JPH04213372A - 画像形成用樹脂組成物および蛍光検出方式自動外観検査方法 - Google Patents
画像形成用樹脂組成物および蛍光検出方式自動外観検査方法Info
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 3
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 claims description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 238000001917 fluorescence detection Methods 0.000 claims description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 30
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 30
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N propylene glycol Substances CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 4
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- KKAJSJJFBSOMGS-UHFFFAOYSA-N 3,6-diamino-10-methylacridinium chloride Chemical compound [Cl-].C1=C(N)C=C2[N+](C)=C(C=C(N)C=C3)C3=CC2=C1 KKAJSJJFBSOMGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- -1 benzyl dimethyl ketal Chemical compound 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 5
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 5
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 3
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VBIWIGSLGRYEDA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triethyl-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCN1C(=O)N(CC)C(=O)N(CC)C1=O VBIWIGSLGRYEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- 229920003067 (meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2,2-trichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)CO.OCC(C)(C)C(O)=O CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Natural products OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- MZRQZJOUYWKDNH-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,3,4-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=C(C)C(C)=CC=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MZRQZJOUYWKDNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N n-(butoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CCCCOCNC(=O)C=C UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003909 pattern recognition Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、蛍光を発する画像形成用樹脂組成物およびこ
れを用いた蛍光検出方式自動外観検査方法に関する。
れを用いた蛍光検出方式自動外観検査方法に関する。
プリント配線板の製造工程において、外観検査は、プリ
ント配線板の欠陥の有無を識別するためだけでなく、製
造工程条件の変動を監視し、欠陥の要因を発見して歩留
りや品質の向上を図るためにも重要である。この外観検
査は、以前はもっぱら目視検査に頼っていたが、検査精
度や人件費の問題から現在では、自動外観検査機が普及
している。
ント配線板の欠陥の有無を識別するためだけでなく、製
造工程条件の変動を監視し、欠陥の要因を発見して歩留
りや品質の向上を図るためにも重要である。この外観検
査は、以前はもっぱら目視検査に頼っていたが、検査精
度や人件費の問題から現在では、自動外観検査機が普及
している。
従来の自動外観検査機は、基板に白色光を当て、基板か
らの反射光の強弱を検出することによりパターンを認識
するという原理のものであった。従ってこの方法では、
銅張積層板をエッチングした後の金属パターン形成基板
のように、金属表面からは強い反射光が得られ、絶縁層
からは弱い反射光が得られる場合には使用できるものの
、基板上に画像形成用樹脂で形成されたパターンが存在
するだけのエッチング前の基板あるいはソルダーレジス
ト形成後の基板では、画像形成用樹脂表面からの反射光
が強いため金属表面からの反射光と区別できず、外観検
査を行なうことが不可能であった。
らの反射光の強弱を検出することによりパターンを認識
するという原理のものであった。従ってこの方法では、
銅張積層板をエッチングした後の金属パターン形成基板
のように、金属表面からは強い反射光が得られ、絶縁層
からは弱い反射光が得られる場合には使用できるものの
、基板上に画像形成用樹脂で形成されたパターンが存在
するだけのエッチング前の基板あるいはソルダーレジス
ト形成後の基板では、画像形成用樹脂表面からの反射光
が強いため金属表面からの反射光と区別できず、外観検
査を行なうことが不可能であった。
このため最近では、蛍光を利用した新しい方式の自動外
観検査機が開発されている。すなわち、特定波長(40
0〜650nmの範囲内)の光を基板に照射し、銅張積
層板の絶縁層や画像形成用樹脂などの有機物から励起さ
れる特定波長の蛍光を検出してパターン認識を行なうも
のである。
観検査機が開発されている。すなわち、特定波長(40
0〜650nmの範囲内)の光を基板に照射し、銅張積
層板の絶縁層や画像形成用樹脂などの有機物から励起さ
れる特定波長の蛍光を検出してパターン認識を行なうも
のである。
たとえばオプトロテック社製の自動外観検査機VISI
ON−206では、442nmの波長の光を照射し、4
90〜620nmの波長の蛍光を検出して外観検査を行
なっている。この方式によれば、有機物と金属部分とを
その表面粗化状態によらずに区別することができるため
、エッチング後の基板だけでなく、エッチング前の基板
やソルダーレジスト形成後の基板も検査可能である。特
に銅張積層板上に有機エッチングレジストあるいはめっ
きレジストをパターン形成した後の自動外観検査が可能
になったことは、欠陥の早期発見を可能にし、不良が発
生した場合でも、これら有機レジストを除去して銅張積
層板を再使用することができ、コスト的に非常に有利で
ある。
ON−206では、442nmの波長の光を照射し、4
90〜620nmの波長の蛍光を検出して外観検査を行
なっている。この方式によれば、有機物と金属部分とを
その表面粗化状態によらずに区別することができるため
、エッチング後の基板だけでなく、エッチング前の基板
やソルダーレジスト形成後の基板も検査可能である。特
に銅張積層板上に有機エッチングレジストあるいはめっ
きレジストをパターン形成した後の自動外観検査が可能
になったことは、欠陥の早期発見を可能にし、不良が発
生した場合でも、これら有機レジストを除去して銅張積
層板を再使用することができ、コスト的に非常に有利で
ある。
しかしながら、従来の画像形成用樹脂のほとんどは、4
00〜650nmの光照射により励起される蛍光の強度
が極めて弱いため、蛍光検出方式の自動外観検査機で検
査する場合に、画像及び画像の欠陥を検知するためには
、入射蛍光を過度に増幅する必要があり、この過度の増
幅により表面の軽度な汚れや付着したゴミ等をも画像の
欠陥として検出することになり、誤報が発生しやすく、
検査が困難であった。特にパターンがファインな場合に
は誤報が極めて多く発生し外観検査が全く不可能であり
、蛍光検出方式の自動外観検査機の長所を全く生かすこ
とができなかった。
00〜650nmの光照射により励起される蛍光の強度
が極めて弱いため、蛍光検出方式の自動外観検査機で検
査する場合に、画像及び画像の欠陥を検知するためには
、入射蛍光を過度に増幅する必要があり、この過度の増
幅により表面の軽度な汚れや付着したゴミ等をも画像の
欠陥として検出することになり、誤報が発生しやすく、
検査が困難であった。特にパターンがファインな場合に
は誤報が極めて多く発生し外観検査が全く不可能であり
、蛍光検出方式の自動外観検査機の長所を全く生かすこ
とができなかった。
本発明の目的は、上記欠点を克服し、蛍光検出方式の自
動外観検査機で検査可能な、十分な強度の蛍光を発する
画像形成用樹脂組成物およびこれを用いた蛍光検出方式
自動外観検査方法を提供することにある。
動外観検査機で検査可能な、十分な強度の蛍光を発する
画像形成用樹脂組成物およびこれを用いた蛍光検出方式
自動外観検査方法を提供することにある。
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果
、次のような画像形成用樹脂組成物を使用することで、
目的が達成されることを見いだし、本発明を完成するに
至った。
、次のような画像形成用樹脂組成物を使用することで、
目的が達成されることを見いだし、本発明を完成するに
至った。
即ち本発明は、式[I]
で示される化合物を0.0001重量%以上含有する画
像形成用樹脂組成物であって、該画像形成用樹脂組成物
の硬化物または乾燥物を、蛍光顕微鏡により写真撮影す
る際のシャッタタイムが8秒以下であるような蛍光強度
を有する画像形成用樹脂組成物とこれを用いた自動外観
検査方法に関する。
像形成用樹脂組成物であって、該画像形成用樹脂組成物
の硬化物または乾燥物を、蛍光顕微鏡により写真撮影す
る際のシャッタタイムが8秒以下であるような蛍光強度
を有する画像形成用樹脂組成物とこれを用いた自動外観
検査方法に関する。
以下、本発明を詳しく説明する。
本発明における蛍光強度の評価法は、画像形成用樹脂組
成物を金属板上に蛍光顕微鏡の視野面積以上に塗布し、
乾燥あるいは硬化させて厚さ50μmのベタ画像を形成
し、その画像を(株)ニコン製落射蛍光顕微鏡オプチフ
ォトXF−EFD2(励起フィルター:EX−435/
10、ダイクロイックミラー:DM−455、吸収フィ
ルター:BA−480、対物レンズ:P1an4/0.
13、投影レンズ:CFPL5X、ND2フィルタ:O
PEN、ND4フィルタ:OPEN、視野絞りレバー:
OPEN、シャッタ:OPEN)および(株)ニコン製
顕微鏡写真撮影装置AFX−II(ASA−100、露
出補正0)を用いて、反射法で写真撮影する際のシャッ
タタイムで評価するものである。
成物を金属板上に蛍光顕微鏡の視野面積以上に塗布し、
乾燥あるいは硬化させて厚さ50μmのベタ画像を形成
し、その画像を(株)ニコン製落射蛍光顕微鏡オプチフ
ォトXF−EFD2(励起フィルター:EX−435/
10、ダイクロイックミラー:DM−455、吸収フィ
ルター:BA−480、対物レンズ:P1an4/0.
13、投影レンズ:CFPL5X、ND2フィルタ:O
PEN、ND4フィルタ:OPEN、視野絞りレバー:
OPEN、シャッタ:OPEN)および(株)ニコン製
顕微鏡写真撮影装置AFX−II(ASA−100、露
出補正0)を用いて、反射法で写真撮影する際のシャッ
タタイムで評価するものである。
そして、本発明の樹脂組成物は、この評価法によるシャ
ッタタイム8秒以下、好ましくは6秒以下であることが
不可欠である。シャッタタイムが8秒を超えるような画
像形成用樹脂組成物では、蛍光検出方式の自動外観検査
機で検査する場合に誤報が多く発生し、検査に支障をき
たす。特にパターンがファインな場合には、誤報が極め
て多く発生し、外観検査が全くできない。
ッタタイム8秒以下、好ましくは6秒以下であることが
不可欠である。シャッタタイムが8秒を超えるような画
像形成用樹脂組成物では、蛍光検出方式の自動外観検査
機で検査する場合に誤報が多く発生し、検査に支障をき
たす。特にパターンがファインな場合には、誤報が極め
て多く発生し、外観検査が全くできない。
本発明の画像形成用樹脂組成物には、式[I]で示され
る化合物を含有させることが必要である。
る化合物を含有させることが必要である。
式[I]で示される化合物は、400〜650nmの波
長の光を照射した時に強い蛍光を発するため、画像形成
用樹脂組成物中に極少量配合することにより、蛍光検出
方式の自動外観検査機での外観検査を可能にする。
長の光を照射した時に強い蛍光を発するため、画像形成
用樹脂組成物中に極少量配合することにより、蛍光検出
方式の自動外観検査機での外観検査を可能にする。
400〜650nmの波長の光を照射した時に蛍光を発
する化合物としては、式[I]で示される化合物以外に
、ミヒラーズケトン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ
)ベンゾフェノン等の 4,4’−ビス(ジアルキルア
ミノ)ベンゾフェノン類が挙げられるが、4,4’−ビ
ス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノン類を用いて蛍光
検出方式の自動外観検査機での外観検査を可能にするに
は、該化合物を画像形成用樹脂組成物中に多量に添加し
なければならない。しかしながら、4,4’−ビス(ジ
アルキルアミノ)ベンゾフェノン類は、光重合開始剤と
しても使用され得る化合物であるため、感光性の画像形
成用樹脂組成物中に該化合物を多量に添加すると、樹脂
組成物の硬化性、すなわち感度や得られる画像の断面形
状等に悪影響を与える。これに対し、式[I]で示され
る化合物は、画像形成用樹脂組成物に少量添加するだけ
で有効であり、しかも多量に添加した場合でも樹脂組成
物の硬化性にはほとんど影響を与えない。
する化合物としては、式[I]で示される化合物以外に
、ミヒラーズケトン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ
)ベンゾフェノン等の 4,4’−ビス(ジアルキルア
ミノ)ベンゾフェノン類が挙げられるが、4,4’−ビ
ス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノン類を用いて蛍光
検出方式の自動外観検査機での外観検査を可能にするに
は、該化合物を画像形成用樹脂組成物中に多量に添加し
なければならない。しかしながら、4,4’−ビス(ジ
アルキルアミノ)ベンゾフェノン類は、光重合開始剤と
しても使用され得る化合物であるため、感光性の画像形
成用樹脂組成物中に該化合物を多量に添加すると、樹脂
組成物の硬化性、すなわち感度や得られる画像の断面形
状等に悪影響を与える。これに対し、式[I]で示され
る化合物は、画像形成用樹脂組成物に少量添加するだけ
で有効であり、しかも多量に添加した場合でも樹脂組成
物の硬化性にはほとんど影響を与えない。
式[I]で示される化合物は、KayasetFlav
ine FG(日本化薬(株)商品名)の名称で市販さ
れているので、これをそのまま使用できるが、これに限
定されるものではない。
ine FG(日本化薬(株)商品名)の名称で市販さ
れているので、これをそのまま使用できるが、これに限
定されるものではない。
式[I]で示される化合物は、前記したように、画像形
成用樹脂組成物の硬化物又は乾燥物を蛍光顕微鏡を用い
て写真撮影する際のシャッタタイムが8秒以下になるよ
うに組成物中に添加する必要があり、そのためには式[
I]で示される化合物を本発明の画像形成用樹脂組成物
中0.001重量%以上添加することが必要であり、好
ましくは0.002重量%以上である。
成用樹脂組成物の硬化物又は乾燥物を蛍光顕微鏡を用い
て写真撮影する際のシャッタタイムが8秒以下になるよ
うに組成物中に添加する必要があり、そのためには式[
I]で示される化合物を本発明の画像形成用樹脂組成物
中0.001重量%以上添加することが必要であり、好
ましくは0.002重量%以上である。
式[I]で示される化合物の添加量が0.001重量%
未満の画像形成用樹脂組成物では、400〜650nm
の波長の光によって励起される蛍光の強度が弱く、蛍光
検出方式の自動外観検査機で検査する場合に誤報が多く
発生し、検査に支障をきたす。特にパターンがファイン
な場合には誤報が極めて多く発生し、外観検査が全くで
きない。また式[I]で示される化合物の含有量が極端
に多いと、得られる画像形成用樹脂組成物の色が黄色味
を帯びてくること、および原料コストが高くなることか
ら、画像形成用樹脂組成物中への添加量は1.0重量%
以下が望ましい。
未満の画像形成用樹脂組成物では、400〜650nm
の波長の光によって励起される蛍光の強度が弱く、蛍光
検出方式の自動外観検査機で検査する場合に誤報が多く
発生し、検査に支障をきたす。特にパターンがファイン
な場合には誤報が極めて多く発生し、外観検査が全くで
きない。また式[I]で示される化合物の含有量が極端
に多いと、得られる画像形成用樹脂組成物の色が黄色味
を帯びてくること、および原料コストが高くなることか
ら、画像形成用樹脂組成物中への添加量は1.0重量%
以下が望ましい。
なお本発明の画像形成用樹脂組成物の硬化物又は乾燥物
の膜厚が薄い場合は、50μm厚に換算した場合のシャ
ッタタイムが8秒以下であっても、使用する自動外観検
査機に合わせて十分に短かいシャツタタイムになるよう
に蛍光を発する化合物の添加量を増やすことが望ましい
。
の膜厚が薄い場合は、50μm厚に換算した場合のシャ
ッタタイムが8秒以下であっても、使用する自動外観検
査機に合わせて十分に短かいシャツタタイムになるよう
に蛍光を発する化合物の添加量を増やすことが望ましい
。
画像形成用樹脂組成物の樹脂としては、有機溶剤、水等
を揮散させることにより固化する樹脂、加熱することに
より固化する樹脂、光を照射することにより固化するネ
ガ型の樹脂、あるいは光が照射された部分だけが化学変
化をおこしその樹脂に適した現像溶媒を使用することに
より可溶化するポジ型の樹脂などを挙げることができる
。これらの樹脂を用いた画像形成用樹脂組成物は、オフ
セット印刷法、凸版印刷法、スクリーン印刷法などによ
って画像を形成することができるが、高い解像度を有す
る画像を形成させるためには、基材全面に画像形成用樹
脂組成物を付着させた後、露光、現像を行なってパター
ンを形成するいわゆる写真法が有利であり、従って樹脂
としては、光を照射することにより固化するネガ型の樹
脂あるいは光を照射することにより現像溶剤に可溶とな
るポジ型の樹脂を用いることが好ましい。
を揮散させることにより固化する樹脂、加熱することに
より固化する樹脂、光を照射することにより固化するネ
ガ型の樹脂、あるいは光が照射された部分だけが化学変
化をおこしその樹脂に適した現像溶媒を使用することに
より可溶化するポジ型の樹脂などを挙げることができる
。これらの樹脂を用いた画像形成用樹脂組成物は、オフ
セット印刷法、凸版印刷法、スクリーン印刷法などによ
って画像を形成することができるが、高い解像度を有す
る画像を形成させるためには、基材全面に画像形成用樹
脂組成物を付着させた後、露光、現像を行なってパター
ンを形成するいわゆる写真法が有利であり、従って樹脂
としては、光を照射することにより固化するネガ型の樹
脂あるいは光を照射することにより現像溶剤に可溶とな
るポジ型の樹脂を用いることが好ましい。
光を照射することにより固化する樹脂としては、1分子
中に1個以上の重合性基を有する化合物を含有している
樹脂があり、例えばポリマーの主鎖、側鎖にこのような
重合性基が結合している化合物からなる樹脂、重合性基
を有するモノマー・オリゴマーからなる樹脂、あるいは
熱可塑性バインダー樹脂と重合性基を有するモノマー・
オリゴマーからなる樹脂等を挙げることができるが、こ
れらの樹脂の混合物であってももちろん使用可能である
。
中に1個以上の重合性基を有する化合物を含有している
樹脂があり、例えばポリマーの主鎖、側鎖にこのような
重合性基が結合している化合物からなる樹脂、重合性基
を有するモノマー・オリゴマーからなる樹脂、あるいは
熱可塑性バインダー樹脂と重合性基を有するモノマー・
オリゴマーからなる樹脂等を挙げることができるが、こ
れらの樹脂の混合物であってももちろん使用可能である
。
ポリマーの主鎖、側鎖に重合性基が結合している化合物
の例としては、反応性の二重結合をもつ不飽和多塩基酸
と多価アルコールとの縮重合によつて得られた不飽和ポ
リエステル樹脂等があり、具体的には、無水マレイン酸
/無水フタル酸/プロピレングリコール、無水マレイン
酸/イソフタル酸/プロピレングリコール、マレイン酸
/フマール酸/イソフタル酸/1,3−ブタンジオール
、マレイン酸/イソフタル酸/ネオペンチルグリコール
、無水マレイン酸/無水テトラヒドロフタル酸/ジプロ
ピレングリコール等から得られる樹脂等を挙げることが
出来る。
の例としては、反応性の二重結合をもつ不飽和多塩基酸
と多価アルコールとの縮重合によつて得られた不飽和ポ
リエステル樹脂等があり、具体的には、無水マレイン酸
/無水フタル酸/プロピレングリコール、無水マレイン
酸/イソフタル酸/プロピレングリコール、マレイン酸
/フマール酸/イソフタル酸/1,3−ブタンジオール
、マレイン酸/イソフタル酸/ネオペンチルグリコール
、無水マレイン酸/無水テトラヒドロフタル酸/ジプロ
ピレングリコール等から得られる樹脂等を挙げることが
出来る。
重合性基を有するモノマーおよびオリゴマーとしては、
常圧での沸点が100℃以上で分子量が10000以下
のものが用いられる。このようなモノマーおよびオリゴ
マーの例としては、フェノキシジエトキシ(メタ)アク
リレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)ア
クリレート、n−ブトキシメチルアクリルアミド、is
o−ブトキシメチルアクリルアミド等の単官能の(メタ
)アクリレートや(メタ)アクリルアミド、及びポリエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタ
ンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサン
ジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メ
タ)アクリロキシポリエトキシフェニル]プロパン、2
,2−ビス[4−(メタ)アクリロキシポリプロピレン
オキシフェニル]プロパン、ヒドロキシピバリン酸ネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリ
ンジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリス[ポリエトキシ(メタ)アク
リレート]、トリメチロールプロパントリス[ポリプロ
ピレンオキシ(メタ)アクリレート]、イソシアヌル酸
トリエチロールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル
酸トリエチロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルジトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ(メタ)アクリレート等の多価アルコールのポ
リ(メタ)アクリレート類、グリシジル基含有化合物に
(メタ)アクリル酸を付加させたエポキシアクリレート
類、特公昭48−41708号、特公昭50−6034
号、特開昭51−37193号各公報に記載されている
ようなウレタン(メタ)アクリレート類、特公昭42−
30490号、特開昭48−64183号、特公昭49
−43191号各公報に記載されているようなポリエス
テルポリ(メタ)アクリレート類等の多官能(メタ)ア
クリレートを挙げることができる。さらに日本接着協会
誌Vol.20.No7.P.300〜308に記載さ
れているような硬化性モノマー及びオリゴマーも使用す
ることができる。これらは、1種あるいは混合して使用
することができ、その使用量は本発明の樹脂組成物中1
0重量%以上が好ましい。
常圧での沸点が100℃以上で分子量が10000以下
のものが用いられる。このようなモノマーおよびオリゴ
マーの例としては、フェノキシジエトキシ(メタ)アク
リレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)ア
クリレート、n−ブトキシメチルアクリルアミド、is
o−ブトキシメチルアクリルアミド等の単官能の(メタ
)アクリレートや(メタ)アクリルアミド、及びポリエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタ
ンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサン
ジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メ
タ)アクリロキシポリエトキシフェニル]プロパン、2
,2−ビス[4−(メタ)アクリロキシポリプロピレン
オキシフェニル]プロパン、ヒドロキシピバリン酸ネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリ
ンジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリス[ポリエトキシ(メタ)アク
リレート]、トリメチロールプロパントリス[ポリプロ
ピレンオキシ(メタ)アクリレート]、イソシアヌル酸
トリエチロールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル
酸トリエチロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルジトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ(メタ)アクリレート等の多価アルコールのポ
リ(メタ)アクリレート類、グリシジル基含有化合物に
(メタ)アクリル酸を付加させたエポキシアクリレート
類、特公昭48−41708号、特公昭50−6034
号、特開昭51−37193号各公報に記載されている
ようなウレタン(メタ)アクリレート類、特公昭42−
30490号、特開昭48−64183号、特公昭49
−43191号各公報に記載されているようなポリエス
テルポリ(メタ)アクリレート類等の多官能(メタ)ア
クリレートを挙げることができる。さらに日本接着協会
誌Vol.20.No7.P.300〜308に記載さ
れているような硬化性モノマー及びオリゴマーも使用す
ることができる。これらは、1種あるいは混合して使用
することができ、その使用量は本発明の樹脂組成物中1
0重量%以上が好ましい。
本発明の画像形成用樹脂組成物が、1分子中に1個以上
の重合性基を有する重合性化合物を含有し、その画像形
成用樹脂組成物を活性光線で硬化させる場合には、本発
明の画像形成用樹脂組成物は、光重合開始剤を含有する
ことが好ましい。このような光重合開始剤の例としては
、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル等のベンゾイン類、ベンジルジメ
チルケタール等のベンジルケタール類、2,2−ジエト
キシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、p−tert−ブチルトリク
ロロアセトフェノン、2−メチル−[4−(メチルチオ
)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン等の
アセトフェノン類、ベンジル等のα−ジカルボニル類、
1−フエニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エ
トキシカルボニル)オキシム等のα−アシルオキシム類
、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル等の
芳香族ケトン類、チオキサントン、2,4−ジエチルチ
オキサントン等のチオキサントン類、アントラキノン類
、ミヒラーズケトン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル等のアミン類、トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキサイド等公知のものに加えて「機能材料」1
986年10月号、P.46〜61に記載されているよ
うな可視領域に感光性を持つ光重合開始剤などが挙げら
れ、これらは1種または混合して使用することができる
。
の重合性基を有する重合性化合物を含有し、その画像形
成用樹脂組成物を活性光線で硬化させる場合には、本発
明の画像形成用樹脂組成物は、光重合開始剤を含有する
ことが好ましい。このような光重合開始剤の例としては
、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル等のベンゾイン類、ベンジルジメ
チルケタール等のベンジルケタール類、2,2−ジエト
キシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、p−tert−ブチルトリク
ロロアセトフェノン、2−メチル−[4−(メチルチオ
)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン等の
アセトフェノン類、ベンジル等のα−ジカルボニル類、
1−フエニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エ
トキシカルボニル)オキシム等のα−アシルオキシム類
、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル等の
芳香族ケトン類、チオキサントン、2,4−ジエチルチ
オキサントン等のチオキサントン類、アントラキノン類
、ミヒラーズケトン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル等のアミン類、トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキサイド等公知のものに加えて「機能材料」1
986年10月号、P.46〜61に記載されているよ
うな可視領域に感光性を持つ光重合開始剤などが挙げら
れ、これらは1種または混合して使用することができる
。
これら光重合開始剤は、本発明の画像形成用樹脂組成物
中に10重量%以下の範囲で含有させることが好ましい
が、活性光線が電子線の場合には含まれていなくてもよ
い。
中に10重量%以下の範囲で含有させることが好ましい
が、活性光線が電子線の場合には含まれていなくてもよ
い。
本発明の画像形成用樹脂組成物は、密着性、現像性、フ
ィルム形成性など種々の性能を付与あるいは改善する目
的で熱可塑性バインダー樹脂を含有することができる。
ィルム形成性など種々の性能を付与あるいは改善する目
的で熱可塑性バインダー樹脂を含有することができる。
熱可塑性バインダー樹脂としては、他の成分との相溶性
を有している限りどれを使用してもかまわず、例えば、
(メタ)アクリル酸エステル(共)重合体、スチレン・
(メタ)アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリ
ル・(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリビニル
ピロリドン、ポリビニルアルコール、(メタ)アクリル
酸エステル・(メタ)アクリル酸共重合体、スチレン・
(メタ)アクリル酸共重合体、スチレン・マレイン酸共
重合体、(メタ)アクリル酸エステル・(メタ)アクリ
ルアミド共重合体等を用いることができる。これらの重
合体は1種を用いても良いが、2種以上を適当な比で混
合して用いることもできる。
を有している限りどれを使用してもかまわず、例えば、
(メタ)アクリル酸エステル(共)重合体、スチレン・
(メタ)アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリ
ル・(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリビニル
ピロリドン、ポリビニルアルコール、(メタ)アクリル
酸エステル・(メタ)アクリル酸共重合体、スチレン・
(メタ)アクリル酸共重合体、スチレン・マレイン酸共
重合体、(メタ)アクリル酸エステル・(メタ)アクリ
ルアミド共重合体等を用いることができる。これらの重
合体は1種を用いても良いが、2種以上を適当な比で混
合して用いることもできる。
これらの熱可塑性バインダー樹脂のうち、弱アルカリ水
溶液で現像可能なものを使用するのがより望ましい。こ
のようなアルカリ水溶液可溶性の熱可塑性バインダー樹
脂としては、3〜15個の炭素原子を含む、α、β−不
飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む
ものが好ましく、最も好ましいのは、アクリル酸、メタ
クリル酸である。
溶液で現像可能なものを使用するのがより望ましい。こ
のようなアルカリ水溶液可溶性の熱可塑性バインダー樹
脂としては、3〜15個の炭素原子を含む、α、β−不
飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む
ものが好ましく、最も好ましいのは、アクリル酸、メタ
クリル酸である。
これらの熱可塑性バインダー樹脂は、本発明の画像形成
用樹脂組成物中に任意な量を含有させることができる。
用樹脂組成物中に任意な量を含有させることができる。
しかし含有量が90重量%を超える場合は、形成される
硬化物の機械的強度が弱くなり好ましくない。
硬化物の機械的強度が弱くなり好ましくない。
本発明の画像形成用樹脂組成物は、必要に応じて各種樹
脂類、硬化促進用助剤、密着促進剤、熱重合禁止剤、染
料、顔料、可塑剤、増粘剤、消泡剤、難燃剤および充填
剤のような成分を加えてもよい。
脂類、硬化促進用助剤、密着促進剤、熱重合禁止剤、染
料、顔料、可塑剤、増粘剤、消泡剤、難燃剤および充填
剤のような成分を加えてもよい。
本発明の画像形成用樹脂組成物は、印刷版、フォトレジ
スト、塗料等種々の用途に用いることができるが、特に
有用なのは、プリント配線板製造工程における画像形成
材料、すなわち、回路パターン形成用のエッチングレジ
ストやめっきレジスト、ソルダーレジスト、あるいは、
シンボル印刷用インクなどであり、さらにこれらの中で
も、写真法で画像形成を行なう材料に特に適している。
スト、塗料等種々の用途に用いることができるが、特に
有用なのは、プリント配線板製造工程における画像形成
材料、すなわち、回路パターン形成用のエッチングレジ
ストやめっきレジスト、ソルダーレジスト、あるいは、
シンボル印刷用インクなどであり、さらにこれらの中で
も、写真法で画像形成を行なう材料に特に適している。
これらの用途において本発明の画像形成用樹脂組成物は
、液状であるいはドライフィルムレジストのような半固
形状で使用される。
、液状であるいはドライフィルムレジストのような半固
形状で使用される。
本発明の画像形成用樹脂組成物は、そのままでも、対象
とする基材上に成膜することができるが、沸点のあまり
高くない溶剤、例えばアセトン、メチルエチルケトン、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジクロロメタン
、クロロホルム、メチルアルコール、エチルアルコール
、イソプロピルアルコール等の1種またはそれ以上に溶
解・混合することにより均一な溶液状とし、これを基材
上に塗布・乾燥して使用することもできる。また、この
溶液状の画像形成用樹脂組成物を、ポリエチレンテレフ
タレート等の支持フィルム上に塗布・乾燥してドライフ
ィルムレジストとし、これを対象とする基材にラミネー
トして使用することもできる。
とする基材上に成膜することができるが、沸点のあまり
高くない溶剤、例えばアセトン、メチルエチルケトン、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジクロロメタン
、クロロホルム、メチルアルコール、エチルアルコール
、イソプロピルアルコール等の1種またはそれ以上に溶
解・混合することにより均一な溶液状とし、これを基材
上に塗布・乾燥して使用することもできる。また、この
溶液状の画像形成用樹脂組成物を、ポリエチレンテレフ
タレート等の支持フィルム上に塗布・乾燥してドライフ
ィルムレジストとし、これを対象とする基材にラミネー
トして使用することもできる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1
下記に示す成分を三本ロールで混練し、液状の樹脂組成
物を得た。
物を得た。
.TOHRAD3800(東都化成(株)製、COOH
変性ビスフェノールAタイプエポキシアクリレート)3
5重量部 ・トリメチロールプロパントリアクリレート35重量部 ・ベンジルアクリレート 18重量部 ・ベンジルジメチルケタール 4重量部・アエロジル#
200(日本アエロジル(株)製無定形シリカ)8重量
部 .Kayaset Flavine FG(日本化薬(
株)製)0.1重量部 この液状樹脂組成物を、銅張積層板上に厚さ50μmと
なるように塗布し、厚さ20μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルムをかぶせた後、その上に下記2種類の
フォトツールを密着させ、超高圧水銀灯を用いて ■全面透明 ■ライン/スペース(L/S)=200/200μm露
光、硬化させた。露光量は三菱レイヨン(株)製25段
ステップタブレットで15段残りとなるように調整した
。続いて1%炭酸ナトリウム水溶液を用い、未露光部分
をスプレー現像した。現像は液温30℃で1分間行なっ
た。
変性ビスフェノールAタイプエポキシアクリレート)3
5重量部 ・トリメチロールプロパントリアクリレート35重量部 ・ベンジルアクリレート 18重量部 ・ベンジルジメチルケタール 4重量部・アエロジル#
200(日本アエロジル(株)製無定形シリカ)8重量
部 .Kayaset Flavine FG(日本化薬(
株)製)0.1重量部 この液状樹脂組成物を、銅張積層板上に厚さ50μmと
なるように塗布し、厚さ20μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルムをかぶせた後、その上に下記2種類の
フォトツールを密着させ、超高圧水銀灯を用いて ■全面透明 ■ライン/スペース(L/S)=200/200μm露
光、硬化させた。露光量は三菱レイヨン(株)製25段
ステップタブレットで15段残りとなるように調整した
。続いて1%炭酸ナトリウム水溶液を用い、未露光部分
をスプレー現像した。現像は液温30℃で1分間行なっ
た。
■のフォトツールを用いて得られた画像を(株)ニコン
製落射蛍光顕微鏡オプチフォトXF−EFD2(励起フ
ィルター:EX435/10、ダイクロイックミラー:
DM−455、吸収フィルター:BA−480、対物レ
ンズ:Plan4/0.13、投影レンズ:CFPL5
X、、ND2フィルタ:OPEN、ND4フィルタ:O
PEN、視野絞りレバー:OPEN、シャッタ:OPE
N)および(株)ニコン製顕微鏡写真撮影装置AFX−
II(ASA−100、露出補正0)を用いて、反射法
で写真撮影し、その際のシャッタタイムを測定した。結
果を表1に示す。
製落射蛍光顕微鏡オプチフォトXF−EFD2(励起フ
ィルター:EX435/10、ダイクロイックミラー:
DM−455、吸収フィルター:BA−480、対物レ
ンズ:Plan4/0.13、投影レンズ:CFPL5
X、、ND2フィルタ:OPEN、ND4フィルタ:O
PEN、視野絞りレバー:OPEN、シャッタ:OPE
N)および(株)ニコン製顕微鏡写真撮影装置AFX−
II(ASA−100、露出補正0)を用いて、反射法
で写真撮影し、その際のシャッタタイムを測定した。結
果を表1に示す。
また、■のフォトツールを用いて得られた画像を実際に
オプトロテック社自動外観検査機VISION−206
を用いて蛍光増幅率を各種かえて外観検査を行なった。
オプトロテック社自動外観検査機VISION−206
を用いて蛍光増幅率を各種かえて外観検査を行なった。
最も誤報率が少ない状態での結果を表1に示す。
比較例1
実施例1のKayaset Flavine FGを添
加せず、他は実施例1と同様にして液状の樹脂組成物を
得た。得られた液状樹脂組成物を実施例1と同様にして
評価し、その結果を表1に示した。
加せず、他は実施例1と同様にして液状の樹脂組成物を
得た。得られた液状樹脂組成物を実施例1と同様にして
評価し、その結果を表1に示した。
実施例2〜5、比較例2〜4
表2に示す組成を有する液状の樹脂組成物を調合し、こ
れを厚さ25μmのポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に、厚さ50μmとなるように塗布、乾燥してドラ
イフィルムレジストを得た。
れを厚さ25μmのポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に、厚さ50μmとなるように塗布、乾燥してドラ
イフィルムレジストを得た。
続いて得られたドライフィルムレジストの塗布膜面を銅
張積層板にラミネートし、その上に下記2種類のフォト
ツールを密着させ、 ■全面透明 ■ライン/スペース(L/S):200/200μm超
高圧水銀灯を用いて露光、硬化させた。超高圧水銀灯は
、ウシオ電機USH−102Dを用い、三菱レイヨン(
株)製25段ステップタブレットで15段残りとなるよ
うな露光量で露光した。その際に必要な露光量を表3に
示した。
張積層板にラミネートし、その上に下記2種類のフォト
ツールを密着させ、 ■全面透明 ■ライン/スペース(L/S):200/200μm超
高圧水銀灯を用いて露光、硬化させた。超高圧水銀灯は
、ウシオ電機USH−102Dを用い、三菱レイヨン(
株)製25段ステップタブレットで15段残りとなるよ
うな露光量で露光した。その際に必要な露光量を表3に
示した。
露光後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し
、1%炭酸ナトリウム水溶液を用いて未露光部分をスプ
レー現像した。現像は液温30℃で1分間行なった。
、1%炭酸ナトリウム水溶液を用いて未露光部分をスプ
レー現像した。現像は液温30℃で1分間行なった。
■のフォトツールを用いて得られた画像を、実施例1と
同様にしてシャッタタイムを測定し、結果を表3に示し
た。また、■のフォトツールを用いて得られた画像を、
実施例1と同様にしてV1SION−206での外観検
査を実施した。最も誤報率が少ない状態での結果を表3
に示した。
同様にしてシャッタタイムを測定し、結果を表3に示し
た。また、■のフォトツールを用いて得られた画像を、
実施例1と同様にしてV1SION−206での外観検
査を実施した。最も誤報率が少ない状態での結果を表3
に示した。
また、■のフォトツールを用いて得られた画像をミクロ
トーム装置で切削して画像の断面を出し、幅200μm
のラインの断面形状を観察した。その結果も表3に示し
た。
トーム装置で切削して画像の断面を出し、幅200μm
のラインの断面形状を観察した。その結果も表3に示し
た。
以上説明したように、本発明の画像形成用樹脂組成物に
よれば、波長400〜650nmの範囲の光を照射する
ことにより、十分な強度の蛍光を発するため、蛍光検出
方式の自動外観検査機による検査が可能であり、特にプ
リント配線板及び製造工程における品質や歩留りの向上
、製造コストの低減が可能となる。
よれば、波長400〜650nmの範囲の光を照射する
ことにより、十分な強度の蛍光を発するため、蛍光検出
方式の自動外観検査機による検査が可能であり、特にプ
リント配線板及び製造工程における品質や歩留りの向上
、製造コストの低減が可能となる。
出願人 三菱レイヨン株式会社
Claims (2)
- 【請求項1】式[I] で示される化合物を0.001重量%以上含有する画像
形成用樹脂組成物であって、該画像形成用樹脂組成物の
硬化物または乾燥物を、蛍光顕微鏡により写真撮影する
際のシャッタタイムが8秒以下であるような蛍光強度を
有する画像形成用樹脂組成物。 - 【請求項2】請求項(1)記載の画像形成用樹脂組成物
を用いて形成した画像を用いることを特徴とする蛍光検
出方式自動外観検査方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21650890 | 1990-08-17 | ||
JP2-216508 | 1990-08-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04213372A true JPH04213372A (ja) | 1992-08-04 |
JP2947601B2 JP2947601B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=16689529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25146790A Expired - Fee Related JP2947601B2 (ja) | 1990-08-17 | 1990-09-20 | 画像形成用樹脂組成物および蛍光検出方式自動外観検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2947601B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005321494A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用カラーフィルタの検査方法 |
US7029808B2 (en) * | 2002-09-27 | 2006-04-18 | Infineon Technologies Ag | Photosensitive coating material for a substrate and process for exposing the coated substrate |
WO2024024484A1 (ja) * | 2022-07-27 | 2024-02-01 | 株式会社レゾナック | レジストパターンの検査方法、レジストパターンの製造方法、基板選別方法、及び、半導体パッケージ基板又はプリント配線板の製造方法 |
WO2024024483A1 (ja) * | 2022-07-27 | 2024-02-01 | 株式会社レゾナック | レジストパターンの検査方法、レジストパターンの製造方法、基板選別方法、及び、半導体パッケージ基板又はプリント配線板の製造方法 |
-
1990
- 1990-09-20 JP JP25146790A patent/JP2947601B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7029808B2 (en) * | 2002-09-27 | 2006-04-18 | Infineon Technologies Ag | Photosensitive coating material for a substrate and process for exposing the coated substrate |
JP2005321494A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用カラーフィルタの検査方法 |
JP4513410B2 (ja) * | 2004-05-07 | 2010-07-28 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置用カラーフィルタの検査方法 |
WO2024024484A1 (ja) * | 2022-07-27 | 2024-02-01 | 株式会社レゾナック | レジストパターンの検査方法、レジストパターンの製造方法、基板選別方法、及び、半導体パッケージ基板又はプリント配線板の製造方法 |
WO2024024483A1 (ja) * | 2022-07-27 | 2024-02-01 | 株式会社レゾナック | レジストパターンの検査方法、レジストパターンの製造方法、基板選別方法、及び、半導体パッケージ基板又はプリント配線板の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2947601B2 (ja) | 1999-09-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |