JPH04189538A - 化粧板およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、建築材料等に用いられる化粧板およびその製
造方法に関する。

［従来の技術と発明か解決しようとする課題］建築材料
等に用いられる化粧板は、一般に、合板等の基材とプラ
スチックシートやフィルムとを貼合わせることにより製
造されている。この化粧板は室内外の装飾を目的、とし
て用いられることが多く、表面に木目調などの微妙な風
合いを有するものが好まれる傾向にある。このような要
求に応じるため、シートやフィルム面に印刷加工やエン
ボス加工等を施したりしている。しかしながら、シート
やフィルム面を加工すると、化粧板の製造工程が複雑に
なり、製造コストが上昇する。特に微妙な風合のパター
ンを形成する場合には、さらに製造工程が煩雑化する。

また、化粧板は、台所の壁、天井などで用いられること
も多いため、難燃性であることが望まれる。そこで、難
燃性を付与するために、プラスチックシートやフィルム
に、有機ハロゲン化合物や、リン酸系、アンチモン系等
の無機系難燃剤を含有させたり、基材に上記難燃剤を含
浸させたりしている。しかし、難燃剤を使用すると製造
コストがさらに上昇するだけでなく、安全衛生上にも問
題がある。さらには、上記難燃剤を含有する化粧板が一
旦燃焼すると、ハロゲンガスなどの有害なガスを発生す
る危険がある。

従って、本発明の目的は、表面に微妙な風合いの凹凸パ
ターンを有する化粧板を提供することにある。

本発明の他の目的は、難燃性に優れた化粧板を提供する
ことにある。

本発明のさらに他の目的は、後加工を必要とせず、工程
数を削減できると共に、微妙な凹凸パターンを簡便に形
成できる化粧板の製造方法を提供することにある。

［発明の構成コ 本発明の化粧板は、基材に少なくとも１つのポリマー層
が積層された化粧板であって、少なくとも表層を構成す
るポリマー層が、表面に凹凸を有するサーモトロピック
液晶性ポリマー層で構成されている。

なお、本明細書において、サーモトロピック液晶性ポリ
マーとは、加熱によって軟化流動して成形可能となり、
かつ溶融時には複屈折を有する異方性溶融相を示すポリ
マーとその組成物を意味する。

サーモトロピック液晶性ポリマーとしては、例えば、下
記の構成成分からなるポリマーが挙げられる。

（１）芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸の一種
又は二種以上 （２）芳香族ジオール、脂環族ジオール、脂肪族ジオー
ルの一種又は二種以上 （３）芳香族ヒドロキシカルボン酸の一種又は二種以上 （４）芳香族チオールカルボン酸の一種又は二種以上 （５）芳香族ジチオール、芳香族チオールフェノールの
一種又は二種以上 （６）芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミンの一種
又は二種以上。

上記構成成分からなる液晶性ポリマーは、■）構成成分
（１）と（２）とからなるポリエステル、１１）構成成
分（３）からなるポリエステル、１１１）構成成分（１
）と（２）と　（３）とからなるポリエステル、 ｉｖ）構成成分（４）からなるポリチオールエステル、
Ｖ）構成成分（１）と（５）とからなるポリチオールエ
ステル、 ′ｖ１）構成成分（１）と　（４）と（５）とからなる
ポリチオールエステル、 ｖｌｌ）構成成分（１）と　（３）と（Ｂ）とからなる
ポリエステルアミド、 ｖｌｌｌ）構成成分（１）と　（２）と　（３）と（６
）とからなるポリエステルアミド などの組合せとして選択される。

上記の成分の組合せの範鴫には属さないが、液晶性ポリ
マーには芳香族ポリアゾメチン及びポリエステルカーボ
ネートが含まれる。芳香族ポリアゾメチンの具体例とし
てはポリにトリロー２−メチル−１，４−フェニレンニ
トリロメチリジン−１，４−フェニレンメチリジン）、
ポリ　にトリロー２−メチル−１，４−フェニレンニト
リロメチリジン−１，４−フェニレンメチリジン）１ポ
リにトリロー２−クロロ−１，４−フェニレンニトリロ
メチリジン−１，４−フェニレンメチリジン）などが挙
げられる。ポリエステルカーボネートは、本質的には４
−オキシベンゾイル単位、ジオキシフェニル単位、ジオ
キシカルボニル単位及びテレフタロイル単位からなる。

前記芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、４．
４’−ジフェニルジカルボン酸、４゜４′−トリフェニ
ルジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジ
フェニルエーテル−４゜４′−ジカルボン酸、ジフェノ
キシエタン−４゜４′−ジカルボン酸、ジフェノキシブ
タン−４゜４′−ジカルボン酸、ジフェニルエタン−４
゜４′−ジカルボン酸、イソフタル酸、ジフェニルエー
テル−３，３′−ジカルボン酸、ジフェノキシエタン−
３，３′−ジカルボン酸、ジフェニルエタン−３，３′
−ジカルボン酸、ナフタレン−１，６−ジカルボン酸な
どの芳香族ジカルボン酸。

芳香族ジカルボン酸のアルキル、アルコキシまたはハロ
ゲン置換体、例えば、クロロテレフタル酸、ジクロロテ
レフタル酸、ブロモテレフタル酸、メチルテレフタル酸
、ジメチルテレフタル酸、エチルテレフタル酸、メトキ
シテレフタル酸、エトキシテレフタル酸などが挙げられ
る。

脂環族ジカルボン酸としては、トランス−１゜４−シク
ロヘキサンジカルボン酸、シス−１，４−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、１．３−シクロヘキサンジカルボン酸
などの脂環族ジカルボン酸：脂環族ジカルボン酸のアル
キル、アルコキシまたはハロゲン置換体、例えば、トラ
ンス−１，４−（１−メチル）シクロヘキサンジカルボ
ン酸、トランス−１，４−（１−クロロ）シクロヘキサ
ンジカルボン酸などが挙げられる。

芳香族ジオールとしては、ハイドロキノン、レゾルシン
、４．４’　−ジヒドロキシジフェニル、４．４′−ジ
ヒドロキシトリフェニル、２．６−ナフタレンジオール
、４．４’　−ジヒドロキシジフェニルエーテル、ビス
（４−ヒドロキシフェノキシ）エタン、３．３’　　−
ジヒドロキシジフェニル、３，３′−ジヒドロキシジフ
ェニルエーテル、１．６−ナフタレンジオール、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１．１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタンなどの芳香族ジ
オール；芳香族ジオールのアルキル、アルコキシまたは
ハロゲン置換体、例えば、クロロハイドロキノン、メチ
ルハイドロキノン、１−ブチルハイドロキノン、フェニ
ルハイドロキノン、メトキシハイドロキノン、フェノキ
シハイドロキノン、４−クロロレゾルシン、４−メチル
レゾルシンなどが挙げられる。

脂環族ジオールとしては、トランス−１，４−シクロヘ
キサンジオール、シス−１，４−シクロヘキサンジオー
ル、トランス−１，４−シクロヘキサンジメタツール、
トランス−１，３−シクロヘキサンジオール、シス−１
，２−シクロへ牛サンジオール、トランス−１，３−シ
クロヘキサンジメタツールなどの脂環族ジオール：脂環
族ジオールのアルキル、アルコキシまたはハロゲン置換
体、例えば、トランス−１，４−（１−メチル）シクロ
ヘキサンジオール、トランス−１，４−（１−クロロ）
シクロヘキサンジオールなどが挙げられる。

脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、１．３
−プロパンジオール、１．４−ブタンジオール、ネオペ
ンチルグリコールなどの直鎖状又は分岐状脂肪族ジオー
ルが挙げられる。

芳香族ヒドロキシカルボン酸としては、４−ヒドロキシ
安息香酸、３−ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロキシ−
２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸など
の芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ヒドロキシカル
ボン酸のアルキル、アルコキシまたはハロゲン置換体、
例えば、３−メチル−４−ヒドロキシ安息香酸、３．５
−ジメチル−４−ヒドロキシ安息香酸、２．６−シメチ
ルー４−ヒドロキシ安息香酸、３−メトキシ−４−ヒド
ロキシ安息香酸、３．５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ
安息香酸、６−ヒドロキシ−５−メチル−２−ナフトエ
酸、６−ヒドロキシ−５−メトキシ−２−ナフトエ酸、
３−クロロ−４−ヒドロキシ安息香酸、２，３−ジクロ
ロ−４−ヒドロキシ安息香酸、３．５−ジクロロ−４−
ヒドロキシ安息香酸、２．５−ジクロロ−４−ヒドロキ
シ安息香酸、３−ブロモ−４−ヒドロキシ安息香酸、６
−ヒドロキシ−５−クロロ−２−ナフトエ酸、６−ヒト
ロキシー７−クロロー２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ
−５，７−ジクロロ−２−ナフトエ酸などが挙げられる
。

芳香族メルカプトカルボン酸としては、４−メルカプト
安息香酸、３−メルカプト安息香酸、６−メルカブトー
２−ナフトエ酸、７−メルカブトー２−ナフトエ酸など
が挙げられる。

芳香族ジチオールとしては、ベンゼン−１，４−ジチオ
ール、ベンゼン−１，３−・ジチオール、ナフタレン−
２，６−ジチオール、ナフタレン−２，７−ジチオール
などが挙げられる。

芳香族メルカプトフェノールとしては、４−メルカプト
フェノール、３−メルカプトフェノール、２−メルカプ
トフェノールなどが挙げられる。

芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミンとしては、４
−アミノフェノール、Ｎ−メチル−４−アミノフェノー
ル、１，４−フェニレンジアミン、Ｎ−メチル−１，４
−フェニレンジアミン、Ｎ＋Ｎ′−ジメチル−１，４−
フェニレンジアミン、３−アミノフェノール、３−メチ
ル−４−アミノフェノール、２−クロロ−４−アミノフ
ェノール、４−アミノ−１−ナフトール、４−アミノ−
４′−ヒドロキシジフェニル、４−アミノ−４′−ヒド
ロキシジフェニルエーテル、４−アミノ−４′−ヒドロ
キシジフェニルメタン、４−アミノ−４′−ヒドロキシ
ジフェニルスルフィド、４゜４′−ジアミノフェニルス
ルフィド（チオジアニリン）、４．４’　　−ジアミノ
ジフェニルスルホン、２．５−ジアミノトルエン、４．
４’　−エチレンジアニリン、４．４’　　−ジアミノ
ジフェノキシエタン、４．４’−ジアミノジフェニルメ
タン（メチレンジアニリン）　、４．４’　−ジアミノ
ジフェニルエーテル（オキシジアニリン）などが挙げら
れる。

上記各構成成分からなる上記ポリマー１）ないしｖｉｉ
ｉ）は、構成成分及びポリマー中の組成比、シーケンス
分布によっては、溶融時に複屈折を有しないものも存在
するが、本発明で用いられるポリマーは上記ポリマーの
うち異方性溶融相を示すものに限られる。

サーモトロピック液晶性ポリマーは、従来公知の方法で
を製造することができる。

本発明で好適に用いられる完全芳香族ポリマーは、一般
溶剤には実質的に不溶である傾向を示し、従って、溶液
加工には適さない。しかしながら、これらのポリマーは
通常の溶融加工法により加工することができる。特に好
ましい完全芳香族ポリマーはペンタフルオロフェノール
にはいくらか可溶である。

本発明で好適に用いられる完全芳香族ポリエステルは、
成膜性などを損わない範囲で適宜の分子量を有していて
もよい。例えば、好適な完全芳香族ポリエステルの重量
平均分子量は、通常的２，０００〜２００，０００　、
好ましくは約ｔｏ、ｏｏｏ〜５０．ＱＯＯ１特に好まし
くは約２０，０００〜２５，０００である。また好適な
完全芳香族ポリエステルアミドの分子量は、通常、約５
．０００〜５０，０００、好ましくは約Ｌ（１，０ＯＱ
〜３０．０００、例えば、１５．０ＱＯ〜Ｌ７．ＯＧＯ
である。分子量の測定は、ゲルパーミェーションクロマ
トグラフィーならびにその他のポリマーの溶融形成を伴
なわない標準的測定法、例えば圧縮成形フィルムについ
て赤外分光法により末端基を定量することにより実施で
きる。またペンタフルオロフェノール溶液にして光散乱
法を用いて分子量を測定することもできる。

上記の完全芳香族ポリエステルアミドは、温度６０℃で
ペンタフルオロフェノールに０．１重量９６　？＃１度
で溶解したとき、少なくとも約２．Ｏｄ、ｆ／ｇ、例え
ば約２．０〜１０．ＯｄＪ／Ｈの固有粘度（１，Ｖ、）
を示す。

特に好ましい異方性溶融相を形成するポリエステルは、
６−ヒドロキシ−２−ナフトイル、２゜６−シヒドロキ
シナフタレン及び２．６−ジカルボキシナフタレン等の
ナフタレン部分単位を約１０モル％以上含有する。好ま
しいポリエステルアミドは、上記ナフタレン部分と、４
−アミノフェノール又は１，４−フェニレンジアミンか
らなる部分との反復単位を含有するものである。具体的
には以下の通りである。

（Ａ）本質的に下記反復単位Ｅｌ］及び［Ｉ［］からな
るポリエステル： このポリエステルは、（ｌｔ位ＣＭを約１０〜９０モル
％及び単位［口］を約１０〜９０モル％含有する。−態
様において単位［Ｉ］は約６５〜８５モル％（例えば、
約７５モル％）の量まで存在する。他の態様において、
単位［ＩＩ］は約１５〜３５モル％、好ましくは約２０
〜３０モル％の低濃度の量で存在する。また環に結合し
ている水素原子の少なくとも一部は、炭素数１〜４のア
ルコキシ基、ハロゲン原子、フェニル基、置換フェニル
基及びこれらの組み合せからなる群から選ばれた置換基
で置換されていてもよい。

（Ｂ）本質的に下記の反復単位［口］、［ＩＩ［］及び
［ＩＶ］からなるポリエステル・ このポリエステルは単位［ＩＩ］を約３０〜７０モル％
含有する。このポリエステルは、好ましくは、単位［■
コを約４０〜６０モル％、ψ位［ｍ：を約２０〜３０モ
ル％及び単位［ＴＶ］を約２ｏ〜３０モル％含有する。

また環に結合している水素原子の少なくとも一部は、炭
素数１〜４のアルコキシ基、ハロケン原子、フェニル基
、置換フェニル基及びこれらの組み合せからなる群から
選ばれた置換基により置換されていてもよい。

（Ｃ）本質的に下記反復単位［Ｉ［］、［ＩＶ］、［Ｖ
］及び［ＶＩ］からなるポリエステル・（式中、Ｒはメ
チル基、クロロ、ブロモまたはこれらの組み合せを意味
し、芳香環上の水素原子に対する置換基である） このポリエステルは、単位［ＩＩ］を約２０〜６０モル
％、単位［ＩＶ］を約５〜３５モル％、単位［Ｖ］を約
５〜１８モル％及び単位［Ｖｒ］を約２０〜４０モル％
含有する。このポリエステルは、好ましくは、単位［ｎ
］を約３５〜４５モル％、単位［ＩＶ］を約１５〜２５
モル％、単位［Ｖ］を約１０〜１５モル％及び単位［Ｖ
Ｉ］を約２５〜３５モル％含有する。たたし、単位［Ｉ
Ｖ］と［Ｖ］の合計モル濃度は単位［ＶＩ］のモル濃度
に実質的に等しい。また、環に結合している水素原子の
少なくとも一部は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数
１〜４のアルコキン基、ハロゲン原子、フェニル基、置
換フェニル基及びこれらの組み合せからなる群から選ば
れた置換基により置換されていてもよい。この完全芳香
族ポリエステルは、一般に、温度６０℃でペンタフルオ
ロフェノールに０３Ｗ／Ｖ％の濃度で溶解したとき、少
なくともンＯｄＪ／ｇ、例えば２．０〜１０．ＯｄＪ／
ｇ（７）固有粘度を示す。

（Ｄ）本質的に下記反復単位Ｎ］、［口］、［■］及び
［■］からなるポリエステル一般式＋０−Ａｒ−０＋　
　［■］ （式中、Ａｒは少なくとも１個の芳香族環を含む２価基
を意味する）で示されるジオキンアリール単位 （式中、Ａｒは前記に同し）で示されるジカルボキシア
リール単位 このポリエステルは、単位［Ｉ］を約２０〜４０モル％
、単位［ＩＩ］を１０モル％を越え、約５０モル％以下
、単位［■］を５モル％を越え、約３０モル％以下、及
び単位［■コを５モル％を越え、約３０モル％以下の量
で含有する。このポリエステルは、好ましくは、単位［
Ｉ］を約２０〜３０モル％、例えば、約２５モル％、単
位［■］を約２５〜４０モル％、例えば、約３５モル％
、単位［■］を約１５〜２５モル％、例えば、約２０モ
ル％、及び単位［■］を約１５〜２５モル％、例えば、
約２０モル％含有する。また、環に結合している水素原
子の少なくとも一部は、炭素数１〜４のアルキル基、炭
素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、フェニル基
、置換フェニル基及びこれらの組み合せからなる群から
選ばれた置換基で置換されていてもよい。

単位［■］と［■コは、ポリマー主鎖内でこれらの単位
を両側の他の単位に結げている２価の結合が、１または
２以上の芳香環上て対称的配置にある（例えば、ナフタ
レン環上に存在するときは互いにパラの位置か、または
対角環上に配置されている）と言う意味で対称的である
のか好ましい。

たたし、レゾルシノール及びイソフタル酸から誘導され
るような非対称単位も使用できる。

好ましいジオキシアリール単位［■コはであり、好まし
いジカルボキシアリール単位［■コは である。

（Ｅ）本質的に下記反復単位［Ｉ］、［■］、及び［■
コからなるポリエステルニ 一般式＋０−Ａｒ−０＋［■コ （式中、Ａｒは前記に同し）で示されるジオキシアリー
ル単位 （式中、Ａｒは前記に同じ）で示されるジカルボキシア
リール単位 このポリエステルは、単位［Ｉ］を約１０〜９０モル％
、単位［■］を５〜４５モル％及び単位［■コを５〜４
５モル％の量で含有する。このポリエステルは、好まし
くは単位［ＩＩを約２０〜８０モル％、単位［■］を約
１０〜４０モル％及び単位［■］を約１０〜４０モル％
含有する。さらに好ましくは、このポリエステルは、約
６０〜８０モル％の単位［Ｉ］、約１０〜２０モル％の
単位［■コ、及び約１０〜２０モル％の単位［■］を含
有する。また環に結合している水素原子の少なくとも一
部は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアル
コキシ基、ｌ＼ロゲン原了、フェニル基、置換フェニル
基及びこれらの組み合せよりなる群から選ばれた置換基
で置換されていてもよい。

好ましいジオキシアリール単位［■］はでアリ、好まし
いジカルボキシアリール単位［■］は である。

（Ｆ）本質的に下記反復単位［１Ｆ、［ＩＸ］、［Ｘ］
及び［■］からなるポリエステルアミド：（式中、Ａは
少なくとも１個の芳香環を含む２価基または２価トラン
スーンクロヘキサン基を意味する）で表わされる単位 一般式＋０−Ａｒ−０＋　　　［Ｘ］ （式中、Ａｒは前記に同し。Ｙは０、ＮＨまたはＮＲＳ
ＺはＮＨまたはＮＲをそれぞれ意味し、Ｒは炭素数１〜
４のアルキル基またはアリール基を意味する）で表わさ
れる単位 一般式＋０−Ａｒ−０＋　　　’［■］゛（式中、Ａｒ
は前記に同じ）で表わされるジオキシアリール単位 このポリエステルアミドは、単位［１Ｆを約１０〜９０
モル％、単位［ＩＸ］を５〜４５モル％、単位［Ｘ］を
５〜４５モル％、及び単位［■］を約０〜４０モル％の
量で含有する。また環に結合している水素原子の少なく
とも一部は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４
のアルコキシ基、ハロゲン原子、フェニル基、置換フェ
ニル基及びこれらの組み合せよりなる群から選ばれた置
換基より置換されていてもよい。

好ましいンカルホキンアリール単位［ＩＸ］はであり、
好ましい単位［Ｘ］は であり、好ましいジオキシアリール単位［■］はである
。

前記液晶性ポリマーのうち、本質的に前記反復単位ＣＩ
］及び［ＩＩ］からなる完全芳香族ポリエステル（＾）
が好ましい。

更に、本発明の異方性溶融相を形成するポリマーには、
一つのポリマー鎖の一部か前記異方性溶融を目を形成す
るポリマーのセグメントがら構成され、残りの部分か異
方性溶融相を形成しない熱可塑性樹脂のセグメントから
構成されるポリマーも含まれる。

前記サーモトロピック液晶性ポリマーは、通常、熱変形
温度か８０〜４００℃、好ましくは１２０〜３５０℃程
度で耐熱性に優れている。特に熱変形温度１５０〜２５
０℃の液晶性ポリマーは成膜性にも優れている。

また、液晶性ポリマーは、他のポリマーと比較して難燃
性に優れている。特に本発明で好適に用いられる完全芳
香族ポリエステル及び完全芳香族ポリエステルアミドは
難燃性に優れ、なかでも前記反復単位［Ｎ及び［ＩＮか
らなる完全芳香族ポリエステル（Ａ）は、難燃性に関す
る規格ＵＬ９４−０の認定要件を満足する。従って、こ
のような液晶性ポリマー層を表層とする化粧板は、難燃
剤を含有していなくても、火炎の接触等により燃焼した
りすることがない。

さらに、前記サーモトロピック液晶性ポリマーは、温度
７０℃、相対湿度９６％で５００時間放置しても、０．
００３〜０．０２％程度しか変化しないので、化粧板は
寸法安定性に優れている。

また、液晶性ポリマーは、エンジニアリンクプラスチッ
クの領域に属し、高強度、高弾性率、耐衝撃性に優れて
いるので、これを表層として用いた化粧板は傷付きに＜
＜、損傷することかない。さらに、液晶性ポリマーは、
耐薬品性にも優れ、化学的に安定である。

液晶性ポリマー層には、上記液晶性ポリマー以外に、異
方性溶融相を形成するその他のポリマー、異方性溶融相
を形成しない熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、低分子有機
化合物、無機物のうち少なくとも１種を含有していても
よい。なお、液晶性ポリマー層中の異方性溶融相を形成
するポリマーと他の成分とは熱力学的に相溶していても
よい。

熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリブチレン、ポリブタジェン、ポリイソプ
レン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリスチレン、アクリル系樹脂、ＡＢＳ樹脂、
ＡＳ樹脂、ＢＳ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、
フッ素樹脂、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート
、芳香族ポリエステル、ポリアミド、ポリアクリロニト
リル、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポ
リエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエ
ーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエー
テルサルフオン、ポリサルフォン、ポリフェニレンスル
フィド、ポリフェニレンオキサイド等が含まれる。

熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、メラミン樹脂、ユリャ樹脂、不飽和ポリエス
テル樹脂、アルキド樹脂等が含まれる。

低分子有機化合物としては、例えば、熱可塑性樹脂及び
熱硬化性樹脂に通常添加される物質、すなわち、可塑剤
、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の耐候・耐光安定剤、帯
電防止剤、染料や顔料等の着色剤、発泡剤、更にジビニ
ル系化合物、過酸化物や加硫剤等の架橋剤及び流動性や
離型性の改善のための滑剤として使用される低分子有機
化合物が含まれる。

更に無機物としては、例えば、熱可塑性樹脂及び熱硬化
性樹脂に通常添加される物質、すなわち、ガラス繊維、
炭素繊維、金属繊維、セラミック繊維、ボロン繊維、ア
スベスト等の一般無機繊維、炭酸カルシウム、高分散性
けい酸、アルミナ、水酸化アルミニウム、タルク粉、マ
イカ、ガラスフレーク、ガラスピーズ、石英粉、けい砂
、各種金属粉末、カーボンブラック、硫酸バリウム、焼
石こう等の粉末物質及び炭化硅素、ボロンナイトライド
や窒化硅素等の無機化合物、ウィスカーや金属ウィスカ
ー等が含まれる。

液晶性ポリマー層には、液晶性ポリマーを少なくとも５
０重量％、好ましくは７５重量％以上含有する。

基材に積層されたポリマー層は、少なくとも表層が、表
面に凹凸を有する液晶性ポリマー層であればよい。ポリ
マー層の層構造としては、例えば、液晶性ポリマー層単
独の単層構造：同種または異種の液晶性ポリマー層か積
層された多層構造；液晶性ポリマー層を表層として、他
の高分子層が積層された多層構造等が挙げられる。

高分子層を構成するポリマーとしては、例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の
ポリエステル；ポリアミド；ポリ塩化ビニル；フッ素樹
脂：ポリカーボネート等が挙げられる。また、高分子層
は、押出し成形可能で、かつヒートシール性、ホットメ
ルト接着性を有する高分子、例えば、前記ポリ、オレフ
ィン、変性ポリオレフィン、変性ポリエステル、ポリ酢
酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体などで形成さ
れていてもよい。　　　　　　　　。

液晶性ポリマー層の膜厚は、特に制限されないが、例え
ば、０．１〜５１ｍｌ１１１好ましくは０．５〜３■、
更に好ましくは０．８〜１．６１程度である。ポリマー
層が多層構造の場合、ポリマー層全体の厚みは、例えば
、０．３〜５１ｆｆｌ’％好ましくは１〜５　ａｍ、更
に好ましくは１〜４■程度である。

ポリマー層か多層構造である場合、各層は直接積層され
ていてもよいし、接着剤により積層されていてもよい。

接着剤としては、例えば、クロロプレン系、ブタジェン
−アクリロニトリル共重合体などのゴム系接着剤、酢酸
ビニル系接着剤、エポキシ樹脂、ポリウレタン等の反応
型接着剤等が挙げられる。

これらの接着剤は、ポリマー層を構成する層の種類に応
じて適宜選択される。

ポリマー層か積層される基材は、特に制限されず、例え
ば、鋼板、銅板、アルミ板等の金属板−石膏ボード；合
板やパーティクルボードなどの木質板；ポリマーからな
るプラスチック板、ポリマーがコーティングされたボー
ドなどが挙げられる。

ポリマー層と基材とは直接ラミネートされていてもよく
、接着剤を用いてラミネートされていてもよい。接着剤
は、基材及びポリマー層の種類に応じて適宜選択される
。

本発明の化粧板は、少なくともサーモトロピック液晶性
ポリマーをダイリップと接触させてシ−ト状に溶融押出
し成形し、液晶性ポリマー層を表層として、基材にラミ
ネートすることにより、製造できる。

押出し成形工程では、慣用の押出し成形法、例えば、Ｔ
ダイ法またはインフレーション法等を採用できる。溶融
押出し温度は、例えば、１８０〜３６０℃程度の範囲か
ら選択できる。

液晶性ポリマーとその組成物は、溶融時に、ポリマー分
子が配向した状態、すなわち液晶相を形成し、液晶性ポ
リマーをダイから押出す際に、ダイ先端のリップ部にお
いて剪断力が作用する。この剪断力により、表層部のポ
リマー分子の配向か乱れ、微妙な凹凸パターンを有する
ポリマーシートが得られる。この凹凸パターンは、剪断
力の大きさを調整することにより変化する。例えば、剪
断力を大きくすると、液晶性ポリマー層の表層部かフィ
ブリル化し、自然木のような風合いを有する凹凸パター
ンを得ることもてきる。特に、Ｔダイ法によれば、凹凸
パターンが顕著に現われたポリマーシートが得られる。

このようにして表面に凹凸パターンを有するシート状の
液晶性ポ１）マー層を、化粧板の表層としてラミネート
するので、ポリマーシートに印刷加工やエンボス加工等
を施こす必要かない。

また、液晶性ポリマーとその組成物は、配向性か高いの
で、押出し成形時に、液晶状態のポリマーを一方向に引
取ると、分子鎖か引取方向へ高度に配向する。このよう
にして得られた液晶性ポリマーシートは、物性の異方性
か顕著になり、引取方向には極めて高い強度を示す。

前記単層構造のシートを基材に積層する場合、（ａ）液
晶性ポリマーシートを予め作製し、接着剤を用いて基材
にラミネートしてもよく、（ｂ）押出し成形機により押
出された溶融状態の液晶ポリマーシートを直接基材にラ
ミネートしてもよい。

また、多層構造のシートを基材に積層する場合、例えば
、（Ｃ）押出し成形法やドライラミネート法により、液
晶性ポリマー層を表層とする積層シートを予め作製し、
液晶性ポリマー層を表層として、接着剤を用いて基材に
ラミネートする方法、（ｄ）押出しラミネート法により
、少なくとも１つの溶融ポリマーを押出して基材に積層
した後、最終的に液晶性ポリマーシートを積層する方法
、（ｅ）　Ｔダイなどを備えた共押出し多層成形機を用
いて、液晶性ポリマーと他のポリマーとを共押出し成形
し、溶融状態のシートのうち、液晶性ポリマー層を表層
として基材に積層する方法、（「）及びこれらを組合せ
た方法等か挙げられる。

ポリマーシートは、必要に応して熱処理を施してもよい
。熱処理は、ポリマーシートの緊張下、または無緊張下
で行なうことができる。熱処理は、適宜の雰囲気、例え
ば、空気、窒素、真空雰囲気中で、７０〜３００℃程度
の温度で行なうことができる。熱処理の温度履歴サイク
ル、熱処理時間、張力などは、ポリマーシートを構成す
るポリマーの種類、必要とするポリマーシートの物性に
応して設定できる。さらに、ポリマーシートには、コロ
ナ放電処理などの表面処理を施してもよい。

また、接着剤を用いてラミネートする場合、加圧、圧着
ロール等を用いて加圧してもよい。また、加圧に際して
、圧着ロールなとを、必要に応して加熱してもよいか、
加熱温度は、液晶性ポリマー層か熱変形しない温度範囲
内で選択される。また、基材及びポリマーシートを二次
加工なとに適した大きさ及び形状に切断した後、ラミネ
ートしてもよい。

［発明の効果］ 本発明の化粧板は、表面に微妙な風合いの凹凸パターン
を有している。

また、本発明の化粧板は、表層か液晶性ポリマー層で構
成されているので、難燃性に優れている。

本発明の製造方法によれば、後加工する必要がなく、工
程数を削減できると共に、表面に微妙な風合いの凹凸パ
ターンを簡便に形成できる。

［実施例］ 以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する
。

実施例１ 前記反復単位［１］および［ｎ］で構成されたポリエス
テル（＾）からなるサーモトロピック液晶性ポリマー（
ポリプラスチック■製、商品名ベクトラＡ９００）のベ
レットを、１５０℃で８時間乾燥した。この液晶性ポリ
マーは、難燃性に関する規格ＵＬ９４−０の認定要件を
充足している。

このペレットを、スリット幅４００■、リップ間隔１．
０順のＴダイを備えた押出し成形機を用いて、２８０℃
で押出し、８ｍ／分の速度で引取つることにより、厚み
１．６＋ｎｍのシートを作製した。

得られた液晶性ポリマーシートの表面には、微妙な風合
いの凹凸パターンが形成されていた。

次いで、液晶性ポリマーシートを、接着剤［セメダイン
（株）製、商品名セメダインＥＰ−８８］を用いて合板
に積層することにより、化粧板を製造した。そして、化
粧板の表面に火炎を接触させても燃焼しなかった。

実施例２ 実施例１で用いたサーモトロピック液晶性ポリマーのベ
レットを、１５０℃で８時間乾燥した。

このペレットを、スリット幅１．０龍、直径１゜■の環
状スリットを有するインフレーションダイを備えた押出
し成形機を用いて、２８０℃で押出した。そして、この
環状シートの中空部に空気を圧入して、インフレーショ
ンダイの下方的２０ｃｍのところで、２倍に膨張させな
がら５ｍ／分の速度で引取ることにより、厚み０．８ｍ
１ｍのシートを作製した。得られた液晶性ポリマーシー
トの表面には、木目調の風合いの凹凸パターンか形成さ
れていた。

前記液晶性ポリマーシートを、接着剤［スリーボンド（
株）製、商品名ＴＢ２０６２Ｃ］を用いて合板に積層す
ることにより、化粧板を製造した。

そして、化粧板の表面に火炎を接触させたところ、燃焼
しなかった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基材に少なくとも１つのポリマー層が積層された化
   粧板であって、少なくとも表層を構成するポリマー層が
   、表面に凹凸を有するサーモトロピック液晶性ポリマー
   層で構成されている化粧板。 ２、サーモトロピック液晶性ポリマー層が、下記反復単
   位［ I ］及び［II］を有する完全芳香族ポリエステル
   を含有する請求項１記載の化粧板。 ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［II］ ３、少なくともサーモトロピック液晶性ポリマーをダイ
   リップと接触させてシート状に溶融押出し成形し、サー
   モトロピック液晶性ポリマー層を表層として、基材にラ
   ミネートする化粧板の製造方法。