JPH0422913A - 色消ビーム整形光学系 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、例えば光ヘット等に搭載されるビーム整形光
学系に関するものである。

［従来の技術］ 近年、光学的な情報記録再生システムの進展か著しく、
コンパクトディスク等の再生専用の光ディスクの他、追
記可能型光ディスクや書き換え可能型の光磁気ディスク
等種々の記録媒体か開発されている。これらの光ディス
クの記録再生に用いられる装置においては、一般に小型
で軽量な半導体レーザか光源として用いられているか、
半導体レーザから射出されるビームは、半導体レーザの
積層構造に起因して楕円断面形状となっているため、ビ
ームの利用効率を向上させるためには、ビームを円形に
整形する必要がある。特に、追記可能型光ディスク、書
き換え可能型の光磁気ディスクに対応する記録再生装置
においては、大きなビームパワーが要求されるため、ビ
ーム整形光学系の使用が必要不可欠である。

第３図は、従来の光学的記録再生装置に搭載される光ヘ
ットの光学系の概略図である。

図において、半導体レーザ１０３から射出された楕円ビ
ームは、コリメートレンズ１０４によって平行光とされ
、第１及び第２のプリズム１０１１０２からなるビーム
整形光学系において、ビームの短径が拡大されることに
より円形ビームに整形される。その後、ビームは偏光ビ
ームスプリッタ１０５を通過し、対物レンズ１０６によ
ってディスク１０７上でスポット状に集光される。

ディスク１０７が例えは光磁気でディスクであるとする
と、情報の記録は、予め外部磁界がかけられたディスク
１０７の磁性膜の所定の部分をビームの照射によって加
熱してその部分の磁化の向きを反転させることにより行
なわれる。また、情報の再生は、ビット（本明細書では
凹凸状のものたけでなく再生されるデジタル信号に対応
するものを総称してビットと言う）が形成されたディス
ク１０７にビームを照射し、照射したビームの反射光の
振動面の回転方向か磁性膜の磁化の向きにより異なるこ
とを利用して行なわれる。即ち、ディスク１０７ての反
射光は、ビームスプリッタ１０５で反射されて、再生信
号・サーボ信号検圧系１０８に導かれ、ここで情報の読
み出しが行なわれる。また、再生信号・サーボ信号検出
系１０８では、ディスク１０７の記録トラックとビーム
スポットの相対的位置の追従を行なうために、反射光か
らのトラッキングサーボ信号及びフォーカスサーボ信号
の検出が行なわれる。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、上記のような従来の光ヘットに用いられている
ビーム整形光学系においては、色収差が補正されておら
ず、以下に説明するように、ビームの色収差によるＳ／
Ｎ比の劣化を避ける事ができないという問題があった。

まず、情報の記録時においては、半導体レーザから発光
されるビームの出力変動に伴う波長変動（数ｎＩｎ）の
為に、ディスク上でのビームスポットの位置が偏移して
しまう。この為、記録トラックの所定の位置にきれいな
ビットが形成されず、記録再生装置のＳ／Ｎ比を劣化さ
せる要因となる。

また、情報の再生時においては、次のような不都合があ
る。半導体レーザから発光されるレーザは、温度や戻り
光の影響によって、波長が段階的に変化してしまうため
（モードホッピング）、般に、このモートホッピング雑
音を抑制するために、高周波（例えば〜５００Ｍ）ｌｚ
）で半導体レーザを点滅させること（高周波重畳法）か
行なわれる。

この際、半導体レーザはマルチモート発振し、モートホ
ッピング雑音は軽減されるものの波長域か広がってしま
う（±５〜１０ｎｍ）　　　この為、ディスク面上での
ビームスポットの径か大きくなってしまい、情報再生時
の解像力か低下するとともに、ひいてはＳ／Ｎ比の劣化
をもたらす。

この発明は、かかる点に鑑みてなされたものてあり、ビ
ームの幅を拡大してビーム断面形状を整形でき、かつ色
収差が高精度に補正された色消ビーム整形光学系を桿供
することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明の色消ビーム整形光学系は、光源から射出された
ビームか被照射面に至る光路中に第１及び第２プリズム
を有し、前記光臨側に設けられた第１のプリズムは、前
記第１プリズムに入射する前記光源からのビームの入射
角か前記第１プリズムを射出するビームの射出角よりも
大となるように構成されて前記第１プリズムを通過する
ビーム幅を拡大すると共に、前記被照射面側に設けられ
た前記第２プリズムは、前記第２プリズムに入射する前
記第１プリズムからのビームの入射角が前記第２プリズ
ムを射出するビームの射出角よりも大となるように構成
されて前記第２プリズムを通過するビーム幅を拡大する
ビーム整形光学系てあって、上記の目的を達成するため
に、前記第１及び第２プリズムが次式に定められる条件
をほぼ満たすように構成されたものである。

ｃｏｓ［θ１ ＋５ｉｎ−’（！　５ｉｎ ｎＩ φ、）］−ｃｏｓ　　φ１ ここに、 ｎＩ：第１プリズムの屈折率、 ｎ２：第２プリズムの屈折率、 δｎｌ；第１プリズムの分散、 δｎ２．第２プリズムの分散、 θ１　；第１プリズムの頂角、 θ２　、第２プリズムの頂角、 φ１　；第１プリズムにおけるビームの射出角、φ２　
、第２プリズムにおけるビームの射出角、１１１２；％
２プリズムによるビームのイｇ軍、である。

このとき、前記第１及び第２プリズムの分散か互いに異
なるように構成することか望ましい。

また、本発明では上記の目的を達成するために、前記第
１及び第２プリズムが次式を満足するように構成しても
良い。

［作用］ 第１図及び第２図を用いて本発明のビーム整形光学系に
おける色収差補正について説明する。

まず、第１図において、第１及び第２プリズム１．２は
、ビームが個々のプリズムを通過する際に、ビームの入
射角がビームの射出角よりも犬となるビーム幅（径）を
拡大する条件を満足するように、光源（半導体レーザ）
と被照射面（光ディスク）の間に配置され、ビーム整形
光学系を構成している。ここで、光源から耐圧されるビ
ームの中心波長をλ、これより短波長側の波長をλ“　
とすると、波長が短いビームの方が屈折率が大きいため
、波長λ′のビームＬＢ２は第１プリズムによって波長
λのビームＬＢ、よりも時計回り方向ＣＷに曲げられ、
第２プリズムによってビームＬ巳、より反時計回り方向
ＣＣＷに曲げられる。

従って、色収差を補正するには、波長の異なるビームＬ
　Ｂ　ｒ　、　　Ｌ　Ｂ２か％ｘ及び第２プリズムを透
過した後のビーム整形光学系全体としての振れ角（第１
プリズムへの入射光線と第２プリズムの射出光線のなす
角）が等しくなるように、両プリズム１，２を構成すれ
ば良いことになる。

以下、第２図を参照して具体的な色消し条件について述
べる。第１及び第２プリズムの屈折率をそれぞれ口１＋
ｎ２とし、第１及び第２プリズムの分散をそれぞれδｎ
＋、　　δｎ２（δｎ、　＝−ｄｎ、／ｄλ、δｎ２＝
−ｄｎ２／ｄλ）、第１及び第２プリズムの頂角をそれ
ぞれθ１．θ２、第１及び第２プリズムの倍率をそれぞ
れ”ｌ＋”２（ビーム整形比−〇、・１１１２）、第１
及び第２プリズムの入射角（各プリズムの入射面の法線
と入射光線のなす角）をそれぞれφ１φ２°、第１及び
第２プリズムの射出角（各プリズムの射出面の法線と射
出光線のなす角）をそれぞれφ１．φ２、第１及び第２
プリズムの入射面の屈折角（各プリズムの入射面の法線
とこの入射面を屈折する光線とのなす角）をそれぞれα
。

α２°、第１及び第２プリズムの射出面に入射する屈折
光線の入射角（各プリズムの射出面の法線とこの射出面
に入射する屈折光線とのなす角）をそれぞれα１．α２
とずれは、波長変化１ｎｍ当たりの振れ角の変化（色収
差）ｅは、 ε　＝ｆ（φ２．ｎ２θ２）・　δｎ２−１／＋ｎ２・
ｆ　（φ１；ｏ１θ）・δＩｌｌ　　”’Ｕ）（ｒａｄ
−ｎｌ’） ここで であり、 また屈折の法則及び第２図の幾何光学的な関係より、 Ｓｌｎ ・Ｓｌｎ　α ・・・（４） ｓｉｎ　　φ　１ −ｎＩ−ｓｉｎ ・・・（４） ＝　α　、十０１ ・・・（４） となる。

従って、 理想的な色消し条件は（＋１ 式の （左 辺） のεが零の時であり、 上式（２）　、　（４）　、　（４）　’及びから ｃｏｓ［θ２ ・ｓｉｎ　−寛　−ｓｉｎ φ２）１・ｃｏｓ ｃｏｓ［θ１ ＋５ｉｎ−’　（ φＩ）Ｊ“ｃｏｓ ・・・（５） となる。

さて、 従来においては、 第１ 及び第２プリズム の屈折率ｆｎｌｌｚ）　、頂角（θ１．θ２）、及びビ
ームの入射角（φ１．φ２）は、一般に大きく異なる組
み合せて構成ことばない。そこで、この従来の構成に基
づいて色消し条件を設定することを考えると、ｆ（φｌ
　：ｎ１０１）〜ｆ（φ２：ｎ２θ２）であり、また、
ｌ１１２〉１であるから、（５）式においてδｎ、／６
ｎ２〉１となる。即ち、光源側の第１プリズムの分散を
被照射面側の第２プリズムの分散より大とすれば、実用
上無理のなく色収差を補正することが可能である。もち
ろん、（５）式においては、δｎ１／δｎ２＜１となる
解も存在するわけて、プリズムの頂角、屈折率及びビー
ムの入射出角の設定によってはδｎ＋／δｎ２〈１とな
る分散比の組み合わせても色消しは可能であることは言
うまでもない。

また、一般に、ビームの拡大を行なうビーム整形光学系
では、ビームがプリズムから直角に射出するように（即
ち、射出角＝；）、両プリズムが配置されることが多い
が、この場合色収差εは次のようになる。

ε＝δｎ２・ｔａｎθ２−δｎ、・ｔａｎθ＋／ｍ２（
ｒａｄ−ｎＩｌｌ−’）・・・（６） （６）式の第１項か第２プリズムによる色収差を表わし
、第２項か第１プリズムによる色収差を表わす。

ここで、頂角と倍率の関係 ５ｉｎ２θ＋−（ｍ＋’−１）／（ｎ□２ｍ＋’−＋）
　　　（ｉ−１，２）・・・　（）） を使えば、（６）式より色消の条件は となる。

当然ながら、（６）式及び（８）式は、φ、−φ２＝零
とした場合の（１）式及び（５）式にそれぞれ一致する
。

以上の如く、理想的な色消ビーム整形光学系を構成する
にあたっては、初めから（５）式（（８）式）の条件を
満たすように第１及び第２プリズムを設ければ、それに
よりほぼ完全に色収差を補正することかできるが、実際
には必すしも（５）式の条件を完全に満たさなくとも良
い。

すなわち、以下に示す如く、理想的な色消しについての
一般的な条件（５）に対応する実用的な色消し条件（９
）、又は理想的な色消し条件（８）に対応する実用的な
色消し条件（９）°を満足するように本発明を構成する
ことが好ましい。

・・・（９） ・・・（９） なお、実用上においてより十分なる色消しを達成するに
は、上記（９）式又は（９）°式の上限を０１とし、こ
の０．１の上限値よりも小となるように本発明を構成す
ることかより望ましい。

なお、適当に各プリズムの硝種の頂角１倍率を選択する
事により第１プリズムへの入射光線と第２プリズムから
の射出光線を平行にする事も可能である。入射光線と射
出光線か平行であれは、光学系の構造が単純になるので
、設計上これを考応することが好ましい。このとき、光
源側の第１フリズムへの入射光と被照射側の第２プリズ
ムからの射出光との方向を平行としなから、十分なる色
収差補正を果たすには、第１プリズムの分散か第２プリ
ズムの分散よりも大となるように構成することがより好
ましい。ちなみに、入射光線と射出光線が平行である条
件は ｉｎ、−１／ｍ、）　５Ｉｎ２θ＋１ｎ２−１＃＋＋２
）　５ｉｎ２θ２・・・（１０） である。

［実施例コ 第１及び第２のプリズムについて、頂角、屈折享２分散
を種々に選択し、光学系全体のビーム整形比（第１プリ
ズムの倍率１１１．Ｘ第２プリズムの倍率１ｍ２）か２
５となるようなビーム整形光学系を実す６例１〜５とし
て示した。また、本発明の要件を満たさない従来のビー
ム整形光学系（ビーム整形比は実施例と同し２．５）を
比較例１，２として示した。実施例及び比較例の詳細な
条件はまとめて後述する。

そして、実施例１〜８及び比較例１．２のビーム整形光
学系を光学的記録再生装置の光ヘットに塔載し、中心波
長＾−８３０ｎｍ　、対物レンズの焦点％Ｍｆ−４ｔｎ
ｍの条件て光デイスク上でのビームスポットの波長１ｎ
ｍ当りの偏移量δ−ｆ・ε（μｒｎ　−ｎｍ−１）を求
めた。

以下、各実施例、の構成上の特徴について述べる。

実施例１〜７は被照射側の第２プリズムの分散に対して
光源側の第１プリズムの分散か相対的に高くなる、即ち
δｎ１／′δｎ２〉１を満足する場合のものを示してお
り、実施例８は被明射側の第２プリズムの分散に対して
光源側の第１プリズムの分散が相対的に低くなる、即ち
δｒｚ／δｎ２〈１を満足する場合のものを示している
。

実施例・１．２ 本実施例では、第１プリズムへの入射光線と第２プリズ
ムからの射出光線が平行となるように構成されている。

実施例：３，４ 本実施例は第１プリズムの入射光線と第２プリズムから
の射出光線とか平行となる条件を考慮しないで、色収差
をより小さく抑えたものである。

実施例：５，６ 本実施例では、第１及び第２プリズムは等倍率であるか
、第１プリズムへの入射光線と第２プリズムからの射出
光線とは平行ではない。

実８色ｆ列　　　７ 本実施例では、第１及び第２プリズムの屈折率がほぼ等
しい場合について検討した。

ここで、両プリズムか同一屈折率、同一形状をもてば頂
角１倍率ともに等しいので、（１ｏ）式より入射光線と
射出光線の平行条件は満たされている。

色消しの条件は（８）式より δｎ＋／δｎｚ−ｍ＋−ＴＭ２・＝　（ＩＩ）となる。

即ち 屈折率か等しく　　　ｎ、−口２　　　　　　・・・（
１２）かつ分散比が　　　δｒｘ／δｎ、−１・ｌ１１
２＝Ｊτ−７丁１０「圧− ・・・（１２）’ を満足するガラスを用いた同一形状のプリズムを組み合
わせる事により色消条件、平行の条件を同時に満たすビ
ーム整形プリズムを実現する事ができる。

実施例７のビーム整形光学系は、上記（１２）（１２）
“を満たすように構成されており、両プリズムの屈折率
、頂角はほぼ等しく、入射光線と射出光線か平行となっ
ている。

勿論、実施例１〜６の様に屈折率か等しくなくても色収
差の補正は可能であるか、プリズムの屈折率か等しくな
い場合でも、実用されるプリズムの屈折率は大きく異ｔ
２るものではないから、（１２）式を分散比の目安とし
て、又、色収差補正の最適化の初期値として用いること
かできる。

実施例　８ 本実施例は光源側の第１プリズムである程度の大きな倍
率を得て、この第１プリズムで発生する色収差を被照射
側の第２プリズムで良好に補正したものである。

上記（６）式から分かるように、色収差を補正するため
に（６）式の左辺の６を；とした場合、δｎ２４ａｎθ
２＝δｎ、−ｔａｎθ＋／ｍ２−　（１３）の関係が成
立する。

ここて、本実施例ては、第１プリズムて大きな倍率を得
ているため、第１プリズムの頂角θ１か大きくなる。こ
れにより、（１３）式の右辺か大きくなる分たけ（１３
）式の左辺の第２プリズムの分散δｎ２を高くすること
により、光学系全体の色収差をバランス良く補正してい
る。

比較例 １個のプリズムからなるビーム整形光学系である。

比較例−２ 第１及び第２プリズムか同一硝種からなり（即ち、屈折
率１分散が同じ）、両プリズムの形状も同一である。

次に、実施例１〜８及び比較例１．２のビーム整形光学
系のデータ及び光デイスク上でのビームスポットの偏移
量をまとめて示す。

但し、 δｎ（ｘ　１０−’・ｎｍ−’） ａｇ θ　（ｄ　ｅ　ｇ） 波長８３０ｎｍに於ける屈折率、 分散（波長８３０ｎｍに於ける ｌ　ｎｍ当たりの屈折率変化）、 各プリズムの倍率、 各プリズムの頂角、 φ’　（ｄｅｇ）　　　　　　光線か各プリズムへ入射
する時の入射角、 φ（ｄｅｇ）　　　　　　　光線か各プリズムを射出す
る時の射出角、 ε（ｒａｄ−ｎｍ−’）　　　　色収差による振れ角、
ＣＣＷを正符号とする、 δ＝ｆ・ε（μｍ−ｎｍ−’）色収差によるディスク上
でのスポットの偏移量、 △　　　　　　　　上記（９）弐又は（９）式の対応値
、 である。

なお、平行度（ｄｅｇ）は入射光線と射出光線のなす角
を示し、平行条件の満たされている実施例では、この記
載か省略されている。

実施例 δ　ｎ ａｇ 第　１　プリズム １．６３４２９１ ３．７５３ １．５１９ 第　２プリズム １．５１０２４１ １．９３６ ３０．２１３７１ ５５Ｊ２７６７ ３．０７３５Ｅ−７ ０，００１２３ ０，０１１４ ３５，０５０４５ ６０，１７４４１ ０，０ 実施例： 第　１　プリズム １．６５７５２８ ４．０３９ ２９．５３７５３ ５４．８００５８ −１゜８０３９Ｅ−７ −０，０００７２ ０，００６６ 第　２プリズム １．５１０２４１ １．９３６ ３５．１６０２７ ６０．４２３３０ 実施例 第　１　プリズム １．６３４２９１ ３０．３８７２５ ５５．７１０４１ ５．０Ｅ−８ ０，０００２０ ０，００１８５ ０，４２１３８ｄｅｇ） 第　２　プリズム １．５１０２４１ ３４．９３０１９ ５９．８５１９ｆｉ 実施例 第　１　プリズム １．５５７５２８ ＋、４９９ ２９．３９８８８ ５Ｌ４５４９３ 第　２ブリズＬ １．５１０２４１ ３５．２６９４３ ６０．６９７３４ ０．０ ５．０Ｅ−８ ０，０００２０ ０，００１８８ ０，３７１８５ｄｅｇ） 実施例 第　１　プリズム １．５９１６４７ ３．１９６ １．５８１ ３２．０２７７０ ５７．５７５３１ ６．０６３５Ｅ−７ ０，００２４３ ０，０２３４ １，３９７４７ｄｅｇ） 第　２プリズム １．５１０２４１ ３４．３８８９８ ５８．５３９１１ 実施例 第　１　プリズム 第　２ブリズＬ １．６１２９９２ １．５８１ ３１．４６８２６ ５７．３５４４８ １．８１３４Ｅ−７ ０，０００７３ ０，００６８ １，７３６０９ｄｅｇ） １．５１０２４１ ３４　３８８！１８ ５８．３９１＋ 実施例 ：　７ ′ｆＪ　１　プリズム １．７２１７００ １．５８＋３ ２８．９３０８７ ５６．３９５６５ ０．０ ２．１７７５ε−７ 第　２プリズム １．７２２２４５ １．５８０９ ２８．９１５０３ ５６．３７９８１ δ △ 実施例 第　１　プリズム　　　　第　２１リズム１．５＋０２
４１　　　　１．６３４２９１１．９３６　　　　　　
　３．７５３ ２．２１１　　　　　　　１．１３１ ３８．２４１００　　　　１９．８４５２５６９．１９
５０２　　　　３３．６９７８７５．０Ｅ−８ ０，０００２０ ０，００１９ １７，１０１０１５０ｄｅ 比較例 第　１　プリズム １．５１０２４１ δ　ｎ ２．５ ３９゜００１６２ ７１．８８９４７ ０．０ １．５６７８Ｅ−５ ０，０６２７１ 比較例 第　１　プリズム １．５１０２４１ １．５８１ ３４．３８８９８ ５８．５３９１２ ０．０ ４．８７０３Ｅ−６ ０，０１９４８ ０，２２５１ 第　２　プリズム １、．５１０２４＋ ３４、：１８８９８ ５８．５３！１１２ 上記の結果から、 本発明実施例のビ ム整形光 学系における色収差によるビームスポットの偏Ａ量は、
比較例と比べて１〜２桁も小さく、非常番良好に色収差
か補正ざわでいることがわかる。、りに、実施例と同禄
に２個のプリズムを用いた比拳例２（両プリズムの屈折
率５分散、形状が同じ）と実施例７（両プリズムの屈折
率、形状かほぼ（しく、分散だけか異なる。δｎ、＞δ
ｎ２）を比較すると、第１プリズムの分散を第２プリズ
ムの会費より大きくすることにより、格段に高精度に色
Ｗ差の補正かできることか明らかである。

また、δｎ、＜δｎ２の関係を満足する実施例８につい
ても比較例２と比へて格段に色収差が補正されているこ
とが理解できる。

なお、本発明の色消ビーム整形光学系は、記お媒体・記
録形式によらず、種々の光学的記録再生装置の光ヘット
に有効に用いられる他、光ヘツド以外にもビーム断面形
状を整形する必要のある光学系に通用されることは言う
までもない。

［発明の効果］ 以上のように、本発明においては、光源と被！！り射面
の間に配置される第１及び第２プリズムを特定の式を満
たすように、特に、光源側の第１プリズムの分散を被照
射面側の第２プリズムの分散より大きくすることによっ
て、ビーム整形光学系の色収差を高精度に補正すること
かできるという効果を奏する。

かかる色消ビーム整形光学系を例えば光学的記録再生装
置の光ヘットに塔載すれば、光源から発光されるビーム
の波長変動によるビームスポットの光デイスク面での偏
移量を従来に比へて非常に小さく抑えることができるた
め、記録再生装置のＳ／Ｎ比の向上を図ることか可能で
、情報のより正確な記録再生を行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図はそれぞれ本発明における色収差補正
の作用を説明するための光路図、第３図は従来の光ヘッ
トの光学系の概略図である。 ［主要部分の符号の説明］ １．１０２・・・第１プリズム ２．１０２・・・第２プリズム ＋０３・・・半導体レーザ（光＃り ＋０４・・・コリメートレンズ ＋０５・・・偏光ビームスプリッタ １０６・・・対物レンズ １０７・・・光ディスク（被照射面） １０８・・・再生・サーボ信号検出系

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）光源から射出されたビームが被照射面に至る光路
   中に第１及び第２プリズムを有し、 前記光源側に設けられた第１のプリズムは、前記第１プ
   リズムに入射する前記光源からのビームの入射角が前記
   第１プリズムを射出するビームの射出角よりも大となる
   ように構成されて前記第１プリズムを通過するビーム幅
   を拡大すると共に、前記被照射面側に設けられた前記第
   ２プリズムは、前記第２プリズムに入射する前記第１プ
   リズムからのビームの入射角が前記第２プリズムを射出
   するビームの射出角よりも大となるように構成されて前
   記第２プリズムを通過するビーム幅を拡大するビーム整
   形光学系において、 前記第１及び第２プリズムが次式に定められる条件をほ
   ぼ満たすことを特徴とする色消ビーム整形光学系。 δｎ＿１／δｎ＿２＝（｛ｓｉｎθ＿２｝／｛ｃｏｓ［
   θ＿２＋ｓｉｎ＾−＾１（１／ｎｓｉｎφ＿２）］・ｃ
   ｏｓφ＿２｝）／（｛ｓｉｎθ＿１｝／｛ｃｏｓ［θ＿
   １＋ｓｉｎ＾−＾１（１／ｎｓｉｎφ＿１）］・ｃｏｓ
   φ＿１｝）ここに、 ｎ＿１：第１プリズムの屈折率、 ｎ＿２：第２プリズムの屈折率、 δｎ＿１；第１プリズムの分散、 δｎ＿２；第２プリズムの分散、 θ＿１；第１プリズムの頂角、 θ＿２；第２プリズムの頂角、 φ＿１；第１プリズムにおけるビームの射出角、φ＿２
   ；第２プリズムにおけるビームの射出角、ｍ＿２；第２
   プリズムによるビームの倍率、である。
2. （２）前記第１及び第２プリズムの分散は互いに異なる
   ことを特徴とする請求項１記載の色消ビーム整形光学系
   。
3. （３）光源から射出されたビームが被照射面に至る光路
   中に第１及び第２プリズムを有し、 前記光源側に設けられた第１のプリズムは、前記第１プ
   リズムに入射する前記光源からのビームの入射角が前記
   第１プリズムを射出するビームの射出角よりも大となる
   ように構成されて前記第１プリズムを通過するビーム幅
   を拡大すると共に、前記被照射面側に設けられた前記第
   ２プリズムは、前記第２プリズムに入射する前記第１プ
   リズムからのビームの入射角が前記第２プリズムを射出
   するビームの射出角よりも大となるように構成されて前
   記第２プリズムを通過するビーム幅を拡大するビーム整
   形光学系において、 前記第１及び第２プリズムは次式を満足することを特徴
   とする色消ビーム整形光学系。 ０≦｜（δｎ＿１）／（δｎ＿２）−Ｒ｜／（δｎ＿２
   ）／（δｎ＿１）＋Ｒ＜０．１５Ｒ＝ｍ＿２（｛ｓｉｎ
   θ＿２｝／｛ｃｏｓ［θ＿２＋ｓｉｎ＾−＾１（１／ｎ
   ｓｉｎφ＿２）］・ｃｏｓφ＿２｝）／（｛ｓｉｎθ＿
   １｝／｛ｃｏｓ［θ＿１＋ｓｉｎ＾−＾１（１／ｎｓｉ
   ｎφ＿１）］・ｃｏｓφ＿１｝）但し、 ｎ＿１；第１プリズムの屈折率、 ｎ＿２；第２プリズムの屈折率、 δｎ＿１；第１プリズムの分散、 δｎ＿２；第２プリズムの分散、 θ＿１；第１プリズムの頂角、 θ＿２；第２プリズムの頂角、 φ＿１；第１プリズムにおけるビームの射出角、φ＿２
   ；第２プリズムにおけるビームの射出角、ｍ＿２；第２
   プリズムのビームの倍率、 である。