JPH04196256A - 半導体チップキャリア - Google Patents

半導体チップキャリア

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JPH04196256A
JPH04196256A JP2326755A JP32675590A JPH04196256A JP H04196256 A JPH04196256 A JP H04196256A JP 2326755 A JP2326755 A JP 2326755A JP 32675590 A JP32675590 A JP 32675590A JP H04196256 A JPH04196256 A JP H04196256A
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JP
Japan
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heat
metal plate
heat transfer
heat sink
insulating substrate
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JP2326755A
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JPH06103725B2 (ja
Inventor
Koji Minami
浩司 南
Akitsugu Maeda
晃嗣 前田
Masaharu Ishikawa
正治 石川
Takeshi Kano
武司 加納
Toru Higuchi
徹 樋口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
本発明は、熱放散型の半導体チップキャリアに関するも
のである。
【従来の技術】
半導体の高密度化や高出力化などに伴って、半導体チッ
プからの発熱が高くなっており、半導体チップを実装す
る半導体チップキャリアとして、半導体チップの発熱を
放熱することができるものが要求されている。 第5図はその一例を示すものであり、プリント配線板な
どで形成される絶縁基板1内に金属板2を埋設し、絶縁
基板1の一方の面(下面)に金属板2が底面となるキャ
ビティ凹所3を設けてこのキャビティ凹所3に半導体チ
ップ4が実装しである。絶縁基板1の表面に回路(図示
省略)が形成してあり、この回路の一端に半導体チップ
4をワイヤー11等を介して接続すると共に絶縁基板1
に基部を埋入した端子12に回路の他端を接続するよう
にしである。また絶縁基板1の他方の面(上面)に金属
板2が底面となる放熱凹所5を設け、放熱凹所5内にお
いて金属板2にヒートシンク7が接合して取り付けであ
る。 第6図は他の例を示すものであり、このものでは金属板
2として厚みの厚いものを用い、金属板2をその一部が
絶縁基板1の上面から突出するように絶縁基板1に埋設
したものであり、ヒートシンク7は金属板2の突出面に
接合するようにしである。 上記第5図及び第6図のものにあってはいずれも、半導
体チップ4から発熱される熱は、金属板2に伝えられる
と共に金属板2からヒートシンク7に伝えられて放熱さ
れる。
【発明が解決しようとする課題】
しかし上記第5図のものにあって、金属板2は放熱凹所
3の底に存在するために、ヒートシンク7に突部7aを
設けてこの突部7aを放熱凹所3内に差し込んで金属板
2に接合する必要があり、ヒートシンク7の重量が突部
7aの重量分重くなるという問題があった。また第6図
のものにあって、金属板2は絶縁基板1の表面から突出
しているために、成形時などに金属板2の突出表面が傷
付いて凹凸になり、金属板2のこの表面にヒートシンク
7を接合するにあたって金属板2とヒートシンク7とを
密着させることができず、金属板2からヒートシンク7
への熱の伝達効率が悪くなるという問題があった。 本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、ヒート
シンクの重量が重くなることがないと共に、ヒートシン
クへの熱の伝達効率が悪くなることを防ぐことができる
半導体チップキャリアを提供することを目的とするもの
である。
【課題を解決するための手段】
本発明に係る半導体チップキャリアは、絶縁基板1内に
金属板2を埋設し、絶縁基板1の一方の面に金属板2が
底面となるキャビティ凹所3を設けてこのキャビティ凹
所3に半導体チップ4を実装し、絶縁基板1の他方の面
に金属板2が底面となる放熱凹所5を設け、絶縁基板1
より突出する伝熱金属体6を放熱凹所5内において金属
板2に接合し、伝熱金属体6の突出面にヒートシンク7
を接合して成ることを特徴とするものである。
【作 用】
本発明にあっては、絶縁基板1より突出する伝熱金属体
6を放熱凹所5内において金属板2に接合し、伝熱金属
体6の突出面にヒートシンク7を接合するようにしてい
るために、ヒートシンク7に突出部7aを設ける必要な
くヒートシンク7の接合をおこなうことができ、また金
属板2は放熱凹所5の底に位置していて成形時などに表
面に傷が付いたりするおそれがない。
【実施例】
以下本発明を実施例によって詳述する。 絶縁基板1は、銅箔を積層したエポキシ樹脂積層板など
の銅張り積層板を加工して得られるプリント配線板等に
よって作成されるものであり、絶縁基板1内にはアルミ
ニウムや銅など熱伝導性の良好な金属板2が埋設しであ
る。この金属板2は絶縁基板1を構成する積層板を成形
する際に同時に埋入させることができる。この絶縁基板
1の一方の面(下面)と他方の面(上面)にはそれぞれ
金属板2の面積よりも小さい面積でキャビティ凹所3と
放熱凹所5とが設けてあり、キャビティ凹所3の底面と
放熱凹所5の底面はいずれも金属板2の表面によって形
成されるようにしである。また絶縁基板1の下面にはキ
ャビティ凹所3を中心に放射状に複数本の回路(図示省
略)が銅箔のエツチング加工などで作成しである。IC
チップなと半導体チップ4はキャビティ凹所3内におい
て金属板20表面に実装されるものであり、半導体チッ
プ4の外部接続端子部と回路の一端部との間に金線など
のワイヤー11をボンディングして半導体チップ4を回
路に接続しである。絶縁基板1にはさらに複数本の端子
12.12・・・がその下面から突出するように基部を
絶縁基板1に埋入して取り付けてあって、各端子12は
回路の他端部に接続してあり、半導体チップ4は回路を
介l−で端子]2に接続されるようにしである。 一方、ヒートシンク7は放熱フィン17を設けて銅やア
ルミニウム、黄銅なとて作成されるものであり、このヒ
ートシンク7を金属板2に取り付けるにあたっては、ま
ず伝熱金属体6を放熱凹所5内において金属板2の表面
に接合する。伝熱金属体6はアルミニウムなど熱伝導性
が良好であると共に軽量で且つ傷つきにくい金属で作成
されるものであって、放熱凹所5の深さよりやや厚い寸
法に形成されるものであり、溶接金属や金属粉入り接着
剤など熱伝導性の良好な接合材13を用いて伝熱金属体
6を金属板2に接合するようにしである。このように伝
熱金属体6を金属板2に接合した後に、第1図に示すよ
うに、絶縁基板1の上面から突出する伝熱金属体6の表
面にヒートシンク7を接合するものである。ヒートシン
ク7の接合は上記と同様な接合材を用いておこなうこと
ができる。このものにあって、金属板2の表面は放熱凹
所5の底に位置していて絶縁基板1の表面より突出しな
いために、絶縁基板1を成形する際などに金属板2の表
面に傷が付くようなおそれはない。ここで、伝熱金属体
6をアルミニウムで形成する場合、表面をアルマイト処
理して表面硬度を高め、伝熱金属体6の表面を傷付き難
くしておくのが好ましい。またヒートシンク7は伝熱金
属体6を介して金属板2に接合されるために、ヒートシ
ンク7に接合用の突部を設ける必要がなく、ヒートシン
ク7の重量を重く形成する必要がなくなる。 第1図の実施例における半導体チップキャリアはPGA
タイプであるが、第2図の実施例のようにQFPタイプ
に形成することもできる。 また第1図や第2図の実施例では伝熱金属体6を直方体
に形成したが、第3図(a)のように伝熱金属体6の上
端縁にアール部14を設けたり、第3図(b>のように
伝熱金属体6の上端縁に面取り部15を設けたり、第3
図(c)のように伝熱金属体6の上端縁に四段部16を
設けたりしておいてもよい。絶縁基板1の上面や下面に
は樹脂]8による封止(モールド封止)がお、:なわれ
るが、第4図(a)のように樹脂18がアール部]、4
に食い込んだり、第4図(b)のように樹脂18が面取
り部15に食い込んだり、第4図(c)のように樹脂]
8が四段部16の部分に食い込んだりすることになり、
封止用の樹脂18で伝熱金属体6を保持して金属板2へ
の伝熱金属体6の接合強度を高めることができるもので
ある。
【発明の効果】
上述のように本発明にあっては、放熱凹所よりも突出す
る伝熱金属体を放熱凹所内において金属板に接合し、伝
熱金属体の突出面にヒートシンクを接合するようにした
ので、ヒートシンクに突出部を設ける必要なく伝熱金属
体を介してヒートシンクの接合をおこなうことができ、
ヒートシンクを軽量に形成することができるものであり
、また金属板は放熱凹所の底に位置していて成形時など
に表面に傷が付いたりするおそれがなく、金属板からの
伝熱効率が低下することを防止できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の断面図、第2図は同上の他
の実施例の断面図、第3図(a Hb )(c )は同
上のさらに他の実施例の断面図、第4図(a>(b )
(c )は同上の実施例の樹脂封止をした状態を示す断
面図、第5図及び第6図はそれぞれ従来例の断面図であ
る。 1は絶縁基板、2は金属板、3はキャビティ凹所、4は
半導体チップ、5は放熱凹所、6は伝熱金属体、7はヒ
ートシンクである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁基板内に金属板を埋設し、絶縁基板の一方の
    面に金属板が底面となるキャビティ凹所を設けてこのキ
    ャビティ凹所に半導体チップを実装し、絶縁基板の他方
    の面に金属板が底面となる放熱凹所を設け、絶縁基板の
    表面より突出する伝熱金属体を放熱凹所内において金属
    板に接合し、伝熱金属体の突出面にヒートシンクを接合
    して成ることを特徴とする半導体チップキャリア。
JP2326755A 1990-11-27 1990-11-27 半導体チップキャリア Expired - Lifetime JPH06103725B2 (ja)

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JPH04196256A true JPH04196256A (ja) 1992-07-16
JPH06103725B2 JPH06103725B2 (ja) 1994-12-14

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JPH06103725B2 (ja) 1994-12-14

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