JPH04230232A - ベンジルケトン類の製造方法およびオキシランの製造方法 - Google Patents
ベンジルケトン類の製造方法およびオキシランの製造方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 64
- YFKBXYGUSOXJGS-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenyl-2-propanone Chemical class C=1C=CC=CC=1CC(=O)CC1=CC=CC=C1 YFKBXYGUSOXJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 25
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 61
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 29
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 27
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 25
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 claims abstract description 20
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 8
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 179
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 36
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 27
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 19
- 125000004438 haloalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- POYMFKJUYZDXAT-UHFFFAOYSA-N 1-(4-iodophenyl)pyrrolidine Chemical compound C1=CC(I)=CC=C1N1CCCC1 POYMFKJUYZDXAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 10
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 9
- BASMANVIUSSIIM-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1Cl BASMANVIUSSIIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- CDLNYRRFZAUVIP-UHFFFAOYSA-N 1-chlorocyclopropane-1-carbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1(Cl)CC1 CDLNYRRFZAUVIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 6
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical class [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- CAXVRUHWRJPHLX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-1-cyclopropylethanone Chemical compound ClC1=CC=CC=C1CC(=O)C1CC1 CAXVRUHWRJPHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005160 aryl oxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- SYURNNNQIFDVCA-UHFFFAOYSA-N 2-propyloxirane Chemical compound CCCC1CO1 SYURNNNQIFDVCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 claims 1
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 claims 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 abstract description 6
- 230000000895 acaricidal effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 58
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 58
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 44
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 36
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 34
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 29
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 25
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 22
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 21
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 18
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 17
- -1 organic acid halides Chemical class 0.000 description 17
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 13
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 12
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- NWULQXQCCXGOSO-UHFFFAOYSA-N 1-(1-chlorocyclopropyl)-2-(2-chlorophenyl)ethanone Chemical compound ClC1=CC=CC=C1CC(=O)C1(Cl)CC1 NWULQXQCCXGOSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IKKKLHQSHUAIMM-UHFFFAOYSA-N 2-(1-chlorocyclopropyl)-2-[(2-chlorophenyl)methyl]oxirane Chemical compound ClC1=CC=CC=C1CC1(C2(Cl)CC2)OC1 IKKKLHQSHUAIMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 9
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 8
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- 125000004784 trichloromethoxy group Chemical group ClC(O*)(Cl)Cl 0.000 description 7
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FDLYBVBKEKAILV-UHFFFAOYSA-N bis[1-chloro-2-[(2-chlorophenyl)methyl]cyclopropyl]methanone Chemical compound ClC1=CC=CC=C1CC1C(C(=O)C2(Cl)C(C2)CC=2C(=CC=CC=2)Cl)(Cl)C1 FDLYBVBKEKAILV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 6
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 6
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005078 alkoxycarbonylalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 5
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000005524 benzylchlorides Chemical class 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005359 phenoxyalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXMIDRBAFOEOQT-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyloxolane Chemical compound CC1CCC(C)O1 OXMIDRBAFOEOQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical class BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- BPLKQGGAXWRFOE-UHFFFAOYSA-M trimethylsulfoxonium iodide Chemical compound [I-].C[S+](C)(C)=O BPLKQGGAXWRFOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTKCEEWUXHVZQI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylethanone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)CC1=CC=CC=C1 OTKCEEWUXHVZQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGWHDIYEULVUTH-UHFFFAOYSA-N 1-(1,2,4-triazol-1-yl)propan-2-ol Chemical compound CC(O)CN1C=NC=N1 DGWHDIYEULVUTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDDCPLHPVGIDIJ-UHFFFAOYSA-N 1-(1-chlorocyclopropyl)-2-(3-methoxyphenyl)ethanone Chemical compound COC1=CC=CC(CC(=O)C2(Cl)CC2)=C1 NDDCPLHPVGIDIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGISFWWEOGVMED-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-3-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=CC(CCl)=C1 VGISFWWEOGVMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical class CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGUAVPGPLGNTQL-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoro-1-methylcyclopropane-1-carbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1(C)CC1(F)F UGUAVPGPLGNTQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUNQKTCKURIZQX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)-2-methylpropane Chemical compound CCOCCOC(C)(C)C NUNQKTCKURIZQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006282 2-chlorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical compound C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003943 azolyl group Chemical group 0.000 description 1
- WXNOJTUTEXAZLD-UHFFFAOYSA-L benzonitrile;dichloropalladium Chemical compound Cl[Pd]Cl.N#CC1=CC=CC=C1.N#CC1=CC=CC=C1 WXNOJTUTEXAZLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L bis(triphenylphosphine)palladium(ii) dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pd+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000003945 chlorohydrins Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000004807 desolvation Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- GZRYBYIBLHMWCD-UHFFFAOYSA-N dimethyl(methylidene)-$l^{4}-sulfane Chemical compound CS(C)=C GZRYBYIBLHMWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKWOHBPRFZIUQL-UHFFFAOYSA-N dimethyl-methylidene-oxo-$l^{6}-sulfane Chemical compound C[S+](C)([CH2-])=O DKWOHBPRFZIUQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002390 heteroarenes Chemical class 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N palladium(II) acetate Substances [Pd].CC(O)=O.CC(O)=O LXNAVEXFUKBNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 238000011045 prefiltration Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYXYWTXQFUUWLP-UHFFFAOYSA-N sodium;butan-1-olate Chemical compound [Na+].CCCC[O-] SYXYWTXQFUUWLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- HVZJRWJGKQPSFL-UHFFFAOYSA-N tert-Amyl methyl ether Chemical compound CCC(C)(C)OC HVZJRWJGKQPSFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- BGWWCDUWQVLSFN-UHFFFAOYSA-M trimethyloxosulphonium methyl sulphate Chemical compound C[S+](C)(C)=O.COS([O-])(=O)=O BGWWCDUWQVLSFN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OWUGVJBQKGQQKJ-UHFFFAOYSA-M trimethylsulfanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[S+](C)C OWUGVJBQKGQQKJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NRZWQKGABZFFKE-UHFFFAOYSA-N trimethylsulfonium Chemical class C[S+](C)C NRZWQKGABZFFKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEPJZBFFLDRKSF-UHFFFAOYSA-M trimethylsulfoxonium bromide Chemical compound [Br-].C[S+](C)(C)=O KEPJZBFFLDRKSF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 231100000925 very toxic Toxicity 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】本発明は、ベンジルケトン類(これらのい
くつかは公知であり、そして殺菌・殺カビ特性を有する
活性化合物の合成のための中間生成物として使用できる
)の新規な製造方法に関する。
くつかは公知であり、そして殺菌・殺カビ特性を有する
活性化合物の合成のための中間生成物として使用できる
)の新規な製造方法に関する。
【0002】本発明はまた、2−(2−クロロベンジル
)−2−(1−クロロ−シクロプロピル)−オキシラン
(これは同様に殺菌・殺カビ特性を有する活性化合物の
製造のための中間生成物として使用できる)の新規な製
造方法に関する。
)−2−(1−クロロ−シクロプロピル)−オキシラン
(これは同様に殺菌・殺カビ特性を有する活性化合物の
製造のための中間生成物として使用できる)の新規な製
造方法に関する。
【0003】ケトン類が、有機酸ハライド類と有機金属
化合物との反応により製造できることは既に公知である
。ここで可能な有機金属成分は、マグネシウム、カドミ
ウム、銅、マンガン、水銀、アルミニウム、ロジウム、
ホウ素またはケイ素から誘導される化合物である。 しかしながら、このような製造方法の欠点は、望ましく
ない副反応が生じることである。このように製造された
ケトン上への有機金属の化合物の付加が多くの場合生じ
る。この結果として、ケトンの収率が著しく減少する。 例えば、水銀またはカドミウムの有機金属化合物は非常
に毒性があり、そして例えばロジウムの有機金属化合物
は非常に高価であることもまた欠点となっている。もう
1つの欠点は、多くの場合、必要とされる有機金属化合
物が他の有機金属物質、例えばグリニヤール化合物また
は有機リチウム化合物などを通してのみ製造できること
である。このようにして、導入されるべき基の範囲が大
きく制限される。
化合物との反応により製造できることは既に公知である
。ここで可能な有機金属成分は、マグネシウム、カドミ
ウム、銅、マンガン、水銀、アルミニウム、ロジウム、
ホウ素またはケイ素から誘導される化合物である。 しかしながら、このような製造方法の欠点は、望ましく
ない副反応が生じることである。このように製造された
ケトン上への有機金属の化合物の付加が多くの場合生じ
る。この結果として、ケトンの収率が著しく減少する。 例えば、水銀またはカドミウムの有機金属化合物は非常
に毒性があり、そして例えばロジウムの有機金属化合物
は非常に高価であることもまた欠点となっている。もう
1つの欠点は、多くの場合、必要とされる有機金属化合
物が他の有機金属物質、例えばグリニヤール化合物また
は有機リチウム化合物などを通してのみ製造できること
である。このようにして、導入されるべき基の範囲が大
きく制限される。
【0004】更に、ケトン類が有機酸クロライドと有機
錫化合物とから、パラジウムを触媒とするカップリング
によって得られることも既に知られている(J. Or
g. Chem.44、(1979) 1613参照)
。この方法の1つの欠点は、該有機錫化合物もまた他の
有機金属中間段階を通して製造されることに見られる。 更に、この方法では、より短い反応時間内でのケトン類
の合成は、希釈剤としてヘキサメチル−燐酸トリアミド
を用いる場合のみ可能である。
錫化合物とから、パラジウムを触媒とするカップリング
によって得られることも既に知られている(J. Or
g. Chem.44、(1979) 1613参照)
。この方法の1つの欠点は、該有機錫化合物もまた他の
有機金属中間段階を通して製造されることに見られる。 更に、この方法では、より短い反応時間内でのケトン類
の合成は、希釈剤としてヘキサメチル−燐酸トリアミド
を用いる場合のみ可能である。
【0005】更に、パラジウム触媒の存在下での、有機
酸クロライドおよび有機亜鉛化合物からのケトン類の合
成は文献(J. Org. Chem. 49、(19
84) 2288およびTetrahedron Le
tters 1983、5181‐5184参照)中に
記載されている。この方法の欠点は、ここでもまた、該
有機亜鉛化合物をグリニヤール試薬を用いて製造するこ
とである。このように、導入すべき置換基の性質は、本
質的に、未置換のアリールおよびアルキル基に限定され
る。 その上、困難ではあるが工業的に取り扱うことができる
エーテル類またはエーテル類と他の溶媒との混合物が、
この反応を実施するための希釈剤として必要とされてい
る。
酸クロライドおよび有機亜鉛化合物からのケトン類の合
成は文献(J. Org. Chem. 49、(19
84) 2288およびTetrahedron Le
tters 1983、5181‐5184参照)中に
記載されている。この方法の欠点は、ここでもまた、該
有機亜鉛化合物をグリニヤール試薬を用いて製造するこ
とである。このように、導入すべき置換基の性質は、本
質的に、未置換のアリールおよびアルキル基に限定され
る。 その上、困難ではあるが工業的に取り扱うことができる
エーテル類またはエーテル類と他の溶媒との混合物が、
この反応を実施するための希釈剤として必要とされてい
る。
【0006】更に、亜鉛末の存在下、ベンジルケトン類
が臭化ベンジル類と有機酸クロライドとのパラジウム触
媒によるカップリングによって製造できることも既に知
られている(Chem. Lett. 1981、 1
135〜1138参照)。しかしながら、この方法もま
たいくつかの欠点を伴っている。即ち、比較的多量のパ
ラジウム触媒を使用する必要がある。更に、所望の生成
物は、比較的低い収率でのみであるが、分枝脂肪酸のク
ロライド類を用いる場合得られる。最後に、亜鉛末の存
在下、ベンジルフェニルケトン類が塩化ベンゾイルと塩
化ベンジルとから、パラジウム触媒を用いたカップリン
グによって製造され得ることも既に公知である(Che
m. Lett. 1981、1136参照)。しかし
ながら、問題となる化合物は非常に低収率でのみ得られ
る。更にまた、塩基の存在下トリメチルスルホニウム塩
類を用いて、ケトン類がオキシラン類に変換できること
も知られている(Ber. 96、 1881−189
0 (1963)、 J.Amer. Chem. S
oc. 87、 1353−1364 (1965)、
DE−OS(ドイツ国公開明細)3,315,619
、 DE−OS(ドイツ国公開明細)3,315,52
4、 DE−OS(ドイツ国公開明細)3,315,5
10および DE−OS(ドイツ国公開明細)3,31
5,681参照)。しかしながら、この収率は用いる特
別なスルホニウム塩、希釈剤および塩基に従って大きく
変化することが欠点である。
が臭化ベンジル類と有機酸クロライドとのパラジウム触
媒によるカップリングによって製造できることも既に知
られている(Chem. Lett. 1981、 1
135〜1138参照)。しかしながら、この方法もま
たいくつかの欠点を伴っている。即ち、比較的多量のパ
ラジウム触媒を使用する必要がある。更に、所望の生成
物は、比較的低い収率でのみであるが、分枝脂肪酸のク
ロライド類を用いる場合得られる。最後に、亜鉛末の存
在下、ベンジルフェニルケトン類が塩化ベンゾイルと塩
化ベンジルとから、パラジウム触媒を用いたカップリン
グによって製造され得ることも既に公知である(Che
m. Lett. 1981、1136参照)。しかし
ながら、問題となる化合物は非常に低収率でのみ得られ
る。更にまた、塩基の存在下トリメチルスルホニウム塩
類を用いて、ケトン類がオキシラン類に変換できること
も知られている(Ber. 96、 1881−189
0 (1963)、 J.Amer. Chem. S
oc. 87、 1353−1364 (1965)、
DE−OS(ドイツ国公開明細)3,315,619
、 DE−OS(ドイツ国公開明細)3,315,52
4、 DE−OS(ドイツ国公開明細)3,315,5
10および DE−OS(ドイツ国公開明細)3,31
5,681参照)。しかしながら、この収率は用いる特
別なスルホニウム塩、希釈剤および塩基に従って大きく
変化することが欠点である。
【0007】更に、ある種のオキシラン類が相当するク
ロロヒドリン類の塩基処理で製造され得ることも知られ
ている(EP−OS(ヨーロッパ公開明細)0,297
,345参照)。この方法は良好な収率で所望の物質を
与えるが、しかしながら、必要とされる出発物質の合成
は比較的高価である。
ロロヒドリン類の塩基処理で製造され得ることも知られ
ている(EP−OS(ヨーロッパ公開明細)0,297
,345参照)。この方法は良好な収率で所望の物質を
与えるが、しかしながら、必要とされる出発物質の合成
は比較的高価である。
【0008】a)第一段階で、式(II)の塩化ベンジ
ルと過剰量の亜鉛末とを、不活性ガス雰囲気下そして希
釈剤の存在下、30℃〜200℃の温度で反応させた後
、過剰の亜鉛末を分離し、そして次にb)第二段階で、
この生成した式
ルと過剰量の亜鉛末とを、不活性ガス雰囲気下そして希
釈剤の存在下、30℃〜200℃の温度で反応させた後
、過剰の亜鉛末を分離し、そして次にb)第二段階で、
この生成した式
【0009】
【化12】
【0010】[式中、R1、R2、R3、R4およびR
5は、以下に示す意味を有する]のベンジル誘導体と式
(III)の酸クロライドとを、不活性ガス雰囲気下そ
してパラジウム触媒および希釈剤の存在下、0℃〜15
0℃の温度で反応させる、方法による、亜鉛末およびパ
ラジウム触媒の存在下そして希釈剤の存在下での、式
5は、以下に示す意味を有する]のベンジル誘導体と式
(III)の酸クロライドとを、不活性ガス雰囲気下そ
してパラジウム触媒および希釈剤の存在下、0℃〜15
0℃の温度で反応させる、方法による、亜鉛末およびパ
ラジウム触媒の存在下そして希釈剤の存在下での、式
【
0011】
0011】
【化13】
【0012】[式中、R1、R2、R3、R4およびR
5は、以下に示す意味を有する]の塩化ベンジル類と、
式
5は、以下に示す意味を有する]の塩化ベンジル類と、
式
【0013】
【化14】
R6−CO−Cl
(III)[式中、R6は、以下に示す意味を有する]
の酸クロライド類との反応によって、式
(III)[式中、R6は、以下に示す意味を有する]
の酸クロライド類との反応によって、式
【0014】
【化15】
【0015】[式中、R1、R2、R3、R4およびR
5は、互いに独立して、水素、ハロゲン、1〜6個の炭
素原子を有するアルキル、1〜6個の炭素原子を有しそ
して1〜13個のハロゲン原子を有するハロゲノアルキ
ル、1〜6個の炭素原子を有するアルコキシ、1〜6個
の炭素原子を有しそして1〜13個のハロゲン原子を有
するハロゲノアルコキシ、シアノまたは任意にハロゲン
置換されていてもよいフェノキシを表すか、或は6〜1
0個の炭素原子を有するアリールを表すか(このアリー
ル基の各々は、ハロゲン、1〜4個の炭素原子を有する
アルキル、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個の
ハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、1〜4個の炭
素原子を有するアルコキシおよび/または1〜4個の炭
素原子を有しそして1〜5個のハロゲン原子を有するハ
ロゲノアルコキシであってもよい)、或はR1、R2、
R3、R4およびR5は、互いに独立して、式
5は、互いに独立して、水素、ハロゲン、1〜6個の炭
素原子を有するアルキル、1〜6個の炭素原子を有しそ
して1〜13個のハロゲン原子を有するハロゲノアルキ
ル、1〜6個の炭素原子を有するアルコキシ、1〜6個
の炭素原子を有しそして1〜13個のハロゲン原子を有
するハロゲノアルコキシ、シアノまたは任意にハロゲン
置換されていてもよいフェノキシを表すか、或は6〜1
0個の炭素原子を有するアリールを表すか(このアリー
ル基の各々は、ハロゲン、1〜4個の炭素原子を有する
アルキル、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個の
ハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、1〜4個の炭
素原子を有するアルコキシおよび/または1〜4個の炭
素原子を有しそして1〜5個のハロゲン原子を有するハ
ロゲノアルコキシであってもよい)、或はR1、R2、
R3、R4およびR5は、互いに独立して、式
【001
6】
6】
【化16】
−COOR7
(式中、R7は、1〜6個の炭素原子を有するアルキル
、フェニルまたはベンジルを表す)の基を表し、そして
R6は、1〜18個の炭素原子を有するアルキル、1〜
18個の炭素原子を有しそして1〜12個のハロゲン原
子を有するハロゲノアルキル、アルキル部分中に1〜6
個の炭素原子を有しそしてアルコキシ部分に1〜6個の
炭素原子を有するアルコキシカルボニルアルキルを表す
か、或は3〜8個の炭素原子を有するシクロアルキルを
表すか、或は5〜8個の炭素原子を有するシクロアルケ
ニルを表すか(該シクロアルキルおよびシクロアルケニ
ル基の各々は、ハロゲン、1〜4個の炭素原子を有する
アルキル、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜7個の
ハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、1〜4個の炭
素原子を有するアルコキシ、1〜4個の炭素原子を有し
そして1〜7個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコ
キシ、2〜6個の炭素原子を有するアルケニルおよび/
またはハロゲンおよび/または1〜4個の炭素原子を有
するアルキルで任意に置換されているフェニルで置換さ
れていてもよい)、或はR6は、6〜10個の炭素原子
を有するアリールを表すか、或はアリール部分に6〜1
0個の炭素原子を有しそしてアルキル部分に1〜4個の
炭素原子を有するアラルキルを表すか、或はアリール部
分に6〜10個の炭素原子を有しそしてアルケニル部分
に2〜4個の炭素原子を有するアラルケニルを表すか、
或はアリール部分に6〜10個の炭素原子を有しそして
アルキル部分に1〜4個の炭素原子を有するアロキシア
ルキルを表すか(これらの基の各々は、アリール部分が
、ハロゲン、1〜6個の炭素原子を有するアルキル、1
〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個のハロゲン原子
を有するハロゲノアルキル、1〜4個の炭素原子を有す
るアルコキシおよび/または1〜4個の炭素原子を有し
そして1〜5個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコ
キシで置換されていてもよい)、或はR6は、5または
6員環でありそして1または2個のヘテロ原子を有しそ
してハロゲンおよび/または1〜4個の炭素原子を有す
るアルキルで任意に置換されているヘテロ芳香族基を表
すか、或はR6は、式
、フェニルまたはベンジルを表す)の基を表し、そして
R6は、1〜18個の炭素原子を有するアルキル、1〜
18個の炭素原子を有しそして1〜12個のハロゲン原
子を有するハロゲノアルキル、アルキル部分中に1〜6
個の炭素原子を有しそしてアルコキシ部分に1〜6個の
炭素原子を有するアルコキシカルボニルアルキルを表す
か、或は3〜8個の炭素原子を有するシクロアルキルを
表すか、或は5〜8個の炭素原子を有するシクロアルケ
ニルを表すか(該シクロアルキルおよびシクロアルケニ
ル基の各々は、ハロゲン、1〜4個の炭素原子を有する
アルキル、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜7個の
ハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、1〜4個の炭
素原子を有するアルコキシ、1〜4個の炭素原子を有し
そして1〜7個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコ
キシ、2〜6個の炭素原子を有するアルケニルおよび/
またはハロゲンおよび/または1〜4個の炭素原子を有
するアルキルで任意に置換されているフェニルで置換さ
れていてもよい)、或はR6は、6〜10個の炭素原子
を有するアリールを表すか、或はアリール部分に6〜1
0個の炭素原子を有しそしてアルキル部分に1〜4個の
炭素原子を有するアラルキルを表すか、或はアリール部
分に6〜10個の炭素原子を有しそしてアルケニル部分
に2〜4個の炭素原子を有するアラルケニルを表すか、
或はアリール部分に6〜10個の炭素原子を有しそして
アルキル部分に1〜4個の炭素原子を有するアロキシア
ルキルを表すか(これらの基の各々は、アリール部分が
、ハロゲン、1〜6個の炭素原子を有するアルキル、1
〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個のハロゲン原子
を有するハロゲノアルキル、1〜4個の炭素原子を有す
るアルコキシおよび/または1〜4個の炭素原子を有し
そして1〜5個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコ
キシで置換されていてもよい)、或はR6は、5または
6員環でありそして1または2個のヘテロ原子を有しそ
してハロゲンおよび/または1〜4個の炭素原子を有す
るアルキルで任意に置換されているヘテロ芳香族基を表
すか、或はR6は、式
【0017】
【化17】
【0018】(式中、R8は、1〜4個の炭素原子を有
するアルキルを表すか、或はハロゲンを表す)の基を表
す]のベンジルケトン類が得られることをここに見い出
した。
するアルキルを表すか、或はハロゲンを表す)の基を表
す]のベンジルケトン類が得られることをここに見い出
した。
【0019】反応が単一段階で行われるところの、既に
知られている相当する方法によるよりも、本発明に従う
2段階の方法によると、式(I)のベンジルケトン類を
かなり高い収率で製造できることは非常に驚くべきこと
である。この結果もまた、とりわけ、予測されないもの
である、何故ならば、公知の従来技術を基にすると、該
工程条件下では塩化ベンジルよりも臭化ベンジルが容易
に反応すると考えられていたからである。
知られている相当する方法によるよりも、本発明に従う
2段階の方法によると、式(I)のベンジルケトン類を
かなり高い収率で製造できることは非常に驚くべきこと
である。この結果もまた、とりわけ、予測されないもの
である、何故ならば、公知の従来技術を基にすると、該
工程条件下では塩化ベンジルよりも臭化ベンジルが容易
に反応すると考えられていたからである。
【0020】本発明に従う方法は、数多くの長所によっ
て特徴づけられる。即ち、非常に少ない量のパラジウム
触媒を使用するのみでよいことである。更に、所望のケ
トン類が高収率で得られることである。その上、ベンジ
ル部分中の置換基に関してそして酸基に関してこの方法
は広く応用され得ることも利点である。
て特徴づけられる。即ち、非常に少ない量のパラジウム
触媒を使用するのみでよいことである。更に、所望のケ
トン類が高収率で得られることである。その上、ベンジ
ル部分中の置換基に関してそして酸基に関してこの方法
は広く応用され得ることも利点である。
【0021】出発物質として塩化2−クロロベンジルを
用いそして塩化1−クロロ−シクロプロパンカルボニル
を反応成分として用いる場合、本発明に従う反応過程は
下記の方程式で示すことができる: 第一段階
用いそして塩化1−クロロ−シクロプロパンカルボニル
を反応成分として用いる場合、本発明に従う反応過程は
下記の方程式で示すことができる: 第一段階
【0022】
【化18】
【0023】第二段階
【0024】
【化19】
【0025】式(II)は、ベンジルケトン類製造のた
めの本発明に従う方法の実施における出発物質として必
要な塩化ベンジル類の一般的定義を与える。この式にお
いて、置換基R1、R2、R3、R4およびR5は上述
した意味を有する。式(II)[式中、R1、R2、R
3、R4およびR5が、互いに独立して、水素、フッ素
、塩素、臭素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、
1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個のフッ素およ
び/または塩素原子を有するハロゲノアルキル、1〜4
個の炭素原子を有するアルコキシ、1〜4個の炭素原子
を有しそして1〜5個のフッ素および/または塩素原子
を有するハロゲノアルコキシ、シアノまたは任意に1〜
3個のフッ素および/または塩素原子で置換されていて
もよいフェノキシを表すか、或はフェニルまたはナフチ
ルを表すか(上述した最後の2つの基の各々は、フッ素
、塩素、1〜3個の炭素原子を有するアルキル、1また
は2個の炭素原子を有しそして1〜5個のフッ素および
/または塩素原子を有するハロゲノアルキル、1〜3個
の炭素原子を有するアルコキシまたは1または2個の炭
素原子を有しそして1〜5個のフッ素および/または塩
素原子を有するハロゲノアルコキシから成る群からの1
〜3個の同一または異なる置換基で置換されていてもよ
い)、或はR1、R2、R3、R4およびR5が、互い
に独立して、式
めの本発明に従う方法の実施における出発物質として必
要な塩化ベンジル類の一般的定義を与える。この式にお
いて、置換基R1、R2、R3、R4およびR5は上述
した意味を有する。式(II)[式中、R1、R2、R
3、R4およびR5が、互いに独立して、水素、フッ素
、塩素、臭素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、
1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個のフッ素およ
び/または塩素原子を有するハロゲノアルキル、1〜4
個の炭素原子を有するアルコキシ、1〜4個の炭素原子
を有しそして1〜5個のフッ素および/または塩素原子
を有するハロゲノアルコキシ、シアノまたは任意に1〜
3個のフッ素および/または塩素原子で置換されていて
もよいフェノキシを表すか、或はフェニルまたはナフチ
ルを表すか(上述した最後の2つの基の各々は、フッ素
、塩素、1〜3個の炭素原子を有するアルキル、1また
は2個の炭素原子を有しそして1〜5個のフッ素および
/または塩素原子を有するハロゲノアルキル、1〜3個
の炭素原子を有するアルコキシまたは1または2個の炭
素原子を有しそして1〜5個のフッ素および/または塩
素原子を有するハロゲノアルコキシから成る群からの1
〜3個の同一または異なる置換基で置換されていてもよ
い)、或はR1、R2、R3、R4およびR5が、互い
に独立して、式
【0026】
【化20】−COOR7
(式中、R7は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル
、フェニルまたはベンジルを表す)の基を表す]の塩化
ベンジル類が好適に使用できる。
、フェニルまたはベンジルを表す)の基を表す]の塩化
ベンジル類が好適に使用できる。
【0027】特に好適に使用できる塩化ベンジル類は、
式(II)[式中、R1が、水素、フッ素、塩素、臭素
、メチル、エチル、トリフルオロメチル、トリクロロメ
チル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキシ、ト
リクロロメトキシ、シアノ、1または2個のフッ素およ
び/または塩素原子で任意に置換されていてもよいフェ
ノキシを表すか、或はフッ素、塩素、メチル、エチル、
トリフルオロメチル、トリクロロメチル、メトキシ、エ
トキシ、トリフルオロメトキシまたはトリクロロメトキ
シから成る群からの1または2個の同一または異なる置
換基で任意に置換されていてもよいフェニルを表すか、
或は式
式(II)[式中、R1が、水素、フッ素、塩素、臭素
、メチル、エチル、トリフルオロメチル、トリクロロメ
チル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキシ、ト
リクロロメトキシ、シアノ、1または2個のフッ素およ
び/または塩素原子で任意に置換されていてもよいフェ
ノキシを表すか、或はフッ素、塩素、メチル、エチル、
トリフルオロメチル、トリクロロメチル、メトキシ、エ
トキシ、トリフルオロメトキシまたはトリクロロメトキ
シから成る群からの1または2個の同一または異なる置
換基で任意に置換されていてもよいフェニルを表すか、
或は式
【0028】
【化21】−COOR7
(式中、R7は、メチル、エチル、フェニルまたはベン
ジルを表す)の基を表し、R2が、水素、フッ素、塩素
、臭素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、トリク
ロロメチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキ
シ、トリクロロメトキシ、シアノ、1または2個のフッ
素および/または塩素原子で任意に置換されていてもよ
いフェノキシを表すか、或はフッ素、塩素、メチル、エ
チル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、メトキ
シ、エトキシ、トリフルオロメトキシまたはトリクロロ
メトキシから成る群からの1または2個の同一または異
なる置換基で任意に置換されていてもよいフェニルを表
すか、或は式
ジルを表す)の基を表し、R2が、水素、フッ素、塩素
、臭素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、トリク
ロロメチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキ
シ、トリクロロメトキシ、シアノ、1または2個のフッ
素および/または塩素原子で任意に置換されていてもよ
いフェノキシを表すか、或はフッ素、塩素、メチル、エ
チル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、メトキ
シ、エトキシ、トリフルオロメトキシまたはトリクロロ
メトキシから成る群からの1または2個の同一または異
なる置換基で任意に置換されていてもよいフェニルを表
すか、或は式
【0029】
【化22】−COOR7
(式中、R7は、メチル、エチル、フェニルまたはベン
ジルを表す)の基を表し、R3が、水素、フッ素、塩素
、臭素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、トリク
ロロメチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキ
シ、トリクロロメトキシ、シアノ、1または2個のフッ
素および/または塩素原子で任意に置換されていてもよ
いフェノキシを表すか、或はフッ素、塩素、メチル、エ
チル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、メトキ
シ、エトキシ、トリフルオロメトキシまたはトリクロロ
メトキシから成る群からの1または2個の同一または異
なる置換基で任意に置換されていてもよいフェニルを表
すか、或は式
ジルを表す)の基を表し、R3が、水素、フッ素、塩素
、臭素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、トリク
ロロメチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキ
シ、トリクロロメトキシ、シアノ、1または2個のフッ
素および/または塩素原子で任意に置換されていてもよ
いフェノキシを表すか、或はフッ素、塩素、メチル、エ
チル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、メトキ
シ、エトキシ、トリフルオロメトキシまたはトリクロロ
メトキシから成る群からの1または2個の同一または異
なる置換基で任意に置換されていてもよいフェニルを表
すか、或は式
【0030】
【化23】−COOR7
(式中、R7は、メチル、エチル、フェニルまたはベン
ジルを表す)の基を表し、R4が、水素、フッ素、塩素
、臭素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、トリク
ロロメチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキ
シ、トリクロロメトキシ、シアノ、1または2個のフッ
素および/または塩素原子で任意に置換されていてもよ
いフェノキシを表すか、或はフッ素、塩素、メチル、エ
チル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、メトキ
シ、エトキシ、トリフルオロメトキシまたはトリクロロ
メトキシから成る群からの1または2個の同一または異
なる置換基で任意に置換されていてもよいフェニルを表
すか、或は式
ジルを表す)の基を表し、R4が、水素、フッ素、塩素
、臭素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、トリク
ロロメチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキ
シ、トリクロロメトキシ、シアノ、1または2個のフッ
素および/または塩素原子で任意に置換されていてもよ
いフェノキシを表すか、或はフッ素、塩素、メチル、エ
チル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、メトキ
シ、エトキシ、トリフルオロメトキシまたはトリクロロ
メトキシから成る群からの1または2個の同一または異
なる置換基で任意に置換されていてもよいフェニルを表
すか、或は式
【0031】
【化24】−COOR7
(式中、R7は、メチル、エチル、フェニルまたはベン
ジルを表す)の基を表し、そしてR5が、水素、フッ素
、塩素、臭素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、
トリクロロメチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロ
メトキシ、トリクロロメトキシ、シアノ、1または2個
のフッ素および/または塩素原子で任意に置換されてい
てもよいフェノキシを表すか、或はフッ素、塩素、メチ
ル、エチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、
メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキシまたはトリ
クロロメトキシから成る群からの1または2個の同一ま
たは異なる置換基で任意に置換されていてもよいフェニ
ルを表すか、或は式
ジルを表す)の基を表し、そしてR5が、水素、フッ素
、塩素、臭素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、
トリクロロメチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロ
メトキシ、トリクロロメトキシ、シアノ、1または2個
のフッ素および/または塩素原子で任意に置換されてい
てもよいフェノキシを表すか、或はフッ素、塩素、メチ
ル、エチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、
メトキシ、エトキシ、トリフルオロメトキシまたはトリ
クロロメトキシから成る群からの1または2個の同一ま
たは異なる置換基で任意に置換されていてもよいフェニ
ルを表すか、或は式
【0032】
【化25】−COOR7
(式中、R7は、メチル、エチル、フェニルまたはベン
ジルを表す)の基を表す]の塩化ベンジル類である。
ジルを表す)の基を表す]の塩化ベンジル類である。
【0033】式(II)の塩化ベンジル類は公知である
か、或は本質的に公知の方法による簡単な様式で製造で
きる。
か、或は本質的に公知の方法による簡単な様式で製造で
きる。
【0034】式(III)は、ベンジルケトン類製造の
ための本発明に従う方法の実施における反応成分として
必要な酸クロライド類の一般的定義を与える。この式に
おいて、置換基R6は上述した意味を有する。好適に用
いられ得る式(III)の酸クロライド類は、[式中、
R6が、1〜6個の炭素原子を有するアルキル、1〜6
個の炭素原子を有しそして1〜6個のフッ素、塩素およ
び/または臭素原子を有するハロゲノアルキル、2〜8
個の炭素原子を有するアルケニルまたは2〜8個の炭素
原子を有しそして1〜6個のフッ素、塩素および/また
は臭素原子を有するハロゲノアルケニル、アルキル部分
中に1〜4個の炭素原子を有しそしてアルコキシ部分中
に1〜4個の炭素原子を有するアルコキシカルボニルア
ルキルを表すか、或は3〜7個の炭素原子を有するシク
ロアルキルを表すか、或は5〜7個の炭素原子を有する
シクロアルケニルを表すか(該シクロアルキルおよびシ
クロアルケニル基は、フッ素、塩素、臭素、1〜3個の
炭素原子を有するアルキル、1〜3個の炭素原子を有し
そして1〜5個のフッ素および/または塩素原子を有す
るハロゲノアルキル、1〜3個の炭素原子を有するアル
コキシ、1〜3個の炭素原子を有しそして1〜5個のフ
ッ素および/または塩素原子を有するハロゲノアルコキ
シ、2〜4個の炭素原子を有するアルケニル、および/
またはフッ素、塩素、メチルおよび/またはエチルから
成る群からの1または2個の同一もしくは異なる置換基
で任意に置換されているフェニルから成る群からの1〜
8個の同一もしくは異なる置換基で置換されていてもよ
い)、或はR6が、フェニル、ナフチル、アルキル部分
に1〜4個の炭素原子を有するフェニルアルキル、アル
ケニル部分に2〜3個の炭素原子を有するフェニルアル
ケニルを表すか、或はアルキル部分に1〜4個の炭素原
子を有するフェノキシアルキルを表すか(これらの前述
した基の各々は、アリール部分が、フッ素、塩素、臭素
、1〜3個の炭素原子を有するアルキル、1〜3個の炭
素原子を有しそして1〜5個のフッ素および/または塩
素原子を有するハロゲノアルキル、1〜3個の炭素原子
を有するアルコキシおよび/または1〜3個の炭素原子
を有しそして1〜5個のフッ素および/または塩素原子
を有するハロゲノアルコキシから成る群からの1〜3個
の同一もしくは異なる置換基で置換されていてもよい)
、或はR6が、5または6員環でありそして1または2
個の窒素、酸素および/または硫黄原子を有しそしてフ
ッ素、塩素、臭素、メチルおよび/またはエチルから成
る群からの1または2個の同一もしくは異なる置換基で
任意に置換されているヘテロ芳香族基を表すか、或はR
6が、式
ための本発明に従う方法の実施における反応成分として
必要な酸クロライド類の一般的定義を与える。この式に
おいて、置換基R6は上述した意味を有する。好適に用
いられ得る式(III)の酸クロライド類は、[式中、
R6が、1〜6個の炭素原子を有するアルキル、1〜6
個の炭素原子を有しそして1〜6個のフッ素、塩素およ
び/または臭素原子を有するハロゲノアルキル、2〜8
個の炭素原子を有するアルケニルまたは2〜8個の炭素
原子を有しそして1〜6個のフッ素、塩素および/また
は臭素原子を有するハロゲノアルケニル、アルキル部分
中に1〜4個の炭素原子を有しそしてアルコキシ部分中
に1〜4個の炭素原子を有するアルコキシカルボニルア
ルキルを表すか、或は3〜7個の炭素原子を有するシク
ロアルキルを表すか、或は5〜7個の炭素原子を有する
シクロアルケニルを表すか(該シクロアルキルおよびシ
クロアルケニル基は、フッ素、塩素、臭素、1〜3個の
炭素原子を有するアルキル、1〜3個の炭素原子を有し
そして1〜5個のフッ素および/または塩素原子を有す
るハロゲノアルキル、1〜3個の炭素原子を有するアル
コキシ、1〜3個の炭素原子を有しそして1〜5個のフ
ッ素および/または塩素原子を有するハロゲノアルコキ
シ、2〜4個の炭素原子を有するアルケニル、および/
またはフッ素、塩素、メチルおよび/またはエチルから
成る群からの1または2個の同一もしくは異なる置換基
で任意に置換されているフェニルから成る群からの1〜
8個の同一もしくは異なる置換基で置換されていてもよ
い)、或はR6が、フェニル、ナフチル、アルキル部分
に1〜4個の炭素原子を有するフェニルアルキル、アル
ケニル部分に2〜3個の炭素原子を有するフェニルアル
ケニルを表すか、或はアルキル部分に1〜4個の炭素原
子を有するフェノキシアルキルを表すか(これらの前述
した基の各々は、アリール部分が、フッ素、塩素、臭素
、1〜3個の炭素原子を有するアルキル、1〜3個の炭
素原子を有しそして1〜5個のフッ素および/または塩
素原子を有するハロゲノアルキル、1〜3個の炭素原子
を有するアルコキシおよび/または1〜3個の炭素原子
を有しそして1〜5個のフッ素および/または塩素原子
を有するハロゲノアルコキシから成る群からの1〜3個
の同一もしくは異なる置換基で置換されていてもよい)
、或はR6が、5または6員環でありそして1または2
個の窒素、酸素および/または硫黄原子を有しそしてフ
ッ素、塩素、臭素、メチルおよび/またはエチルから成
る群からの1または2個の同一もしくは異なる置換基で
任意に置換されているヘテロ芳香族基を表すか、或はR
6が、式
【0035】
【化26】
【0036】(式中、R8は、メチル、エチル、フッ素
、塩素または臭素を表す)の基を表す]の酸クロライド
類である。
、塩素または臭素を表す)の基を表す]の酸クロライド
類である。
【0037】特に好適に用いられ得る式(III)の酸
クロライド類は、[式中、R6が、1〜4個の炭素原子
を有するアルキル、1〜4個の炭素原子を有しそして1
〜5個のフッ素、塩素および/または臭素原子を有する
ハロゲノアルキル、2〜6個の炭素原子を有するアルケ
ニルまたは2〜6個の炭素原子を有しそして1〜5個の
フッ素、塩素および/または臭素原子を有するハロゲノ
アルケニル、アルキル部分中に1〜3個の炭素原子を有
しそしてアルコキシ部分中に1〜3個の炭素原子を有す
るアルコキシカルボニルアルキルを表すか、或は3〜7
個の炭素原子を有するシクロアルキルを表すか、或は5
〜7個の炭素原子を有するシクロアルケニルを表すか(
該シクロアルキルおよびシクロアルケニル基は、フッ素
、塩素、臭素、メチル、エチル、プロピル、トリフルオ
ロメチル、トリクロロメチル、メトキシ、エトキシ、ト
リフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、2〜3個の
炭素原子を有するアルケニル、および/またはフッ素、
塩素、メチルおよび/またはエチルからの1または2個
の同一もしくは異なる置換基で任意に置換されているフ
ェニルから成る群からの1〜8個の同一もしくは異なる
置換基で置換されていてもよい)、或はR6が、フェニ
ル、ナフチル、アルキル部分に1または2個の炭素原子
を有するフェニルアルキル、アルケニル部分に2個の炭
素原子を有するフェニルアルケニルを表すか、或はアル
キル部分に1〜3個の炭素原子を有するフェノキシアル
キルを表すか(この4つの前述した基の各々は、アリー
ル部分が、フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、トリ
フルオロメチル、トリクロロメチル、メトキシ、エトキ
シ、トリフルオロメトキシおよび/またはトリクロロメ
トキシから成る群からの1〜3個の同一もしくは異なる
置換基で置換されていてもよい)、或はR6が、各々が
フッ素、塩素、臭素、メチルおよび/またはエチルから
成る群からの1または2個の同一もしくは異なる置換基
で任意に置換されている、ピロリル、ピリジニル、ピリ
ミジニル、フリルまたはチオフェニルを表すか、或はR
6が、式
クロライド類は、[式中、R6が、1〜4個の炭素原子
を有するアルキル、1〜4個の炭素原子を有しそして1
〜5個のフッ素、塩素および/または臭素原子を有する
ハロゲノアルキル、2〜6個の炭素原子を有するアルケ
ニルまたは2〜6個の炭素原子を有しそして1〜5個の
フッ素、塩素および/または臭素原子を有するハロゲノ
アルケニル、アルキル部分中に1〜3個の炭素原子を有
しそしてアルコキシ部分中に1〜3個の炭素原子を有す
るアルコキシカルボニルアルキルを表すか、或は3〜7
個の炭素原子を有するシクロアルキルを表すか、或は5
〜7個の炭素原子を有するシクロアルケニルを表すか(
該シクロアルキルおよびシクロアルケニル基は、フッ素
、塩素、臭素、メチル、エチル、プロピル、トリフルオ
ロメチル、トリクロロメチル、メトキシ、エトキシ、ト
リフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、2〜3個の
炭素原子を有するアルケニル、および/またはフッ素、
塩素、メチルおよび/またはエチルからの1または2個
の同一もしくは異なる置換基で任意に置換されているフ
ェニルから成る群からの1〜8個の同一もしくは異なる
置換基で置換されていてもよい)、或はR6が、フェニ
ル、ナフチル、アルキル部分に1または2個の炭素原子
を有するフェニルアルキル、アルケニル部分に2個の炭
素原子を有するフェニルアルケニルを表すか、或はアル
キル部分に1〜3個の炭素原子を有するフェノキシアル
キルを表すか(この4つの前述した基の各々は、アリー
ル部分が、フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、トリ
フルオロメチル、トリクロロメチル、メトキシ、エトキ
シ、トリフルオロメトキシおよび/またはトリクロロメ
トキシから成る群からの1〜3個の同一もしくは異なる
置換基で置換されていてもよい)、或はR6が、各々が
フッ素、塩素、臭素、メチルおよび/またはエチルから
成る群からの1または2個の同一もしくは異なる置換基
で任意に置換されている、ピロリル、ピリジニル、ピリ
ミジニル、フリルまたはチオフェニルを表すか、或はR
6が、式
【0038】
【化27】
【0039】(式中、R8は、メチル、エチル、フッ素
、塩素または臭素を表す)の基を表す]の酸クロライド
類である。
、塩素または臭素を表す)の基を表す]の酸クロライド
類である。
【0040】式(III)の酸クロライド類は公知であ
るか、或は本質的に公知の方法による簡単な様式で製造
できる。
るか、或は本質的に公知の方法による簡単な様式で製造
できる。
【0041】ベンジルケトン製造のための本発明に従う
方法の実施において種々の粒子サイズの亜鉛末が使用で
きる。小さい粒子サイズの亜鉛粉または粉末が好適に使
用できる。
方法の実施において種々の粒子サイズの亜鉛末が使用で
きる。小さい粒子サイズの亜鉛粉または粉末が好適に使
用できる。
【0042】ベンジルケトン類の製造のための本発明に
従う方法の実施に可能なパラジウム触媒は、通常の全て
のパラジウム(II)塩類、パラジウム(II)錯体類
およびパラジウム(0)の錯体類である。好適に使用で
きる化合物は、塩化パラジウム(II)、酢酸パラジウ
ム(II)、塩化ビス(トリフェニルホスフィン)−パ
ラジウム(II)、塩化ビス(ベンゾニトリル)−パラ
ジウム(II)およびテトラキス(トリフェニルホスフ
ィン)−パラジウム(0)である。
従う方法の実施に可能なパラジウム触媒は、通常の全て
のパラジウム(II)塩類、パラジウム(II)錯体類
およびパラジウム(0)の錯体類である。好適に使用で
きる化合物は、塩化パラジウム(II)、酢酸パラジウ
ム(II)、塩化ビス(トリフェニルホスフィン)−パ
ラジウム(II)、塩化ビス(ベンゾニトリル)−パラ
ジウム(II)およびテトラキス(トリフェニルホスフ
ィン)−パラジウム(0)である。
【0043】通常の全ての不活性有機溶媒が、第一段お
よび第二段階の両方のベンジルケトン類の製造のための
本発明に従う方法の実施における希釈剤として使用でき
る。好適に使用できる溶媒は、エーテル類、例えばジエ
チルエーテル、第三ブチルメチルエーテル、第三アミル
メチルエーテル、テトラヒドロフラン、2,5−ジメチ
ル−テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコール第三ブチルエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、およびジ
オキサン、そして更にニトリル類、例えばアセトニトリ
ル、そして更にアミド類、例えばジメチルホルムアミド
およびジメチルアセトアミドである。溶媒は好適には乾
燥状態で用いられる。
よび第二段階の両方のベンジルケトン類の製造のための
本発明に従う方法の実施における希釈剤として使用でき
る。好適に使用できる溶媒は、エーテル類、例えばジエ
チルエーテル、第三ブチルメチルエーテル、第三アミル
メチルエーテル、テトラヒドロフラン、2,5−ジメチ
ル−テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコール第三ブチルエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、およびジ
オキサン、そして更にニトリル類、例えばアセトニトリ
ル、そして更にアミド類、例えばジメチルホルムアミド
およびジメチルアセトアミドである。溶媒は好適には乾
燥状態で用いられる。
【0044】第一段および第二段階の両方のベンジルケ
トン類の製造のための本発明に従う方法の実施において
可能な不活性ガス類は、通常の全ての不活性ガス類であ
る。好適に使用できるガス類はヘリウム、アルゴンおよ
び窒素である。
トン類の製造のための本発明に従う方法の実施において
可能な不活性ガス類は、通常の全ての不活性ガス類であ
る。好適に使用できるガス類はヘリウム、アルゴンおよ
び窒素である。
【0045】第一段および第二段階の両方のベンジルケ
トン類の製造のための本発明に従う方法の実施において
、反応温度は実質的な範囲内で変化させ得る。第一段階
は一般に30℃〜200℃、好適には50℃〜150℃
の温度で行われる。第二段階は一般に0℃〜150℃、
好適には20℃〜100℃の温度で行われる。
トン類の製造のための本発明に従う方法の実施において
、反応温度は実質的な範囲内で変化させ得る。第一段階
は一般に30℃〜200℃、好適には50℃〜150℃
の温度で行われる。第二段階は一般に0℃〜150℃、
好適には20℃〜100℃の温度で行われる。
【0046】第一段および第二段階の両方の実施におけ
るベンジルケトン類製造のための本発明に従う方法の場
合、反応時間もまた実質的な範囲内で変化させ得る。第
一段階の反応時間は一般に0.5〜4時間、好適には1
〜3時間である。第二段階の反応時間は一般に0.1〜
5時間、好適には0.5〜3時間である。
るベンジルケトン類製造のための本発明に従う方法の場
合、反応時間もまた実質的な範囲内で変化させ得る。第
一段階の反応時間は一般に0.5〜4時間、好適には1
〜3時間である。第二段階の反応時間は一般に0.1〜
5時間、好適には0.5〜3時間である。
【0047】ベンジルケトン類製造のための本発明に従
う方法は、一般に、常圧下で行われる。しかしながら、
この方法を減圧下または加圧下で行うことも可能である
。
う方法は、一般に、常圧下で行われる。しかしながら、
この方法を減圧下または加圧下で行うことも可能である
。
【0048】ベンジルケトン類製造のための本発明に従
う方法の第一段階の実施において、式(II)の塩化ベ
ンジルと過剰の亜鉛とを反応させる。式(II)の塩化
ベンジル1モル当たり、一般に、1.05〜3モル、好
適には1.1〜2.5モル、特に好適には1.25〜2
.0モルの亜鉛が使用される。
う方法の第一段階の実施において、式(II)の塩化ベ
ンジルと過剰の亜鉛とを反応させる。式(II)の塩化
ベンジル1モル当たり、一般に、1.05〜3モル、好
適には1.1〜2.5モル、特に好適には1.25〜2
.0モルの亜鉛が使用される。
【0049】ベンジルケトン類製造のための本発明に従
う方法の第二段階の実施において、パラジウム触媒の量
は特定の範囲内で変化させ得る。式(III)の酸クロ
ライド1モル当たり、一般に、0.0001〜1モル%
、好適には0.0025〜0.1モル%、特に好適には
0.005〜0.05モル%のパラジウム触媒が使用さ
れる。
う方法の第二段階の実施において、パラジウム触媒の量
は特定の範囲内で変化させ得る。式(III)の酸クロ
ライド1モル当たり、一般に、0.0001〜1モル%
、好適には0.0025〜0.1モル%、特に好適には
0.005〜0.05モル%のパラジウム触媒が使用さ
れる。
【0050】ベンジルケトン類製造のための本発明に従
う方法の実施において、式(III)の酸クロライドに
対する式(II)の塩化ベンジルの比率は実質的な範囲
内で変化させ得る。式(III)の酸クロライド1モル
当たり、一般に、1.01〜1.25モル、好適には1
.05〜1.2モルの式(II)の塩化ベンジルが使用
される。
う方法の実施において、式(III)の酸クロライドに
対する式(II)の塩化ベンジルの比率は実質的な範囲
内で変化させ得る。式(III)の酸クロライド1モル
当たり、一般に、1.01〜1.25モル、好適には1
.05〜1.2モルの式(II)の塩化ベンジルが使用
される。
【0051】ベンジルケトン類製造のための本発明に従
う方法の第一段階における反応が終了した後、過剰の亜
鉛は通常の方法で分離され得る。亜鉛は、例えば濾過ま
たは遠心分離、或はまた亜鉛が沈澱した後の上澄み液を
ポンプで吸い出すことによって除去され得る。
う方法の第一段階における反応が終了した後、過剰の亜
鉛は通常の方法で分離され得る。亜鉛は、例えば濾過ま
たは遠心分離、或はまた亜鉛が沈澱した後の上澄み液を
ポンプで吸い出すことによって除去され得る。
【0052】ベンジルケトン類製造のための本発明に従
う方法の実施において、特に、式(II)の塩化ベンジ
ルを最初に亜鉛と、不活性ガス雰囲気下適切な希釈剤中
で反応させた後、過剰な亜鉛を分離し、残存する溶液に
式(III)の酸クロライドおよびパラジウム触媒を加
え、そして反応が終了するまでこれらの成分を反応させ
る操作を行う。処理は通常の方法で行う。引き続く操作
において、一般に、適宜前濾過を行った後そして適宜水
との混合性が低い有機溶媒で希釈した後、水および適宜
鉱酸希釈水溶液を該反応混合物に加え、そして有機相を
分離し、乾燥した後濃縮する。残存する生成物から、そ
れがまだ含有しているいかなる不純物も、通常の方法、
例えば蒸留または再結晶によって、除去され得る。
う方法の実施において、特に、式(II)の塩化ベンジ
ルを最初に亜鉛と、不活性ガス雰囲気下適切な希釈剤中
で反応させた後、過剰な亜鉛を分離し、残存する溶液に
式(III)の酸クロライドおよびパラジウム触媒を加
え、そして反応が終了するまでこれらの成分を反応させ
る操作を行う。処理は通常の方法で行う。引き続く操作
において、一般に、適宜前濾過を行った後そして適宜水
との混合性が低い有機溶媒で希釈した後、水および適宜
鉱酸希釈水溶液を該反応混合物に加え、そして有機相を
分離し、乾燥した後濃縮する。残存する生成物から、そ
れがまだ含有しているいかなる不純物も、通常の方法、
例えば蒸留または再結晶によって、除去され得る。
【0053】本発明の方法によって製造され得る式(I
I)のベンジルケトン類は、ある場合には、公知である
(Chem. Lett. 1981、 1135−1
138、 EP−OS(ヨーロッパ公開明細)0,01
5,756および米国特許明細4,123,542参照
)。
I)のベンジルケトン類は、ある場合には、公知である
(Chem. Lett. 1981、 1135−1
138、 EP−OS(ヨーロッパ公開明細)0,01
5,756および米国特許明細4,123,542参照
)。
【0054】式(I)のベンジルケトン類は、殺菌・殺
カビ特性を有する活性化合物合成のための有益な中間生
成物である。式
カビ特性を有する活性化合物合成のための有益な中間生
成物である。式
【0055】
【化28】
【0056】[式中、R1、R2、R3、R4、R5お
よびR6は、上述した意味を有し、そしてXは、窒素ま
たはCH基を表す]のアゾリル誘導体は、従って、式
よびR6は、上述した意味を有し、そしてXは、窒素ま
たはCH基を表す]のアゾリル誘導体は、従って、式
【
0057】
0057】
【化29】
【0058】[式中、R1、R2、R3、R4、R5お
よびR6は、上述した意味を有する]のベンジルケトン
類と、 α)式
よびR6は、上述した意味を有する]のベンジルケトン
類と、 α)式
【0059】
【化30】
【0060】のジメチルオキソスルホニウムメチリド、
或は β)式
或は β)式
【0061】
【化31】
【0062】のジメチルスルホニウムメチリドのどちら
かと、希釈剤、例えば第三ブタノール、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、トルエンまたはジメチルスルホキサ
イドなどの存在下、10〜60℃の温度で反応させ、そ
して得られる式
かと、希釈剤、例えば第三ブタノール、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、トルエンまたはジメチルスルホキサ
イドなどの存在下、10〜60℃の温度で反応させ、そ
して得られる式
【0063】
【化32】
【0064】[式中、R1、R2、R3、R4、R5お
よびR6は、上述した意味を有する]のオキシラン類と
、式
よびR6は、上述した意味を有する]のオキシラン類と
、式
【0065】
【化33】
【0066】[式中、Xは、上述した意味を有する]の
アゾール類とを、酸結合剤の存在下そして希釈剤の存在
下、50℃〜150℃の温度で反応させることによって
製造できる。
アゾール類とを、酸結合剤の存在下そして希釈剤の存在
下、50℃〜150℃の温度で反応させることによって
製造できる。
【0067】これに関連して、式
【0068】
【化34】
【0069】の2−クロロベンジル 1−クロロシクロ
プロピルケトンと、式
プロピルケトンと、式
【0070】
【化35】
【0071】の塩化トリメチルスルホキソニウムとを、
γ)アルコールの存在下そしてアルカリ金属の水酸化物
またはアルカリ金属のアルコラートの存在下か、或はδ
)トルエンまたはキシレンの存在下そして水酸化ナトリ
ウム水溶液または水酸化カリウム水溶液の存在下、10
℃〜60℃の温度で反応させる方法によって、式
γ)アルコールの存在下そしてアルカリ金属の水酸化物
またはアルカリ金属のアルコラートの存在下か、或はδ
)トルエンまたはキシレンの存在下そして水酸化ナトリ
ウム水溶液または水酸化カリウム水溶液の存在下、10
℃〜60℃の温度で反応させる方法によって、式
【00
72】
72】
【化36】
【0073】の2−(2−クロロベンジル)−2−(1
−クロロ−シクロプロピル)−オキシランが得られるこ
とを見い出した。
−クロロ−シクロプロピル)−オキシランが得られるこ
とを見い出した。
【0074】精密には、あまり一般的ではない式(XI
)の塩化トリメチルスルホキソニウムを用いた上述の方
法により、極めて高収率で、式(IX−1)の2−(2
−クロロベンジル)−2−(1−クロロ−シクロプロピ
ル)−オキシランを製造できることは非常に驚くべきこ
とである、何故ならば、イリッドを生じる他の通常の試
薬を使用したときの所望されるオキシランの収率は顕著
に低いからである。
)の塩化トリメチルスルホキソニウムを用いた上述の方
法により、極めて高収率で、式(IX−1)の2−(2
−クロロベンジル)−2−(1−クロロ−シクロプロピ
ル)−オキシランを製造できることは非常に驚くべきこ
とである、何故ならば、イリッドを生じる他の通常の試
薬を使用したときの所望されるオキシランの収率は顕著
に低いからである。
【0075】式(IX−1)の2−(2−クロロベンジ
ル)−2−(1−クロロ−シクロプロピル)−オキシラ
ン製造のための本発明に従う方法は、数多くの長所によ
って特徴づけられる。即ち、必要とされる反応成分は簡
単な様式で入手でき、そしてまた、産業的スケールで入
手できる。更に、この所望される物質の合成操作および
単離に関しては全く問題がない。更に特に有利な点は、
この方法により、式(IX−1)のオキシラン類が非常
な高収率および優れた純度で得られることである。
ル)−2−(1−クロロ−シクロプロピル)−オキシラ
ン製造のための本発明に従う方法は、数多くの長所によ
って特徴づけられる。即ち、必要とされる反応成分は簡
単な様式で入手でき、そしてまた、産業的スケールで入
手できる。更に、この所望される物質の合成操作および
単離に関しては全く問題がない。更に特に有利な点は、
この方法により、式(IX−1)のオキシラン類が非常
な高収率および優れた純度で得られることである。
【0076】式(IX−1)の2−(2−クロロベンジ
ル)−2−(1−クロロ−シクロプロピル)−オキシラ
ン製造のための本発明に従う方法の過程は、下記の方程
式で説明され得る:
ル)−2−(1−クロロ−シクロプロピル)−オキシラ
ン製造のための本発明に従う方法の過程は、下記の方程
式で説明され得る:
【0077】
【化37】
【0078】式(IX−1)のオキシラン類製造のため
の本発明に従う方法におけるイリッド生成剤として必要
な式(XI)の塩化トリメチルスルホキソニウムは公知
である(Act. Chem. Scand Ser.
B. 28、(1974) 590参照)。
の本発明に従う方法におけるイリッド生成剤として必要
な式(XI)の塩化トリメチルスルホキソニウムは公知
である(Act. Chem. Scand Ser.
B. 28、(1974) 590参照)。
【0079】式(IX−1)のオキシラン類製造のため
の本発明に従う方法の変法γの実施における好適で可能
な希釈剤はn−ブタノールである。好適で可能な塩基は
、固体状の水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムであ
る。これらはペレット、フレークまたは粉体として使用
できる。更に、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチ
ラートおよびナトリウムブタノラートも好適で可能な塩
基である。
の本発明に従う方法の変法γの実施における好適で可能
な希釈剤はn−ブタノールである。好適で可能な塩基は
、固体状の水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムであ
る。これらはペレット、フレークまたは粉体として使用
できる。更に、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチ
ラートおよびナトリウムブタノラートも好適で可能な塩
基である。
【0080】式(IX−1)のオキシラン類製造のため
の本発明に従う方法の変法δは、好適には二段階系で行
われる。可能な希釈剤はトルエンおよびキシレンである
。使用できる塩基は水酸化ナトリウム水溶液または水酸
化カリウム水溶液である。
の本発明に従う方法の変法δは、好適には二段階系で行
われる。可能な希釈剤はトルエンおよびキシレンである
。使用できる塩基は水酸化ナトリウム水溶液または水酸
化カリウム水溶液である。
【0081】変法γおよび変法δの両方の式(IX−1
)のオキシラン類製造のための本発明に従う方法の実施
における反応温度は、特定の範囲内で変化させ得る。 この反応は、一般に、10℃〜60℃、好適には20℃
〜50℃の温度で行われる。
)のオキシラン類製造のための本発明に従う方法の実施
における反応温度は、特定の範囲内で変化させ得る。 この反応は、一般に、10℃〜60℃、好適には20℃
〜50℃の温度で行われる。
【0082】変法γおよび変法δの両方において、式(
IX−1)のオキシラン類製造のための本発明に従う方
法は、一般に、常圧下で行われる。しかしながら、この
反応は加圧下もしくは減圧下で行うことも可能である。
IX−1)のオキシラン類製造のための本発明に従う方
法は、一般に、常圧下で行われる。しかしながら、この
反応は加圧下もしくは減圧下で行うことも可能である。
【0083】変法γによる式(IX−1)のオキシラン
類製造のための本発明に従う方法の実施において、式(
I−1)の2−クロロベンジル 1−クロロ−シクロプ
ロピルケトン1モル当たり、一般に、1〜3モル、好適
には1〜2モルの式(XI)の塩化トリメチルスルホキ
ソニウムおよび1〜3モル、好適には1〜2モルの塩基
が用いられる。変法δによる方法の実施において、式(
I−1)の2−クロロベンジル 1−クロロ−シクロプ
ロピルケトン1モル当たり、一般に、1〜3モル、好適
には1〜2モルの式(XI)の塩化トリメチルスルホキ
ソニウムおよび1〜3モル、好適には1〜2モルの塩基
が用いられる。各場合共、処理は通常の方法で行われる
。一般に、反応が終了した後の反応混合物に水を加え、
有機相を分離し、適宜水で洗浄した後、濃縮し、そして
適宜残存する残留物を蒸留する操作を行う。
類製造のための本発明に従う方法の実施において、式(
I−1)の2−クロロベンジル 1−クロロ−シクロプ
ロピルケトン1モル当たり、一般に、1〜3モル、好適
には1〜2モルの式(XI)の塩化トリメチルスルホキ
ソニウムおよび1〜3モル、好適には1〜2モルの塩基
が用いられる。変法δによる方法の実施において、式(
I−1)の2−クロロベンジル 1−クロロ−シクロプ
ロピルケトン1モル当たり、一般に、1〜3モル、好適
には1〜2モルの式(XI)の塩化トリメチルスルホキ
ソニウムおよび1〜3モル、好適には1〜2モルの塩基
が用いられる。各場合共、処理は通常の方法で行われる
。一般に、反応が終了した後の反応混合物に水を加え、
有機相を分離し、適宜水で洗浄した後、濃縮し、そして
適宜残存する残留物を蒸留する操作を行う。
【0084】本発明に従う方法のための操作を下記の実
施例によって説明する。
施例によって説明する。
【0085】
【実施例】実施例1
【0086】
【化38】
【0087】32.4g(0.5モル)の亜鉛末、53
.1g(0.33モル)の塩化2−クロロベンジルおよ
び375mLの乾燥エチレングリコールジメチルエーテ
ルから成る混合物を窒素雰囲気中2時間還流下で加熱す
る。次に、この反応混合物を窒素下で濾過する。この濾
液に41.7g(0.3モル)の塩化1−クロロシクロ
プロパン−カルボニルおよび21mg(0.01モル%
)の塩化ビス(トリフェニレンホスフィン)−パラジウ
ム(II)を加えた後、この混合物を窒素雰囲気中2時
間還流下で加熱する。室温に冷却した後、この反応混合
物を濾過し、そしてこの濾液を減圧下で濃縮する。残留
物をトルエン中に取り上げ、希塩酸水と一緒に振とうす
ることによってこの混合物を抽出し、有機相を乾燥した
後、減圧下で脱溶媒する。残存する残留物に対して分別
蒸留を行う。ガスクロで測定して95%の割合の2−ク
ロロベンジル 1−クロロ−シクロプロピルケトンを含
有する57.2gの油状物が得られる。従って、この収
率は理論値の79%であると計算される。
.1g(0.33モル)の塩化2−クロロベンジルおよ
び375mLの乾燥エチレングリコールジメチルエーテ
ルから成る混合物を窒素雰囲気中2時間還流下で加熱す
る。次に、この反応混合物を窒素下で濾過する。この濾
液に41.7g(0.3モル)の塩化1−クロロシクロ
プロパン−カルボニルおよび21mg(0.01モル%
)の塩化ビス(トリフェニレンホスフィン)−パラジウ
ム(II)を加えた後、この混合物を窒素雰囲気中2時
間還流下で加熱する。室温に冷却した後、この反応混合
物を濾過し、そしてこの濾液を減圧下で濃縮する。残留
物をトルエン中に取り上げ、希塩酸水と一緒に振とうす
ることによってこの混合物を抽出し、有機相を乾燥した
後、減圧下で脱溶媒する。残存する残留物に対して分別
蒸留を行う。ガスクロで測定して95%の割合の2−ク
ロロベンジル 1−クロロ−シクロプロピルケトンを含
有する57.2gの油状物が得られる。従って、この収
率は理論値の79%であると計算される。
【0088】実施例2
【0089】
【化39】
【0090】2.6g(40ミリモル)の亜鉛末(粒子
サイズ325メッシュ)、3.2g(20ミリモル)の
塩化2−クロロベンジルおよび25mLの乾燥テトラヒ
ドロフランから成る混合物を窒素雰囲気中1.5時間還
流下で加熱する。この反応混合物を室温に冷却した後、
窒素下で濾過する。この濾液に2.8g(20ミリモル
)の塩化1−クロロシクロプロパン−カルボニルおよび
7.3mg(0.05モル%)の塩化ビス(トリフェニ
レンホスフィン)−パラジウム(II)を加えた後、こ
の混合物を窒素雰囲気中2時間還流下で加熱する。ガス
クロによる分析によって、理論値の85%の収率で2−
クロロベンジル 1−クロロシクロプロピルケトンが得
られることが確認される。
サイズ325メッシュ)、3.2g(20ミリモル)の
塩化2−クロロベンジルおよび25mLの乾燥テトラヒ
ドロフランから成る混合物を窒素雰囲気中1.5時間還
流下で加熱する。この反応混合物を室温に冷却した後、
窒素下で濾過する。この濾液に2.8g(20ミリモル
)の塩化1−クロロシクロプロパン−カルボニルおよび
7.3mg(0.05モル%)の塩化ビス(トリフェニ
レンホスフィン)−パラジウム(II)を加えた後、こ
の混合物を窒素雰囲気中2時間還流下で加熱する。ガス
クロによる分析によって、理論値の85%の収率で2−
クロロベンジル 1−クロロシクロプロピルケトンが得
られることが確認される。
【0091】実施例3
【0092】
【化40】
【0093】3.9g(60ミリモル)の亜鉛末、4.
7g(30ミリモル)の塩化3−メトキシ−ベンジルお
よび45mLの乾燥エチレングリコールジメチルエーテ
ルから成る混合物を窒素雰囲気中3時間還流下で加熱す
る。次に、この反応混合物を窒素下で濾過する。この濾
液に3.5g(25ミリモル)の塩化1−クロロシクロ
プロパン−カルボニルおよび17.5mg(0.1モル
%)の塩化ビス(トリフェニレンホスフィン)−パラジ
ウム(II)を加えた後、この混合物を窒素雰囲気中1
時間還流下で加熱する。ガスクロによる分析によって、
理論値の59%の収率で3−メトキシベンジル 1−ク
ロロ−シクロプロピルケトンが得られたことが確認され
る。
7g(30ミリモル)の塩化3−メトキシ−ベンジルお
よび45mLの乾燥エチレングリコールジメチルエーテ
ルから成る混合物を窒素雰囲気中3時間還流下で加熱す
る。次に、この反応混合物を窒素下で濾過する。この濾
液に3.5g(25ミリモル)の塩化1−クロロシクロ
プロパン−カルボニルおよび17.5mg(0.1モル
%)の塩化ビス(トリフェニレンホスフィン)−パラジ
ウム(II)を加えた後、この混合物を窒素雰囲気中1
時間還流下で加熱する。ガスクロによる分析によって、
理論値の59%の収率で3−メトキシベンジル 1−ク
ロロ−シクロプロピルケトンが得られたことが確認され
る。
【0094】実施例4
【0095】
【化41】
【0096】6.5g(100ミリモル)の亜鉛末、1
0.6g(66ミリモル)の塩化2−クロロベンジルお
よび75mLの乾燥エチレングリコールジメチルエーテ
ルから成る混合物を窒素雰囲気中1時間還流下で加熱す
る。次に、この反応混合物を窒素下で濾過する。この濾
液に6.9g(44.6ミリモル)の塩化2,2−ジフ
ルオロ−1−メチル−シクロプロパン−カルボニルおよ
び21mg(0.07モル%)の塩化ビス(トリフェニ
レンホスフィン)−パラジウム(II)を加えた後、こ
の混合物を窒素雰囲気中1.5時間還流下で加熱する。 その後、この反応混合物を窒素下濾過する。この濾液を
トルエンで希釈した後、希塩酸水そして水を用い続けて
振とうすることによって抽出し、有機相を乾燥した後、
減圧下で脱溶媒することによって濃縮する。残存する残
留物に対して蒸留を行う。この方法により、油状物の形
状の2−クロロベンジル (2,2−ジフルオロ−1−
メチル)−シクロプロピルケトンが8.0g(理論値の
73%)得られる。
0.6g(66ミリモル)の塩化2−クロロベンジルお
よび75mLの乾燥エチレングリコールジメチルエーテ
ルから成る混合物を窒素雰囲気中1時間還流下で加熱す
る。次に、この反応混合物を窒素下で濾過する。この濾
液に6.9g(44.6ミリモル)の塩化2,2−ジフ
ルオロ−1−メチル−シクロプロパン−カルボニルおよ
び21mg(0.07モル%)の塩化ビス(トリフェニ
レンホスフィン)−パラジウム(II)を加えた後、こ
の混合物を窒素雰囲気中1.5時間還流下で加熱する。 その後、この反応混合物を窒素下濾過する。この濾液を
トルエンで希釈した後、希塩酸水そして水を用い続けて
振とうすることによって抽出し、有機相を乾燥した後、
減圧下で脱溶媒することによって濃縮する。残存する残
留物に対して蒸留を行う。この方法により、油状物の形
状の2−クロロベンジル (2,2−ジフルオロ−1−
メチル)−シクロプロピルケトンが8.0g(理論値の
73%)得られる。
【0097】上述した方法により、以下の実施例中に挙
げるベンジルケトン類も製造される。
げるベンジルケトン類も製造される。
【0098】実施例5
【0099】
【化42】
【0100】収率:理論値の85%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
2‐1.35(m;1H)、1.5‐1.6(m;3H
)、2.25‐2.4(m;1H)、3.8(d,J約
17Hz;1H)、3.84(d,J約17Hz;1H
)、6.9‐7.2(m;4H)ppm。
2‐1.35(m;1H)、1.5‐1.6(m;3H
)、2.25‐2.4(m;1H)、3.8(d,J約
17Hz;1H)、3.84(d,J約17Hz;1H
)、6.9‐7.2(m;4H)ppm。
【0101】実施例6
【0102】
【化43】
【0103】収率:理論値の74%
実施例7
【0104】
【化44】
【0105】収率:理論値の60%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
34(s;6H)、3.65(s,2H)、3.98(
s;2H)、7.2‐7.5(m;4H)ppM。
34(s;6H)、3.65(s,2H)、3.98(
s;2H)、7.2‐7.5(m;4H)ppM。
【0106】実施例8
【0107】
【化45】
【0108】収率:理論値の91%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
13(s;3H)、1.18(s;3H)、2.6‐2
.8(m;1H)、3.9(s;2H)、7.1‐7.
4(m;4H)ppm。
13(s;3H)、1.18(s;3H)、2.6‐2
.8(m;1H)、3.9(s;2H)、7.1‐7.
4(m;4H)ppm。
【0109】実施例9
【0110】
【化46】
【0111】収率:理論値の85%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
78(s;6H)、4.25(s;2H)、7.1‐7
.4(m;4H)ppm。
78(s;6H)、4.25(s;2H)、7.1‐7
.4(m;4H)ppm。
【0112】実施例10
【0113】
【化47】
【0114】収率:理論値の66%
融点:70℃
実施例11
【0115】
【化48】
【0116】収率:理論値の82%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
3‐1.43(m;2H)、1.63‐1.73(m;
2H)、4.21(s;2H)、7.1〜7.3(m;
4H)ppm。
3‐1.43(m;2H)、1.63‐1.73(m;
2H)、4.21(s;2H)、7.1〜7.3(m;
4H)ppm。
【0117】実施例12
【0118】
【化49】
【0119】収率:理論値の67%
実施例13
【0120】
【化50】
【0121】収率:理論値の91%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
35(d;J約7Hz;1H)、1.73(s;3H)
、2.29(d,J約7Hz;1H)、3.9(d,J
約17.5Hz;1H)4.3(d,J約17.5Hz
;1H)、7.1‐7.4(m;4H)ppm。
35(d;J約7Hz;1H)、1.73(s;3H)
、2.29(d,J約7Hz;1H)、3.9(d,J
約17.5Hz;1H)4.3(d,J約17.5Hz
;1H)、7.1‐7.4(m;4H)ppm。
【0122】実施例14
【0123】
【化51】
【0124】収率:理論値の93%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
3(t,J約1Hz;3H)、3.99(d,J約20
Hz;1H)、4.01(d,J約20Hz;1H)、
4.6(ddd,J1約47Hz、J2約9.5Hz、
J3約2Hz;4H)、7.1‐7.4(m;4H)p
pm。
3(t,J約1Hz;3H)、3.99(d,J約20
Hz;1H)、4.01(d,J約20Hz;1H)、
4.6(ddd,J1約47Hz、J2約9.5Hz、
J3約2Hz;4H)、7.1‐7.4(m;4H)p
pm。
【0125】実施例15
【0126】
【化52】
【0127】収率:理論値の70%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
3‐2.2(m;10H)、3.90(d,J約21H
z;1H)、3.92(d,J約21Hz;1H)、5
.2(dd,J1約17HZ,J2約1Hz;1H)、
5.3(dd,J1約11Hz、J2約1Hz;1H)
、5.8(dd,J1約17Hz,J2約11Hz;1
H)、7.0‐7.4(M;4H)ppm。
3‐2.2(m;10H)、3.90(d,J約21H
z;1H)、3.92(d,J約21Hz;1H)、5
.2(dd,J1約17HZ,J2約1Hz;1H)、
5.3(dd,J1約11Hz、J2約1Hz;1H)
、5.8(dd,J1約17Hz,J2約11Hz;1
H)、7.0‐7.4(M;4H)ppm。
【0128】実施例16
【0129】
【化53】
【0130】収率:理論値の86%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
75(d,J約7Hz;3H)、4.13(s;2H)
、4.5(q,J約7Hz;1H)、7.2‐7.4(
m;4H)ppm。
75(d,J約7Hz;3H)、4.13(s;2H)
、4.5(q,J約7Hz;1H)、7.2‐7.4(
m;4H)ppm。
【0131】実施例17
【0132】
【化54】
【0133】収率:理論値の90%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=3.
99(s;2H)、4.18(s;2H)、7.2‐7
.5(m;4H)ppm。
99(s;2H)、4.18(s;2H)、7.2‐7
.5(m;4H)ppm。
【0134】実施例18
【0135】
【化55】
【0136】収率:理論値の95%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
15‐1.25(m;2H)、1.65‐1.75(m
,2H)、3.68(s;2H)、7.0‐7.4(m
;8H)ppm。
15‐1.25(m;2H)、1.65‐1.75(m
,2H)、3.68(s;2H)、7.0‐7.4(m
;8H)ppm。
【0137】実施例19
【0138】
【化56】
【0139】収率:理論値の80%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
8‐2.05(m;2H)、2.3‐2.55(m;2
H)、2.8‐3.0(m;2H)、3.63(s;2
H)、6.9‐7.4(m;8H)ppm。
8‐2.05(m;2H)、2.3‐2.55(m;2
H)、2.8‐3.0(m;2H)、3.63(s;2
H)、6.9‐7.4(m;8H)ppm。
【0140】実施例20
【0141】
【化57】
【0142】収率:理論値の88%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=0.
8‐1.0(t,3H)、1.1‐1.3(m;2H)
、1.7‐2.0(m;6H)、2.35‐2.6(m
;2H)、3.81(s;2H)、7.1‐7.4(m
;4H)ppm。
8‐1.0(t,3H)、1.1‐1.3(m;2H)
、1.7‐2.0(m;6H)、2.35‐2.6(m
;2H)、3.81(s;2H)、7.1‐7.4(m
;4H)ppm。
【0143】実施例21
【0144】
【化58】
【0145】収率:理論値の89%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
8(dd,J1約9Hz,J2約6Hz;1H)、2.
15(dd,J1約7.5Hz,J2約6hz,1H)
、2.8(dd,J1約9Hz,J1約7.5Hz,1
H)、4.05(s,2H),7.2‐7.5(m,4
H)ppm。
8(dd,J1約9Hz,J2約6Hz;1H)、2.
15(dd,J1約7.5Hz,J2約6hz,1H)
、2.8(dd,J1約9Hz,J1約7.5Hz,1
H)、4.05(s,2H),7.2‐7.5(m,4
H)ppm。
【0146】実施例22
【0147】
【化59】
【0148】収率:理論値の76%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
6‐2.4(m,6H)、3.25‐3.5(m;1H
)、3.97(d,J約16Hz;1H)、4.03(
d,J約16Hz;1H)、7.1‐7.5(m;4H
)ppm。
6‐2.4(m,6H)、3.25‐3.5(m;1H
)、3.97(d,J約16Hz;1H)、4.03(
d,J約16Hz;1H)、7.1‐7.5(m;4H
)ppm。
【0149】実施例23
【0150】
【化60】
【0151】収率:理論値の73%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
45(s;3H)、3.85(s;4H)、4.06(
s;2H)、7.0‐7.4(m;5H)ppm。
45(s;3H)、3.85(s;4H)、4.06(
s;2H)、7.0‐7.4(m;5H)ppm。
【0152】実施例24
【0153】
【化61】
【0154】収率:理論値の80%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=3.
95(s;2H)、4.12(s;2H)、7.35‐
7.6(m;4H)ppm。
95(s;2H)、4.12(s;2H)、7.35‐
7.6(m;4H)ppm。
【0155】融点:42℃
実施例25
【0156】
【化62】
【0157】収率:理論値の55%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=2.
20(s;3H)、3.84(s;2H)、4.08(
s;2H)、6.8‐7.15(m;3H)ppm。
20(s;3H)、3.84(s;2H)、4.08(
s;2H)、6.8‐7.15(m;3H)ppm。
【0158】融点:99〜103℃/1mバール実施例
26
26
【0159】
【化63】
【0160】収率:理論値の40%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=4.
08(s;2H)、6.78(d,J約16Hz;1H
)、7.2‐7.6(m;9H)、7.65(d,J約
16Hz;1H)ppm。
08(s;2H)、6.78(d,J約16Hz;1H
)、7.2‐7.6(m;9H)、7.65(d,J約
16Hz;1H)ppm。
【0161】実施例27
【0162】
【化64】
【0163】収率:理論値の80%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
8‐2.0(m;2H)、2.33(t,J約7Hz;
2H),2.55(t,J約7Hz;2H)、3.63
.(s;3H)、3.80(s;2H)、7.1‐7.
4(m;4H)ppm。
8‐2.0(m;2H)、2.33(t,J約7Hz;
2H),2.55(t,J約7Hz;2H)、3.63
.(s;3H)、3.80(s;2H)、7.1‐7.
4(m;4H)ppm。
【0164】実施例28
【0165】
【化65】
【0166】収率:理論値の80%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
65‐2.8(m;6H)、4.0‐4.3(m;2H
)、5.5‐5.9(m;2H)、7.1‐7.5(m
;4H)ppm。
65‐2.8(m;6H)、4.0‐4.3(m;2H
)、5.5‐5.9(m;2H)、7.1‐7.5(m
;4H)ppm。
【0167】実施例29
【0168】
【化66】
【0169】収率:理論値の59%
1H―NMR(200MHz,CDCl3):δ=1.
56(d,J約21Hz;6H)、4.35(m;2H
)、7.1‐7.35(m;3H)ppm。
56(d,J約21Hz;6H)、4.35(m;2H
)、7.1‐7.35(m;3H)ppm。
【0170】実施例30
【0171】
【化67】
【0172】700mLの無水n−ブタノール中の13
4g(0.585モル)の2−クロロベンジル 1−ク
ロロシクロプロピルケトンおよび35.5g(0.64
モル)の水酸化カリウム粉末から成る混合物に、撹拌し
ながら室温で、82.2g(0.64モル)の塩化トリ
メチルスルホキソニウムを分割して加える。添加終了後
、この反応混合物を更に3時間35℃で撹拌した後、5
00mLの水中に撹拌しながら加える。有機相を分離し
、500mLの水で1回洗浄した後、減圧下濃縮し、そ
して残存する残留物を真空中蒸留する。92.6%の割
合で2−(2−クロロベンジル)−2−(1−クロロシ
クロプロピル)−オキシランを含有しそして0.2mb
arの圧力下88〜90℃の沸点を有する生成物134
.6gがこの方法で得られる。従って、収率は理論値の
87.7%として計算される。
4g(0.585モル)の2−クロロベンジル 1−ク
ロロシクロプロピルケトンおよび35.5g(0.64
モル)の水酸化カリウム粉末から成る混合物に、撹拌し
ながら室温で、82.2g(0.64モル)の塩化トリ
メチルスルホキソニウムを分割して加える。添加終了後
、この反応混合物を更に3時間35℃で撹拌した後、5
00mLの水中に撹拌しながら加える。有機相を分離し
、500mLの水で1回洗浄した後、減圧下濃縮し、そ
して残存する残留物を真空中蒸留する。92.6%の割
合で2−(2−クロロベンジル)−2−(1−クロロシ
クロプロピル)−オキシランを含有しそして0.2mb
arの圧力下88〜90℃の沸点を有する生成物134
.6gがこの方法で得られる。従って、収率は理論値の
87.7%として計算される。
【0173】実施例31
【0174】
【化68】
【0175】1000mLのトルエン中の171.0g
(0.75モル)の2−クロロベンジル 1−クロロシ
クロプロピルケトンおよび104.0g(0.81モル
)の塩化トリメチルスルホキソニウムから成る懸濁液に
、撹拌しながら20℃で、507g(5.7モル)の4
5重量%濃度の水酸化ナトリウム水溶液を滴下する。 この操作中、反応混合物の温度が32℃に上昇する。添
加終了後、この反応混合物を更に4時間30℃で撹拌し
た後、600mLの水を冷却しながら加える。有機相を
分離した後、水相をもう2回トルエンで抽出する。硫酸
マグネシウム上で乾燥した後、有機相を一緒にして減圧
下濃縮する。90.5%の割合で2−(2−クロロベン
ジル)−2−(1−クロロシクロプロピル)−オキシラ
ンを含有している油状生成物175.6gがこの方法で
得られる。従って、収率は理論値の87.3%として計
算される。
(0.75モル)の2−クロロベンジル 1−クロロシ
クロプロピルケトンおよび104.0g(0.81モル
)の塩化トリメチルスルホキソニウムから成る懸濁液に
、撹拌しながら20℃で、507g(5.7モル)の4
5重量%濃度の水酸化ナトリウム水溶液を滴下する。 この操作中、反応混合物の温度が32℃に上昇する。添
加終了後、この反応混合物を更に4時間30℃で撹拌し
た後、600mLの水を冷却しながら加える。有機相を
分離した後、水相をもう2回トルエンで抽出する。硫酸
マグネシウム上で乾燥した後、有機相を一緒にして減圧
下濃縮する。90.5%の割合で2−(2−クロロベン
ジル)−2−(1−クロロシクロプロピル)−オキシラ
ンを含有している油状生成物175.6gがこの方法で
得られる。従って、収率は理論値の87.3%として計
算される。
【0176】比較実施例1
【0177】
【化69】
【0178】2.6g(40ミリモル)の亜鉛末(粒子
サイズ325メッシュ)、3.2g(20ミリモル)の
塩化2−クロロベンジルおよび25mLの乾燥テトラヒ
ドロフランから成る混合物を窒素雰囲気中1.5時間還
流下で加熱する。その後、この反応混合物に2.8g(
20ミリモル)の塩化1−クロロシクロプロパン−カル
ボニルおよび7.3mg(0.05モル%)の塩化ビス
(トリフェニレンホスフィン)−パラジウム(II)を
加えた後、この混合物を窒素雰囲気中2時間還流下で加
熱する。ガスクロによる分析によって、理論値の50%
の収率で2−クロロベンジル 1−クロロ−シクロプロ
ピルケトンが得られたことが確認される。
サイズ325メッシュ)、3.2g(20ミリモル)の
塩化2−クロロベンジルおよび25mLの乾燥テトラヒ
ドロフランから成る混合物を窒素雰囲気中1.5時間還
流下で加熱する。その後、この反応混合物に2.8g(
20ミリモル)の塩化1−クロロシクロプロパン−カル
ボニルおよび7.3mg(0.05モル%)の塩化ビス
(トリフェニレンホスフィン)−パラジウム(II)を
加えた後、この混合物を窒素雰囲気中2時間還流下で加
熱する。ガスクロによる分析によって、理論値の50%
の収率で2−クロロベンジル 1−クロロ−シクロプロ
ピルケトンが得られたことが確認される。
【0179】比較実施例2
【0180】
【化70】
【0181】70mLのジメチルスルホキサイド中の1
7.2g(0.078モル)のヨウ化トリメチルスルホ
キソニウム懸濁液に、室温で、8.7g(0.078モ
ル)のカリウム第三ブチラートを加えた後、この混合物
を室温で30分間撹拌する。次に、15g(0.066
モル)の2−クロロベンジル 1−クロロシクロプロピ
ルケトンを加える。添加終了後、この反応混合物を40
℃で4時間撹拌し、冷却した後、水上に注ぐ。この生じ
た混合物を塩化メチレンで数回抽出する。有機相を一緒
にして、水で洗浄し、そして硫酸マグネシウム上で乾燥
した後、減圧下濃縮する。44%の割合で2−(2−ク
ロロベンジル)−2−(1−クロロシクロプロピル)−
オキシランを含有している油状物生成物16.6gがこ
の方法で得られる。従って、収率は理論値の45.5%
として計算される。
7.2g(0.078モル)のヨウ化トリメチルスルホ
キソニウム懸濁液に、室温で、8.7g(0.078モ
ル)のカリウム第三ブチラートを加えた後、この混合物
を室温で30分間撹拌する。次に、15g(0.066
モル)の2−クロロベンジル 1−クロロシクロプロピ
ルケトンを加える。添加終了後、この反応混合物を40
℃で4時間撹拌し、冷却した後、水上に注ぐ。この生じ
た混合物を塩化メチレンで数回抽出する。有機相を一緒
にして、水で洗浄し、そして硫酸マグネシウム上で乾燥
した後、減圧下濃縮する。44%の割合で2−(2−ク
ロロベンジル)−2−(1−クロロシクロプロピル)−
オキシランを含有している油状物生成物16.6gがこ
の方法で得られる。従って、収率は理論値の45.5%
として計算される。
【0182】比較実施例3
【0183】
【化71】
【0184】45mLの無水第三ブタノール中の10.
0g(0.044モル)の2−クロロベンジル−1−ク
ロロシクロプロピルケトンおよび2.9g(0.052
モル)の水酸化カリウム粉末から成る混合物に、11.
5g(0.052モル)のヨウ化トリメチルスルホキソ
ニウムを分割して、撹拌しながら加える。添加終了後、
この反応混合物を40℃で更に16時間撹拌した後、1
00mLの水中に撹拌しながら加える。この混合物を1
00mLの塩化メチレンで抽出し、有機相を分離し、6
0mLの水で1回洗浄した後、減圧下濃縮し、そして残
存する残留物を真空中蒸留する。15%の割合で2−(
2−クロロベンジル)−2−(1−クロロシクロプロピ
ル)−オキシランを含有している生成物9gがこの方法
で得られる。従って、収率は理論値の13%として計算
される。
0g(0.044モル)の2−クロロベンジル−1−ク
ロロシクロプロピルケトンおよび2.9g(0.052
モル)の水酸化カリウム粉末から成る混合物に、11.
5g(0.052モル)のヨウ化トリメチルスルホキソ
ニウムを分割して、撹拌しながら加える。添加終了後、
この反応混合物を40℃で更に16時間撹拌した後、1
00mLの水中に撹拌しながら加える。この混合物を1
00mLの塩化メチレンで抽出し、有機相を分離し、6
0mLの水で1回洗浄した後、減圧下濃縮し、そして残
存する残留物を真空中蒸留する。15%の割合で2−(
2−クロロベンジル)−2−(1−クロロシクロプロピ
ル)−オキシランを含有している生成物9gがこの方法
で得られる。従って、収率は理論値の13%として計算
される。
【0185】比較実施例4
【0186】
【化72】
【0187】53mLのアセトニトリル中の13.0g
(0.069モル)のトリメチルスルホキソニウムメチ
ル−スルフェート溶液に、撹拌しながら20℃で、4.
2g(0.078モル)のナトリウムメチラートを加え
る。添加終了後、この混合物を20℃で更に30分間撹
拌した後、10g(0.044モル)の2−クロロベン
ジル−1−クロロシクロプロピルケトンを加える。この
混合物を20〜30℃で16時間撹拌した後、水で希釈
する。生じた混合物を塩化メチレンで抽出する。有機相
を一緒にして水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
た後、減圧下濃縮する。ガスクロ分析により、38%の
割合で2−クロロベンジル−1−クロロシクロプロピル
ケトンを含有しそして3.6%の割合で2−(2−クロ
ロベンジル)−2−(1−クロロシクロプロピル)−オ
キシランを含有している油状の生成物7.5gがこの方
法で得られる。従って、収率は理論値の2.5%として
計算される。
(0.069モル)のトリメチルスルホキソニウムメチ
ル−スルフェート溶液に、撹拌しながら20℃で、4.
2g(0.078モル)のナトリウムメチラートを加え
る。添加終了後、この混合物を20℃で更に30分間撹
拌した後、10g(0.044モル)の2−クロロベン
ジル−1−クロロシクロプロピルケトンを加える。この
混合物を20〜30℃で16時間撹拌した後、水で希釈
する。生じた混合物を塩化メチレンで抽出する。有機相
を一緒にして水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
た後、減圧下濃縮する。ガスクロ分析により、38%の
割合で2−クロロベンジル−1−クロロシクロプロピル
ケトンを含有しそして3.6%の割合で2−(2−クロ
ロベンジル)−2−(1−クロロシクロプロピル)−オ
キシランを含有している油状の生成物7.5gがこの方
法で得られる。従って、収率は理論値の2.5%として
計算される。
【0188】比較実施例5
【0189】
【化73】
【0190】70mLのジメチルスルホキサイド中の1
7.2g(0.11モル)の臭化トリメチルスルホキソ
ニウム懸濁液に、撹拌しながら20℃で、8.9g(0
.079モル)のカリウム第三ブチラートを加える。添
加終了後、この混合物を20℃で更に20分間撹拌した
後、15g(0.0655モル)の2−クロロベンジル
−1−クロロシクロプロピルケトンを加える。この混合
物を40℃で4時間撹拌した後、20℃で更に16時間
撹拌し、そして続いて水で希釈する。生じた混合物を塩
化メチレンで数回抽出する。有機相を一緒にして水で洗
浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下濃縮す
る。ガスクロ分析により、77%の割合で2−クロロベ
ンジル−1−クロロシクロプロピルケトンを含有しそし
て5%の割合で2−(2−クロロベンジル)−2−(1
−クロロシクロプロピル)−オキシランを含有している
油状生成物15.5gがこの方法で得られる。従って、
収率は理論値の4.9%として計算される。
7.2g(0.11モル)の臭化トリメチルスルホキソ
ニウム懸濁液に、撹拌しながら20℃で、8.9g(0
.079モル)のカリウム第三ブチラートを加える。添
加終了後、この混合物を20℃で更に20分間撹拌した
後、15g(0.0655モル)の2−クロロベンジル
−1−クロロシクロプロピルケトンを加える。この混合
物を40℃で4時間撹拌した後、20℃で更に16時間
撹拌し、そして続いて水で希釈する。生じた混合物を塩
化メチレンで数回抽出する。有機相を一緒にして水で洗
浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下濃縮す
る。ガスクロ分析により、77%の割合で2−クロロベ
ンジル−1−クロロシクロプロピルケトンを含有しそし
て5%の割合で2−(2−クロロベンジル)−2−(1
−クロロシクロプロピル)−オキシランを含有している
油状生成物15.5gがこの方法で得られる。従って、
収率は理論値の4.9%として計算される。
【0191】比較実施例6
【0192】
【化74】
【0193】11mLのトルエン中の10g(0.04
4モル)の2−クロロベンジル−1−クロロシクロプロ
ピルケトン、50mgのオレイン酸ポリグリコールエー
テルおよび0.1mLのメタノールから成る混合物に、
撹拌しながら20℃で、7.5g(0.13モル)の水
酸化カリウム粉末を加える。その後、この混合物を40
℃に加熱し、そして1.5mLの水と0.2mLのジエ
チレングリコールとから成る混合物中の6.6g(0.
059モル)の塩化トリメチルスルホニウム溶液を撹拌
しながら滴下する。この反応混合物を40℃で16時間
撹拌した後、水で希釈する。生じた混合物をトルエンで
抽出する。有機相を一緒にして減圧下濃縮する。12%
の割合で2−(2−クロロベンジル)−2−(1−クロ
ロ−シクロプロピル)−オキシランを含有している油状
生成物11.3gがこの方法で得られる。従って、収率
は理論値の13%として計算される。
4モル)の2−クロロベンジル−1−クロロシクロプロ
ピルケトン、50mgのオレイン酸ポリグリコールエー
テルおよび0.1mLのメタノールから成る混合物に、
撹拌しながら20℃で、7.5g(0.13モル)の水
酸化カリウム粉末を加える。その後、この混合物を40
℃に加熱し、そして1.5mLの水と0.2mLのジエ
チレングリコールとから成る混合物中の6.6g(0.
059モル)の塩化トリメチルスルホニウム溶液を撹拌
しながら滴下する。この反応混合物を40℃で16時間
撹拌した後、水で希釈する。生じた混合物をトルエンで
抽出する。有機相を一緒にして減圧下濃縮する。12%
の割合で2−(2−クロロベンジル)−2−(1−クロ
ロ−シクロプロピル)−オキシランを含有している油状
生成物11.3gがこの方法で得られる。従って、収率
は理論値の13%として計算される。
【0194】使用実施例
【0195】
【化75】
【0196】10mLの乾燥ジメチルホルムアミド中の
2.2gの1,2,4−トリアゾールおよび0.23g
のカリウム第三ブチラートから成る混合物に、窒素雰囲
気下80℃で撹拌しながら、3mLの乾燥ジメチルホル
ムアミド中の2.84gの2−(2−クロロベンジル)
−2−(1−クロロ−シクロプロピル)−オキシランを
滴下する。添加終了後、この反応混合物を80℃で更に
8時間加熱し、そして減圧下濃縮する。残存する残留物
を酢酸エチルに溶解する。この操作によって生じる溶液
を、水と一緒に振とうすることによって抽出し、この抽
出物を乾燥した後、減圧下濃縮する。残存する残留物を
、流動相として塩化メチレンを用いたシリカゲルカラム
上のクロマトグラフィーにかける。溶離剤を蒸発させて
、融点が107℃の固体状物質の形状の3−(2−クロ
ロフェニル)−2−(1−クロロ−シクロプロピル)−
1−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−プロパ
ン−2−オールが1.77g得られる。
2.2gの1,2,4−トリアゾールおよび0.23g
のカリウム第三ブチラートから成る混合物に、窒素雰囲
気下80℃で撹拌しながら、3mLの乾燥ジメチルホル
ムアミド中の2.84gの2−(2−クロロベンジル)
−2−(1−クロロ−シクロプロピル)−オキシランを
滴下する。添加終了後、この反応混合物を80℃で更に
8時間加熱し、そして減圧下濃縮する。残存する残留物
を酢酸エチルに溶解する。この操作によって生じる溶液
を、水と一緒に振とうすることによって抽出し、この抽
出物を乾燥した後、減圧下濃縮する。残存する残留物を
、流動相として塩化メチレンを用いたシリカゲルカラム
上のクロマトグラフィーにかける。溶離剤を蒸発させて
、融点が107℃の固体状物質の形状の3−(2−クロ
ロフェニル)−2−(1−クロロ−シクロプロピル)−
1−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−プロパ
ン−2−オールが1.77g得られる。
【0197】本発明の特徴および態様は以下のとうりで
ある。
ある。
【0198】1.a)第一段階で、式(II)の塩化ベ
ンジルと過剰量の亜鉛末とを、不活性ガス雰囲気下そし
て希釈剤の存在下、30℃〜200℃の温度で反応させ
た後、過剰の亜鉛末を分離し、そして次にb)第二段階
で、この生成した式
ンジルと過剰量の亜鉛末とを、不活性ガス雰囲気下そし
て希釈剤の存在下、30℃〜200℃の温度で反応させ
た後、過剰の亜鉛末を分離し、そして次にb)第二段階
で、この生成した式
【0199】
【化76】
【0200】[式中、R1、R2、R3、R4およびR
5は、以下に示す意味を有する]のベンジル誘導体と式
(III)の酸クロライドとを、不活性ガス雰囲気下そ
してパラジウム触媒および希釈剤の存在下、0℃〜15
0℃の温度で反応させる、ことを特徴とする、亜鉛末お
よびパラジウム触媒の存在下そして希釈剤の存在下での
、式
5は、以下に示す意味を有する]のベンジル誘導体と式
(III)の酸クロライドとを、不活性ガス雰囲気下そ
してパラジウム触媒および希釈剤の存在下、0℃〜15
0℃の温度で反応させる、ことを特徴とする、亜鉛末お
よびパラジウム触媒の存在下そして希釈剤の存在下での
、式
【0201】
【化77】
【0202】[式中、R1、R2、R3、R4およびR
5は、以下に示す意味を有する]の塩化ベンジル類と、
式
5は、以下に示す意味を有する]の塩化ベンジル類と、
式
【0203】
【化78】
R6−CO−Cl
(III)[式中、R6は、以下
に示す意味を有する]の酸クロライド類との反応によっ
て得られる、式
(III)[式中、R6は、以下
に示す意味を有する]の酸クロライド類との反応によっ
て得られる、式
【0204】
【化79】
【0205】[式中、R1、R2、R3、R4およびR
5は、互いに独立して、水素、ハロゲン、1〜6個の炭
素原子を有するアルキル、1〜6個の炭素原子を有しそ
して1〜13個のハロゲン原子を有するハロゲノアルキ
ル、1〜6個の炭素原子を有するアルコキシ、1〜6個
の炭素原子を有しそして1〜13個のハロゲン原子を有
するハロゲノアルコキシ、シアノまたは任意にハロゲン
置換されていてもよいフェノキシを表すか、或は6〜1
0個の炭素原子を有するアリールを表すか(このアリー
ル基の各々は、ハロゲン、1〜4個の炭素原子を有する
アルキル、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個の
ハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、1〜4個の炭
素原子を有するアルコキシおよび/または1〜4個の炭
素原子を有しそして1〜5個のハロゲン原子を有するハ
ロゲノアルコキシであってもよい)、或はR1、R2、
R3、R4およびR5は、互いに独立して、式
5は、互いに独立して、水素、ハロゲン、1〜6個の炭
素原子を有するアルキル、1〜6個の炭素原子を有しそ
して1〜13個のハロゲン原子を有するハロゲノアルキ
ル、1〜6個の炭素原子を有するアルコキシ、1〜6個
の炭素原子を有しそして1〜13個のハロゲン原子を有
するハロゲノアルコキシ、シアノまたは任意にハロゲン
置換されていてもよいフェノキシを表すか、或は6〜1
0個の炭素原子を有するアリールを表すか(このアリー
ル基の各々は、ハロゲン、1〜4個の炭素原子を有する
アルキル、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個の
ハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、1〜4個の炭
素原子を有するアルコキシおよび/または1〜4個の炭
素原子を有しそして1〜5個のハロゲン原子を有するハ
ロゲノアルコキシであってもよい)、或はR1、R2、
R3、R4およびR5は、互いに独立して、式
【020
6】
6】
【化80】−COOR7
(式中、R7は、1〜6個の炭素原子を有するアルキル
、フェニルまたはベンジルを表す)の基を表し、そして
R6は、1〜18個の炭素原子を有するアルキル、1〜
18個の炭素原子を有しそして1〜12個のハロゲン原
子を有するハロゲノアルキル、アルキル部分中に1〜6
個の炭素原子を有しそしてアルコキシ部分に1〜6個の
炭素原子を有するアルコキシカルボニルアルキル、2〜
18個の炭素原子を有するアルケニルまたは2〜18個
の炭素原子を有しそして1〜12個のハロゲン原子を有
するハロゲノアルケニルを表すか、或は3〜8個の炭素
原子を有するシクロアルキルを表すか、或は5〜8個の
炭素原子を有するシクロアルケニルを表すか(該シクロ
アルキルおよびシクロアルケニル基の各々は、ハロゲン
、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、1〜4個の炭
素原子を有しそして1〜7個のハロゲン原子を有するハ
ロゲノアルキル、1〜4個の炭素原子を有するアルコキ
シ、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜7個のハロゲ
ン原子を有するハロゲノアルコキシ、2〜6個の炭素原
子を有するアルケニルおよび/またはハロゲンおよび/
または1〜4個の炭素原子を有するアルキルで任意に置
換されているフェニルで置換されていてもよい)、或は
R6は、6〜10個の炭素原子を有するアリールを表す
か、或はアリール部分に6〜10個の炭素原子を有しそ
してアルキル部分に1〜4個の炭素原子を有するアラル
キルを表すか、或はアリール部分に6〜10個の炭素原
子を有しそしてアルケニル部分に2〜4個の炭素原子を
有するアラルケニルを表すか、或はアリール部分に6〜
10個の炭素原子を有しそしてアルキル部分に1〜4個
の炭素原子を有するアロキシアルキルを表すか(これら
の基の各々は、アリール部分が、ハロゲン、1〜6個の
炭素原子を有するアルキル、1〜4個の炭素原子を有し
そして1〜5個のハロゲン原子を有するハロゲノアルキ
ル、1〜4個の炭素原子を有するアルコキシおよび/ま
たは1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個のハロゲ
ン原子を有するハロゲノアルコキシで置換されていても
よい)、或はR6は、5または6員環でありそして1ま
たは2個のヘテロ原子を有しそしてハロゲンおよび/ま
たは1〜4個の炭素原子を有するアルキルで任意に置換
されているヘテロ芳香族基を表すか、或はR6は、式
、フェニルまたはベンジルを表す)の基を表し、そして
R6は、1〜18個の炭素原子を有するアルキル、1〜
18個の炭素原子を有しそして1〜12個のハロゲン原
子を有するハロゲノアルキル、アルキル部分中に1〜6
個の炭素原子を有しそしてアルコキシ部分に1〜6個の
炭素原子を有するアルコキシカルボニルアルキル、2〜
18個の炭素原子を有するアルケニルまたは2〜18個
の炭素原子を有しそして1〜12個のハロゲン原子を有
するハロゲノアルケニルを表すか、或は3〜8個の炭素
原子を有するシクロアルキルを表すか、或は5〜8個の
炭素原子を有するシクロアルケニルを表すか(該シクロ
アルキルおよびシクロアルケニル基の各々は、ハロゲン
、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、1〜4個の炭
素原子を有しそして1〜7個のハロゲン原子を有するハ
ロゲノアルキル、1〜4個の炭素原子を有するアルコキ
シ、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜7個のハロゲ
ン原子を有するハロゲノアルコキシ、2〜6個の炭素原
子を有するアルケニルおよび/またはハロゲンおよび/
または1〜4個の炭素原子を有するアルキルで任意に置
換されているフェニルで置換されていてもよい)、或は
R6は、6〜10個の炭素原子を有するアリールを表す
か、或はアリール部分に6〜10個の炭素原子を有しそ
してアルキル部分に1〜4個の炭素原子を有するアラル
キルを表すか、或はアリール部分に6〜10個の炭素原
子を有しそしてアルケニル部分に2〜4個の炭素原子を
有するアラルケニルを表すか、或はアリール部分に6〜
10個の炭素原子を有しそしてアルキル部分に1〜4個
の炭素原子を有するアロキシアルキルを表すか(これら
の基の各々は、アリール部分が、ハロゲン、1〜6個の
炭素原子を有するアルキル、1〜4個の炭素原子を有し
そして1〜5個のハロゲン原子を有するハロゲノアルキ
ル、1〜4個の炭素原子を有するアルコキシおよび/ま
たは1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個のハロゲ
ン原子を有するハロゲノアルコキシで置換されていても
よい)、或はR6は、5または6員環でありそして1ま
たは2個のヘテロ原子を有しそしてハロゲンおよび/ま
たは1〜4個の炭素原子を有するアルキルで任意に置換
されているヘテロ芳香族基を表すか、或はR6は、式
【
0207】
0207】
【化81】
【0208】(式中、R8は、1〜4個の炭素原子を有
するアルキルを表すか、或はハロゲンを表す)の基を表
す]のベンジルケトン類の製造方法。
するアルキルを表すか、或はハロゲンを表す)の基を表
す]のベンジルケトン類の製造方法。
【0209】2.式(II)
[式中、R1、R2、R3、R4およびR5が、互いに
独立して、水素、フッ素、塩素、臭素、1〜4個の炭素
原子を有するアルキル、1〜4個の炭素原子を有しそし
て1〜5個のフッ素および/または塩素原子を有するハ
ロゲノアルキル、1〜4個の炭素原子を有するアルコキ
シ、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個のフッ素
および/または塩素原子を有するハロゲノアルコキシ、
シアノまたは任意に1〜3個のフッ素および/または塩
素原子で置換されていてもよいフェノキシを表すか、或
はフェニルまたはナフチルを表すか(上述した最後の2
つの基の各々は、フッ素、塩素、1〜3個の炭素原子を
有するアルキル、1または2個の炭素原子を有しそして
1〜5個のフッ素および/または塩素原子を有するハロ
ゲノアルキル、1〜3個の炭素原子を有するアルコキシ
または1または2個の炭素原子を有しそして1〜5個の
フッ素および/または塩素原子を有するハロゲノアルコ
キシから成る群からの1〜3個の同一または異なる置換
基で置換されていてもよい)、或はR1、R2、R3、
R4およびR5が、互いに独立して、式
独立して、水素、フッ素、塩素、臭素、1〜4個の炭素
原子を有するアルキル、1〜4個の炭素原子を有しそし
て1〜5個のフッ素および/または塩素原子を有するハ
ロゲノアルキル、1〜4個の炭素原子を有するアルコキ
シ、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個のフッ素
および/または塩素原子を有するハロゲノアルコキシ、
シアノまたは任意に1〜3個のフッ素および/または塩
素原子で置換されていてもよいフェノキシを表すか、或
はフェニルまたはナフチルを表すか(上述した最後の2
つの基の各々は、フッ素、塩素、1〜3個の炭素原子を
有するアルキル、1または2個の炭素原子を有しそして
1〜5個のフッ素および/または塩素原子を有するハロ
ゲノアルキル、1〜3個の炭素原子を有するアルコキシ
または1または2個の炭素原子を有しそして1〜5個の
フッ素および/または塩素原子を有するハロゲノアルコ
キシから成る群からの1〜3個の同一または異なる置換
基で置換されていてもよい)、或はR1、R2、R3、
R4およびR5が、互いに独立して、式
【0210】
【化82】−COOR7
(式中、R7は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル
、フェニルまたはベンジルを表す)の基を表す]の塩化
ベンジル類を用いることを特徴とする第1項記載の方法
。
、フェニルまたはベンジルを表す)の基を表す]の塩化
ベンジル類を用いることを特徴とする第1項記載の方法
。
【0211】3.式(III)
[式中、R6が、1〜6個の炭素原子を有するアルキル
、1〜6個の炭素原子を有しそして1〜6個のフッ素、
塩素および/または臭素原子を有するハロゲノアルキル
、2〜8個の炭素原子を有するアルケニルまたは2〜8
個の炭素原子を有しそして1〜6個のフッ素、塩素およ
び/または臭素原子を有するハロゲノアルケニル、アル
キル部分中に1〜4個の炭素原子を有しそしてアルコキ
シ部分中に1〜4個の炭素原子を有するアルコキシカル
ボニルアルキルを表すか、或は3〜7個の炭素原子を有
するシクロアルキルを表すか、或は5〜7個の炭素原子
を有するシクロアルケニルを表すか(該シクロアルキル
およびシクロアルケニル基は、フッ素、塩素、臭素、1
〜3個の炭素原子を有するアルキル、1〜3個の炭素原
子を有しそして1〜5個のフッ素および/または塩素原
子を有するハロゲノアルキル、1〜3個の炭素原子を有
するアルコキシ、1〜3個の炭素原子を有しそして1〜
5個のフッ素および/または塩素原子を有するハロゲノ
アルコキシ、2〜4個の炭素原子を有するアルケニル、
および/またはフッ素、塩素、メチルおよび/またはエ
チルから成る群からの1または2個の同一もしくは異な
る置換基で任意に置換されているフェニルから成る群か
らの1〜8個の同一もしくは異なる置換基で置換されて
いてもよい)、或はR6が、フェニル、ナフチル、アル
キル部分に1〜4個の炭素原子を有するフェニルアルキ
ル、アルケニル部分に2〜3個の炭素原子を有するフェ
ニルアルケニルを表すか、或はアルキル部分に1〜4個
の炭素原子を有するフェノキシアルキルを表すか(これ
らの前述した基の各々は、アリール部分が、フッ素、塩
素、臭素、1〜3個の炭素原子を有するアルキル、1〜
3個の炭素原子を有しそして1〜5個のフッ素および/
または塩素原子を有するハロゲノアルキル、1〜3個の
炭素原子を有するアルコキシおよび/または1〜3個の
炭素原子を有しそして1〜5個のフッ素および/または
塩素原子を有するハロゲノアルコキシから成る群からの
1〜3個の同一もしくは異なる置換基で置換されていて
もよい)、或はR6が、5または6員環でありそして1
または2個の窒素、酸素および/または硫黄原子を有し
そしてフッ素、塩素、臭素、メチルおよび/またはエチ
ルから成る群からの1または2個の同一もしくは異なる
置換基で任意に置換されているヘテロ芳香族基を表すか
、或はR6が、式
、1〜6個の炭素原子を有しそして1〜6個のフッ素、
塩素および/または臭素原子を有するハロゲノアルキル
、2〜8個の炭素原子を有するアルケニルまたは2〜8
個の炭素原子を有しそして1〜6個のフッ素、塩素およ
び/または臭素原子を有するハロゲノアルケニル、アル
キル部分中に1〜4個の炭素原子を有しそしてアルコキ
シ部分中に1〜4個の炭素原子を有するアルコキシカル
ボニルアルキルを表すか、或は3〜7個の炭素原子を有
するシクロアルキルを表すか、或は5〜7個の炭素原子
を有するシクロアルケニルを表すか(該シクロアルキル
およびシクロアルケニル基は、フッ素、塩素、臭素、1
〜3個の炭素原子を有するアルキル、1〜3個の炭素原
子を有しそして1〜5個のフッ素および/または塩素原
子を有するハロゲノアルキル、1〜3個の炭素原子を有
するアルコキシ、1〜3個の炭素原子を有しそして1〜
5個のフッ素および/または塩素原子を有するハロゲノ
アルコキシ、2〜4個の炭素原子を有するアルケニル、
および/またはフッ素、塩素、メチルおよび/またはエ
チルから成る群からの1または2個の同一もしくは異な
る置換基で任意に置換されているフェニルから成る群か
らの1〜8個の同一もしくは異なる置換基で置換されて
いてもよい)、或はR6が、フェニル、ナフチル、アル
キル部分に1〜4個の炭素原子を有するフェニルアルキ
ル、アルケニル部分に2〜3個の炭素原子を有するフェ
ニルアルケニルを表すか、或はアルキル部分に1〜4個
の炭素原子を有するフェノキシアルキルを表すか(これ
らの前述した基の各々は、アリール部分が、フッ素、塩
素、臭素、1〜3個の炭素原子を有するアルキル、1〜
3個の炭素原子を有しそして1〜5個のフッ素および/
または塩素原子を有するハロゲノアルキル、1〜3個の
炭素原子を有するアルコキシおよび/または1〜3個の
炭素原子を有しそして1〜5個のフッ素および/または
塩素原子を有するハロゲノアルコキシから成る群からの
1〜3個の同一もしくは異なる置換基で置換されていて
もよい)、或はR6が、5または6員環でありそして1
または2個の窒素、酸素および/または硫黄原子を有し
そしてフッ素、塩素、臭素、メチルおよび/またはエチ
ルから成る群からの1または2個の同一もしくは異なる
置換基で任意に置換されているヘテロ芳香族基を表すか
、或はR6が、式
【0212】
【化83】
【0213】(式中、R8は、メチル、エチル、フッ素
、塩素または臭素を表す)の基を表す]の酸クロライド
を用いることを特徴とする第1項記載の方法。
、塩素または臭素を表す)の基を表す]の酸クロライド
を用いることを特徴とする第1項記載の方法。
【0214】4.用いる式(II)の塩化ベンジルが、
式
式
【0215】
【化84】
【0216】の塩化2−クロロベンジルであり、そして
用いる式(III)の酸クロライドが、式
用いる式(III)の酸クロライドが、式
【0217】
【化85】
【0218】の塩化1−クロロシクロプロパン−カルボ
ニルであることを特徴とする第1項記載の方法。
ニルであることを特徴とする第1項記載の方法。
【0219】5.触媒としてパラジウム(II)塩、パ
ラジウム(II)錯体またはパラジウム(0)錯体を用
いることを特徴とする第1項記載の方法。
ラジウム(II)錯体またはパラジウム(0)錯体を用
いることを特徴とする第1項記載の方法。
【0220】6.式(II)の塩化ベンジル1モル当た
り1.05〜3モルの亜鉛末を用いることを特徴とする
第1項記載の方法。
り1.05〜3モルの亜鉛末を用いることを特徴とする
第1項記載の方法。
【0221】7.式(III)の酸クロライド1モル当
たり1.01〜1.25モルの式(II)の塩化ベンジ
ルを用いることを特徴とする第1項記載の方法。
たり1.01〜1.25モルの式(II)の塩化ベンジ
ルを用いることを特徴とする第1項記載の方法。
【0222】8.式(III)の酸クロライド1モル当
たり0.0001〜1モル%のパラジウム触媒を用いる
ことを特徴とする第1項記載の方法。
たり0.0001〜1モル%のパラジウム触媒を用いる
ことを特徴とする第1項記載の方法。
【0223】9.該第一段階を50℃〜150℃の温度
で行うことを特徴とする第1項記載の方法。
で行うことを特徴とする第1項記載の方法。
【0224】10.該第二段階を20℃〜100℃の温
度で行うことを特徴とする第1項記載の方法。
度で行うことを特徴とする第1項記載の方法。
【0225】11.式
【0226】
【化86】
【0227】の2−クロロベンジル 1−シクロプロピ
ルケトンと、式
ルケトンと、式
【0228】
【化87】
【0229】の塩化トリメチルスルホキソニウムとを、
γ)アルコールの存在下そしてアルカリ金属の水酸化物
またはアルカリ金属のアルコラートの存在下か、或はδ
)トルエンまたはキシレンの存在下そして水酸化ナトリ
ウム水溶液または水酸化カリウム水溶液の存在下、10
℃〜60℃の温度で反応させることを特徴とする、式
γ)アルコールの存在下そしてアルカリ金属の水酸化物
またはアルカリ金属のアルコラートの存在下か、或はδ
)トルエンまたはキシレンの存在下そして水酸化ナトリ
ウム水溶液または水酸化カリウム水溶液の存在下、10
℃〜60℃の温度で反応させることを特徴とする、式
【
0230】
0230】
【化88】
【0231】の2−(2−クロロベンジル)−2−(1
−クロロ−シクロプロピル)−オキシランの製造方法。
−クロロ−シクロプロピル)−オキシランの製造方法。
Claims (7)
- 【請求項1】a)第一段階で、式(II)の塩化ベンジ
ルと過剰量の亜鉛末とを、不活性ガス雰囲気下そして希
釈剤の存在下、30℃〜200℃の温度で反応させた後
、過剰の亜鉛末を分離し、そして次にb)第二段階で、
この生成した式 【化1】 [式中、R1、R2、R3、R4およびR5は、以下に
示す意味を有する]のベンジル誘導体と式(III)の
酸クロライドとを、不活性ガス雰囲気下そしてパラジウ
ム触媒および希釈剤の存在下、0℃〜150℃の温度で
反応させる、ことを特徴とする、亜鉛末およびパラジウ
ム触媒の存在下そして希釈剤の存在下での、式【化2】 [式中、R1、R2、R3、R4およびR5は、以下に
示す意味を有する]の塩化ベンジル類と、式【化3】 R6−CO−Cl
(III)[式中、R6は、以下に示す意味を有する]
の酸クロライド類との反応によって得られる、式【化4
】 [式中、R1、R2、R3、R4およびR5は、互いに
独立して、水素、ハロゲン、1〜6個の炭素原子を有す
るアルキル、1〜6個の炭素原子を有しそして1〜13
個のハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、1〜6個
の炭素原子を有するアルコキシ、1〜6個の炭素原子を
有しそして1〜13個のハロゲン原子を有するハロゲノ
アルコキシ、シアノまたは任意にハロゲン置換されてい
てもよいフェノキシを表すか、或は6〜10個の炭素原
子を有するアリールを表すか(このアリール基の各々は
、ハロゲン、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、1
〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個のハロゲン原子
を有するハロゲノアルキル、1〜4個の炭素原子を有す
るアルコキシおよび/または1〜4個の炭素原子を有し
そして1〜5個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコ
キシであってもよい)、或はR1、R2、R3、R4お
よびR5は、互いに独立して、式 【化5】−COOR7 (式中、R7は、1〜6個の炭素原子を有するアルキル
、フェニルまたはベンジルを表す)の基を表し、そして
R6は、1〜18個の炭素原子を有するアルキル、1〜
18個の炭素原子を有しそして1〜12個のハロゲン原
子を有するハロゲノアルキル、アルキル部分中に1〜6
個の炭素原子を有しそしてアルコキシ部分に1〜6個の
炭素原子を有するアルコキサイドカルボニルアルキル、
2〜18個の炭素原子を有するアルケニルまたは2〜1
8個の炭素原子を有しそして1〜12個のハロゲン原子
を有するハロゲノアルケニルを表すか、或は3〜8個の
炭素原子を有するシクロアルキルを表すか、或は5〜8
個の炭素原子を有するシクロアルケニルを表すか(該シ
クロアルキルおよびシクロアルケニル基の各々は、ハロ
ゲン、1〜4個の炭素原子を有するアルキル、1〜4個
の炭素原子を有しそして1〜7個のハロゲン原子を有す
るハロゲノアルキル、1〜4個の炭素原子を有するアル
コキシ、1〜4個の炭素原子を有しそして1〜7個のハ
ロゲン原子を有するハロゲノアルコキシ、2〜6個の炭
素原子を有するアルケニルおよび/またはハロゲンおよ
び/または1〜4個の炭素原子を有するアルキルで任意
に置換されているフェニルで置換されていてもよい)、
或はR6は、6〜10個の炭素原子を有するアリールを
表すか、或はアリール部分に6〜10個の炭素原子を有
しそしてアルキル部分に1〜4個の炭素原子を有するア
ラルキルを表すか、或はアリール部分に6〜10個の炭
素原子を有しそしてアルケニル部分に2〜4個の炭素原
子を有するアラルケニルを表すか、或はアリール部分に
6〜10個の炭素原子を有しそしてアルキル部分に1〜
4個の炭素原子を有するアロキシアルキルを表すか(こ
れらの基の各々は、アリール部分が、ハロゲン、1〜6
個の炭素原子を有するアルキル、1〜4個の炭素原子を
有しそして1〜5個のハロゲン原子を有するハロゲノア
ルキル、1〜4個の炭素原子を有するアルコキシおよび
/または1〜4個の炭素原子を有しそして1〜5個のハ
ロゲン原子を有するハロゲノアルコキシで置換されてい
てもよい)、或はR6は、5または6員環でありそして
1または2個のヘテロ原子を有しそしてハロゲンおよび
/または1〜4個の炭素原子を有するアルキルで任意に
置換されているヘテロ芳香族基を表すか、或はR6は、
式 【化6】 (式中、R8は、1〜4個の炭素原子を有するアルキル
を表すか、或はハロゲンを表す)の基を表す]のベンジ
ルケトン類の製造方法。 - 【請求項2】 用いる式(II)の塩化ベンジルが、
式【化7】 の塩化2−クロロベンジルであり、そして用いる式(I
II)の酸クロライドが、式 【化8】 の塩化1−クロロシクロプロパン−カルボニルであるこ
とを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 触媒としてパラジウム(II)塩、パ
ラジウム(II)錯体またはパラジウム(0)錯体を用
いることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項4】 式(II)の塩化ベンジル1モル当た
り1.05〜3モルの亜鉛末を用いることを特徴とする
請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 式(III)の酸クロライド1モル当
たり1.01〜1.25モルの式(II)の塩化ベンジ
ルを用いることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項6】 式(III)の酸クロライド1モル当
たり0.0001〜1モル%のパラジウム触媒を用いる
ことを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項7】 式 【化9】 の2−クロロベンジル 1−シクロプロピルケトンと、
式 【化10】 の塩化トリメチルスルホキソニウムとを、γ)アルコー
ルの存在下そしてアルカリ金属の水酸化物またはアルカ
リ金属のアルコラートの存在下か、或はδ)トルエンま
たはキシレンの存在下そして水酸化ナトリウム水溶液ま
たは水酸化カリウム水溶液の存在下、10℃〜60℃の
温度で反応させることを特徴とする、式【化11】 の2−(2−クロロベンジル)−2−(1−クロロ−シ
クロプロピル)−オキシランの製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4018926 | 1990-06-13 | ||
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DE4030061.7 | 1990-09-22 | ||
DE4018926.0 | 1990-09-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04230232A true JPH04230232A (ja) | 1992-08-19 |
JP3007188B2 JP3007188B2 (ja) | 2000-02-07 |
Family
ID=25894116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5146001A (ja) |
EP (1) | EP0461483B1 (ja) |
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- 1990-09-22 DE DE4030061A patent/DE4030061A1/de not_active Withdrawn
-
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- 1991-05-30 DE DE59106800T patent/DE59106800D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-05-30 ES ES91108882T patent/ES2079517T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-30 EP EP91108882A patent/EP0461483B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-03 US US07/709,679 patent/US5146001A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-06-07 JP JP3162484A patent/JP3007188B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2079517T3 (es) | 1996-01-16 |
US5146001A (en) | 1992-09-08 |
EP0461483A2 (de) | 1991-12-18 |
EP0461483A3 (ja) | 1994-03-23 |
DE4030061A1 (de) | 1991-12-19 |
JP3007188B2 (ja) | 2000-02-07 |
EP0461483B1 (de) | 1995-11-02 |
DE59106800D1 (de) | 1995-12-07 |
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