JPH04224581A - S−(+)−5,6−ジヒドロ−4−(R−アミノ)−4H−チエノ〔2,3−b〕チオピラン−2−スルホンアミド−7,7−ジオキシドの鏡像特異的合成 - Google Patents

S−(+)−5,6−ジヒドロ−4−(R−アミノ)−4H−チエノ〔2,3−b〕チオピラン−2−スルホンアミド−7,7−ジオキシドの鏡像特異的合成

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JPH04224581A
JPH04224581A JP3086479A JP8647991A JPH04224581A JP H04224581 A JPH04224581 A JP H04224581A JP 3086479 A JP3086479 A JP 3086479A JP 8647991 A JP8647991 A JP 8647991A JP H04224581 A JPH04224581 A JP H04224581A
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Thomas J Blacklock
トマス ジェー.ブラックロック
Edward J J Grabowski
エドワード ジェー.ジェー.グラボウスキ
Todd K Jones
トッド ケー.ジョーンズ
David J Mathre
ディヴィッド ジェー.マスレ
Julie J Mohan
ジュリー ジェー.モハン
Floyd Edward Roberts
フロイド エドワード ロバーツ
Paul Sohar
ポール ソハー
Lyndon C Xavier
リンドン シー.クサヴィエ
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    • AHUMAN NECESSITIES
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    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は式I:
【化10】 で表わされるS−(+)5,6−ジヒドロ−4−(R−
アミノ)−6−R1−4H−チエノ〔2,3−b〕チオ
ピラン−2−スルホンアミド−7,7−ジオキシドの鏡
像選択的合成方法に関する。この構造によって表わされ
る化合物は、眼高血圧症及びそれに伴う緑内障の治療に
有用である強力なカルボニックアンヒドラーゼ阻害剤で
ある。
【0002】鏡像選択性は構造II:
【化11】 で表わされるオキサザボロリジンキラル触媒の存在下カ
ルボニル基を第2アルコールに還元することを含む合成
の中間工程に於て達成される。
【0003】構造式Iの化合物は米国特許第4,677
,115号及び同第4,797,413号から知られて
おり、眼高血圧症の治療に有用な局所的に有効なカルボ
ニックアンヒドラーゼであることが知られている。しか
しながら、これらの製造に記載される方法は、ジアステ
レオマー又はラセミ生成物として生じ最も有効な鏡像異
性体を得るために分離、分割しなければならず、これに
伴い生成物の少なくとも50%が損失する。
【0004】本発明の新規な方法に於て使用する触媒は
オキサザボロリジン触媒である。このタイプの触媒はコ
レー(Corey)等、J. Amer.Chem. 
Soc. 1987年、第109巻、7925〜792
6頁;J. Amer. Chem. Soc. 19
87年、第109巻、5551〜5553頁;J. O
rg. Chem. 1988年、第53巻、2861
〜2863頁;テトラヘドロンレターズ、1989年、
第30巻、5547〜5550頁;テトラヘドロンレタ
ーズ、1989年、第30巻、6275〜6278頁;
テトラヘドロンレターズ、1990年、第31巻、61
1〜614頁;ヨレン(Yoren)等、テトラヘドロ
ンレターズ、1988年、第29巻、4453〜445
6頁;イツノ(Itsuno) 、J. Chem. 
Soc. パーキン Trans. 第1巻、1984
年、2887頁;J. Chem. Soc. Che
m. Comm. 1983年、469頁及びJ. O
rg.Chem. 1984年、第49巻、555頁に
記載されている。
【0005】そこで本発明により、活性の少ない鏡像異
性体の生産及びその活性の少ない鏡像異性体を廃棄する
ことに起因する物質の付随的損失及び光学異性体の分離
や単離操作で生じる通常の物質損失を防ぐ鏡像選択的合
成を提供する。
【0006】本発明の新規な方法は次の反応図式工程E
から工程Hまでを包含している。
【化12】 式中、RはC1−4アルキルであり; R1は水素、C1−4アルキル又はC1−4アルコキシ
−C1−4アルキルであり; R4は−SO2C1−4アルキル、−SO2C6H5、
−SO2C6H4−CH3、−SO2C6H4−Cl 
、−SO2C6H4−Br、−SO2C6H4−OCH
3 又は−SO2C6H4−NO2、特に−OSO2C
6H4−CH3であり;R5は−OSO2C1−4 ア
ルキル、−OSO2C6H5 又は−OSO2C6H4
−CH3 、−OSO2C6H4−Br、−OSO2C
6H4−OCH3、−OSO2C6H4−NO2 、−
OSO2C6H4Cl 又はBr特に−OSO2C6H
4−CH3 である。
【0007】新規な本方法の根本理念は、不斉還元(工
程E)次いで活性化(工程F)及びSN2置換(工程G
)によるキラリティーの導入である。先行技術の方法と
対照的に、スルホンアミド基は溶解度の問題と還元中に
反応妨害があるために合成の最後に本方法に導入される
【0008】不斉還元は構造式:
【化13】 (式中R2及びR3は独立して(a)C1−5アルキル
好ましくはメチル又は(b)置換されないか又は(1)
ハロ、例えばフルオロ又はクロロ、(2)C1−4アル
キル好ましくはメチル、(3)トリフルオロメチル又は
(4)C1−3アルコキシ好ましくはメトキシで置換さ
れたフェニルである)で表わされるオキサザボロリジン
触媒の存在下、ボラン−THF複合体、ジボラン又はボ
ラン−メチルスルフィド複合体(BMS)好ましくは後
者のようなボラン還元剤で行なわれる。
【0009】R2はメチル又はフェニルであり、R3は
フェニルであることが好ましい。還元方法はケトン4を
THF、エーテル又は1,2−ジメトキシエタンのよう
なエーテル乾燥溶媒中約−20〜+30℃、特に−20
〜−10℃に於てオキサザボロリジン触媒の存在下、還
元剤で処理し、次いで反応物を約20〜60分間熟成す
ることを包含している。反応物は低級アルカノール、好
ましくはメタノールを注意して加えて急冷する。
【0010】第2アルコール生成物5は、上のアルカノ
ール溶液を少量まで濃縮してボロン化合物を除去するこ
とにより分離し、次いでメタノールで溶離してAmbe
rlyst (商標)15(アンモニウムサイクル)カ
ラムによりジフェニルプロリノールから分離してヒドロ
キシスルホン5を得る。ジフェニルプロリノールはカラ
ムをメタノール/アンモニア水混合液で溶離して回収、
再循環することができる。
【0011】Amberlyst (商標)15樹脂に
保持し、順次ラセミ化せずにメタノール/アンモニアで
除去することによるジフェニルプロリノールの所望のヒ
ドロキシスルホン5からの分離は新規で全く予期されず
、本発明の別の実施態様をなしている。
【0012】スルホニルオキシ中間体化合物6は、ヒド
ロキシの塩素による置換がかなり生じるために、トルエ
ンスルホニルクロリドとピリジン又は他の第3アミンで
処理する通常の方法では十分に生成することができない
。アルコールをn−ブチルリチウム、ナトリウムビス(
トリメチルシリル)アミド又はナトリウムアセチリドの
ような有機リチウム又はナトリウム化合物で化学量論的
に脱プロトン化し、次いでトルエンスルホン酸無水物又
はトルエンスルホニルクロリド、特に後者のようなアル
キル又はアリールスルホン酸無水物又は塩化物で処理す
ると最良の収率及び鏡像異性体純度を得ることがわかっ
た。実際には、THF、ジエチルエーテル又はジメトキ
シエタンのようなエーテル溶媒中約10〜20℃でヒド
ロキシスルホンをナトリウムアセチリドの化学量論量で
約5〜15分間処理し、次いで約1時間熟成する。次い
で約−20〜−5℃に於てエーテル溶媒中でトルエンス
ルホニルクロリドを約−15〜−5℃の温度を十分維持
する速度で加え、反応物を約1〜2時間熟成する。
【0013】アミン、RNH2による置換は、過剰のア
ミンをトシル化合物6の溶液に加え反応混合液を約10
〜20時間熟成して行なわれる。生成物7は、酸性化及
び有機溶媒を除去する濃縮、次いで塩基性化及び抽出に
より単離する。
【0014】スルホンアミド基の導入は強制条件を必要
とし、約5〜10℃で約1〜3時間発煙硫酸を用いて最
も良く達成され、次いで過剰の塩化チオニルを加え約1
〜3時間還流し、次いで過剰の塩化チオニルを蒸発させ
る。
【0015】反応物は硫酸溶液を濃アンモニア水/TH
F1:1(V:V)に−25〜−15℃に於て約0℃以
下の温度を十分維持する速度で加え、添加が完了した後
、約1時間撹拌することによって注意して急冷する。
【0016】
【実施例1】S−(+)−5,6−ジヒドロ−4−(2
−メチルプロピル)アミノ−4H−チエノ〔2,3−b
〕チオピラン−2−スルホンアミド−7,7−ジオキシ
ド工程A及びB:3−(2−チエニルチオ)プロパン酸
(2)の製造 温度計、窒素導入口、機械的撹拌機及び添加漏斗を備え
た2リットルの三つ口丸底フラスコに、チオフェン(6
4ミリリットル、799ミリモル)と篩乾燥THF(4
00ミリリットル、残留水≦120μg /ミリリット
ル)を入れた。この溶液を0〜5℃に冷却し、1.6M
 n−ブチルリチウム(470ミリリットル、751ミ
リモル)を<20℃の温度を維持するような速度で加え
た。 この反応液を0〜5℃で1時間撹拌し、直ちに次の反応
に使用した。この冷却反応混合液(0〜5℃)にイオウ
(24g、750ミリモル)を<20℃の温度を維持し
ながら滴下した。この反応液を0〜5℃で更に2.0時
間撹拌した後、窒素パージした水(300ミリリットル
)を<18℃の温度を維持するような速度で加えた。イ
オウを加えると非常に発熱した。(注:2−メルカプト
チオフェンとそのアニオン(1)は対応するジスルフィ
ドに空気酸化することができる。従って1の溶液を脱酸
素化し、窒素雰囲気下で貯蔵しなければならない)。1
の溶液に水を加えると最初に固形物が生成するが結局溶
解する。1の溶液を全塩基について滴定した。滴定に基
づくチオフェンの1への収率は98%であった。添加漏
斗、温度計、窒素掃引及び真上からの機械的撹拌機を備
えた1リットルの三つ口丸底フラスコ中で、窒素パージ
した水(85ミリリットル)中炭酸カリウム(46.5
g、337ミリモル)の溶液を調製した。この溶液に固
体の3−ブロモプロピオン酸(116g、736ミリモ
ル)を発泡(CO2発生)を抑制するような速度で加え
た。この混合液を澄明な溶液が得られるまで撹拌した。 炭酸カリウムを溶解している間に温度が23℃から50
℃に上がった。(注:発泡は3−ブロモプロピオン酸を
炭酸カリウム溶液に加えている間、二酸化炭素の発生に
より生じる)。この溶液を10℃に冷却し、3−ブロモ
プロピオン酸カリウムの水溶液を0〜5℃の温度を維持
するような速度で加えた。この反応溶液を室温で24時
間撹拌した。層を分離し、水層をトルエンで2回(10
0ミリリットルずつ)洗浄して中性の有機不純物を除去
した。次に水層を10℃に冷却し、水性HCl (12
5ミリリットル、6N)を加えながら<14℃(pH<
1)の温度を維持しながらトルエンと撹拌した。有機層
を分離し、水層を別のトルエン(300ミリリットル)
で抽出した。有機層を合わせ、真空下で容量500ミリ
リットル残留水≦2.5mg/ミリリットルに共沸乾燥
した。この溶液を0〜5℃で一晩貯蔵した。少量のカル
ボン酸を分離し、そのtert−ブチルアンモニウム塩
として確認した、m.p.110〜112℃。分析、C
11H19NO2S2 に対する計算値:C、50.5
4;H、7.33;N、5.36、実測値:C、50.
53;H、7.12;N、5.27。
【0017】工程C:5,6−ジヒドロ−4H−チエノ
〔2,3−b〕チオピラン−4−オン(3)の製造  
                         
               真上からの機械的撹拌
機、温度計、添加漏斗、還流コンデンサー及び酸−蒸気
スクラバーより通気される窒素泡立て器を備えた2リッ
トル反応器に、2のトルエン溶液(130.7g、69
5ミリモル)を入れた。この反応混合液を最初の温度の
20℃にし、2の撹拌溶液にトリフルオロ酢酸無水物(
161g、765ミリモル)を5分間にわたって加えた
。次に反応液を35〜38℃に加熱し、約1.5時間撹
拌した。次にこの反応混合液を水(500ミリリットル
)に<25℃の温度を維持して徐々に加えた。pHプロ
ーブを容器に入れ、混合液を50%水酸化ナトリウム(
123g、1.53モル)でpH7.0に滴定した。層
を分離し、水相をトルエン(200ミリリットル)で1
回抽出した。次に合わせた抽出液を真空下(43mBa
r)で容量200ミリリットルに濃縮した後、次の工程
で(酸化)のために酢酸エチルで1.2リットルに希釈
した。少量の試料をクロマトグラフィー処理して次のデ
ータを得た。Rf=0.29(85:15のヘキサン:
酢酸エチル)。m.p.61〜62℃,1H NMR:
δ7.42 ( d,J=5.4, H2) ;6.9
8 ( d,J=5.4 H3) ; 3.33( m
, C5H2) ; 2.82 ( m, C6H2)
. 13C NMR ;δc 188.9 (C4),
 150.9,135.0 ( C3a , C7a 
), 126.1, 121.8 ( C2, C3)
, 38.1 (C6), 30.0 (C5).分析
 C7H6OS2に対する計算値:C、49.39;H
、3.55;S、37.66、実測値:C、49.56
;H、3.58;S、37.68.
【0018】工程D
:5,6−ジヒドロ−4H−チエノ〔2,3−b〕チオ
ピラン−4−オン−7,7−ジオキシド(4)の製造 
                     ケトン3
(5:1V:Vの酢酸エチル/トルエンの1.2リット
ル中765ミリモル)の酢酸エチル/トルエン溶液を真
上からの機械的撹拌機、250ミリリットルの圧力均等
滴下漏斗及び熱電対温度プローブを備えた5リットルの
三つ口丸底フラスコに充填した。この混合液を撹拌し、
水(35ミリリットル)を加えて有機相を飽和した。次
に水(35ミリリットル)に溶解したタングステン酸ナ
トリウム2水和物(11.7g、77ミリモル)の溶液
を加えた(注意:発熱前に数分の誘導期がある)。 この混合液を35℃に加熱し、過酸化水素(30%、2
50ミリリットル、2.43モル)を45分間にわたっ
て加えた。HPLC:4.1×254mmアルテックス
C−8、5μウルトラスフェアカラム45℃(2ミリリ
ットル/分、65:35〜20:80の水中0.1% 
H3PO4:CH3CN からの勾配20分間、次いで
均一5分間230nm) R1(スルホキシド)6.9
分、(スルホン)10.6分、(スルフィド)15.8
分により完全に判定されるまで、反応温度を55〜58
℃に上げた。完了時に混合液を0〜5℃に冷却し、水性
亜硫酸ナトリウム(205g、1.63モル水700ミ
リリットルに溶解)を徐々に加えて過剰の過酸化水素を
分解した。反応混合液の温度を<20℃に維持した。反
応混合液を酸性にしたデンプン−ヨウ素紙で過酸化物の
陰性を試験した時、層を分離した。上の有機層を真空下
45℃の浴温で容量400ミリリットルに濃縮した。次
にヘキサン(400ミリリットル)を約10分にわたっ
て加え、バッチを1時間熟成した。生成物を濾過し、ヘ
キサンで洗浄し、真空下60℃で窒素掃引して恒量まで
乾燥した。粗ケトスルホン4の収量は113g(3−ブ
ロモプロピオン酸から76%)であった。次に粗ケトス
ルホンを次の方法でメタノールから再結晶した。粗ケト
スルホン113g量を無水メタノール3リットルに55
〜60℃で溶解した。この溶液を40℃に冷却し、カル
ゴンADP(商標)炭素10gを加えた。この混合液を
40℃で最低4時間熟成した。次にバッチを十分に洗浄
したSuper Cel(商標)パッドで40℃に於て
温濾過した。廃ケークを40℃のメタノール500ミリ
リットルずつで2回洗浄し、濾液を合わせた。次にバッ
チを真空下容量500ミリリットルに濃縮し、0〜5℃
で4時間熟成した。濃縮中付随して結晶化が起こった。 バッチを濾過し、75ミリリットルの冷メタノールで洗
浄し、窒素下で乾燥吸引し真空(25″Hg) 下、8
0℃で窒素掃引して12時間乾燥した。回収収量は10
0g(89%)であり、内部標準に対してHPLCによ
り@99.6重量%を定量した。Rf=0.30(ジク
ロロメタン)、m.p.121〜121.5℃1H N
MR:δ7.60 ( d,J=5.1, H2 ) 
;7.50 ( d,J=5.1 , H3 );3.
76 ( m,C5H2);3.36 ( m, C6
H2 ). 13C NMR :δC 186.3 (
C4) , 147.2(C3a) , 139.3 
(C7a),130.2 (C2) , 126.3 
(C3), 52.8 (C6), 37.0 (C5
), MS ( EI,70 eV) :202 (M
+,35), 174 (38), 138 (15)
, 110 (100), 84 (30), 82 
(25).分析 C7H6O3S2 に対する計算値:
C、41.57;H、2.99;S、31.70実測値
:C、41.49;H、3.02;S、31.60
【0019】工程E:〔4〕−5,6−ジヒドロ−4H
−チエノ〔2,3−b〕チオピラン−4−オール−7,
7−ジオキシド(5)の製造            
ケトスルホン4(50.0g、0.247モル)を4Å
分子篩(20g)上でテトラヒドロフラン(700ミリ
リットル)に溶解し、残留水含量が<40μg /ミリ
リットルになるまで(〜2時間)時々撹拌した。機械的
撹拌機、窒素導入管、500ミリリットルの添加漏斗と
テフロン被覆熱電対プローブを備えた2リットルの三つ
口フラスコに4(篩から傾瀉)を充填した。この溶液に
オキサザボロリジン触媒(R2=CH3 、R3=C6
H5)(トルエン中0.86M 溶液14.4ミリリッ
トル)を加えた。得られた溶液を−15℃に冷却した。 分離容器でボラン−メチルスルフィド(17.3ミリリ
ットル)を乾燥テトラヒドロフラン(297ミリリット
ル、残留水<40μg /ミリリットル)に溶解した。 ボラン−メチルスルフィド溶液を添加漏斗に入れ、内部
温度−15℃を維持するような速度でケトスルホン/触
媒溶液に加えた(〜30分)。ボランの全部を加えた後
、反応液を30分間熟成した。通常熟成中に簡単に撹拌
した沈澱が生成した。反応液を10℃の温度に維持して
メタノール10ミリリットルを注意して加えることによ
り急冷した(注意:最初のメタノールを加えた後、水素
が発生する前に著しい誘導期(1〜2分)があった)。 水素の発生が止んだ後、残りのメタノール(365ミリ
リットル)を加えた。反応液は急冷中均一になった。メ
タノールの添加が完了した後、反応混合液を20℃に温
め、12時間撹拌した。 得られた溶液を常圧で約125ミリリットルに濃縮した
。メタノール(375ミリリットル)を加え、得られた
溶液を常圧で125ミリリットルに濃縮して、残存する
ボロン化合物を除去した。Amberlyst (商標
)15(56g、100ミリリットル乾燥)をメタノー
ル(100ミリリットル)に懸濁させた。(注意:スラ
リーは外部冷却せずに約40℃に発熱し、湿潤により最
初の容量の約1.5倍に膨張した)。スラリーを2.5
×30cmカラムに注ぎ入れ、溶出液が塩基性になるま
で(水で1:1に希釈した時pH〜11)メタノール(
6容量%、〜1M )中水酸化アンモニウム(15M 
)1リットルで溶離した。最初の褐色溶出液を捨てた。 溶出液が中性になるまでカラムをメタノール(〜500
ミリリットル)で溶離した。(R)−ヒドロキシスルホ
ン(〜50g)と(S)−ジフェニルプロリノール(3
.13g)のメタノール溶液を Super Cel(
商標)パッドで濾過した。ケークをメタノール(50ミ
リリットルずつで2回)で洗浄し、合わせた濾液をメタ
ノールで容量500ミリリットル(10ミリリットル/
g)にした。濾過したメタノール溶液をAmberly
st (商標)15(NH4+ ) を含むカラムによ
り3.8ミリリットル/分で溶離して38ミリリットル
画分を集めた。カラムをメタノール(380ミリリット
ル)ですすぎ、生成物ヒドロキシスルホン全てを除去し
た。次にカラムを94:6(V/V)メタノール/15
M アンモニア水(400ミリリットル)で溶離してジ
フェニルプロリノールを溶離した。(R)−ヒドロキシ
スルホン(95:5  R:S、49g(98%)、ジ
フェニルプロリノール0.4%以下混入)を含む画分3
〜21を合わせ濃縮した(この物質のヘキサン/酢酸エ
チルからの再結晶は鏡像異性体純度を低下させるように
働くにすぎない)。少量をクロマトグラフィー処理て確
認データを得た:Rf=0.07(60:40のヘキサ
ン:酢酸エチル)〔α〕D 21=+16.4 ( c
 0.210, MeOH). m.p. 89−90
 ℃. IR (CHCl3):3600 w(OH)
, 3550−3400 br w (OH), 31
10 w, 3010 m, 2940 w, 152
0 w, 1400m, 1305s (SO2), 
1285 s, 1180 w, 1145 s (S
O2), 1125 s, 1100 w, 1160
 m, 1140 m, 970 w, 915 w,
 890 w, 845 w, 825 m, 1H 
NMR:δ 7.59 ( d,J =5.1, H2
), 7.12(d,J=5.1, H3), 4.9
1 (ddd, J=10.0, 5.9, 1.5,
 H4), 3.62 (m, H6), 3.31(
m,H6), 2.75 (m, H5), 2.55
 (m, H5, OH). 13CNMR :δC 
144.9  (C3a ),135.9(C7a),
 130.5 (C2), 127.0 (C3), 
63.5 (C4), 49.1 (C6), 31.
0 (C5)分析  C7H8O3S2に対する計算値
:C、41.16;H、3.95;S、31.39実測
値:C、41.23;H、3.93;S、31.24

0020】工程F及びG:(S)−5,6−ジヒドロ−
N−(2−メチルプロピル)−4H−チエノ〔2,3−
b〕チオピラン−4−アミン−7,7−ジオキシド(7
)の製造                     
                    機械的撹拌機、窒素導入管、500ミリリットル添加漏
斗とテフロン被覆熱電対プローブを備えた3リットルの
三つ口フラスコに乾燥テトラヒドロフラン(500ミリ
リットル)に溶解したヒドロキシスルホン5(50.0
g、0.245モル)を充填した。この溶液を15℃に
冷却した。キシレン/軽鉱油中ナトリウムアセチリド(
12〜9g、18%スラリーの0.270ミリモル)の
スラリーをテトラヒドロフラン400ミリリットルと十
分混合し、5分にわたってヒドロキシスルホンに加えた
。得られた懸濁液を20℃で90分間撹拌した。熟成中
ナトリウムアセチリドの微細スラリーは簡単に撹拌した
ヒドロキシスルホンの粗結晶性ナトリウム塩に変換した
。得られたスラリーを−15℃に冷却した。トルエンス
ルホニルクロリド(51.3g、0.269モル)をテ
トラヒドロフラン250ミリリットルに溶解し、添加漏
斗に入れた。トルエンスルホニルクロリド/テトラヒド
ロフラン溶液をナトリウム塩に内部温度−10℃以下を
維持するような速度で2時間加えた。トシル化はヘキサ
ン/酢酸エチル(6:4)を用いてシリカによるTLC
;アルコールRf=0.07;トシレートRf=0.3
7により追跡することができる。ヒドロキシスルホンの
ナトリウム塩は熟成中に溶解し、反応液は通常暗緑色に
変わった。(注;トシレート6は水中でラセミ体5に容
易に加水分解するために分離すべきではない)。乾燥(
残留水<100μg /ミリリットル)イソブチルアミ
ン(250g、340ミリリットル、3.43モル)を
5分にわたって加えた。得られた混合液を20℃に温め
、14時間熟成した。(この反応はTLC分析:60:
40のヘキサン:酢酸エチル;Rfトシレート6、0.
37、アミン70.25によって監視した)。得られた
混合液を−15℃に冷却し、水性塩酸(1.54リット
ル、2N)を内部温度5℃又は5℃以下を維持する速度
で加えた(約30分)。得られたpHは約2.5であっ
た。この溶液を約1.6リットルに濃縮してテトラヒド
ロフランのほとんど(90%)を除去し、酢酸イソプロ
ピル1リットルで2回抽出した。 水相を0℃に冷却し水酸化ナトリウム(120ミリリッ
トル、5N)を内部温度5℃以下に維持する速度で加え
た(約5分)。得られたpHは約9.5であり、反応混
合液は水酸化ナトリウムの添加時に濁った。得られた混
合液を酢酸イソプロピル(1リットル)で2回抽出した
。有機層を合わせ約120ミリリットルに濃縮した。イ
ソプロパノール(600ミリリットル)を加え、混合液
を100ミリリットルに濃縮した。第2フラッシュを行
ない酢酸イソプロピルを除去した。イソプロパノールを
加えて容量を約1リットルにし、得られた溶液を55〜
60℃に温めカルゴンADP(商標)(5g)脱色炭素
を加えた。この混合液を50℃で4時間撹拌した。得ら
れた混合液を予め洗浄した Super Cel(商標
)により濾過した(50℃に於て)。濾過した溶液を0
.86リットル(14ミリリットル/gアミン)に濃縮
し、室温に徐々に冷却した。得られた懸濁液を0℃に冷
却し、2時間熟成した。懸濁液を濾過し、0℃のイソプ
ロパノール150ミリリットルで2回洗浄し、真空下4
5℃で12時間乾燥してアミン7(R=2−メチルプロ
ピル)47g(73%)をオフホワイトの結晶として得
た。7に対するデータ:Rf=0.25(60:40の
ヘキサン:酢酸エチル) 〔α〕D 22=−8.68(C 0.316 ,Me
OH) 、m.p. 86〜86.5℃1H NMR:
δ7.53 (d,J =5.0, H2), 7.0
8 (d,J=5.0, H3), 3.91 (dd
,J=6.3,4.1, H4), 3.68 (dd
d,J =13.6, 9.8, 2.8 H6), 
3.27 (ddd,J =9.3, 8.8, 2.
6,H6’ ), 2.55(m, C5H2, C1
’H2), 1.68 (9本の線, J =6.6)
, 0.92 (d,J =6.8). 13C NM
R ;δC 146.0 (C3a), 135.6 
(C7a ), 129.7 (C2), 127.1
 (C3), 55.0 (C1’), 52.6 (
C4), 49.6 (C6), 28.8 (C2’
),27.8 (C5), 20.6, 20.5 (
2xCH3)分析  C11H17NO2S2 に対す
る計算値:C、5 0.94;H、6.64;N、5.
40;S;2 4.72.実測値:C、51.00;H
、6.64;N、5.30;S、24.50. 鏡像異性体純度>99:1
【0021】工程H:(S)−(+)−5,6−ジヒド
ロ−4−(2−メチルプロピル)アミノ−4H−チエノ
〔2,3−b〕チオピラン−2−スルホンアミド−7,
7−ジオキシド1塩酸塩半水和物(8)の製造    
               機械的撹拌機、窒素導入口及び隔膜を備えた1リットル
の丸底フラスコに発煙硫酸(H2SO4 中12〜20
% SO3、125ミリリットル)を充填した(注意:
発煙硫酸は非常に腐食性である)。溶液を−15℃に冷
却し、アミン7(25g、96.4ミリモル)を1時間
で5回に分けて加えた(注意:添加は発熱性である。)
。生じた溶液を5〜8℃で2時間撹拌した後、塩化チオ
ニル(375ミリリットル、611g、5.14モル)
を加え、混合液を3時間還流した。塩化チオニルを蒸留
して除去し、得られた油状物を0℃に冷却した。機械的
撹拌機、250ミリリットルの圧力均等添加漏斗(テフ
ロン管が底に付いており、含有液体の表面下に達する)
と窒素導入口を備えた5リットルの丸底フラスコに濃ア
ンモニア水800ミリリットルとテトラヒドロフラン8
00ミリリットルを充填し、0℃に冷却した。添加漏斗
に塩化スルホニルの硫酸溶液を充填した。硫酸溶液をア
ンモニアに0℃以下の温度を維持する速度で徐々に加え
た(〜1時間)(注意:強酸を強塩基に加えると発熱し
、はね返しが起こる。)。完全に添加した後、得られた
混合液を0℃で30分間撹拌した。得られたpHは10
であった。得られた懸濁液を濾過し、廃ケークをテトラ
ヒドロフラン600ミリリットルずつで2回洗浄した。 濾液を濃縮してテトラヒドロフランを除去し、酢酸エチ
ル600ミリリットルずつで2回抽出した。有機層を合
わせ、375ミリリットルに濃縮し、濃塩酸(12ミリ
リットル、145ミリモル)を徐々に加えながら十分に
撹拌した。この混合液を真空下45℃(浴温)で濃縮し
て水含量<0.1mg/ミリリットルを含む溶液を容量
約350ミリリットルを得るまで水、必要に応じて酢酸
エチルを除去した。結晶化混合液を冷却し、室温で一晩
撹拌した。スラリーを濾過し、酢酸エチル2床容量で洗
浄した。白色固形物を真空下45℃で乾燥して生成物・
HCl 26gを得た。塩を次の通り水から再結晶する
ことができた。塩(25g、73ミリモル)を90℃で
水(50ミリリットル)に溶解した。この混合液を十分
撹拌し、活性炭(ダルコKB(商標)2.5g)を熱混
合液に加えた。2時間撹拌した後、この混合液を Su
per Cel(商標)の洗浄床で熱濾過し、廃ケーク
を沸騰水10ミリリットルで洗浄した。合わせた濾液と
洗液を50〜60℃に徐々に冷却し、結晶化が起こるま
で50〜60℃に保持した。 結晶化が起こった後、60℃で1時間撹拌した後、混合
液を3℃に冷却し1時間熟成した。得られた混合液を濾
過し、廃ケークを冷水(10ミリリットル)で洗浄した
。生成物を真空下45℃で窒素掃引して乾燥し生成物・
HCl 21g(71%)を生成した。〔α〕D 25
=+49°(C=0.50、MeOH)m.p. 22
2 d°C. IR (KBr) : 3350 w 
(NH), 2950 s, 2800−2300 w
 (NH2+), 1620w, 1590 w, 1
540 m, 1466 w, 1420 w, 14
00 w, 1350 s (SO2), 1340 
s (SO2), 1300 s (SO2), 11
60 s (SO2), 1145 s (SO2),
 1050 m, 1020 m, 910 w, 8
80 m, 740 m, 700 w. 1H NM
R (DMSO−d6) :δ9.82 (br s,
 C4NH2+), 8.20 (s, SO2NH2
),8.16 (s, C3H), 4.80 (br
 s, C4H), 3.94 (m, C6H2) 
, 3.83(s, H2O),2.82 (m,C5
H2, C1’ H2), 2.15 ( 七重線,J
 =6.6, C2’H), 0.98 (d,J=6
.6, CH3), 0.96 (d,J=6.6, 
CH3). 13C NMR (DMSO−d6):δ
c 149.4 (C2), 141.8 (C7a)
, 137.5(C3a), 129.8 (C3),
 51.2 (C6), 50.9 (C4), 48
.3 (C1’ ),25.5 (C2’), 23.
7 (C5), 20.3, 20.0 (2 x C
H3)HRMS(遊離塩基、EI、90eV) C11
H18N2O4S2に対する計算値:338.0429
.  実測値:338.0430.  分析  C11
H19ClN2O4S3・0.5 H2Oに対する計算
値:C、34.41;H、5.25;N、7.30;S
、25.05;Cl、9.23、実測値:C、35.5
5;H、5.20;N、7.21;S、24.89;C
l、9.50、工程F及びGで使用したイソブチルアミ
ンを表Iに示す構造 RNH2 のアミンと6−R1−
ヒドロキシスルホンの等価量に置き換えたほかは前述の
実施例1で記載した方法を実質的に用いて表Iに示すS
−5,6−ジヒドロ−6−R1−4−R−アミノ−4H
−チエノ〔2,3−b〕チオピラン−2−スルホンアミ
ド−7,7−ジオキシドを製造する。
【化14】
【0022】
【実施例2】オキサザボロリジン触媒ボラン還元に関す
る置換基効果 ヒドロキシスルホン5の鏡像異性体純度についてオキサ
ザボロリジン触媒に関する置換基効果を次の表に示す。
【化15】

Claims (31)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  a)下記構造式4の化合物を下記構造
    式5の化合物に、 【化1】 下記構造式: 【化2】 (式中, R2及びR3は独立して、 1)C1−5アルキル、 2)置換されないか、又は i)ハロ、 ii) C1−4アルキル、 iii)CF3 、又は iv) C1−3アルコキシ; の1個以上で置換されたフェニルである)で表わされる
    オキサザボロリジンの存在下ボラン還元剤で不斉還元し
    、 b)化合物5を有機リチウム又は有機ナトリウム化合物
    及びC1−4アルキル又はアリール−スルホニルクロリ
    ド又は無水物で処理して下記構造式: 【化3】 (式中、 R4は−SO2C1−4アルキル、−SO2C6H5、
    −SO2C6H4−CH3、−SO2C6H4−OCH
    3 、−SO2C6H4−Br 、−SO2C6H4−
    Cl 又は−SO2C6H4−NO2である)で表わさ
    れる化合物を生成し; c)化合物6を式 R−NH2のアミンで処理して下記
    構造式7の化合物を生成し; 【化4】 d)化合物7を発煙硫酸、クロロスルホン酸及びアンモ
    ニア水で連続処理して下記構造式8の化合物を生成する
    工程を包含している下記構造式8の化合物【化5】 (式中、 RはC1−4アルキルであり; R1は水素、C1−4アルキル又はC1−4アルコキシ
    −C1−4アルキルである) 又はその眼科的に使用し得る塩の製造方法。
  2. 【請求項2】  Rがイソブチルであり、R1が水素で
    ある;Rがエチルであり、R1がメチルである及びRが
    n−プロピルであり、R1がCH3O(CH2)3であ
    る化合物を製造する請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】  R2が−CH3であり、R3がフェニ
    ルである請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】  R2が−CH3であり、R3がフェニ
    ルである請求項2記載の方法。
  5. 【請求項5】  R4が4−CH3−C6H4SO2−
    である請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】  R4が4−CH3−C6H4SO2−
    である請求項2記載の方法。
  7. 【請求項7】  R4が4−CH3−C6H4SO2−
    である請求項3記載の方法。
  8. 【請求項8】  R4が4−CH3−C6H4SO2−
    である請求項4記載の方法。
  9. 【請求項9】  請求項1記載の工程(a)、(b)及
    び(c)を包含している下記構造式の化合物7【化6】 の製造方法。
  10. 【請求項10】  Rがイソブチルであり、R1が水素
    である;Rがエチルであり、R1がメチルである及びR
    がn−プロピルであり、R1がCH3O(CH2)3−
    である化合物を製造する請求項9記載の方法。
  11. 【請求項11】  R2が−CH3 であり、R3がフ
    ェニルである請求項9記載の方法。
  12. 【請求項12】  R2が−CH3 であり、R3がフ
    ェニルである請求項10記載の方法。
  13. 【請求項13】  R4が4−CH3−C6H4SO2
    −である請求項9記載の方法。
  14. 【請求項14】  R4が4−CH3−C6H4SO2
    −である請求項10記載の方法。
  15. 【請求項15】  R4が4−CH3−C6H4SO2
    −である請求項11記載の方法。
  16. 【請求項16】  R4が4−CH3−C6H4SO2
    −である請求項12記載の方法。
  17. 【請求項17】  請求項1記載の工程(a)及び(b
    )を包含している下記構造式の化合物6 【化7】 の製造方法。
  18. 【請求項18】  R1が水素、メチル又はCH3O(
    CH2)3−である請求項17記載の方法。
  19. 【請求項19】  R2が−CH3であり、R3が−C
    6H5である請求項17記載の方法。
  20. 【請求項20】  R2が−CH3であり、R3が−C
    6H5である請求項18記載の方法。
  21. 【請求項21】  R4が4−CH3−C6H4SO2
    −である請求項17記載の方法。
  22. 【請求項22】  R4が4−CH3−C6H4SO2
    −である請求項18記載の方法。
  23. 【請求項23】  R4が4−CH3−C6H4SO2
    −である請求項19記載の方法。
  24. 【請求項24】  R4が4−CH3−C6H4SO2
    −である請求項20記載の方法。
  25. 【請求項25】  請求項1記載の工程(a)を包含し
    ている下記構造式の化合物5 【化8】 の製造方法。
  26. 【請求項26】  R2が−CH3であり、R3がフェ
    ニルである請求項25記載の方法。
  27. 【請求項27】  R1が水素、メチル又はCH3O(
    CH2)3−である請求項25記載の方法。
  28. 【請求項28】  R1が水素、メチル又はCH3O(
    CH2)3−である請求項26記載の方法。
  29. 【請求項29】  下記構造式4又は5の化合物。 【化9】
  30. 【請求項30】  R1が水素、メチル又はCH3O(
    CH2)3−である請求項29記載の化合物。
  31. 【請求項31】  ジフェニルプロリノールをAmbe
    rlyst(商標)15(NH4+サイクル) に保持
    し、不純物を溶剤で溶離し、ジフェニルプロリノールを
    溶剤とアンモニア水の混合液で溶離することを特徴とす
    る、ラセミ化せずにジフェニルプロリノールを精製する
    方法。
JP3086479A 1990-04-18 1991-04-18 S−(+)−5,6−ジヒドロ−4−(R−アミノ)−4H−チエノ〔2,3−b〕チオピラン−2−スルホンアミド−7,7−ジオキシドの鏡像特異的合成 Withdrawn JPH04224581A (ja)

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