JPS58201770A - α−置換−1,2−ベンズイソキサゾ−ル−3−酢酸エステル類並びにその酸付加塩類及び第4級アンモニウム塩類 - Google Patents
α−置換−1,2−ベンズイソキサゾ−ル−3−酢酸エステル類並びにその酸付加塩類及び第4級アンモニウム塩類Info
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- JPS58201770A JPS58201770A JP8450182A JP8450182A JPS58201770A JP S58201770 A JPS58201770 A JP S58201770A JP 8450182 A JP8450182 A JP 8450182A JP 8450182 A JP8450182 A JP 8450182A JP S58201770 A JPS58201770 A JP S58201770A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D413/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D261/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings
- C07D261/20—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、鎮痙作用等を有する、新規で有用なα−!換
−1.2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸エステル類
に関する。更に詳しくは、一般式(り ′gつ 〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基
、低級アルキル基、トリフルオロメチル基又は低級アル
コキシ基を意味し、R2はヒドロキン基、ヒドロキシメ
チル基、シクロヘキシル基。
−1.2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸エステル類
に関する。更に詳しくは、一般式(り ′gつ 〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基
、低級アルキル基、トリフルオロメチル基又は低級アル
コキシ基を意味し、R2はヒドロキン基、ヒドロキシメ
チル基、シクロヘキシル基。
フェノキシ基、フェニルチオ基又はベンジル基を意味し
、R4は水素原子又は低級アルキル基を意味し、R5及
びR6は同−又は異なって低級アルキル基を意味するか
、あるいは隣接する窒素原子とともに複素環基を形成し
、R7は低級アルキル基を意味し、m及びnはそれぞれ
0〜3の整数を意味するが、その和は1〜4の整数を意
味し、q及びrはそれぞれ1〜3の整数を意味するが、
その和は3〜5の釉数を意味すΣ。〕で表される化合物
並びにその生理的に許容される酸付加塩類及び第4級ア
ンモニウム塩類に関する。
、R4は水素原子又は低級アルキル基を意味し、R5及
びR6は同−又は異なって低級アルキル基を意味するか
、あるいは隣接する窒素原子とともに複素環基を形成し
、R7は低級アルキル基を意味し、m及びnはそれぞれ
0〜3の整数を意味するが、その和は1〜4の整数を意
味し、q及びrはそれぞれ1〜3の整数を意味するが、
その和は3〜5の釉数を意味すΣ。〕で表される化合物
並びにその生理的に許容される酸付加塩類及び第4級ア
ンモニウム塩類に関する。
式(1)の化合物の生理的に許容される第4級アンモ−
ラム塩類は、一般式(白 2 ル基を意味し、X−は生理的に許容されるアニオで表さ
れる。
ラム塩類は、一般式(白 2 ル基を意味し、X−は生理的に許容されるアニオで表さ
れる。
式(+)の化合物、その酸付加塩蚤及び第4級アンモニ
ウム塩は、場合によっては1個以上の不斉炭素原子を有
し、また幾何異性を生ずる場合もあるので、数種の立体
異性体が存在する場合がある。
ウム塩は、場合によっては1個以上の不斉炭素原子を有
し、また幾何異性を生ずる場合もあるので、数種の立体
異性体が存在する場合がある。
本発明にはこれらの立体異性体、それらの混合物及びラ
セミ体が包含される。
セミ体が包含される。
本明細書における用語を以下に説明する。ハロゲン原7
とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を意味する。低級ア
ルキル基とは、炭素原子数1〜3の直鎖状又は分枝鎖状
のものを意味し、例えばメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピルが挙げられるが、メチル、エチルが好ましい
。低級アルコキシ基とは、炭素原子数1〜3の直鎖状又
は分枝鎖状のものを意味し、例えばメトキシ、エトキシ
。
とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を意味する。低級ア
ルキル基とは、炭素原子数1〜3の直鎖状又は分枝鎖状
のものを意味し、例えばメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピルが挙げられるが、メチル、エチルが好ましい
。低級アルコキシ基とは、炭素原子数1〜3の直鎖状又
は分枝鎖状のものを意味し、例えばメトキシ、エトキシ
。
3−
プロポキシ、インプロポキシが挙げられるが、メトキシ
が好ましい。R5及びR6が隣接する窒素原子とともに
形成する複素環基とは、更に1個の酸素原子又はイオウ
原子を有していてもよい5〜7員の複素環基を意味し、
例えば1−ピロリジニル。
が好ましい。R5及びR6が隣接する窒素原子とともに
形成する複素環基とは、更に1個の酸素原子又はイオウ
原子を有していてもよい5〜7員の複素環基を意味し、
例えば1−ピロリジニル。
ピペリジノ、ヘキサメチレンイミノ、モルホリノ。
って形成されるアニオンを意味し、例えばハロゲニド(
例 クロリド、プロミド、ヨーシト)、低級アルキルス
ルフェート(例 メチルスルフェート、エチルスルフ
ェート)、低級アルキルスルホネート(例 メタンスル
ホネート)、置換又は非置換ヘンセンスルホネート(例
ベンゼンスルホネ−)、p−トルエンスルホネート
)、ニドラードが挙げられるが、特にプロミド、ヨーシ
トが好ましい。
例 クロリド、プロミド、ヨーシト)、低級アルキルス
ルフェート(例 メチルスルフェート、エチルスルフ
ェート)、低級アルキルスルホネート(例 メタンスル
ホネート)、置換又は非置換ヘンセンスルホネート(例
ベンゼンスルホネ−)、p−トルエンスルホネート
)、ニドラードが挙げられるが、特にプロミド、ヨーシ
トが好ましい。
式(1)の化合物は、例えば、一般式(「)9
4−
(式中、R1,R2及びR3は前掲に同じものを意味す
る。) で表されるカルボン酸類又はその反応性誘導体と一般式
(1,) Z−Y (III)(式中、Zはヒ
ドロキシ基又はアルコールの反応性エステル残基を意味
し、Yは前掲に同じものを意味する。) で表される化合物とを反応させることにより得られる。
る。) で表されるカルボン酸類又はその反応性誘導体と一般式
(1,) Z−Y (III)(式中、Zはヒ
ドロキシ基又はアルコールの反応性エステル残基を意味
し、Yは前掲に同じものを意味する。) で表される化合物とを反応させることにより得られる。
カルボン酸類(II)の反応性誘導体としては、例えば
金属塩、特にナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカ
リ金属塩、カルボン酸ハライド、混合酸無水物、活性エ
ステルが挙げられる。またZで示されるアルコールの反
応性エステル残基としては、例えば塩素、臭素、ヨウ素
のようなハロゲン原子、ベンゼンスルホニルオキシj7
)−)ルエンスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキ
シのような有機スルホニルオキシ基が挙げられる。
金属塩、特にナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカ
リ金属塩、カルボン酸ハライド、混合酸無水物、活性エ
ステルが挙げられる。またZで示されるアルコールの反
応性エステル残基としては、例えば塩素、臭素、ヨウ素
のようなハロゲン原子、ベンゼンスルホニルオキシj7
)−)ルエンスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキ
シのような有機スルホニルオキシ基が挙げられる。
式(1)においてR2がヒドロキシ基又はヒドロキジメ
チル基の化合物を製造する場合には、式(It)のカル
ボン酸又はその金属塩と式([1)においてZがアルコ
ールの反応性エステル残基の化合物とを反応させる方法
(以下、方法Aと記す)が有利である。式(1)におい
てR2がヒドロキシ基及びヒドロキシメチル基以外・の
基で、R3が水素原子の化合物を製造する場合には、カ
ルボン酸(It)の混合酸無水物又は活性エステルと式
(1)においてZがヒドロキシ基の化合物とを反応させ
る方法(以下、方法Bと記す)が有利である。式(+)
においてR2がヒドロキシ基及びヒドロキシメチル基以
外の基で、R3がベンジル基の化合物を製造する場合に
は、カルボン酸(It)の酸ハライドと式(1)におい
てZがヒドロキシ基の化合物とを反応させる方法(以下
、方法Cと記す)が有利である。
チル基の化合物を製造する場合には、式(It)のカル
ボン酸又はその金属塩と式([1)においてZがアルコ
ールの反応性エステル残基の化合物とを反応させる方法
(以下、方法Aと記す)が有利である。式(1)におい
てR2がヒドロキシ基及びヒドロキシメチル基以外・の
基で、R3が水素原子の化合物を製造する場合には、カ
ルボン酸(It)の混合酸無水物又は活性エステルと式
(1)においてZがヒドロキシ基の化合物とを反応させ
る方法(以下、方法Bと記す)が有利である。式(+)
においてR2がヒドロキシ基及びヒドロキシメチル基以
外の基で、R3がベンジル基の化合物を製造する場合に
は、カルボン酸(It)の酸ハライドと式(1)におい
てZがヒドロキシ基の化合物とを反応させる方法(以下
、方法Cと記す)が有利である。
以下に方法A、B及びCについて説明する。
方法Aは、通常溶媒中で行われるが、溶媒量はできるだ
け少なくするのが望ましい。溶媒の具体例としては、イ
ソプロピルアルコール、 5ee−ブチルアルコールの
ような低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類が挙げられるが、イソプロピル
アルコールが好ましい。反応温度及び反応時間は、原料
化合物の種類等によシ異なるが、通常室温ないし約10
θ℃で約1〜24時間反応させればよい。
け少なくするのが望ましい。溶媒の具体例としては、イ
ソプロピルアルコール、 5ee−ブチルアルコールの
ような低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類が挙げられるが、イソプロピル
アルコールが好ましい。反応温度及び反応時間は、原料
化合物の種類等によシ異なるが、通常室温ないし約10
θ℃で約1〜24時間反応させればよい。
方法Bは、カルボン酸(It)を常法にょシ混合酸無水
物又は活性エステルに変え、次いで式(III)におい
てZがヒドロキシ基の化合物と反応させることによシ行
われる。本反応は通常溶媒中、必要に応じて塩基(例
第゛3アミン、炭酸アルカリ)の存在下に行われる。溶
媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類、ジオキサンのようなエーテル
類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルメタンの
ようなハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、□ジメ
チルホルムアミド、ピリジン等が挙げられる。反応温度
は通常約−20℃〜150℃、反応時間は通常約1〜2
4時間である。゛ 方法Cは、カルボン酸(■)′を常法により酸ハライド
に変え、次いで式(II)においてZがヒドロキ7− シ基の化合物と反応させることにより行われる。
物又は活性エステルに変え、次いで式(III)におい
てZがヒドロキシ基の化合物と反応させることによシ行
われる。本反応は通常溶媒中、必要に応じて塩基(例
第゛3アミン、炭酸アルカリ)の存在下に行われる。溶
媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類、ジオキサンのようなエーテル
類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルメタンの
ようなハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、□ジメ
チルホルムアミド、ピリジン等が挙げられる。反応温度
は通常約−20℃〜150℃、反応時間は通常約1〜2
4時間である。゛ 方法Cは、カルボン酸(■)′を常法により酸ハライド
に変え、次いで式(II)においてZがヒドロキ7− シ基の化合物と反応させることにより行われる。
本反応は無溶媒下又は溶媒中、必要に応じて塩基(例
第3アミン、炭酸アルカリ)の存□在下に行われる。溶
媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類、ジオキサンのようなエーテル
類、ジクロルメタン、クロロホルム、シクロルエタンノ
ヨウナハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。°反応温
度は通常約−20℃〜150℃、反応時間は通常約1〜
24時間である。
第3アミン、炭酸アルカリ)の存□在下に行われる。溶
媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類、ジオキサンのようなエーテル
類、ジクロルメタン、クロロホルム、シクロルエタンノ
ヨウナハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。°反応温
度は通常約−20℃〜150℃、反応時間は通常約1〜
24時間である。
式(1)の化合物は常法により単離、精製される。
化合物(1)は、原料化合物の種類9反応及び処理条件
により遊離又は酸付加塩の形で得られる。酸付加塩は、
常法、例えば炭酸アルカリ、アンモニアのような塩基で
処理することにより、遊離の状態に変えることができる
。一方、遊離の塩基は、常法により生理的に許容される
各種の無機酸又は有機酸と処理することによシ酸付加塩
に導くことができる。塩形成に用いられる無機酸として
は、例えば塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、リン酸。
により遊離又は酸付加塩の形で得られる。酸付加塩は、
常法、例えば炭酸アルカリ、アンモニアのような塩基で
処理することにより、遊離の状態に変えることができる
。一方、遊離の塩基は、常法により生理的に許容される
各種の無機酸又は有機酸と処理することによシ酸付加塩
に導くことができる。塩形成に用いられる無機酸として
は、例えば塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、リン酸。
硝酸、硫酸が、また有機酸としては、例えばクエ8−
ン酸、シュウ酸、フマ〜ル酸、マレイン酸、 乳酸。
コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、メタンスルホン酸が挙げ
られる。
られる。
式(1)の化合物は、場合により1個以上のネ斉炭素原
子を有するので、ラセミ体又は立体異性体の混合物の形
で得られることがある。これらのラセミ体及び立体異性
体の混合物は、常法によ如各立体異性体に分離すること
ができる。
子を有するので、ラセミ体又は立体異性体の混合物の形
で得られることがある。これらのラセミ体及び立体異性
体の混合物は、常法によ如各立体異性体に分離すること
ができる。
式(■′)で表される第4級アンモニウム塩は、式(1
)の化合物と一般式(IV) R8−X ([V)(式中、R8は
前掲に同じものを意味し、Xはアニオン成分を意味する
。) で表される化合物とを反応させることにより得られる。
)の化合物と一般式(IV) R8−X ([V)(式中、R8は
前掲に同じものを意味し、Xはアニオン成分を意味する
。) で表される化合物とを反応させることにより得られる。
本反応は、第4級アンモニウム塩製造における常法に従
って実施することができ、両化合物を無溶媒下あるいは
溶媒中で反応させることにより行われる。溶媒の具体例
としては、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトンのようなジアルキルケトン類、メタノ
ール、エタノール、インプロぐルアルコールのような低
級アルコール類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド又はこれらの混合物等が挙げられる。
って実施することができ、両化合物を無溶媒下あるいは
溶媒中で反応させることにより行われる。溶媒の具体例
としては、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトンのようなジアルキルケトン類、メタノ
ール、エタノール、インプロぐルアルコールのような低
級アルコール類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド又はこれらの混合物等が挙げられる。
反応温度は、化合物(1)、化合物(■)1反応溶媒の
種類により異なるが、通常約lθ〜130℃であり、反
応時間は通常約10分〜72時間である。
種類により異なるが、通常約lθ〜130℃であり、反
応時間は通常約10分〜72時間である。
alV)においてR8がR7とは異なる基である化合物
とを反応させる場合には、2種の第4級アンモニウム塩
が約1:1の割合で生成する。
とを反応させる場合には、2種の第4級アンモニウム塩
が約1:1の割合で生成する。
式(It)で表される原料化合物のうちR2がフェニル
チオ基以外の基の化合物は新規物質で、例えば後記参考
例に記載の方法によシ製造することができる。
チオ基以外の基の化合物は新規物質で、例えば後記参考
例に記載の方法によシ製造することができる。
式(1)の化合物並びにその生理的に許容される酸付加
塩類及び第4級アンモニウム塩類は1.抗アセチルコリ
ン性及び白筋性の鎮痙作用を有し、医薬として有用であ
る。
塩類及び第4級アンモニウム塩類は1.抗アセチルコリ
ン性及び白筋性の鎮痙作用を有し、医薬として有用であ
る。
以下に、本発明の代表的化合物についての薬理試験の結
果を示す。
果を示す。
鎮痙作用
モルモットより摘出した回腸片を用い、W、D、M。
Patonの方法(Br、J、Pharmacol、
12.119 (1957) )に準じて試験した。経
壁刺激(0,1m5ec、 20V、 5Hz12se
c )による収縮を50%抑制する試験化合物の濃度(
ID5o )を算出した。試験結果を表1に示す。
12.119 (1957) )に準じて試験した。経
壁刺激(0,1m5ec、 20V、 5Hz12se
c )による収縮を50%抑制する試験化合物の濃度(
ID5o )を算出した。試験結果を表1に示す。
表1 鎮痙作用
以下に参考例及び実施例を挙げて本発明を更に11−
具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。なお、化合物の同定は元素分析値、
マススペクトル、 IRスペクトル。
れるものではない。なお、化合物の同定は元素分析値、
マススペクトル、 IRスペクトル。
NMRスペク1トル等により行った。融点の後のカッコ
内の溶媒は再結晶溶媒を表す。
内の溶媒は再結晶溶媒を表す。
参考例1
■、2−ペンズイソキサソ;−ルー3−酢酸9メチルエ
ステル20yをジメチルホルムアミド60meに溶解し
、水冷下に50チ水素化ナトリウム4.6yを少量率 ずつ加えたのち室温30分間攪拌し、次いでヨウ化シク
ロヘキシル24yを加え、室温で30分間攪拌する。反
応液にトルエン500 me 、水200rne及び濃
塩酸10rneを加え、よく振とりする。トルエン層を
分取し、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち減
圧濃縮す5る。残渣をシリカゲル100yのカラムクロ
マトグラフィーに付し、クロロホルムで展開する。最初
に流出する着色物質を除き、次いで流出する画分よシ油
状物質14.7Pを得た。こ12− れを再びシリカゲル809−のカラムクロマトグラフィ
ーに付し、トルエンで展開する。最初に流出する画分を
集め、減圧下にトルエンを留去して油状のα−シクロヘ
キシル−1,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸メチ
ルエステル6.42を得た。
ステル20yをジメチルホルムアミド60meに溶解し
、水冷下に50チ水素化ナトリウム4.6yを少量率 ずつ加えたのち室温30分間攪拌し、次いでヨウ化シク
ロヘキシル24yを加え、室温で30分間攪拌する。反
応液にトルエン500 me 、水200rne及び濃
塩酸10rneを加え、よく振とりする。トルエン層を
分取し、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち減
圧濃縮す5る。残渣をシリカゲル100yのカラムクロ
マトグラフィーに付し、クロロホルムで展開する。最初
に流出する着色物質を除き、次いで流出する画分よシ油
状物質14.7Pを得た。こ12− れを再びシリカゲル809−のカラムクロマトグラフィ
ーに付し、トルエンで展開する。最初に流出する画分を
集め、減圧下にトルエンを留去して油状のα−シクロヘ
キシル−1,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸メチ
ルエステル6.42を得た。
メチルエステル体6.3yにエタノール70me、水酸
化ナトリウム1.4y及び水8 meを加え、60℃で
30分間加熱する。減圧下にエタノールを留去し、残漬
に水とトルエンを加えて振とうする。水層を分取し、塩
酸酸性とし、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去して固
形の目的物5yを得た。一部を酢酸エチル/ヘキサンか
ら再結晶して、融点135〜137℃の無色結晶を得た
。
化ナトリウム1.4y及び水8 meを加え、60℃で
30分間加熱する。減圧下にエタノールを留去し、残漬
に水とトルエンを加えて振とうする。水層を分取し、塩
酸酸性とし、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去して固
形の目的物5yを得た。一部を酢酸エチル/ヘキサンか
ら再結晶して、融点135〜137℃の無色結晶を得た
。
参考例2
5−クロロ−1,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸
メチルエステルliy、ジメチルホルムアミ)” 11
0 yne 、 50%水素化ナトリウム2.4y及び
ヨウ化シクロヘキシル21yを用い、参考例1と同様に
反応・処理して油状のα−シクロヘキシル−5−りoo
−1,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸メチルエス
テル2.8yを得た。メチルエステル体2.44yを参
考例1と同様に反応・処理して結晶状の目的物1.95
Pを得た。一部をジエチルエーテル/ヘキサンから再
結晶して、融点150〜152°Cの無色結晶を得た。
メチルエステルliy、ジメチルホルムアミ)” 11
0 yne 、 50%水素化ナトリウム2.4y及び
ヨウ化シクロヘキシル21yを用い、参考例1と同様に
反応・処理して油状のα−シクロヘキシル−5−りoo
−1,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸メチルエス
テル2.8yを得た。メチルエステル体2.44yを参
考例1と同様に反応・処理して結晶状の目的物1.95
Pを得た。一部をジエチルエーテル/ヘキサンから再
結晶して、融点150〜152°Cの無色結晶を得た。
参考例3
α−ベンジル−1,2−ペンジイソキサソール−3−酢
酸 l、2−挾ンズイソキサゾールー3−酢酸メチルエステ
ル10pをジメチルスルホキシド100m1’に溶解し
、水冷下に60チ水素化ナトリウム2.3yを加えたの
ち室温で30分間攪拌し、次いで臭化ベンジル9.85
1?を加え、室温で2時間攪拌する。反応液を水で希釈
し、クロロホルムで抽出する。クロロホルム層を水洗し
、無水値・酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去
する。油状残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィ
ーに付し、クロロホルム/ヘキサン(1:1)流出部よ
す、α−ベンジル−1,2−ベンズイソキサゾール−3
−酢酸メチルエステル9.6yを油状物質として得た。
酸 l、2−挾ンズイソキサゾールー3−酢酸メチルエステ
ル10pをジメチルスルホキシド100m1’に溶解し
、水冷下に60チ水素化ナトリウム2.3yを加えたの
ち室温で30分間攪拌し、次いで臭化ベンジル9.85
1?を加え、室温で2時間攪拌する。反応液を水で希釈
し、クロロホルムで抽出する。クロロホルム層を水洗し
、無水値・酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去
する。油状残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィ
ーに付し、クロロホルム/ヘキサン(1:1)流出部よ
す、α−ベンジル−1,2−ベンズイソキサゾール−3
−酢酸メチルエステル9.6yを油状物質として得た。
メチルエステル体76yをジオキサン120WTlに溶
解シ、10%塩酸40meを加え、6時間還流する。反
応液を減圧下に濃縮乾固し、残渣にジクロルメタンと1
%水酸化ナトリウム水溶液を加えて振とうする。
解シ、10%塩酸40meを加え、6時間還流する。反
応液を減圧下に濃縮乾固し、残渣にジクロルメタンと1
%水酸化ナトリウム水溶液を加えて振とうする。
水層を分取し、塩酸酸性としジクロルメタンで抽出する
。ジクロルメタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥したの
ち溶媒を留去し、残渣をジエチルエーテル/ヘキサンか
ら再結晶して目的物5.5yを得た。 融点84〜85
℃ 参考例4 1.2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸メチルエステ
ル15yをジメチルスルホキシド10’Omeに溶解し
、水冷下に60係水素化ナトリウム6.9yを加えたの
ち室温で30分間攪拌し、次いで臭化ベンジル29.6
pを加え、室温で4時間攪拌する。反応15− 液を水で希釈し、クロ・ロホルムで抽出するみクロロホ
ルム層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶
媒を留去して油状物質37yを得た。これをシリカゲル
のカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム/ヘ
キサン(3:1)流出部より、α、α−ジベンジルー1
,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸メチルエステル
15.5yを得た。
。ジクロルメタン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥したの
ち溶媒を留去し、残渣をジエチルエーテル/ヘキサンか
ら再結晶して目的物5.5yを得た。 融点84〜85
℃ 参考例4 1.2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸メチルエステ
ル15yをジメチルスルホキシド10’Omeに溶解し
、水冷下に60係水素化ナトリウム6.9yを加えたの
ち室温で30分間攪拌し、次いで臭化ベンジル29.6
pを加え、室温で4時間攪拌する。反応15− 液を水で希釈し、クロ・ロホルムで抽出するみクロロホ
ルム層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶
媒を留去して油状物質37yを得た。これをシリカゲル
のカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム/ヘ
キサン(3:1)流出部より、α、α−ジベンジルー1
,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸メチルエステル
15.5yを得た。
一部をエタノールから再結晶して融点82〜84℃の無
色結晶を得た。
色結晶を得た。
メチルエステル体13yを参考例1と同様に反応・処理
して、固形の目的物10.5yを得た。一部をジエチル
エーテル/ヘキサンから再結晶して、融点195〜19
65℃の無色結晶を得た。 □参考例5 フェノール2.257をエタノール2ornett溶解
し、50%水素化ナトリウム2,069、次いでα−ブ
ロモ−1,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸5.0
yを加え、6時間還流する。反応液から溶媒を減圧16
− 下に留去し、残渣を水に溶解し、クロロホルムで洗浄す
る。水層を塩酸酸性としクロロホルムで抽出する。クロ
ロホルム層を無水硫酸矢トリウムで乾燥したのち濃縮し
、残漬をトルエンから再結晶して目的物3.69を得た
。 融点148〜149℃(分解) 参考例6 18−クラウン−61yをアセトニトリル350meに
溶解し、酢酸カリウム34yを加えて室温で2時間攪拌
した後、α−ブロモ−1,2−ベンズイソキサゾール−
3−酢酸メチルエステル49.5yを加える。室温で1
6時間攪拌したのち反応液をデ過し、沈澱をトルエンで
洗浄する。P液と洗液を合し減圧下に濃縮し、得られる
油状残漬をシリカケル100yのカラムクロマトグラフ
ィーに付す。
して、固形の目的物10.5yを得た。一部をジエチル
エーテル/ヘキサンから再結晶して、融点195〜19
65℃の無色結晶を得た。 □参考例5 フェノール2.257をエタノール2ornett溶解
し、50%水素化ナトリウム2,069、次いでα−ブ
ロモ−1,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸5.0
yを加え、6時間還流する。反応液から溶媒を減圧16
− 下に留去し、残渣を水に溶解し、クロロホルムで洗浄す
る。水層を塩酸酸性としクロロホルムで抽出する。クロ
ロホルム層を無水硫酸矢トリウムで乾燥したのち濃縮し
、残漬をトルエンから再結晶して目的物3.69を得た
。 融点148〜149℃(分解) 参考例6 18−クラウン−61yをアセトニトリル350meに
溶解し、酢酸カリウム34yを加えて室温で2時間攪拌
した後、α−ブロモ−1,2−ベンズイソキサゾール−
3−酢酸メチルエステル49.5yを加える。室温で1
6時間攪拌したのち反応液をデ過し、沈澱をトルエンで
洗浄する。P液と洗液を合し減圧下に濃縮し、得られる
油状残漬をシリカケル100yのカラムクロマトグラフ
ィーに付す。
トルエン、1ル主ン/クロロホルム(1:1)、次いで
クロロボルムで流出する蕪゛色の画分を集め、i線番留
去して油状のα−アセトキシ−1,□2−ベンズイソキ
サゾール−3−酢酸メチルエステル45yを得た。これ
を5%炭酸ナトリウム水溶液260−とメタノール20
0qeの混液に溶解し、65℃で1時間加熱後メタノー
ルを留去し、残液をトルエンで洗浄する。水層を塩酸酸
性とし酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥したのち濃縮し、残漬をヘキサンで洗
浄して目的物の結晶34yを得た。一部をジエチルエー
テル/ヘキサンから再結晶して、融点119〜122℃
の無色結晶を得た。
クロロボルムで流出する蕪゛色の画分を集め、i線番留
去して油状のα−アセトキシ−1,□2−ベンズイソキ
サゾール−3−酢酸メチルエステル45yを得た。これ
を5%炭酸ナトリウム水溶液260−とメタノール20
0qeの混液に溶解し、65℃で1時間加熱後メタノー
ルを留去し、残液をトルエンで洗浄する。水層を塩酸酸
性とし酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥したのち濃縮し、残漬をヘキサンで洗
浄して目的物の結晶34yを得た。一部をジエチルエー
テル/ヘキサンから再結晶して、融点119〜122℃
の無色結晶を得た。
参考例7
α−ヒドロキシ−1,2−ベンズインキサシ−ルー3−
酢酸34yをメタノール1someに溶解し、濃硫酸0
.5mt’を加え、6時間還流後メタノールを留去する
。残渣に5%炭酸ナトリウム水溶液とトルエンを加え振
とうする□トル千ン層を水洗し、無水硫酸す) IJウ
ムで乾燥し、溶媒を留去して固形のα−ヒドロキシ−1
,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸メチルエステル
34pを得た。一部をトルエンから再結晶して融点64
〜65℃の無色結晶を得た。
酢酸34yをメタノール1someに溶解し、濃硫酸0
.5mt’を加え、6時間還流後メタノールを留去する
。残渣に5%炭酸ナトリウム水溶液とトルエンを加え振
とうする□トル千ン層を水洗し、無水硫酸す) IJウ
ムで乾燥し、溶媒を留去して固形のα−ヒドロキシ−1
,2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸メチルエステル
34pを得た。一部をトルエンから再結晶して融点64
〜65℃の無色結晶を得た。
乾燥窒素ガス気流中で無水条件下に、ジイソプロピルア
ミン4.4yと15%ブチルリチウム/ヘキサン25.
6meから常法により製した、リチウムジイソプロピル
アミドのテトラヒドロフラン30me溶液に、−60℃
で攪拌下、上記メチルエステル体4.2yのテトラヒド
ロフラン30me溶液を2時間にわたり滴下する。−6
5℃で更に1時間攪拌した後、臭化ベンジル3.82の
テトラヒドロフラン30me溶液を加え、次いで徐々に
温度を上げ18℃で一夜放置する。反応液に水冷下トル
エンと希塩酸を加え酸性とする。
ミン4.4yと15%ブチルリチウム/ヘキサン25.
6meから常法により製した、リチウムジイソプロピル
アミドのテトラヒドロフラン30me溶液に、−60℃
で攪拌下、上記メチルエステル体4.2yのテトラヒド
ロフラン30me溶液を2時間にわたり滴下する。−6
5℃で更に1時間攪拌した後、臭化ベンジル3.82の
テトラヒドロフラン30me溶液を加え、次いで徐々に
温度を上げ18℃で一夜放置する。反応液に水冷下トル
エンと希塩酸を加え酸性とする。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を
留去して油状物質6.5yを得た。これをシリカゲルの
カラムクロマトグラフィーに付し、トルエン、クロロホ
ルムの順ニ展開シ、クロロホルムで最初に流出する画分
よシα−ベンジルーα−ヒドロキシ−1,2−ベンズイ
ソキサゾール−3−酢酸メチルエステル4yを得た。一
部をジエチル19− エーテル/ヘキサンから再結晶して融点91〜93℃の
無色結晶を得た。
留去して油状物質6.5yを得た。これをシリカゲルの
カラムクロマトグラフィーに付し、トルエン、クロロホ
ルムの順ニ展開シ、クロロホルムで最初に流出する画分
よシα−ベンジルーα−ヒドロキシ−1,2−ベンズイ
ソキサゾール−3−酢酸メチルエステル4yを得た。一
部をジエチル19− エーテル/ヘキサンから再結晶して融点91〜93℃の
無色結晶を得た。
メチルエステル体2.82を参考例1と同様に反応・処
理して、固形の目的物2.72を得た。一部を酢酸エチ
ル/ヘキサンから再結晶して、融点103〜105℃の
無色結晶を得た。
理して、固形の目的物2.72を得た。一部を酢酸エチ
ル/ヘキサンから再結晶して、融点103〜105℃の
無色結晶を得た。
参考例8
1.2−ベンズイソキサゾール−3−酢酸10.5ノ、
炭酸ナトリウム12.6y、水120 rIf、及び3
7チホルマリン30meから成る混合物を90℃で8時
間加熱する。放冷後、反応液を塩酸酸性とし、酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
のち減圧下に濃縮し、残漬をシリカゲル602のカタク
ロマトグラフイーに付す。6チメタノール/クロロホル
ムで展開し、シリカゲルの薄層クロマトグラフィー(展
開溶媒10%酢酸/クロロホルム)でRf値0.15を
示す画分を集め、酢酸エチル/ジエチルエーテルから再
結晶して目的物4.320− yを得た。 融点128〜130’C 実施例1 α〜シクロへキシル−1,2−ベンズイソキサゾール−
3−酢酸1yをトルエン2o−に溶解し、トシルクロリ
ド0.8yを加え、90℃で2時間攪拌した後、トリエ
チルアミン1me、次いで3−ジェチルアミノグロパノ
ール0.8yを加え、室温で一夜攪拌する。反応液をト
ルエンで希釈し、5%炭酸ナトリウム水溶液、次いで水
で洗浄する。トルエン層を5%塩酸で抽出し、水層をア
ンモニアアルカリ性とした後トルエンで抽出する。有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後トルエンを減圧下に留
去し、得られる残渣を常法により臭化水素酸塩に変える
。この塩をエタノール/ジエチルエーテルから再結晶し
て目的物1.53yを得た。融点128〜130 ℃ 実施例2 α−シクロへキシル−5−10ロー1.・2−ベンズイ
ソキサゾール−3−酢酸1.27ヲ)ルエン20meに
溶解し、トシルクロリド0.9yとトリエチルアミン0
.6meを加え、室温で1時間攪拌した後1−メチル−
4−ヒドロキシピペリジン1.8meヲ加工、70℃で
3時間加熱する。反応液を実施例1と同様に処理し、ト
ルエンを減圧下に留去して油状の残渣1.45 Pを得
た。これをエタノール10meに溶解し、シュウ酸2水
和物0.47yを加えて溶解させた後エタノールを減圧
下に留去する。残渣をエタノール/ジエチルエーテルか
ら再結晶して目的物1.52を得た。 融点200〜2
03℃ 実施例3〜16 対応するα−置換−1,2−ベンズイソキサゾール−3
−酢酸類とアミノアルコール類を用い、実施例1,2と
同様に反応・処理し、必要に応じて常法により酸付加塩
を生成させて表2に示す化合物を得た。
炭酸ナトリウム12.6y、水120 rIf、及び3
7チホルマリン30meから成る混合物を90℃で8時
間加熱する。放冷後、反応液を塩酸酸性とし、酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
のち減圧下に濃縮し、残漬をシリカゲル602のカタク
ロマトグラフイーに付す。6チメタノール/クロロホル
ムで展開し、シリカゲルの薄層クロマトグラフィー(展
開溶媒10%酢酸/クロロホルム)でRf値0.15を
示す画分を集め、酢酸エチル/ジエチルエーテルから再
結晶して目的物4.320− yを得た。 融点128〜130’C 実施例1 α〜シクロへキシル−1,2−ベンズイソキサゾール−
3−酢酸1yをトルエン2o−に溶解し、トシルクロリ
ド0.8yを加え、90℃で2時間攪拌した後、トリエ
チルアミン1me、次いで3−ジェチルアミノグロパノ
ール0.8yを加え、室温で一夜攪拌する。反応液をト
ルエンで希釈し、5%炭酸ナトリウム水溶液、次いで水
で洗浄する。トルエン層を5%塩酸で抽出し、水層をア
ンモニアアルカリ性とした後トルエンで抽出する。有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後トルエンを減圧下に留
去し、得られる残渣を常法により臭化水素酸塩に変える
。この塩をエタノール/ジエチルエーテルから再結晶し
て目的物1.53yを得た。融点128〜130 ℃ 実施例2 α−シクロへキシル−5−10ロー1.・2−ベンズイ
ソキサゾール−3−酢酸1.27ヲ)ルエン20meに
溶解し、トシルクロリド0.9yとトリエチルアミン0
.6meを加え、室温で1時間攪拌した後1−メチル−
4−ヒドロキシピペリジン1.8meヲ加工、70℃で
3時間加熱する。反応液を実施例1と同様に処理し、ト
ルエンを減圧下に留去して油状の残渣1.45 Pを得
た。これをエタノール10meに溶解し、シュウ酸2水
和物0.47yを加えて溶解させた後エタノールを減圧
下に留去する。残渣をエタノール/ジエチルエーテルか
ら再結晶して目的物1.52を得た。 融点200〜2
03℃ 実施例3〜16 対応するα−置換−1,2−ベンズイソキサゾール−3
−酢酸類とアミノアルコール類を用い、実施例1,2と
同様に反応・処理し、必要に応じて常法により酸付加塩
を生成させて表2に示す化合物を得た。
Ph : 06Hs
*A:エタノール、Eニジエチルエーテル、H:ヘキサ
ン実施例17 マル酸塩 α−ベンジル−1,2−ベンズインキサシ−ルー3−酢
酸1yをピリジン20m1’に溶解し、氷冷下トシルク
ロリド1.43pを加えてしばらく攪拌した後、ジエチ
ルアミノエタノール0.44yを加え室温で1時間攪拌
する。反応液を水で希釈し、ジクロルメタンで抽出し、
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち濃縮する。
ン実施例17 マル酸塩 α−ベンジル−1,2−ベンズインキサシ−ルー3−酢
酸1yをピリジン20m1’に溶解し、氷冷下トシルク
ロリド1.43pを加えてしばらく攪拌した後、ジエチ
ルアミノエタノール0.44yを加え室温で1時間攪拌
する。反応液を水で希釈し、ジクロルメタンで抽出し、
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち濃縮する。
残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーに−付し
、5チメタノール/クロロホルムで展開して油状物0.
58yを得た。
、5チメタノール/クロロホルムで展開して油状物0.
58yを得た。
これを常法によりフマル酸塩とし、エタノール/ヘキサ
ンから再結晶して目的物050ノを得た。
ンから再結晶して目的物050ノを得た。
融点123〜127℃
実施例18
実施例17におけるジエチルアミンエタノールの代わり
に1−エチル−3−ヒドロキシピペリジンを用い、実施
例17と同様に反応・処理し、エタノール/ヘキサンか
ら再結晶して目的物を得た。
に1−エチル−3−ヒドロキシピペリジンを用い、実施
例17と同様に反応・処理し、エタノール/ヘキサンか
ら再結晶して目的物を得た。
融点124〜136°C(分解)
実施例19
一α−ヒドロキシー1,2−ベンズイソキサゾール−3
−酢酸2.45pと3−ジエチルアミンプロピルクロリ
ド1.9yをイソプロピルアルコール15meに溶解し
、加熱下に攪拌し々がらイソプロピルアルコール10m
1’を留去した後、残留物を90℃で6時間加熱する。
−酢酸2.45pと3−ジエチルアミンプロピルクロリ
ド1.9yをイソプロピルアルコール15meに溶解し
、加熱下に攪拌し々がらイソプロピルアルコール10m
1’を留去した後、残留物を90℃で6時間加熱する。
今後、反応液にトルエンと5%塩酸を加えて振とりする
。水層なアンモニアアルアリ性とし、トルエンで抽出し
、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち減圧下に
濃縮して、油状の3−ジエチルアミノプロビル α−ヒ
ドロキシ−1,2−ベンズイソキサゾール−3−アセテ
ート2.52を得た。一部を常法によりシュウ酸塩に変
え、エタノール/ジエチルエーテルから再結晶して目的
物を得た。 融点94〜96°C 実施例20〜26 対応するα−置換−1j2−ベンズイソキサゾール−3
−酢酸類とアミノアルキルクロリド類ヲ用い、実施例゛
19と同様に反応・処理し、必要に応じて常法によシ酸
付加塩を生成させて表3に示す化合物を得た。
。水層なアンモニアアルアリ性とし、トルエンで抽出し
、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち減圧下に
濃縮して、油状の3−ジエチルアミノプロビル α−ヒ
ドロキシ−1,2−ベンズイソキサゾール−3−アセテ
ート2.52を得た。一部を常法によりシュウ酸塩に変
え、エタノール/ジエチルエーテルから再結晶して目的
物を得た。 融点94〜96°C 実施例20〜26 対応するα−置換−1j2−ベンズイソキサゾール−3
−酢酸類とアミノアルキルクロリド類ヲ用い、実施例゛
19と同様に反応・処理し、必要に応じて常法によシ酸
付加塩を生成させて表3に示す化合物を得た。
*IP:イソブロビルアルコール、EA : 酢酸エチ
ル実施例27 α、α−ジベンジルー1,2−ベンズイソキサゾール−
3=酢酸1.02に塩化チオニル10−を加え、2時間
還流したのち減圧下に濃縮乾固する。残漬に2−ジエチ
ルアミノエタノール0.49yのクロロホルム20me
溶液を加え、室温で2時間攪拌したのち5時間還流する
。反応液を希塩酸、次いで10%炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、無水硫酸す) IJウムで乾燥したのち溶媒
を留去する。残漬をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
ィーに付し、3チメタノール/クロロホルムで展開し、
油状の2−ジエチルアミンエチル α、α−ジベンジル
ー1゜2−ベンズイソキサゾール−3−アセテート0.
732を得た。これを常法によシシュウ酸塩とし、エタ
ノール/ジエチルエーテルから再結晶して目的物0,6
yを得た。 融点102〜108℃実施例28〜30 α、α−ジベンジルー1,2−ベンズイソキサゾール−
3−酢酸と対応するアミノアルコール類を用い、実施例
27と同様に反応・処理して表4に示す化合物を得た。
ル実施例27 α、α−ジベンジルー1,2−ベンズイソキサゾール−
3=酢酸1.02に塩化チオニル10−を加え、2時間
還流したのち減圧下に濃縮乾固する。残漬に2−ジエチ
ルアミノエタノール0.49yのクロロホルム20me
溶液を加え、室温で2時間攪拌したのち5時間還流する
。反応液を希塩酸、次いで10%炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、無水硫酸す) IJウムで乾燥したのち溶媒
を留去する。残漬をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
ィーに付し、3チメタノール/クロロホルムで展開し、
油状の2−ジエチルアミンエチル α、α−ジベンジル
ー1゜2−ベンズイソキサゾール−3−アセテート0.
732を得た。これを常法によシシュウ酸塩とし、エタ
ノール/ジエチルエーテルから再結晶して目的物0,6
yを得た。 融点102〜108℃実施例28〜30 α、α−ジベンジルー1,2−ベンズイソキサゾール−
3−酢酸と対応するアミノアルコール類を用い、実施例
27と同様に反応・処理して表4に示す化合物を得た。
実施例31
1−メチル−4−ピペリジル α−シクロヘキシル−1
,2−ベンズイソキサシーツ5レー3−アセテート11
2をアセトン10fnlに溶解し、臭化エチル16yを
加えて室温で2日間放置する。析出しだ結晶をr取し、
エタノール/ジエチルエーテルカラ再結晶して目的物0
.5yを得た。 融点176〜180°C実施例32〜
35 対応スルα−シクロヘキシル−1,2−ベンズイソキサ
ゾール−3−酢酸エステル類とヨウ化メチルを用い、実
施例31と同様に反応・処理して表5に示す化合物を得
た。
,2−ベンズイソキサシーツ5レー3−アセテート11
2をアセトン10fnlに溶解し、臭化エチル16yを
加えて室温で2日間放置する。析出しだ結晶をr取し、
エタノール/ジエチルエーテルカラ再結晶して目的物0
.5yを得た。 融点176〜180°C実施例32〜
35 対応スルα−シクロヘキシル−1,2−ベンズイソキサ
ゾール−3−酢酸エステル類とヨウ化メチルを用い、実
施例31と同様に反応・処理して表5に示す化合物を得
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基
、低級アルキル基、トリフルオロメチル基又は低級アル
コキシ基を意味し、R2はヒドロキシ基、ヒドロキシメ
チル基、シクロヘキシル基。 フェノキシ基、フェニルチオ基又ハヘンジル基を意味し
、R4は水素原子又は低級アルキル基を意味し、R5及
びR6は同−又は異なって低級アルキル基を意味するか
、あるいは隣接する窒素原子とともに複素環基を形成し
、R7は低級アルキル基を意味し、m及びnはそれぞれ
θ〜3の整数を意味するが、その和は1〜4の整数を意
味し、q及びrはそれぞれ1〜3の整数を意味するが、
その和は3〜5の整数を意味する。〕で表される化合物
並びにその生理的に許容される酸付加塩類及び第4級ア
ンモニウム塩類。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8450182A JPS58201770A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | α−置換−1,2−ベンズイソキサゾ−ル−3−酢酸エステル類並びにその酸付加塩類及び第4級アンモニウム塩類 |
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JP8450182A JPS58201770A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | α−置換−1,2−ベンズイソキサゾ−ル−3−酢酸エステル類並びにその酸付加塩類及び第4級アンモニウム塩類 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPS58201770A true JPS58201770A (ja) | 1983-11-24 |
Family
ID=13832385
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP8450182A Pending JPS58201770A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | α−置換−1,2−ベンズイソキサゾ−ル−3−酢酸エステル類並びにその酸付加塩類及び第4級アンモニウム塩類 |
Country Status (2)
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Families Citing this family (3)
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Family Cites Families (3)
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1982
- 1982-05-18 JP JP8450182A patent/JPS58201770A/ja active Pending
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1983
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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