JPH0418474B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0418474B2
JPH0418474B2 JP59250604A JP25060484A JPH0418474B2 JP H0418474 B2 JPH0418474 B2 JP H0418474B2 JP 59250604 A JP59250604 A JP 59250604A JP 25060484 A JP25060484 A JP 25060484A JP H0418474 B2 JPH0418474 B2 JP H0418474B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
carbon dioxide
polishing
absorption
potassium chloride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59250604A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61129890A (ja
Inventor
Juji Hashidate
Koichi Kawada
Takeo Myata
Takuhiro Ono
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP59250604A priority Critical patent/JPS61129890A/ja
Publication of JPS61129890A publication Critical patent/JPS61129890A/ja
Publication of JPH0418474B2 publication Critical patent/JPH0418474B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
    • H01S3/0346Protection of windows or mirrors against deleterious effects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、溶接、切断、熱処理等に用いられる
炭酸ガスレーザに使用されるレーザ光の透過窓、
あるいは集光レンズなど、レーザ光が内部を通過
する炭酸ガスレーザ用透明光学部品に関するもの
である。
従来例の構成とその問題点 第1図に一般的な炭酸ガスレーザ装置に於ける
光学部品の配置例を示す。1はレーザ発振管であ
つて、炭酸ガス、ヘリウム、窒素などのガスが内
部に封入または供給されている。2は透過窓であ
つて、炭酸ガスレーザの10.6μmの波長の光を透
過する塩化カリウムの材料を鏡面研磨し、発振管
内部側に、レーザ光の一部を反射させ、一部を通
過させる部分反射膜が蒸着されている。透過窓2
と対向して、金属等の表面を鏡面研磨し、高反射
率の物質(たとえば金)を蒸着した全反射鏡3が
設置されている。いま発振管1の内部のガスに高
電圧を印加(電極は図に省略)すれば全反射鏡3
と透過窓2を結ぶ光路にレーザ共振が発生し、透
過窓2よりレーザ光4が取り出される。レーザ光
4は同様に塩化カリウムのレーザ光透過材料より
作られる集光レンズ5によつて集光され、加工物
6に照射され目的の加工が実施される。以上述べ
た透過窓2、レンズ5は炭酸ガスレーザが内部を
通過し、同レーザに対し透明な部品であるので、
透明光学部品と称される。
しかしながら、透明光学部品といえども完全な
透明ではあり得ず、レーザ光が内部を通過する際
に何等かの吸収を生じる。吸収には大別して二つ
があり、バルク材料自身の性質に基づく吸収と、
部品表面に加工が施されたことによつて、加工変
質層、汚染などを発し、それによつてレーザ光の
通過が妨げられるために発生する表面吸収とがあ
る。いずれも小さいことが望ましいのはいう迄も
ない。
従来これらの透明光学部品は機械的な研磨によ
つて表面を仕上げるため、第2図断面図に示すよ
うに、内部のバルク7の状態と異なつた加工変質
層8が表面に存在していた。加工変質層8は加工
歪のある部分、マイクロクラツクの発生部分、非
晶質化した部分、また加工時の砥粒、加工液、ポ
リツシヤの物質による汚染層などから成つてい
る。このような加工変質層8の除去は、化学的作
用によるエツチングが考えられるが、エツチング
は必らずしも一様に進行しないため、光学部品の
ような高精度で表面形状を維持する必要のある場
合には用いることはできない。このため、化学的
作用と物理的な機械研磨作用を同時に加工機構に
保持せしめ、化学的作用によつて表層が除去され
るが、ポリツシヤおよび砥粒による研磨作用によ
つて表層の反応を均一に進行せしめ、また反応生
成物を精度正しく除去する、いわゆるメカノケミ
カルポリシングが用いられる。
発明の目的 本発明は炭酸ガスレーザの光学部品としての塩
化カリウムのメカノケミカルポリシグに関するも
ので、表面の吸収を大きく低減せしめ、レーザ光
の通過に伴う発熱およびパワーのロスを低下さ
せ、損傷が少なく、信頼性の高い炭酸ガスレーザ
用透明光学部品を提供することを目的としてい
る。
発明の構成 本発明は上記目的を達成するもので、ポリツヤ
としてピツチと蜜ロウの混合材を用い、ダイヤモ
ンド細粒又はアルミナ細粒を、エタノール溶液に
懸濁させたものを加工液として用いポリシングを
行う工程により塩化カリウム製レーザ透過面を仕
上げたことを特徴とする炭酸ガスレーザ用透明光
学部品を提供するものである。
実施例の説明 以下に本発明の実施例について説明する。
塩化カリウムは軟質であると同時に脆性を有
し、かつ潮解性を有するため、非常に加工の困難
な材料である。塩化カリウムの加工に於て、化学
的作用と物理的作用を有するメカノケミカルポリ
シングを実施する場合、化学的作用が著しいとエ
ツチングが過渡に進行し、表面の凹凸が大きくな
る。一方、物理的な砥粒による研磨作用が著しい
と表面の引かき傷が大となり、良好な鏡面が得ら
れない。また、仕上面あらさの向上に重点を置く
と、化学的作用による表面の軟化流動によつて面
を平滑化させる結果となり、塑性流動層が大きく
なり、加工変質層は増す。
従つて、適宜な化学作用を物理作用のバランス
を選択し、かつ炭酸ガスレーザ用光学部品として
性能に影響ない限りの仕上面あらさを設定し、表
面の吸収を可能な限り小さくすることを主眼に加
工条件を設定する必要がある。
化学加工液として実験の結果、グリセリンはエ
ツチング速度がやゝ過大であり、トリメチレング
リコールは粘性の低い点洗浄がやり易いが、やは
りエツチングレートが高く、表面を軟化し、流動
させる欠点がある。また、水分を含有するような
液では潮解を促進し、仕上面が白濁する。実験を
通じ、ピツチと蜜ロウを混合したポリシヤを用
い、ダイヤモンド細粒(例えば0.5μm)またはア
ルミナ細粒(例えば0.06μm)を、エタノール溶
液に懸濁させたものを加工液としてポリシングを
行つたものが、湿度30〜40%の条件下において最
も良好であることを見出した。
すなわち初期においては、砥粒による機械研磨
によつて目標形状に近い面積を得てその後エタノ
ール溶液を加工液としたメカノケミカルポリシン
グすることにより機械研磨作用と化学的作用の組
み合わせにより表面吸収が小さく、面粗さとし
て、Ra100〓以下の鏡面が得られる。
上記条件による本実施例の加工面の炭酸ガスレ
ーザ光の吸収率を測定した結果を、機械研磨面及
び従来の加工液による研磨面と対比して第3図に
示す。本実施例であるピツチポリシヤ+ダイヤモ
ンド又はアルミナ細粒+エタノール溶液を使用し
て研磨した光学部品は、従来の機械研磨のものに
比べて約1/40、プレピレングリコールを加工液と
して用いた従来のメカノケミカルポリシングによ
るものに比べて1/5程度の吸収率とすることがで
きた。
発明の効果 以上要するに本発明は、ダイヤモンド又はアル
ミナ細粒の機械的作用と、エタノール溶液の化学
的作用の組み合せにより行うメカノケミカルポリ
シングを行うことにより塩化カリウム製レーザ透
過面を研磨したもので炭酸ガスレーザ用透明光学
部品の表面吸収を大きく低下することができた。
特に10〜20KWの大出力レーザに於ては吸収に基
づく発熱が著しくなるので、実用上非常に大きい
効果を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図は一般的な炭酸ガスレーザ装置における
レーザ光学部品の配置図、第2図は従来のレーザ
光学部品の断面形状図、第3図は本発明のレーザ
光学部品と従来例との反射率の比較図である。 1……レーザ発振管、2……透過窓、3……全
反射鏡、4……レーザ光、5……集光レンズ、6
……加工物。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ポリツシヤとしてピツチと蜜ロウを混合した
    ものを用い、ダイヤモンド細粒またはアルミナ細
    粒を、エタノール溶液に懸濁せしめたものを加工
    液として用いポリシングを行う工程により塩化カ
    リウム製レーザ透過面を仕上げたことを特徴とす
    る炭酸ガスレーザ用透明光学部品。
JP59250604A 1984-11-29 1984-11-29 炭酸ガスレ−ザ用透明光学部品 Granted JPS61129890A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59250604A JPS61129890A (ja) 1984-11-29 1984-11-29 炭酸ガスレ−ザ用透明光学部品

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59250604A JPS61129890A (ja) 1984-11-29 1984-11-29 炭酸ガスレ−ザ用透明光学部品

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61129890A JPS61129890A (ja) 1986-06-17
JPH0418474B2 true JPH0418474B2 (ja) 1992-03-27

Family

ID=17210340

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59250604A Granted JPS61129890A (ja) 1984-11-29 1984-11-29 炭酸ガスレ−ザ用透明光学部品

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61129890A (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63264653A (ja) * 1987-04-22 1988-11-01 Nippon Carbide Ind Co Ltd 難燃性軟質樹脂組成物
JPS6465162A (en) * 1987-05-13 1989-03-10 Nippon Carbide Kogyo Kk Flame-retarding flexible resin composition
JPH03216287A (ja) * 1990-01-19 1991-09-24 Fanuc Ltd レーザ切断加工方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61129890A (ja) 1986-06-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101409682B1 (ko) 예비 연마된 유리 기판 표면을 마무리 가공하는 방법
US5800625A (en) Removal of material by radiation applied at an oblique angle
JP4089833B2 (ja) 偏光した輻射及び裏側への照射による材料の除去
KR100839721B1 (ko) 마스크 블랭크용 유리 기판 제조 방법 및 마스크 블랭크제조 방법
US5548606A (en) Multiform crystal and apparatus for fabrication
JPH0640797A (ja) ダイヤモンドの加工方法
US6269661B1 (en) Method for manufacturing optical components for use in the ultraviolet region
JP2628632B2 (ja) X線分光用結晶構成体及び該結晶構成体を備えるx線分析装置
JPH0418474B2 (ja)
JPS6243831B2 (ja)
JPH05330806A (ja) 立方晶窒化ホウ素の加工方法
JPS6285433A (ja) 研摩装置
JP2001300453A (ja) 物品表面の洗浄方法と洗浄装置、およびこれらによる光学素子の製造方法と装置、並びに光学系、露光方法、露光装置、デバイス製造方法
JPS62188670A (ja) 炭酸ガスレ−ザ用透明光学部品の製造方法
JPS6243830B2 (ja)
JPH0336402B2 (ja)
FR2528585B1 (fr) Procede de fabrication de miroir cylindrique, miroir cylindrique et appareil d'irradiation par un faisceau laser
JP2008207223A (ja) ダイヤモンド膜の平滑化加工方法
JPH03279902A (ja) 反射鏡及びその製造方法
JPS62136578A (ja) ニオブ酸リチウム基板の加工方法
JPS63282701A (ja) レ−ザ用ミラ−
Gorodetsky et al. Sapphire Surface Layer Structure and Transmission in Visible after Sputtering in H2–N2 RF Discharge
JPH06335789A (ja) ガラス基板の切断方法
JPH06132584A (ja) 凹面反射鏡の作成方法
JPH0451495Y2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term