JPH04187767A - 薄膜被着用治具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学薄膜を被着するための治具に関する。

〔従来の技術〕

光学部品、特に光半導体素子（半導体レーザ。

発光ダイオード、受光ダイオード、光スイツチ素子など
）に対する光学薄膜（光学反射率調整膜。

反射防止膜など）の形成は、素子の光学特性を左右する
重要な技術の一つである。

通常、光学薄膜は、誘電体材料（例えば、５ｉｎ２゜Ｓ
　ｘ　Ｏｇ　Ｔ　ｘ　０２など）のスパッタリング、蒸
着などの方法で形成される。

第１図は、レーザダイオードが複数個、横並びに連続し
ている「バー状」の試料１の斜視図である。通常、個々
のチップに分割する前の、上記の「バー状」試料の段階
で光出射端面に反射率調整膜４を被着している。この時
、上面電極２と下面電極３には、反射率調整膜が被着し
ないようにする必要がある。

従来、以上のような反射調整膜の被着には、第２図に示
すような方法が用いられていた。第２図は断面図であり
、被着用治具２０には、バー状試料をはめ込むための溝
２１が複数本設けられており、この中に、バー状試料２
２がセットされる。

一方、反射率調整膜となる誘電体材料２４は、試料の上
方に位置する蒸着用バスケットフイラント２３の中にセ
ットされている。

蒸着物質は、上方から下方に向って降り注ぎ、バー状試
料２２の露出端面に被着する。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上の方法では、電子ビーム加熱によらなければ誘電体
材料の蒸着が困難な場合に、試料の保持ができない欠点
があった。これは、電子ビーム蒸着法では、蒸着源（誘
導体材料）を試料の下方に位置させ、下から吹上げる形
で蒸着しなければならないからである。

また、治具２０本体に設けた溝２１の幅を、バー状試料
２２の厚さに合せる必要があるので、治具の製作には高
精度の加工が必要である。さらに、試料の厚さにはバラ
ツキがあるので、これに合せて数種類の溝幅をもっ治具
を用意する必要があり、被着治具が高価であるという欠
点があった。

本発明の目的は、上記の欠点を解消することにあり、下
方からの蒸着時にも試料を保持でき、がっ、試料の厚さ
のバラツキにも容易に対処し得る被着用治具を提供する
ことにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明による治具では、複
数本のバー状試料の反射率調整膜を被着すべき面（例え
ば骨間面）を一方向に揃え、各バー状試料を積重ねてセ
ットし、上・下面電極への光学薄膜の回り込み被着を防
止できるようにした。

密着性よく積重ねるために、積重ねバーの上下から、ス
ペーサを介してスプリングなどにより、適度の圧力を加
えられる機構をもつ。

また、積重ねたバー群の両端をナイフェツジ形の支持板
で保持し、バー群を下向きにセット可能とした。

〔作用〕

上記の積重ねたバー状試料同志の密着性を高めるために
、積重ねバーの上下から、スペーサを介してスプリング
などにより、適度の圧力を加えるようにした。

また、ナイフェツジ状の一対の支持板の一方を、移動可
能な構造とし、バー状試料の長さの変更に対応できる構
造とした。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を第３図、第４図により説明す
る。

第３図は、本発明による光学薄膜被着治具３０の斜視図
である。ベースプレート３１上に、Ｌ字形のナイフェツ
ジ状支持板３２および工学形のナイフェツジ状支持板３
３がある。Ｌ字形および１字形の支持板の対向部分の辺
は、オーバーハングしたナイフェツジ形状を成している
。

骨間端面をもつバー状の半導体レーザ試料３４は、ナイ
フェツジ状支持板３２．３３で囲まれた領域に、骨間端
面を上に向けて整列して載置する。

この状態を第４図に示す。第４図は、第３図に示すＡ−
Ａ’力方向見た断面図であり、ベースプレート３１上の
支持板３２．３３に挟まれてバー状試料３４がセットさ
れている。

第３図に示すように、Ｉ字形の支持板３３は、底部にス
トライプ状の凸起を持ち、これがベースプレート３１に
設けられた案内溝３５にはめ込まれているので、前後に
平行移動できる。最適位置において、ビス４０で支持板
３３を固定する。これにより、異なる長さのバー状試料
群に対しても、試料取付けが可能となる。

また、バー状試料群の両側面に接して、バー状試料同志
の密着させるための２枚のスペーサ３６゜３７は、バー
状試料の襞間面間隔（第１図におけるバーの幅寸法）よ
りも１０〜２０μｍ薄い板厚をもつ金属で製作されてい
る。

このスペーサにより、ナイフェツジ状支持板３２．３３
で囲まれて領域の中央付近にバー状試料群をセットする
ことができる。その結果、Ｌ字形ナイフェツジ状支持板
３２や、加圧用ブロック３８による、蒸着時の影による
蒸着物質不着を避けることができる。

バー状試料群３４には、スプリング３９を受ける加圧用
ブロック３８を介して、スプリング３９により適度の圧
力を加え、バー状試料同志の密着性を高めている。

調整ビス４１は、スプリング３９により圧力を調整する
ためのものである。

また、数種類のバーの幅寸法に対応するために、板厚の
異なる数種類のスペーサ３６．３７を準備しておくのが
望ましい。この際、スペーサの材質を、ＧａＡｓまたは
、ＩｎＰの単結晶（結晶面（１００））で製作すると、
その骨間面をスペーサの端面として利用することができ
、精度の高いスペーサが簡便に得られる。

以上の説明では、半導体レーザのバー状の試料への適用
について述べたが、同様の形状の試料であれば、試料の
種類には関係なく、本実施例の治具を適用できる。

〔発明の効果〕

本発明による治具を用いれば、試料取付面を下に向けた
状態で被着装置内に試料をセットできるので、冒頭に述
べた、電子ビーム蒸着法による反射率調整膜の被着が可
能になる。

また、ロット毎に異なるバーの幅寸法や長さにも、可動
式ナイフェツジ支持板機構により対応することができる
。従って、数種類の治具を用意する繁雑さが解消する。

さらに１本発明による治具は、従来のような高精度の溝
加工が不要であり、治具製作費を低減することができる
。

本発明による治具は、光学薄膜の被着のみならず、金属
薄膜、絶縁性薄膜など、薄膜材料に関係なく利用される
。

【図面の簡単な説明】

第１図はバー状に切出された半導体レーザ試料を示す斜
視図、第２図は、反射率調整用光学薄膜を被着するため
の従来の治具の断面図、第３図は本発明による薄膜被着
用治具の断面図、第４図は第３図のＡ−Ａ’力方向見た
部分断面図である。 ３２．３３・・・ナイフェツジ状支持板、３４・・・バ
ーＶＪ　３　（２） 第４回

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、平板上に設けられた、片刃状ナイフエッジ支持体２
   個を、その断面構成が「ハの字」となるように配置し、
   バー状の試料の両端を支持することを特徴とする、薄膜
   被着用治具。 ２、複数本のバー状の試料の、薄膜を被着すべき面を同
   一方向に向けて試料を複数本積重ね、重ね合せた方向か
   ら圧力を加え、試料同志を密接させることを特徴とする
   、特許請求の範囲第１項記載の薄膜被着用治具。