないがアパ
ーチャ６もタレット５上で小さな範囲で回転されるもの
となっている。

【０００４】このプロッタでの描画法は概略次の通りで
ある。広い面を照射する場合は、大口径のアパーチャを
選んでＸ−Ｙテーブルをラスタスキャン状に移動させる
。直線や曲線を描く場合は、その線幅を与える円や矩形
のアパーチャを選んで、所望の軌跡を照射するようにＸ
−Ｙテーブルを移動する。アパーチャ・イメージをその
まま照射する場合は、Ｘ−Ｙテーブルを所望の座標に位
置決めしてスポット照射する。

【０００５】このように全て機械的な動きによる作画法
であり、入力データ形式もこのプロッタの作画法にマッ
チした形式で、基本的にはアパーチャ選択とその回転角
を指示するデータ，Ｘ−Ｙテーブル移動の軌跡とその速
度を指示するデータ及びシャッタ動作による照射時間を
指示するデータの組み合わせで成り立っている。

【０００６】図２に、シャドウマスクの特徴を示す。（ａ）はシャドウマスク全面において、基本図形を配置
する様子を示している。中心Ｏを通る座標軸Ｘ，Ｙに線
対称であるが、軸から遠ざかる程、弓状（ＢＯＷ）にカ
ーブした配列となる。（ｂ）（ｃ）は、それぞれ基本図
形の１つを示している。円は方位性が無いので、回転さ
せる必要はない。矩形は方位性があるため、ＢＯＷの接
線方向を向くように回転させる必要がある。（ｄ）はグ
レーディングを誇張して説明した図である。グレーディ
ングとは、同一図形でも段階的にサイズを変えて配列す
ることであり、概略では中心Ｏから遠ざかる程大きくす
る。

【０００７】しかしながら、この種の装置にあっては次
のような問題があった。第１は、描画速度が低いことで
ある。従来技術は、全て機械的な動きに頼った作画法で
あり、その質量に起因する低速性は宿命的である。特に
、近年は高分解能ディスプレイのニーズが多く、そのた
め照射する図形の数が増大している。ステップアンドリ
ピート方式に頼らざるを得ないこの描画法では、１枚の
シャドウマスク原板の描画に数日〜１週間も要する例も
ある。

【０００８】第２は、描画精度が低いことである。Ｘ−
Ｙテーブルの位置決め精度は直接図形の位置精度になり
、照射時の振動は輪郭のボケになる。位置分解能　０．
１μｍ　のオーダでも位置決め精度は高々±　０．３〜
０．５　μｍ　である。人間の視覚に作用するディスプ
レイにおいて、この精度は量的には微々たるものである
が、これがある集団となると画質を低下させる重大な問
題となる。図２（ａ）において基本図形を格子配列の行
又は列に沿って順に照射した場合、テーブル位置決めの
性向から行又は列の単位でほぼ均質の位置誤差を持つ。これがディスプレイ上でスジ状のムラとなって人間の目
に映る。

【０００９】これを避けるために個々の図形位置を、例
えば±　０．５〜０．７　μｍ　の単位でランダムにＸ
−Ｙ方向にシフトさせ、且つ図形の照射順序を行や列の
順とせずにランダムに行っている。その結果として、ム
ラは解消しても図形の位置精度は一層悪くなることから
、画面全域の鮮度の低下をもたらす。

【００１０】第３は、グレーディングが不可であること
である。グレーディングをするためには、微小に図形サ
イズの異なる非常に多くのアパーチャを作り、タレット
にセットできなければならない。従って、このプロッタ
による描画では実施せず、後工程で行っている。例えば
、原板から光学的転写法でワーキングマスクを作る際に
光学的に中心Ｏから遠ざかる程ぼかし、結果として周辺
に向って図形サイズが段階的に大きくなるという非計測
的なプロセスを通している。

【００１１】一方、半導体集積回路製造用のフォトマス
ク製作には、従来から電子ビーム描画装置が広く使用さ
れている。この装置が本来的に持つ高速性と高精度は、
シャドウマスクや液晶ディスプレイ製造用のマスク製作
にも当然より適している。しかし、特にシャドウマスク
の特徴である基本図形を格子状配列し、その配列位置に
より回転角やサイズを変更する必要のあるパターンを従
来通りに作成していたのでは膨大なデータ量となり、そ
のデータ作成に要する時間も多くなり非能率的である。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】このように従来、シャ
ドウマスクの原板としてのフォトマスクを製造するのに
、光学式プロッタを用いた場合、機械的動きに頼った作
画法であることから描画速度及び描画精度が低いと言う
問題があった。また、電子ビーム描画装置をこの種のマ
スクの製造に用いるには解決すべき多くの問題が残って
おり、未だ実用化されていないのが現状である。

【００１３】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、電子ビーム描画技術を
用いてシャドウマスクの原板などを作成することができ
、描画速度及び描画精度の向上をはかり得ると共に、デ
ータ量の低減及びデータ作成時間の短縮をはかり得る電
子ビーム描画装置を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、シャド
ウマスクの原板などの作成に電子ビーム描画装置を用い
ることにあり、特に各々の配列図形を（基本図形＋変化
分）に分離することにより、データ量やデータ作成時間
を削減することにある。

【００１５】即ち本発明は、被描画基板を搭載するＸ−
Ｙテーブルと、被描画基板に描画すべき図形情報を記憶
する記憶手段と、電子ビームをオン・オフ制御するブラ
ンカーと、電子ビームをＸ−Ｙ方向に偏向する偏向器と
、この偏向器を駆動して電子ビームをラスタスキャンす
るための第１の偏向回路とを有し、記憶手段から読出し
た図形情報をラスタイメージに変換したデータでブラン
カーを制御することにより、基板上に所望の図形を描画
するラスタスキャン方式の電子ビーム描画装置において
、前記記憶手段に記憶された基本図形を回転させて描画
するための第２の偏向回路を設け、該第２の偏向回路に
図形回転情報を与えることにより、前記記憶手段に記憶
された基本図形を繰返し用い、該基本図形を回転させた
図形を描画することを特徴としている。

【００１６】また本発明は、被描画基板を搭載するＸ−
Ｙテーブルと、被描画基板に描画すべき図形情報を記憶
する記憶手段と、電子ビームをオン・オフ制御するブラ
ンカーと、電子ビームを成形する成形手段と、この手段
により成形されたビームをＸ−Ｙ方向に偏向する偏向器
と、この偏向器を駆動して成形ビームを位置決めするた
めの第１の偏向回路とを有し、記憶手段から読出した図
形情報で基板上に所望の図形を描画する可変成形ビーム
方式の電子ビーム描画装置において、前記記憶手段に記
憶された基本図形に回転とスケーリングの少なくとも一
方を与えて描画するための第２の偏向回路を有し、該第
２の偏向回路に図形の回転情報とスケーリング情報の少
なくとも一方を与えることにより、前記記憶手段に記憶
された基本図形を繰返し用い、該基本図形を回転や縮小
拡大した図形を描画することを特徴としている。

【００１７】

【作用】本発明によれば、シャドウマスクや液晶ディス
プレイのフォトマスク原板を作る際に、電子ビーム描画
装置本来の高速，高精度である特性が生かされる。この
ため、シャドウマスクや液晶ディスプレイのフォトマス
ク原板を速い描画速度及び高い描画精度で描画すること
ができ、経済的にも品質向上の上からも有効である。こ
れに加えて、第２の偏向回路を設け、結果として各々の
配列図形を（基本図形＋変化分）に分離しているので、
データ量やデータ作成時間を１／１０のオーダに削減す
ることができる。従って、シャドウマスクや液晶ディス
プレイのフォトマスク原板を作る際に、データ量の低減
及びデータ作成時間の短縮をはかることが可能となる。

【００１８】

【実施例】まず、実施例を説明する前に、本発明の基本
原理について説明する。

【００１９】電子ビーム描画装置をシャドウマスク原板
などの作成に応用する場合、Ｘ−Ｙテーブル及びその収
納用真空室を大型化しなければいけないことは勿論であ
るが、本発明で解決しようとしている項目は下記の通り
、（１）　全図形を（基本図形＋その変更）として取扱
えるようにする。

【００２０】図３に、電子ビーム描画装置における図形
表現形式の例を示している。この形式は（ａ）に示す台
形を基本とし、別に使用頻度の高い矩形（ｂ）もデータ
量を減らすために用いている。各々の寸法表示に２バイ
ト必要であるため１図形当りのデータ量は、台形で１２
バイト、矩形で８バイトとなる。図４に、シャドウマス
クの基本図形に用いられる図形を示す。この図形表現に
は（ａ）の回転のある矩形で３６バイト、（ｂ）の円で
は　１００バイト以上必要である。

【００２１】一方、最近の高分解能カラーディスプレイ
においては１０００万図形を越えるものがあり、この場
合矩形であっても　３６０Ｍバイトを越えるデータ量に
なる。ディスプレイが一般的にＸ，Ｙの中心線に対して
線対称のパターンであることから１／２又は１／４のエ
リアのデータを用意し、これを対称軸に関してミラー反
転させて全域を描画するというデータの削減方法は実施
されている。

【００２２】しかし、この場合でも９０Ｍバイト以上の
データ量となる。これを例えば基本図形＋その変更（座
標，回転など）とする表現形式とし、この形式によるデ
ータを入力してＥＢ描画するハードウェアを実現すれば
更に１／５程度にデータ量を削減できる。

【００２３】（２）　図形単位にスケーリングできるよ
うにする。

【００２４】グレーディングを施したシャドウマスク原
板を、ＥＢ描画時に作成できれば工程は短縮でき、設計
的に意図された数値で制御できるため、より品位の向上
がはかれる。具体的には、図５に示すように単位図形Ｆ
にスケールファクタＳｆ　を与えることによって、図形
中心Ｏを不動点とした縮小又は拡大図形Ｆ′が描画でき
る機能があればよい。

【００２５】以下、図面を参照して本発明の実施例を説
明する。

【００２６】図６は、本発明の一実施例に係わるラスタ
スキャン方式の電子ビーム描画装置を示す概略構成図で
ある。ＣＰＵ１１は制御プログラムをディスク１４から
主メモリ１２にロードし、以後制御プログラムが描画シ
ーケンスを統括制御する。コンソール１３は、オペレー
タ用操作端末である。電子光学系制御ユニット１５は、
電子光学鏡筒３０の電子銃３１のカソードヒーティング
，電子加速を制御すると共に、第１コンデンサレンズ３
２，第２コンデンサレンズ３３，対物レンズ３４等に安
定化電源を供給し、電子ビームの経路，電流値，直径等
を自動調節する。パターンプロセッサ１６は、ディスク
１４に準備されている図形データを入力してビットパタ
ーンに変換し、ラスタデータをドライバ２０に送り、ブ
ランキング用偏向器３５を駆動する。偏向制御ユニット
１７は、電子ビームを走査するための偏向幅等の制御パ
ラメータを発生し、アンプユニット２１に送る。アンプ
ユニット２１は、制御パラメータをＤ／Ａ変換，増幅し
てビーム走査用偏向器３６を駆動する。スキャンコント
ローラ１８は、レーザ干渉計２２が検知するＸ−Ｙテー
ブル３８の変位量に比例するパルスをカウントしてテー
ブルの現在位置を把握し、これをＣＰＵ１１が何時でも
読取れるようにする。さらに、主走査（Ｘ方向）と副走
査（Ｙ方向）をするためのタイミング信号を発生し、こ
れを偏向制御ユニット１７及びパターンプロセッサ１６
に送る。

【００２７】なお、図６には示していないが、本装置に
は基板３７のロード／アンロードを行うオートローダシ
ステム、電子光学鏡筒３０や描画室３９内を真空にした
り吸気したりするための真空制御システム、反射電子や
２次電子を検出して電子ビームの電流や直径を調節する
ための電子検出器及びこれらのアンプとＡ／Ｄ変換器か
らなるセンサユニット等が設けられている。さらに、上
記センサユニット、偏向制御ユニット１７及びスキャン
コントローラ１８を用い、偏向感度や偏向回転を測定す
るためのマークがＸ−Ｙテーブル３８上に形成されてい
る。

【００２８】図７は、不特定パターンを描画するための
通常の方法を示している。図３の形式で表わす図形デー
タは、描画エリアをセルと呼ぶ矩形に分割されてディス
ク１４にストアされている。セルはテーブルの停止時に
偏向器で走査できるエリアである。（ａ）の点線はテー
ブルのステップ送りで描画が進行する経路を示している
。（ｂ）は偏向の主走査（Ｘ）と副走査（Ｙ）による電
子ビームの経路を示している。

【００２９】ＣＰＵ１１は各々のセルの描画前にディス
ク１４からパターンプロセッサ１６へそのセルの図形デ
ータを送り、パターンプロセッサ１６は図形データをビ
ットパターンに変換する。これと同時に、ＣＰＵ１１は
テーブル制御ユニット１９にそのセルの中心座標を与え
、テーブル制御ユニット１９はそこへテーブルを位置決
めする。テーブルがほぼ停止した時点でスキャンコント
ローラ１８は、タイミング信号をパターンプロセッサ１
６と偏向制御ユニット１７に送り出す。このタイミング
信号は１０２４回等時間間隔で発生するが、これに同期
して偏向制御ユニット１７は主偏向（Ｘ）の走査をし、
パターンプロセッサ１６は１ラスタデータである１０２
４ビットのブランキングデータをドライバ２０へ直列転
送する。１０２４スキャンすることにより、１回のテー
ブル停止時に１０２４×１０２４アドレスのエリアを描
画する。テーブル停止時の位置誤差及び描画中のテーブ
ル振動はスキャンコントローラ１８でチェックされ、こ
れを補正するための位置誤差補正データが偏向制御ユニ
ット１７に送られ、基板と電子ビーム間の相対位置ずれ
を絶えず修正している。

【００３０】図８で、本発明が実現しようとしている描
画方法を説明する。（ａ）が目指す描画方法であるが、
図形データは基本図形１つ分のみで、これがパターンプ
ロセッサ１６でビットパターンに変換されてメモリ内に
あり、繰り返して使用される。（ｂ）はテーブルのステ
ップ送りを説明している。（ｃ）は基本図形に変換ｇ（
θ，Ｓｆ　）を与えた写像を作って描画することを説明
しており、

【００３１】

【数１】

【００３２】なる変換をすればよい。なお、θは、高々
±０．１５ラジアンの範囲でよい。

【００３３】ビーム走査をアナログ積分器を用いた鋸歯
状波信号で行う場合、図９に示すように偏向開始位置（
ｘ，ｙ）と偏向幅ｗがアナログ入力になる。従って写像
の偏向開始位置（ｘ′，ｙ′）は　（１）式で与えられ
るが偏向幅（ｗｘ　′，ｗｙ　′）は次の式で与えられ
る。

【００３４】ｗｘ　′＝　　Ｓｆ　ｃｏｓθ・ｗｗｙ　
′＝　　Ｓｆ　ｓｉｎθ・ｗ　　　　　　　　　　…　
（２）ここで、本発明は写像を得るのに（基本図形＋変
化分）とする方法に関するものであり、ｘ′　　＝ｘ＋Δｘ　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　…　（３）ｙ′　　＝ｙ＋Δｙ　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　…　（４）ｗｘ　′＝ｗ＋
Δｗｘ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　…　（
５）ｗｙ　′＝０＋Δｗｙ　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　…　（６）として、Δｘ，Δｙ，Δｗｘ　
，Δｗｙ　を発生する機能を追加し、この出力を本来電
子ビーム装置が持っている偏向信号に加算することを特
徴としている。　（１）〜（６）　式から変化分は次の
式で与えられる。

【００３５】　　　　　　Δｘ＝（Ｓｆ　ｃｏｓ　θ−１）ｘ−Ｓｆ
　ｓｉｎ　θ・ｙ　　　　…　（７）　　　　　　　　
Δｙ＝Ｓｆ　ｓｉｎ　θ・ｘ＋（Ｓｆ　ｃｏｓ　θ−１
）ｙ　　　　…　（８）　　　　　　　　Δｗｘ　＝（
Ｓｆ　ｃｏｓ　θ−１）ｗ　　　　　　　　　　　　　
　　　　　…　（９）　　　　　　　　Δｗｙ　＝−Ｓ
ｆ　ｓｉｎ　θ・ｗ　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　…　（１０）　実際には、テーブル座標軸
と偏向座標軸の不平行を補正すべく　（７）〜（１０）
式にこの補正項が加わるが、それを省略して説明してお
り、図１０においても省略している。

【００３６】図１０は、ラスタスキャン電子ビーム描画
装置における実施例で、実線で囲まれた枠内が従来のア
ンプユニット（第１の偏向回路）である。Ｗは偏向幅デ
ータ、Ｘ，Ｙは偏向開始位置データで、本実施例で各々
２進１６ビットの並列データである。これらは、ＣＰＵ
１１及び偏向制御ユニット１７でゲイン，オフセット，
テーブル座標軸と偏向座標軸間の不平行補正、及びテー
ブル振動補正をしたデータであり、Ｗは通常一定値とな
る。第ｎスキャンのためのデータは、第ｎリセット信号
と同時に信号ＬＤ４でラッチＬ（ｘ），Ｌ（ｙ）にロー
ドされ、リセット中にＤＡＣ（ｘ），ＤＡＣ（ｙ）でＤ
／Ａ変換される。積分器Ｉ（ｗ）はリセットが解除され
ると積分を開始し、ランプ（傾斜）出力を発生する。Ｉ
（ｗ）の出力とＩ／Ｖ変換器であるＯＰ（ｘ）の出力が
ＡＤＤ（ｘ）で加算され、ＡＭＰ（ｘ）で増幅してＸ偏
向器にコンプリメンタリー出力を印加している。

【００３７】図１０の実線で囲まれた枠外が本発明にか
かわる部分（第２の偏向回路）である。なお、図中破線
で囲んだ領域Ａは、図１４に示すように構成されている
。（Ｓｆ　ｃｏｓ　θ−１），Ｓｆ　ｓｉｎ　θ及び（
９）（１０）式で得られるΔｗｘ　，Δｗｙ　は照射す
る図形単位で変わるデータであり、ＣＰＵ１１で事前に
計算できる。（７）（８）式から得られるΔｘ，Δｙは
スキャン単位で変わるデータなので、ハードウェアで演
算している。演算はディジタル乗算器及び加算器を用い
ＬＤ１〜ＬＤ３の３つのクロックで途中の演算結果をラ
ッチに保持しながら、ＬＤ４で演算結果をラッチＬ（Δ
ｘ），Ｌ（Δｙ）にロードしている。同様に、Δｗｘ　
，Δｗｙ　はラッチＬ（Δｗｘ　），Ｌ（Δｗｙ　）に
ロードしている。

【００３８】以下では、枠内回路と同様の説明になるの
で省略するが、枠外の加算器ＡＤＤ（ｘ），ＡＤＤ（ｙ
）の出力がそれぞれ枠内のＡＤＤ（ｘ）、ＯＰ（ｙ）の
出力と加算されることにより、式　（３）〜（６）　が
回路内で実現される。

【００３９】このように本実施例によれば、電子ビーム
をラスタスキャンするための第１の偏向回路と共に、基
本図形を回転させて描画するための第２の偏向回路を設
けて、第２の偏向回路に図形の回転情報を与えることに
より、基本図形を繰返し用いて基本図形を回転させた図
形を描画することができる。即ち、各々の配列図形を（
基本図形＋変化分）に分離することにより、データ量や
データ作成時間を１／１０のオーダで削減することがで
きる。従って、特定の基本図形とその変形として取扱い
得るシャドウマスクや液晶ディスプレイのフォトマスク
原板も、従来の機械式プロッタに比較して格段に高速か
つ高精度に製作でき、さらに基本図形を用いた電子ビー
ム描画におけるデータ量の低減及びデータ作成時間の短
縮をはかり得る。このため、今後ますます市場が拡大す
るディスプレイ機器への貢献は多大である。

【００４０】図１１及び図１２は、本発明を可変成形ビ
ーム方式の電子ビーム装置に適用した例を示している。図１１（ａ）は正方形の成形ビームをタイル状に配列し
て作られる基本図形でこれを（３）（４），（７）（８
）　式で変換した写像が（ｂ）であることを示している
。成形ビームはＳｆ　倍したサイズに変換される（図示
せず）。

【００４１】図１２の枠内は従来のアンプユニット（第
１の偏向回路）である。Ｘ，ＹはＣＰＵ１１及び偏向制
御ユニット１７で各種の補正をされた２進並列データで
ある。Ｘ，Ｙの値をステップ状に変化させて、成形ビー
ムを照射する。偏向器は８極配置で低歪の電界を作って
いる。図１２の枠外が本発明にかかわる部分（第２の偏
向回路）である。（Ｓｆ　ｃｏｓ　θ−１），Ｓｆ　ｓ
ｉｎ　θは、照射する図形単位で変わるデータでありＣ
ＰＵ１１で事前に計算できる。（７）（８）式で得られ
るΔｘ，Δｙはビームのステップ送り単位で変わるデー
タなので、ハードウェアで演算している。この演算回路
は、図１０の場合と基本的には同じである。

【００４２】このような構成であっても、各々の配列図
形を（基本図形＋変化分）に分離することにより、デー
タ量やデータ作成時間を削減することができ、先の実施
例と同様の効果が得られる。

【００４３】図１３は、図１０の方式の変形で第２の偏
向器を追加して同じ目的を達成している。即ち、第２の
偏向回路の出力を第１の偏向回路の出力に加算するので
はなく、第１の偏向器とは別に第２の偏向器を設け、第
２の偏向回路の出力を第２の偏向器に印加することによ
り、基本図形を回転させている。このような構成でも、
先の実施例と同様の効果が得られる。また、図示はしな
いが、図１２に関しても同様に、第２の偏向器を追加し
て同様に目的を達成することができる。

【００４４】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、電
子ビームをラスタスキャン又は偏向する偏向器を駆動す
るための第１の偏向回路とは別に、基本図形を回転させ
て描画するための第２の偏向回路を設け、各々の配列図
形を（基本図形＋変化分）に分離しているので、データ
量やデータ作成時間等を削減することができる。従って
、電子ビーム描画技術を用いてシャドウマスクの原板な
どを作成することができ、描画速度及び描画精度の向上
をはかり得ると共に、データ量の低減及びデータ作成時
間の短縮をはかることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来から使われている大型マスク製作用のプロ
ッタの概略構成を示す。

【図２】シャドウマスクのパターンの特徴を示す。

【図３】電子ビーム描画装置が入力する図形の表現形式
例を示す。

【図４】シャドウマスクの基本図形に用いられる図形を
示す。

【図５】図形のスケーリングの様子を示す。

【図６】本発明の実施例であるラスタスキャン方式電子
ビーム描画装置の概略構成を示す。

【図７】図６の電子ビーム描画装置で通常の不特定パタ
ーンを描画する場合の描画法を示す。

【図８】図６の電子ビーム描画装置で本発明になるシャ
ドウマスク原板を描画する場合の描画法を示す。

【図９】図６の電子ビーム描画装置で本発明になるシャ
ドウマスク原板を描画する場合の描画法を示す。

【図１０】図６の電子ビーム描画装置に適用した本発明
の具体的な回路構成を示す。

【図１１】本発明を可変成形ビーム方式電子ビーム描画
装置に応用する場合の描画法を示す。

【図１２】本発明を可変成形ビーム方式電子ビーム描画
装置に応用した場合の具体的な回路構成を示す。

【図１３】図１０の変形で第２の偏向器を追加した回路
構成を示す。

【図１４】図１０，図１２及び図１３の要部構成を示す
図。

【符号の説明】

１１…ＣＰＵ、１２…主メモリ、１３…コンソール、１
４…ディスク、１５…電子光学系制御ユニット、１６…
パターンプロセッサ、１７…偏向制御ユニット、１８…
スキャンコントローラ、１９…テーブル制御ユニット、
２０…ドライバ、２１…アンプユニット、２２…レーザ
測長系、３０…電子光学鏡筒、３１…電子銃、３２…第
１コンデンサレンズ、３３…第２コンデンサレンズ、３
４…対物レンズ、３５…ブランキング用偏向器、３６…
ビーム走査用偏向器、３７…基板、３８…Ｘ−Ｙテーブ
ル、３９…描画室。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被描画基板を搭載するＸ−Ｙテーブルと、
被描画基板に描画すべき図形情報を記憶する記憶手段と
、電子ビームをオン・オフ制御するブランカーと、電子
ビームをＸ−Ｙ方向に偏向する偏向器と、この偏向器を
駆動して電子ビームをラスタスキャンするための第１の
偏向回路とを具備し、前記記憶手段から読出した図形情
報をラスタイメージに変換したデータで前記ブランカー
を制御することにより、前記基板上に所望の図形を描画
するラスタスキャン方式の電子ビーム描画装置において
、前記記憶手段に記憶された基本図形を回転させて描画
するための第２の偏向回路を設け、該第２の偏向回路に
図形の回転情報を与えることにより、前記記憶手段に記
憶された基本図形を繰返し用い、該基本図形を回転させ
た図形を描画することを特徴とする電子ビーム描画装置
。
【請求項２】被描画基板を搭載するＸ−Ｙテーブルと、
被描画基板に描画すべき図形情報を記憶する記憶手段と
、電子ビームをオン・オフ制御するブランカーと、電子
ビームを成形する成形手段と、この手段により成形され
たビームをＸ−Ｙ方向に偏向する偏向器と、この偏向器
を駆動して成形ビームを位置決めするための第１の偏向
回路とを具備し、前記記憶手段から読出した図形情報で
前記基板上に所望の図形を描画する可変成形ビーム方式
の電子ビーム描画装置において、前記記憶手段に記憶さ
れた基本図形に回転とスケーリングの少なくとも一方を
与えて描画するための第２の偏向回路を設け、該第２の
偏向回路に図形の回転情報とスケーリング情報の少なく
とも一方を与えることにより、前記記憶手段に記憶され
た基本図形を繰返し用い、該基本図形を回転や縮小拡大
した図形を描画することを特徴とする電子ビーム描画装
置。
【請求項３】第２の偏向回路の出力は、第１の偏向回路
に加算されることを特徴とする請求項１又は２に記載の
電子ビーム描画装置。
【請求項４】前記偏向器は第１及び第２の偏向器からな
り、第１の偏向器は第１の偏向回路により駆動され、第
２の偏向器は第２の偏向回路により駆動されることを特
徴とする請求項１又は２に記載の電子ビーム描画装置。