JP2954698B2 - 化粧板およびその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、建築材料等に用いられる化粧板およびその
製造方法に関する。

［従来の技術と発明が解決しようとする課題］ 建築材料等に用いられる化粧板は、一般に、合板等の
基材とプラスチックシートやフィルムとを貼合わせるこ
とにより製造されている。この化粧板は室内外の装飾を
目的として用いられることが多く、表面に木目調などの
微妙な風合いを有するものが好まれる傾向にある。この
ような要求に応じるため、シートやフィルム面に印刷加
工やエンボス加工等を施したりしている。しかしなが
ら、シートやフィルム面を加工すると、化粧板の製造工
程が複雑になり、製造コストが上昇する。特に微妙な風
合のパターンを形成する場合には、さらに製造工程が煩
雑化する。

また、化粧板は、台所の壁、天井などで用いられるこ
とも多いため、難燃性であることが望まれる。そこで、
難燃性を付与するために、プラスチックシートやフィル
ムに、有機ハロゲン化合物や、リン酸系、アンチモン系
等の無機系難燃剤を含有させたり、基材に上記難燃剤を
含浸させたりしている。しかし、難燃剤を使用すると製
造コストがさらに上昇するだけでなく、安全衛生上にも
問題がある。さらには、上記難燃剤を含有する化粧板が
一旦燃焼すると、ハロゲンガスなどの有害なガスを発生
する危険がある。

従って、本発明の目的は、表面に微妙な風合いの凹凸
パターンを有する化粧板を提供することにある。

本発明の他の目的は、難燃剤に優れた化粧板を提供す
ることにある。

本発明のさらに他の目的は、後加工を必要とせず、工
程数を削減できると共に、微妙な凹凸パターンを簡便に
形成できる化粧板の製造方法を提供することにある。

［発明の構成］ 本発明の化粧板は、基材に少なくとも１つのポリマー
層が積層された化粧板であって、少なくとも表層を構成
するポリマー層が、表面に凹凸を有するサーモトロピッ
ク液晶性ポリマー層で構成されている。

なお、本明細書において、サーモトロピック液晶性ポ
リマーとは、加熱によって軟化流動して成形可能とな
り、かつ溶融時には複屈折を有する異方性溶融相を示す
ポリマーとその組成物を意味する。

サーモトロピック液晶性ポリマーとしては、例えば、
下記の構成成分からなるポリマーが挙げられる。

（１）芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸の一種
又は二種以上 （２）芳香族ジオール、脂環族ジオール、脂肪族ジオー
ルの一種又は二種以上 （３）芳香族ヒドロキシカルボン酸の一種又は二種以上 （４）芳香族チオールカルボン酸の一種又は二種以上 （５）芳香族ジオール、芳香族チオールフェノールの一
種又は二種以上 （６）芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミンの一種
又は二種以上。

上記構成成分からなる液晶性ポリマーは、 ｉ）構成成分（１）と（２）とからなるポリエステル、 ii）構成成分（３）からなるポリエステル、 iii）構成成分（１）と（２）と（３）とからなるポリ
エステル、 iv）構成成分（４）からなるポリチオールエステル、 ｖ）構成成分（１）と（５）とからなるポリチオールエ
ステル、 vi）構成成分（１）と（４）と（５）とからなるポリチ
オールエステル、 vii）構成成分（１）と（３）と（６）とからなるポリ
エステルアミド、 viii）構成成分（１）と（２）と（３）と（６）とから
なるポリエステルアミド などの組合せとして選択される。

上記の成分の組合せの範疇には属さないが、液晶性ポ
リマーには芳香族ポリアゾメチン及びポリエステルカー
ボネートが含まれる。芳香族ポリアゾメチンの具体例と
してはポリ（ニトリロ−２−メチル−1,4−フェニレン
ニトリロエチリジン−1,4−フェニレンメチリジン），
ポリ（ニトリロ−２−メチル−1,4−フェニレンニトリ
ロメチリジン−1,4−フェニレンメチリジン），ポリ
（ニトリロ−２−クロロ−1,4−フェニレンニトリロメ
チリジン−1,4−フェニレンメチリジン）などが挙げら
れる。ポリエステルカーボネートは、本質的には４−オ
キシベンゾイル単位、ジオキシフェニル単位、ジオキシ
カルボニル単位及びテレフタロイル単位からなる。

前記芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、4,
4′−ジフェニルジカルボン酸、4,4′−トリフェニルジ
カルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニ
ルエーテル−4,4′−ジカルボン酸、ジフェノキシエタ
ン−4,4′−ジカルボン酸、ジフェノキシブタン−4,4′
−ジカルボン酸、ジフェニルエタン−4,4′−ジカルボ
ン酸、イソフタル酸、ジフェニルエーテル−3,3′−ジ
カルボン酸、ジフェノキシエタン−3,3′−ジカルボン
酸、ジフェニルエタン−3,3′−ジカルボン酸、ナフタ
レン−1,6−ジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸；
芳香族ジカルボン酸のアルキル、アルコキシまたはハロ
ゲン置換体、例えば、クロロテレフタル酸、ジクロロテ
レフタル酸、ブロモテレフタル酸、メチルテレフタル
酸、ジメチルテレフタル酸、エチルテレフタル酸、メト
キシテレフタル酸、エトキシテレフタル酸などが挙げら
れる。

脂環族ジカルボン酸としては、トランス−1,4−シク
ロヘキサンジカルボン酸、シス−1,4−シクロヘキサン
ジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸など
の脂環族ジカルボン酸；脂環族ジカルボン酸のアルキ
ル、アルコキシまたはハロゲン置換体、例えば、トラン
ス−1,4−（１−メチル）シクロヘキサンジカルボン
酸、トランス−1,4−（１−クロロ）シクロヘキサンジ
カルボン酸などが挙げられる。

芳香族ジオールとしては、ハイドロキノン、レゾルシ
ン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル、4,4′−ジヒドロ
キシトリフェニル、2,6−ナフタレンジオール、4,4′−
ジヒドロキシジフェニルエーテル、ビス（４−ヒドロキ
シフェノキシ）エタン、3,3′−ジヒドロキシジフェニ
ル、3,3′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,6−ナ
フタレンジオール、2,2−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、1,1−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
メタンなどの芳香族ジオール；芳香族ジオールのアルキ
ル、アルコキシまたはハロゲン置換体、例えば、クロロ
ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、１−ブチルハ
イドロキノン、フェニルハイドロキノン、メトキシハイ
ドロキノン、フェノキシハイドロキノン、４−クロロレ
ゾルシン、４−メチルレゾルシンなどが挙げられる。

脂環族ジオールとしては、トランス−1,4−シクロヘ
キサンジオール、シス−1,4−シクロヘキサンジオー
ル、トランス−1,4−シクロヘキサンジメタノール、ト
ランス−1,3−シクロヘキサンジオール、シス−1,2−シ
クロヘキサンジオール、トランス−1,3−シクロヘキサ
ンジメタノールなどの脂環族ジオール；脂環族ジオール
のアルキル、アルコキシまたはハロゲン置換体、例え
ば、トランス−1,4−（１−メチル）シクロヘキサンジ
オール、トランス−1,4−（１−クロロ）シクロヘキサ
ンジオールなどが挙げられる。

脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、1,3
−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペン
チルグリコールなどの直鎖状又は分岐状脂肪族ジオール
が挙げられる。

芳香族ヒドロキシカルボン酸としては、４−ヒドロキ
シ安息香酸、３−ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロキシ
−２−ナフタエ酸、６−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸な
どの芳香族ヒドロキシカルボン酸；芳香族ヒドロキシカ
ルボン酸のアルキル、アルコキシまたはハロゲン置換
体、例えば、３−メチル−４−ヒドロキシ安息香酸、3,
5−ジメチル−４−ヒドロキシ安息香酸、2,6−ジメチル
−４−ヒドロキシ安息香酸、３−メトキシ−４−ヒドロ
キシ安息香酸、3,5−ジメトキシ−４−ヒドロキシ安息
香酸、６−ヒドロキシ−５−メチル−２−ナフトエ酸、
６−ヒドロキシ−５−メトキシ−２−ナフトエ酸、３−
クロロ−４−ヒドロキシ安息香酸、2,3−ジクロロ−４
−ヒドロキシ安息香酸、3,5−ジクロロ−４−ヒドロキ
シ安息香酸、2,5−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香
酸、３−ブロモ−４−ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロ
キシ−５−クロロ−２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−
７−クロロ−２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−5,7−
ジクロロ−２−ナフトエ酸などが挙げられる。

芳香族メルカプトカルボン酸としては、４−メルカプ
ト安息香酸、３−メルカプト安息香酸、６−メルカプト
−２−ナフトエ酸、７−メルカプト−２−ナフトエ酸な
どが挙げられる。

芳香族ジオールとしては、ベンゼン−1,4−ジチオー
ル、ベンゼン−1,3−ジチオール、ナフタレン−2,6−ジ
オール、ナフタレン−2,7−ジチオールなどが挙げられ
る。

芳香族メルカプトフェノールとしては、４−メルカプ
トフェノール、３−メルカプトフェノール、２−メルカ
プトフェノールなどが挙げられる。

芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミンとしては、
４−アミノフェノール、Ｎ−メチル−４−アミノフェノ
ール、1,4−フェニレンジアミン、Ｎ−メチル−1,4−フ
ェニレンジアミン、N,N′−ジメチル−1,4−フェニレン
ジアミン、３−アミノフェノール、３−メチル−４−ア
ミノフェノール、２−クロロ−４−アミノフェノール、
４−アミノ−１−ナフトール、４−アミノ−４′−ヒド
ロキシジフェニル、４−アミノ−４′−ヒドロキシジフ
ェニルエーテル、４−アミノ−４′−ヒドロキシジフェ
ニルメタン、４−アミノ−４′−ヒドロキシジフェニル
スルフィド、4,4′−ジアミノフェニルスルフィド（チ
オジアニリン）、4,4′−ジアミノジフェニルスルホ
ン、2,5−ジアミノトルエン、4,4′−エチレンジアニリ
ン、4,4′−ジアミノジフェノキシエタン、4,4′−ジア
ミノジフェニルメタン（メチレンジアニリン）、4,4′
−ジアミノジフェニルエーテル（オキシジアニリン）な
どが挙げられる。

上記各構成成分からなる上記ポリマーｉ）ないしvii
i）は、構成成分及びポリマー中の組成比、シーケンス
分布によっては、溶融時に複屈折を有しないものも存在
するが、本発明で用いられるポリマーは上記ポリマーの
うち異方性溶融相を示すものに限られる。

サーモトロピック液晶性ポリマーは、従来公知の方法
でを製造することができる。

本発明で好適に用いられる完全芳香族ポリマーは、一
般溶剤には実質的に不溶である傾向を示し、従って、溶
液加工には適さない。しかしながら、これらのポリマー
は通常の溶融加工法により加工することができる。特に
好ましい完全芳香族ポリマーはペンタフルオロフェノー
ルにはいくらか可溶である。

本発明で好適に用いられる完全芳香族ポリエステル
は、成膜性などを損わない範囲で適宜の分子量を有して
いてもよい。例えば、好適な完全芳香族ポリエステルの
重量平均分子量は、通常約2,000〜200,000、好ましくは
約10,000〜50,000、特に好ましくは約20,000〜25,000で
ある。また好適な完全芳香族ポリエステルアミドの分子
量は、通常、約5,000〜50,000、好ましくは約10,000〜3
0,000、例えば、15,000〜17,000である。分子量の測定
は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーならびに
その他のポリマーの溶融形成を伴なわない標準的測定
法、例えば圧縮成形フィルムについて赤外分光法により
末端基を定量することにより実施できる。またペンタフ
ルオロフェノール溶液にして光散乱法を用いて分子量を
測定することもできる。

上記の完全芳香族ポリエステルアミドは、温度60℃で
ペンタフルオロフェノールに0.1重量％濃度で溶解した
とき、少なくとも約2.0dl/g、例えば約2.0〜10.0dl/gの
固有粘度（I.V.）を示す。

特に好ましい異方性溶融相を形成するポリエステル
は、６−ヒドロキシ−２−ナフトイル、2,6−ジヒドロ
キシナフタレン及び2,6−ジカルボキシナフタレン等の
ナフタレン部分単位を約10モル％以上含有する。好まし
いポリエステルアミドは、上記ナフタレン部分と、４−
アミノフェノール又は1,4−フェニレンジアミンからな
る部分との反復単位を含有するものである。具体的には
以下の通りである。

（Ａ）本質的に下記反復単位［Ｉ］及び［II］からなる
ポリエステル： このポリエステルは、単位［Ｉ］を約10〜90モル％及
び単位［II］を約10〜90モル％含有する。一態様におい
て単位［Ｉ］は約65〜85モル％（例えば、約75モル％）
の量まで存在する。他の態様において、単位［II］は約
15〜35モル％、好ましくは約20〜30モル％の低濃度の量
で存在する。また環に結合している水素原子の少なくと
も一部は、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原
子、フェニル基、置換フェニル基及びこれらの組み合せ
からなる群から選ばれた置換基で置換されていてもよ
い。

（Ｂ）本質的に下記の反復単位［II］、［III］及び［I
V］からなるポリエステル： このポリエステルは単位［II］を約30〜70モル％含有
する。このポリエステルは、好ましくは、単位［II］を
約40〜60モル％、単位［III］を約20〜30モル％及び単
位［IV］を約20〜30モル％含有する。また環に結合して
いる水素原子の少なくとも一部は、炭素数１〜４のアル
コキシ基、ハロゲン原子、フェニル基、置換フェニル基
及びこれらの組み合せからなる群から選ばれた置換基に
より置換されていてもよい。

（Ｃ）本質的に下記反復単位［II］、［IV］、［Ｖ］及
び［VI］からなるポリエステル： （式中、Ｒはメチル基、クロロ、ブロモまたはこれらの
組み合せを意味し、芳香環上の水素原子に対する置換基
である） このポリエステルは、単位［II］を約20〜60モル％、
単位［IV］を約５〜35モル％、単位［Ｖ］を約５〜18モ
ル％及び単位［VI］を約20〜40モル％含有する。このポ
リエステルは、好ましくは、単位［II］を約35〜45モル
％、単位［IV］を約15〜25モル％、単位［Ｖ］を約10〜
15モル％及び単位［VI］を約25〜35モル％含有する。た
だし、単位［IV］と［Ｖ］の合計モル濃度は単位［VI］
のモル濃度に実質的に等しい。また、環に結合している
水素原子の少なくとも一部は、炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、フェ
ニル基、置換フェニル基及びこれらの組み合せからなる
群から選ばれた置換基により置換されていてもよい。こ
の完全芳香族ポリエステルは、一般に、温度60℃でペン
タフルオロフェノールに0.3W/V％の濃度で溶解したと
き、少なくとも2.0dl/g、例えば2.0〜10.0dl/gの固有粘
度を示す。

（Ｄ）本質的に下記反復単位［Ｉ］、［II］、［VII］
及び［VIII］からなるポリエステル： （式中、Arは少なくとも１個の芳香族環を含む２価基を
意味する）で示されるジオキシアリール単位 （式中、Arは前記に同じ）で示されるジカルボキシアリ
ール単位 このポリエステルは、単位［Ｉ］を約20〜40モル％、
単位［II］を10モル％を越え、約50モル％以下、単位
［VII］を５モル％を越え、約30モル％以下、及び単位
［VIII］を５モル％を越え、約30モル％以下の量で含有
する。このポリエステルは、好ましくは、単位［Ｉ］を
約20〜30モル％、例えば、約25モル％、単位［II］を約
25〜40モル％、例えば、約35モル％、単位［VII］を約1
5〜25モル％、例えば、約20モル％、及び単位［VIII］
を約15〜25モル％、例えば、約20モル％含有する。ま
た、環に結合している水素原子の少なくとも一部は、炭
素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ
基、ハロゲン原子、フェニル基、置換フェニル基及びこ
れらの組み合せからなる群から選ばれた置換基で置換さ
れていてもよい。

単位［VII］と［VIII］は、ポリマー主鎖内でこれら
の単位を両側の他の単位に結げている２価の結合が、１
または２以上の芳香環上で対称的配置にある（例えば、
ナフタレン環上に存在するときは互いにパラの位置か、
または対角環上に配置されている）と言う意味で対称的
であるのが好ましい。ただし、レゾルシノール及びイソ
フタル酸から誘導されるような非対称単位も使用でき
る。

好ましいジオキシアリール単位［VII］は であり、好ましいジカルボキシアリール単位［VIII］は である。

（Ｅ）本質的に下記反復単位［Ｉ］、［VII］、及び［V
III］からなるポリエステル： （式中、Arは前記に同じ）で示されるジオキシアリール
単位 （式中、Arは前記に同じ）で示されるジカルボキシアリ
ール単位 このポリエステルは、単位［Ｉ］を約10〜90モル％、
単位［VII］を５〜45モル％及び単位［VIII］を５〜45
モル％の量で含有する。このポリエステルは、好ましく
は単位［Ｉ］を約20〜80モル％、単位［VII］を約10〜4
0モル％及び単位［VIII］を約10〜40モル％含有する。
さらに好ましくは、このポリエステルは、約60〜80モル
％の単位［Ｉ］、約10〜20モル％の単位［VII］、及び
約10〜20モル％の単位［VIII］を含有する。また環に結
合している水素原子の少なくとも一部は、炭素数１〜４
のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン
原子、フェニル基、置換フェニル基及びこれらの組み合
せよりなる群から選ばれた置換基で置換されていてもよ
い。

好ましいジオキシアリール単位［VII］は であり、好ましいジカルボキシアリール単位［VIII］は である。

（Ｆ）本質的に下記反復単位［Ｉ］、［IX］、［Ｘ］及
び［VII］からなるポリエステルアミド： （式中、Ａは少なくとも１個の芳香環を含む２価基また
は２価トランス−シクロヘキサン基を意味する）で表わ
される単位 一般式Ｙ−Ar−Ｚ ［Ｘ］ （式中、Arは前記に同じ。ＹはＯ、NHまたはNR、ＺはNH
またはNRをそれぞれ意味し、Ｒは炭素数１〜４のアルキ
ル基またはアリール基を意味する）で表わされる単位 一般式Ｏ−Ar−Ｏ ［VII］ （式中、Arは前記に同じ）で表わされるジオキシアリー
ル単位 このポリエステルアミドは、単位［Ｉ］を約10〜90モ
ル％、単位［IX］を５〜45モル％、単位［Ｘ］を５〜45
モル％、及び単位［VII］を約０〜40モル％の量で含有
する。また環に結合している水素原子の少なくとも一部
は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、フェニル基、置換フェニル基及
びこれらの組み合せよりなる群から選ばれた置換基より
置換されていてもよい。

好ましいジカルボキシアリール単位［IX］は であり、好ましい単位［Ｘ］は であり、好ましいジオキシアリール単位［VII］は である。

前記液晶性ポリマーのうち、本質的に前記反復単位
［Ｉ］及び［II］からなる完全芳香族ポリエステル
（Ａ）が好ましい。

更に、本発明の異方性溶融相を形成するポリマーに
は、一つのポリマー鎖の一部が前記異方性溶融相を形成
するポリマーのセグメントから構成され、残りの部分が
異方性溶融相を形成しない熱可塑性樹脂のセグメントか
ら構成されるポリマーも含まれる。

前記サーモトロピック液晶性ポリマーは、通常、熱変
形温度が80〜400℃、好ましくは120〜350℃程度で耐熱
性に優れている。特に熱変形温度150〜250℃の液晶性ポ
リマーは成膜性にも優れている。

また、液晶性ポリマーは、他のポリマーと比較して難
燃性に優れている。特に本発明で好適に用いられる完全
芳香族ポリエステル及び完全芳香族ポリエステルアミド
は難燃性に優れ、なかでも前記反復単位［Ｉ］及び［I
I］からなる完全芳香族ポリエステル（Ａ）は、難燃性
に関する規格UL94−０の認定要件を満足する。従って、
このような液晶性ポリマー層を表層とする化粧板は、難
燃剤を含有していなくても、火炎の接触等により燃焼し
たりすることがない。

さらに、前記サーモトロピック液晶性ポリマーは、温
度70℃、相対湿度96％で500時間放置しても、0.003〜0.
02％程度しか変化しないので、化粧板は寸法安定性に優
れている。また、液晶性ポリマーは、エンジニアリング
プラスチックの領域に属し、高強度、高弾性率、耐衝撃
性に優れているので、これを表層として用いた化粧板は
傷付きにくく、損傷することがない。さらに、液晶性ポ
リマーは、耐薬品性にも優れ、化学的に安定である。

液晶性ポリマー層には、上記液晶性ポリマー以外に、
異方性溶融相を形成するその他のポリマー、異方性溶融
相を形成しない熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、低分子有
機化合物、無機物のうち少なくとも１種を含有していて
もよい。なお、液晶性ポリマー層中の異方性溶融相を形
成するポリマーと他の成分とは熱力学的に相溶していて
もよい。

熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリブチレン、ポリブタジエン、ポリイソ
プレン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレ、アクリル系樹脂、ABS樹脂、AS
樹脂、BS樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、フッ素
樹脂、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、芳香
族ポリエステル、ポリアミド、ポリアクリロニトリル、
ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリエー
テルイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテル
イミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサ
ルフォン、ポリサルフォン、ポリフェニレンスルフィ
ド、ポリフェニレンオキサイド等が含まれる。

熱硬化性物質としては、例えば、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、ユリヤ樹脂、不飽和ポリエ
ステル樹脂、アルキド樹脂等が含まれる。

低分子有機化合物としては、例えば、熱可塑性樹脂及
び熱硬化性樹脂に通常添加される物質、すなわち、可塑
剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の耐候・耐光安定剤、
帯電防止剤、染料や顔料等の着色剤、発泡剤、更にジビ
ニル系化合物、過酸化物や加硫剤等の架橋剤及び流動性
や離型性の改善のための滑剤として使用される低分子有
機化合物が含まれる。

更に無機物としては、例えば、熱可塑性樹脂及び熱硬
化性樹脂に通常添加される物質、すなわち、ガラス繊
維、炭素繊維、金属繊維、セラミック繊維、ボロン繊
維、アスベスト等の一般無機繊維、炭酸カルシウム、高
分散性けい酸、アルミナ、水酸化アルミニウム、タルク
粉、マイカ、ガラスフレーク、ガラスビーズ、石英粉、
けい砂、各種金属粉末、カーボンブラック、硫酸バリウ
ム、焼石こう等の粉末物質及び炭化硅素、ボロンナイト
ライトや窒化硅素等の無機化合物、ウイスカーや金属ウ
イスカー等が含まれる。

液晶性ポリマー層には、液晶性ポリマーを少なくとも
50重量％、好ましくは75重量％以上含有する。

基材に積層されたポリマー層は、少なくとも表層が、
表面に凹凸を有する液晶性ポリマー層であればよい。ポ
リマー層の層構造としては、例えば、液晶性ポリマー層
単独の単層構造；同種または異種の液晶性ポリマー層が
積層された多層構造；液晶性ポリマー層を表層として、
他の高分子層が積層された多層構造等が挙げられる。

高分子層を構成するポリマーとしては、例えば、ポリ
エチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等
のポリエステル；ポリアミド；ポリ塩化ビニル；フッ素
樹脂；ポリカーボネート等が挙げられる。また、高分子
層は、押出し成形可能で、かつヒートシール性、ホット
メルト接着性を有する高分子、例えば、前記ポリオレフ
ィン、変性ポリオレフィン、変性ポリエステル、ポリ酢
酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体などで形成さ
れていてもよい。

液晶性ポリマー層の膜厚は、特に制限されないが、例
えば、0.1〜5mm、好ましくは0.5〜3mm、更に好ましくは
0.8〜1.6mm程度である。ポリマー層が各層構造の場合、
ポリマー層全体の厚みは、例えば、0.3〜5mm、好ましく
は１〜5mm、更に好ましくは１〜4mm程度である。

ポリマー層が多層構造である場合、各層は直接積層さ
れていてもよいし、接着剤により積層されていてもよ
い。

接着剤としては、例えば、クロロプレン系、ブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体などのゴム系接着剤、酢
酸ビニル系接着剤、エポキシ樹脂、ポリウレタン等の反
応型接着剤が挙げられる。これらの接着剤は、ポリマー
層を構成する層の種類に応じて適宜選択される。

ポリマー層が積層される基材は、特に制限されず、例
えば、鋼板、銅板、アルミ板等の金属板；石膏ボード；
合板やパーティクルボードなどの木質板；ポリマーから
なるプラスチック板、ポリマーがコーティングされたボ
ードなどが挙げられる。

ポリマー層と基材とは直接ラミネートされていてもよ
く、接着剤を用いてラミネートされていてもよい。接着
剤は、基材及びポリマー層の種類に応じて適宜選択され
る。

本発明の化粧板は、少なくともサーモトロピック液晶
性ポリマーをダイリップと接触させてシート状に溶融押
出し成形し、表面に凹凸を有するサーモトロピック液晶
性ポリマー層を形成させ、このサーモトロピック液晶性
ポリマー層を表層として、基材にラミネートすることに
より、製造できる。

押出し成形工程では、慣用の押出し成形法、例えば、
Ｔダイ法またはインフレーション法等を採用できる。溶
融押出し温度は、例えば、180〜360℃程度の範囲から選
択できる。

液晶性ポリマーとその組成物は、溶融時に、ポリマー
分子が配向した状態、すなわち液晶相を形成し、液晶性
ポリマーをダイから押出す際に、ダイ先端のリップ部に
おいて剪断力が作用する。この剪断力により、表層部の
ポリマー分子の配向が乱れ、微妙な凹凸パターンを有す
るポリマーシートが得られる。この凹凸パターンは、剪
断力の大きさを調整することにより変化する。例えば、
剪断力を大きくすると、液晶性ポリマー層の表層部がフ
ィブリル化し、自然木のような風合いを有する凹凸パタ
ーンを得ることもできる。特に、Ｔダイ法によれば、凹
凸パターンが顕著に現われたポリマーシートが得られ
る。このようにして表面に凹凸パターンを有するシート
状の液晶性ポリマー層を、化粧板の表層としてラミネー
トするので、ポリマーシートに印刷加工やエンボス加工
等を施こす必要がない。

また、液晶性ポリマーとその組成物は、配向性が高い
ので、押出し成形時に、液晶状態のポリマーを一方向に
引取ると、分子鎖が引取方向へ高度に配向する。このよ
うにして得られた液晶性ポリマーシートは、物性の異方
性が顕著になり、引取方向には極めて高い強度を示す。

前記単層構造のシートを基材に積層する場合、（ａ）
液晶性ポリマーシートを予め作製し、接着剤を用いて基
材にラミネートしてもよく、（ｂ）押出し成形機により
押出された溶融状態の液晶ポリマーシートを直接基材に
ラミネートしてもよい。

また、多層構造のシートを基材に積層する場合、例え
ば、（ｃ）押出し成形法やドライラミネート法により、
液晶性ポリマー層を表層とする積層シートを予め作製
し、液晶性ポリマー層を表層として、接着剤を用いて基
材にラミネートする方法、（ｄ）押出しラミネート法に
より、少なくとも１つの溶融ポリマーを押出して基材に
積層した後、最終的に液晶性ポリマーシートを積層する
方法、（ｅ）Ｔダイなどを備えた共押出し多層成形機を
用いて、液晶性ポリマーと他のポリマーとを共押出し成
形し、溶融状態のシートのうち、液晶性ポリマー層を表
層として基材に積層する方法、（ｆ）及びこれらを組合
せた方法等が挙げられる。

ポリマーシートは、必要に応じて熱処理を施してもよ
い。熱処理は、ポリマーシートの緊張下、または無緊張
下で行なうことができる。熱処理は、適宜の雰囲気、例
えば、空気、窒素、真空雰囲気中で、70〜300℃程度の
温度で行なうことができる。熱処理の温度履歴サイク
ル、熱処理時間、張力などは、ポリマーシートを構成す
るポリマーの種類、必要とするポリマーシートの物性に
応じて設定できる。さらに、ポリマーシートには、コロ
ナ放電処理などの表面処理を施してもよい。

また、接着剤を用いてラミネートする場合、加圧、圧
着ロール等を用いて加圧してもよい。また、加圧に際し
て、圧着ロールなどを、必要に応じて加熱してもよい
が、加熱温度は、液晶性ポリマー層が熱変形しない温度
範囲内で選択される。また、基材及びポリマーシートを
二次加工などに適した大きさ及び形状に切断した後、ラ
ミネートしてもよい。

［発明の効果］ 本発明の化粧板は、表面に微妙な風合いの凹凸パター
ンを有している。

また、本発明の化粧板は、表層が液晶性ポリマー層で
構成されているので、難燃性に優れている。

本発明の製造方法によれば、後加工する必要がなく、
工程数を削減できると共に、表面に微妙な風合いの凹凸
パターンを簡便に形成できる。

［実施例］ 以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明す
る。

実施例１ 前記反復単位［Ｉ］および［II］で構成されたポリエ
ステル（Ａ）からなるサーモトロピック液晶性ポリマー
（ポリプラスチック（株）製、商品名ベクトラA900）の
ペレットを、150℃で８時間乾燥した。この液晶性ポリ
マーは、難燃性に関する規格UL94−０の認定要件を充足
している。このペレットを、スリット幅400mm、リップ
間隔1.0mmのＴダイを備えた押出し成形機を用いて、280
℃で押出し、8m/分の速度で引取っることにより、厚み
1.6mmのシートを作製した。得られた液晶性ポリマーシ
ートの表面には、微妙な風合いの凹凸パターンが形成さ
れていた。

次いで、液晶性ポリマーシートを、接着剤［セメダイ
ン（株）製、商品名セメダインEP−88］を用いて合板に
積層することにより、化粧板を製造した。そして、化粧
板の表面に火炎を接触させても燃焼しなかった。

実施例２ 実施例１で用いたサーモトロピック液晶性ポリマーの
ペレットを、150℃で８時間乾燥した。このペレット
を、スリット幅1.0mm、直径10cmの環状スリットを有す
るインフレーションダイを備えた押出し成形機を用い
て、280℃で押出した。そして、この環状シートの中空
部に空気を圧入して、インフレーションダイの下方約20
cmのところで、２倍に膨脹させながら5m/分の速度で引
取ることにより、厚み0.8mmのシートを作製した。得ら
れた液晶性ポリマーシートの表面には、木目調の風合い
の凹凸パターンが形成されていた。

前記液晶性ポリマーシートを、接着剤［スリーボンド
（株）製、商品名TB2062C］を用いて合板に積層するこ
とにより、化粧板を製造した。そして、化粧板の表面に
火炎を接触させたところ、燃焼しなかった。

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材に少なくとも１つのポリマー層が積層
   された化粧板であって、少なくとも表層を構成するポリ
   マー層が、表面に凹凸を有するサーモトロピック液晶性
   ポリマー層で構成されている液晶板。
2. 【請求項２】サーモトロピック液晶性ポリマー層が、下
   記反復単位［Ｉ］及び［II］を有する完全芳香族ポリエ
   ステルを含有する請求項１記載の化粧板。
3. 【請求項３】少なくともサーモトロピック液晶性ポリマ
   ーをダイリップと接触させてシート状に溶融押出し成形
   し、表面に凹凸を有するサーモトロピック液晶性ポリマ
   ー層を形成させ、このサーモトロピック液晶性ポリマー
   層を表層として、基材にラミネートする化粧板の製造方
   法。