JPH04175762A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは改善された電
子写真特性を与えるポリシランの有機光導電体を有する
電子写真感光体に関するものである。
子写真特性を与えるポリシランの有機光導電体を有する
電子写真感光体に関するものである。
最近、前述の問題点を解決するためにポリシランの検討
が行われている。
が行われている。
ポリシランは溶剤不溶のものと報告されていたが、〔ザ
・ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィー、1j5.2291pp(1924))、近年、ポ
リシランが溶剤口J溶性であり、フィルム形成が容易で
あることが報告され〔ザ・ジャーナル・オブ・アメリカ
ン・セラミック・ソサエティー、61,504pp(1
978))、注目を集めるようになった。
・ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィー、1j5.2291pp(1924))、近年、ポ
リシランが溶剤口J溶性であり、フィルム形成が容易で
あることが報告され〔ザ・ジャーナル・オブ・アメリカ
ン・セラミック・ソサエティー、61,504pp(1
978))、注目を集めるようになった。
また、ポリシランは主鎖のσ−結合によって1荷の移動
が可能な光半導体の特性を持ち〔フィジカル・レビュー
B、15.2818pp(1987))、電子写真感
光体への応用も期待されるようになった。しかし、この
ような電子写真感光体への通用のためには、ポリシラン
化合物は溶剤可溶性でフィルム形成能があるだけではな
く、微細な欠陥のないフィルム形成、均質性の高いフィ
ルム形成のできることが必要となる。電子材料において
は微細な欠陥も許されないため、置換基についても構造
の明確でフィルム形成に異常を発生させない高品位のポ
リシラン化合物を要求されている。
が可能な光半導体の特性を持ち〔フィジカル・レビュー
B、15.2818pp(1987))、電子写真感
光体への応用も期待されるようになった。しかし、この
ような電子写真感光体への通用のためには、ポリシラン
化合物は溶剤可溶性でフィルム形成能があるだけではな
く、微細な欠陥のないフィルム形成、均質性の高いフィ
ルム形成のできることが必要となる。電子材料において
は微細な欠陥も許されないため、置換基についても構造
の明確でフィルム形成に異常を発生させない高品位のポ
リシラン化合物を要求されている。
ポリシランは構造的に一次元をとり易いため〔団体物理
、Vo)、22.隘11.907頁(1987))、@
械物性面では脆いフィルムである。ポリシラン:よ硬<
跪いため、フィルム形成時に、熱収縮を起こして、クラ
ックを発生したり、折り曲げに対しても弱く、接触性が
悪く刊幼を発生しやすい、また、表面に接触物があると
削れ易く耐摩耗性も悪い。
、Vo)、22.隘11.907頁(1987))、@
械物性面では脆いフィルムである。ポリシラン:よ硬<
跪いため、フィルム形成時に、熱収縮を起こして、クラ
ックを発生したり、折り曲げに対しても弱く、接触性が
悪く刊幼を発生しやすい、また、表面に接触物があると
削れ易く耐摩耗性も悪い。
従来からポリシラン化合物の合成研究は種々の報告があ
るが、電子写真感光体材料に用いるにはまだ問題点を残
している。低分子量のポリシラン化合物では全てのSi
基に有機基が置換した構造のものが報告されている[ザ
・ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィー(Journal of American Ch
emical 5ociety)。
るが、電子写真感光体材料に用いるにはまだ問題点を残
している。低分子量のポリシラン化合物では全てのSi
基に有機基が置換した構造のものが報告されている[ザ
・ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィー(Journal of American Ch
emical 5ociety)。
刃4.(11,)3806pp (1972)、特公
昭63−38033号公報〕。
昭63−38033号公報〕。
前者の刊行物に記載のものは、ジメチルノランの末端基
にメチル基を置換した構造であり、後打の刊行物に記載
のものは、ジメチルンランの末端基にアルコキシ基を置
換した構造であるが、いずれも重合度が2〜6であり、
高分子の特徴を示さない、つまり、低分子量のためにそ
のままではフィルム形成能がなく、産業上の利用は難し
Ll。高分子量のポリシラン化合物で全てのSi基に有
機基を置換した構造のものが最近報告されている〔日経
ニューマテリアル8月15日号46ページ(1,988
))、L、かし特殊な反応中間体を経由するため、合成
収率の低下が予想され工業的な大量生産は困難である。
にメチル基を置換した構造であり、後打の刊行物に記載
のものは、ジメチルンランの末端基にアルコキシ基を置
換した構造であるが、いずれも重合度が2〜6であり、
高分子の特徴を示さない、つまり、低分子量のためにそ
のままではフィルム形成能がなく、産業上の利用は難し
Ll。高分子量のポリシラン化合物で全てのSi基に有
機基を置換した構造のものが最近報告されている〔日経
ニューマテリアル8月15日号46ページ(1,988
))、L、かし特殊な反応中間体を経由するため、合成
収率の低下が予想され工業的な大量生産は困難である。
また、ポリシラン化合物の合成方法がザ・ジャーナル・
オブ・オルガノメタリック・ケミストリー、198pp
C27(1980)又はザ・ジャーナil/・オブ
・ポリマー・サイエンス、ポリ゛7−・ケミストリー・
エデイジョン Vol、22゜1、59−170 p
p (1984)により報告されている。しかし、報告
されているいずれの合成方法もポリシラン主鎖の縮合反
応のみで、末端基については全く言及はない。そしてい
ずれの合成方法の場合も未反応のクロル基や副反応によ
る副生物の生成があり、所望のポリシラン化合物を定常
的に得るのは困難である。
オブ・オルガノメタリック・ケミストリー、198pp
C27(1980)又はザ・ジャーナil/・オブ
・ポリマー・サイエンス、ポリ゛7−・ケミストリー・
エデイジョン Vol、22゜1、59−170 p
p (1984)により報告されている。しかし、報告
されているいずれの合成方法もポリシラン主鎖の縮合反
応のみで、末端基については全く言及はない。そしてい
ずれの合成方法の場合も未反応のクロル基や副反応によ
る副生物の生成があり、所望のポリシラン化合物を定常
的に得るのは困難である。
米国特許第4.618,551号明細書では、前記のポ
リシラン化合物を電子写真感光体として用いているが、
一般の複写機では印加電位が500〜800Vで良いの
に、異常に高い印加電位1000Vを用いている。これ
は通常の電位ではポリシランの構造欠陥により電子写真
感光体に欠陥を生し、画像上の斑点状の異常現象を消失
させるためと考えられる。また、特開昭62−2699
64号公報では前記のポリシラン化合物を用いて電子写
真感光体を作成し、光感度を測定しているが、光感度が
遅く、従来知られているセレン感光体や有機感光体に比
べ何の利点も持たない。
リシラン化合物を電子写真感光体として用いているが、
一般の複写機では印加電位が500〜800Vで良いの
に、異常に高い印加電位1000Vを用いている。これ
は通常の電位ではポリシランの構造欠陥により電子写真
感光体に欠陥を生し、画像上の斑点状の異常現象を消失
させるためと考えられる。また、特開昭62−2699
64号公報では前記のポリシラン化合物を用いて電子写
真感光体を作成し、光感度を測定しているが、光感度が
遅く、従来知られているセレン感光体や有機感光体に比
べ何の利点も持たない。
さらに米国特許第4,772.525号明細書では、前
記のポリシラン化合物を電子写真感光体として用いてい
るが、)各声1に対してクラックを発生し易いことが報
告されている。この記載内容では、ポリシランの分子量
を大きくして耐溶剤性を同士させているが、ポリシラン
の本質を持っている機械物性を改良できるものではなく
、硬さ、脆さ、接着不良、耐摩耗性は改善されていない
。
記のポリシラン化合物を電子写真感光体として用いてい
るが、)各声1に対してクラックを発生し易いことが報
告されている。この記載内容では、ポリシランの分子量
を大きくして耐溶剤性を同士させているが、ポリシラン
の本質を持っている機械物性を改良できるものではなく
、硬さ、脆さ、接着不良、耐摩耗性は改善されていない
。
このように電子写真感光体材料に利用するためには、ま
だ数多くの問題点を残し、産業上に利用できるポリシラ
ン化合物は未だ提供されていないのが実状である。
だ数多くの問題点を残し、産業上に利用できるポリシラ
ン化合物は未だ提供されていないのが実状である。
本発明の目的は、前述の欠点又は不利を解消し、感度及
び成形性に優れ、かつ接着性が良く、耐摩耗性に優れた
電子写真感光体を提供することにある。
び成形性に優れ、かつ接着性が良く、耐摩耗性に優れた
電子写真感光体を提供することにある。
本発明の別の目的は、新規な有機光導電体を提供するこ
とにある。
とにある。
本発明のさらに別の目的は、溶媒溶解性が良く、優れた
フィルム形成能を有する構造欠陥のない電子写真感光体
を提供することにある。
フィルム形成能を有する構造欠陥のない電子写真感光体
を提供することにある。
上記本発明の目的は、導電性支持体上に感光層を有する
電子写真感光体において、感光層がポリシラン化合物と
融点が20℃以上であるフタル酸エステル類を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体によって達成される。
電子写真感光体において、感光層がポリシラン化合物と
融点が20℃以上であるフタル酸エステル類を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体によって達成される。
本発明の電子写真感光体の感光層に含有されるフタル酸
エステル類は、感光層表面への浸出を防ぐため望ましく
は融点20℃以上、より望ましくは融点40℃以上のも
のが用いられ、例えば、ジフェニルフタレート、ビス(
2,2,2−1−リフルオロエチル)フタレート、ジシ
クロへキシルフタレート等が挙げられる。
エステル類は、感光層表面への浸出を防ぐため望ましく
は融点20℃以上、より望ましくは融点40℃以上のも
のが用いられ、例えば、ジフェニルフタレート、ビス(
2,2,2−1−リフルオロエチル)フタレート、ジシ
クロへキシルフタレート等が挙げられる。
ポリシラン化合物とフタル酸エステル類とを含有する本
発明の感光層は、フタル酸エステル類が可塑剤として働
くことにより、ポリシラン化合物のみから成る感光層の
場合の問題点であるひびわれ・接着性を大きく改善し、
感度及び成形性に優れ、かつ接着性が良く、耐摩耗性に
優れた電子写真感光体を提供することができる。そして
本発明の該ポリシラン化合物とフタル酸エステル類とを
もって形成したフィルムは均質にして均一膜厚のもので
、優れた耐熱性を有し、硬度に冨み且つ靭性(toug
hness)に冨むものである。
発明の感光層は、フタル酸エステル類が可塑剤として働
くことにより、ポリシラン化合物のみから成る感光層の
場合の問題点であるひびわれ・接着性を大きく改善し、
感度及び成形性に優れ、かつ接着性が良く、耐摩耗性に
優れた電子写真感光体を提供することができる。そして
本発明の該ポリシラン化合物とフタル酸エステル類とを
もって形成したフィルムは均質にして均一膜厚のもので
、優れた耐熱性を有し、硬度に冨み且つ靭性(toug
hness)に冨むものである。
ポリシラン化合物とフタル酸エステル類との割合は重量
比7010〜95:5とするのが望ましく、フタル酸エ
ステル類が30%以上になると、電子写真特性上好まし
くなく、5%以下では効果が充分発現されない。
比7010〜95:5とするのが望ましく、フタル酸エ
ステル類が30%以上になると、電子写真特性上好まし
くなく、5%以下では効果が充分発現されない。
本発明において、ポリシラン化合物としては、好ましく
は下記の一般式CI)で表される、重量平均分子量が6
000乃至200000のポリシランが用いられる。
は下記の一般式CI)で表される、重量平均分子量が6
000乃至200000のポリシランが用いられる。
R+ Rz
A−Bi→コr−H6i→−i−A ’ ・(r )R
z R4 〔但し、式中、R2は炭素数1又は2のアルキル基、R
2は炭素数3乃至8のアルキル基、シクロアルキル基、
了り−ル基又はアラルキル基、R1は炭素数1乃至4の
アルキル基、R4は炭素数1乃至4のアルキル基をそれ
ぞれ示す。A、A’は、それぞれ炭素数4乃至12のア
ルキル基、シクロアルキル基、了り−ル基又はアラルキ
ル基であり、両者は同じであっても或いは異なってもよ
い。
z R4 〔但し、式中、R2は炭素数1又は2のアルキル基、R
2は炭素数3乃至8のアルキル基、シクロアルキル基、
了り−ル基又はアラルキル基、R1は炭素数1乃至4の
アルキル基、R4は炭素数1乃至4のアルキル基をそれ
ぞれ示す。A、A’は、それぞれ炭素数4乃至12のア
ルキル基、シクロアルキル基、了り−ル基又はアラルキ
ル基であり、両者は同じであっても或いは異なってもよ
い。
nとmは、ポリマー中の総モノマーに対するそれぞれの
モノマー数の割合を示すモル比であり、n+m= 1と
なり、0〈n≦1.0≦m〈1である。〕 本発明における一般式CI)で表されるポリシラン化合
物は、上述したように、その重量平均分子量が6000
乃至200000のものであるが、溶剤への溶解性およ
びフィルム形成能の観点からするより好ましいものは、
重量平均分子量が8000乃至120000のものであ
り、最適なものは重量平均分子量が10000乃至80
000のものである。
モノマー数の割合を示すモル比であり、n+m= 1と
なり、0〈n≦1.0≦m〈1である。〕 本発明における一般式CI)で表されるポリシラン化合
物は、上述したように、その重量平均分子量が6000
乃至200000のものであるが、溶剤への溶解性およ
びフィルム形成能の観点からするより好ましいものは、
重量平均分子量が8000乃至120000のものであ
り、最適なものは重量平均分子量が10000乃至80
000のものである。
なお、重量平均分子量について、それが6000以下で
あるものは高分子の特徴を示さず、フィルム形成能がな
い、また、200000以上であるものは溶剤に対して
の溶解性が悪く、所望のフィルム形成が困難である。
あるものは高分子の特徴を示さず、フィルム形成能がな
い、また、200000以上であるものは溶剤に対して
の溶解性が悪く、所望のフィルム形成が困難である。
また一般式〔I〕で表される上述のポリシラン化合物は
、形成するフィルムについて特に強靭性を望む場合、そ
の末端基A及びA′が、炭素数5乃至12のアルキル基
、炭素数5乃至12のシクロアルギル基、アリール基及
びアラルキル基からなる群から選択される基であること
が望ましい。
、形成するフィルムについて特に強靭性を望む場合、そ
の末端基A及びA′が、炭素数5乃至12のアルキル基
、炭素数5乃至12のシクロアルギル基、アリール基及
びアラルキル基からなる群から選択される基であること
が望ましい。
、二の場合の最も好ましいポリシラン化合物は、末端基
A及びΔ′が炭素数5乃至12のアルキル基及び炭素数
5万ヤ12のシクロアルキル基の中から選択される基で
ある場合である。
A及びΔ′が炭素数5乃至12のアルキル基及び炭素数
5万ヤ12のシクロアルキル基の中から選択される基で
ある場合である。
上述の−・般式〔I〕で表されるボリンラン化合物はつ
ぎのよう番こして合成することができる。即ち、酸素及
び水分を無くした高純度不活性雰囲気■で、ジクロロシ
ランモノ−?−をアルカリ金属からなる縮合触媒に接触
さゼでハロゲン脱離と縮重合を行い中間体ポリマーを合
成し、得られた該ポリマーを未反応の千ツマ−と分離し
、該ポリマーに所定のハロゲン化有機試薬をアルカリ金
属からなる縮合触媒の存在下で反応ゼしめて該ポリマー
の末端に有機基を縮合せしめることにより合成される。
ぎのよう番こして合成することができる。即ち、酸素及
び水分を無くした高純度不活性雰囲気■で、ジクロロシ
ランモノ−?−をアルカリ金属からなる縮合触媒に接触
さゼでハロゲン脱離と縮重合を行い中間体ポリマーを合
成し、得られた該ポリマーを未反応の千ツマ−と分離し
、該ポリマーに所定のハロゲン化有機試薬をアルカリ金
属からなる縮合触媒の存在下で反応ゼしめて該ポリマー
の末端に有機基を縮合せしめることにより合成される。
上記合成操作にあっては、出発物質たるジクロロソラン
、前記中間体ポリマー、ハロゲン化有機試薬及びアルカ
リ金属縮合触媒は、いずれも酸素や水分との反応性が高
いので、これら酸素や水分が存在する雰囲気の下では上
述のポリシラン化合物は得られない。
、前記中間体ポリマー、ハロゲン化有機試薬及びアルカ
リ金属縮合触媒は、いずれも酸素や水分との反応性が高
いので、これら酸素や水分が存在する雰囲気の下では上
述のポリシラン化合物は得られない。
したがって−船人〔I〕で表されるボリンラン化合物を
得る上述の操作は、酸素及び水分のいずれもが存在しな
い雰囲気丁で実施することが必要である。このため、反
応系に酸素及び水分のいずれもが存在するところとなら
ないように反応容器及び使用する試薬の全てについて留
意が必要である。例えば反応容器については、ブローボ
ックス中で真空吸引とアルゴンガス置換を行って水分や
酸素の系内への吸着がないようにする。使用するアルゴ
ンガスは、いずれの場合にあっても予めンリカゲルカラ
l、に通し脱水L7て、ついで銅粉末を100℃に加熱
したカラムに通して脱酸素処理して使用づる。
得る上述の操作は、酸素及び水分のいずれもが存在しな
い雰囲気丁で実施することが必要である。このため、反
応系に酸素及び水分のいずれもが存在するところとなら
ないように反応容器及び使用する試薬の全てについて留
意が必要である。例えば反応容器については、ブローボ
ックス中で真空吸引とアルゴンガス置換を行って水分や
酸素の系内への吸着がないようにする。使用するアルゴ
ンガスは、いずれの場合にあっても予めンリカゲルカラ
l、に通し脱水L7て、ついで銅粉末を100℃に加熱
したカラムに通して脱酸素処理して使用づる。
出発原料たるジクロロシランモノマーについては、反応
系内への導入直前で脱酸素処理した1述のアルゴンガス
を使用して減圧蒸留を行った後に反応系内に導入する。
系内への導入直前で脱酸素処理した1述のアルゴンガス
を使用して減圧蒸留を行った後に反応系内に導入する。
特定の有機基を導入するための上記ハロゲン化有機試薬
及び使用づる上記溶剤に゛ついても、ジクロロシランモ
ノマーと同様に脱酸素処理した後に反応系内に導入する
。なお、溶剤の脱酸素処理は、」二連の脱酸素処理した
アルゴンガスを使用して減圧蒸留した後、金属ナトリウ
ムで更に脱酸素処理する。
及び使用づる上記溶剤に゛ついても、ジクロロシランモ
ノマーと同様に脱酸素処理した後に反応系内に導入する
。なお、溶剤の脱酸素処理は、」二連の脱酸素処理した
アルゴンガスを使用して減圧蒸留した後、金属ナトリウ
ムで更に脱酸素処理する。
上記縮合触媒については、ワイヤー化或いはチップ化し
て使用するところ、前記ワイヤー化又はデツプ化は無酸
素のパラフィン系溶剤中で行い、酸化が起こらないよう
にして使用する。
て使用するところ、前記ワイヤー化又はデツプ化は無酸
素のパラフィン系溶剤中で行い、酸化が起こらないよう
にして使用する。
一般式〔I〕で表されるボリンラン化合物を製造するに
際して使用する出発原料のジクロロシランモノマーは、
一般式: R,R25iCj!、で表される・シラン化
合物か又はこれと−pA式:Rx Ra S IC(!
2で表されるシラン化合物が選択的に使用される。
際して使用する出発原料のジクロロシランモノマーは、
一般式: R,R25iCj!、で表される・シラン化
合物か又はこれと−pA式:Rx Ra S IC(!
2で表されるシラン化合物が選択的に使用される。
上述の縮合触媒は、ハロゲン脱離し5て縮合反応をもた
らしめるアルカリ金属が望ましく使用され、該アルカリ
金属の具体例としてリチウ11、ナ(・リウム、カリウ
ムが挙げられ、中でもリチウ1、及びナトリウムが好適
である。
らしめるアルカリ金属が望ましく使用され、該アルカリ
金属の具体例としてリチウ11、ナ(・リウム、カリウ
ムが挙げられ、中でもリチウ1、及びナトリウムが好適
である。
上述のハロゲン化有機試薬は、A及びA′で表される置
換基を導入するためのものであ−、て、ハロゲン化アル
キル化合物、ハロゲン化シクロアルキル化合物、ハロゲ
ン化アリール化合物及びハロゲン化アラルキル化合物か
らなる群から選択される適当ム化合物、即ち、〜般式:
A−X及び/又は−船式:A’−X(但し、XはCZ
又は+3r)で表され、後述する具体例の中の適当な化
合物が選択的に使用される。
換基を導入するためのものであ−、て、ハロゲン化アル
キル化合物、ハロゲン化シクロアルキル化合物、ハロゲ
ン化アリール化合物及びハロゲン化アラルキル化合物か
らなる群から選択される適当ム化合物、即ち、〜般式:
A−X及び/又は−船式:A’−X(但し、XはCZ
又は+3r)で表され、後述する具体例の中の適当な化
合物が選択的に使用される。
一]−述の中間体ポリマーを合成するに際して使用する
一般式:R+RzSicρ2又はこれと−船人:I々3
RA S +、 C1zで表されるジクロロシランモ
ノマーは、所定の溶剤に溶解して反応系に導入されると
ころ、該溶剤としては、パラフィン系の無極性炭化水素
溶剤が望ましく使用される。該溶剤の好ましい例とし7
ては、n−ヘキサン、n−オクタン、n〜ノナン、n−
ドデカン、シクロヘギづン及びシクロオクタンが¥げら
れる。
一般式:R+RzSicρ2又はこれと−船人:I々3
RA S +、 C1zで表されるジクロロシランモ
ノマーは、所定の溶剤に溶解して反応系に導入されると
ころ、該溶剤としては、パラフィン系の無極性炭化水素
溶剤が望ましく使用される。該溶剤の好ましい例とし7
ては、n−ヘキサン、n−オクタン、n〜ノナン、n−
ドデカン、シクロヘギづン及びシクロオクタンが¥げら
れる。
そして生成する中間体ポリマーはこれらの溶剤に不溶で
あることから、該中間体ポリマーを未反応のジクロロシ
ランモノマーから分離するについて好都合である。分離
した中間体ポリマーは、ついで上述のハロゲン化有機試
薬と反応せしめるわけであるが、その際両者は同し溶剤
に溶解せしめて反応に供される。この場合の溶剤として
はベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤が好適
に使用される。
あることから、該中間体ポリマーを未反応のジクロロシ
ランモノマーから分離するについて好都合である。分離
した中間体ポリマーは、ついで上述のハロゲン化有機試
薬と反応せしめるわけであるが、その際両者は同し溶剤
に溶解せしめて反応に供される。この場合の溶剤として
はベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤が好適
に使用される。
上述のジクロロシランモノマーを上述のアルカリ金属触
媒を使用して縮合せしめて所望の中間体を得るについて
は、反応温度と反応時間を調節することにより得られる
中間体ポリマーの重合度を適宜制御できる。しかしなが
らその際の反応温度は60〜130℃の間に設定するの
が望ましい。
媒を使用して縮合せしめて所望の中間体を得るについて
は、反応温度と反応時間を調節することにより得られる
中間体ポリマーの重合度を適宜制御できる。しかしなが
らその際の反応温度は60〜130℃の間に設定するの
が望ましい。
以上説明の一般式〔I〕で表される上述のポリシラン化
合物の製造方法の望ましい一態様を以下に述べる。
合物の製造方法の望ましい一態様を以下に述べる。
即ち、上述のポリシラン化合物の製造方法は、い)中間
体ポリマーを製造する工程と(ii)i中間体ポリマー
の末端に置換基A及びA′を導入する工程とからなる。
体ポリマーを製造する工程と(ii)i中間体ポリマー
の末端に置換基A及びA′を導入する工程とからなる。
上記(i)の工程はつぎのようにして行われる。
即ち、反応容器の反応系内を酸素及び水分を完全に除い
てアルゴンで支配され所定の内圧に維持した状態にし、
無酸素のパラフィン系溶剤と無酸素の縮合触媒を入れ、
ついで無112素のジクロロシランモノマーを入れ、全
体を撹拌しながら所定温度に加熱して該モノマーの縮合
を行う。この際前記ジクロロシランモノマーの縮合度合
は、反応温度と反応時間を調節し、所望の重合度の中間
体ポリマーが生成されるようにする。
てアルゴンで支配され所定の内圧に維持した状態にし、
無酸素のパラフィン系溶剤と無酸素の縮合触媒を入れ、
ついで無112素のジクロロシランモノマーを入れ、全
体を撹拌しながら所定温度に加熱して該モノマーの縮合
を行う。この際前記ジクロロシランモノマーの縮合度合
は、反応温度と反応時間を調節し、所望の重合度の中間
体ポリマーが生成されるようにする。
この際の反応は、下記の反応式〔I〕で表されるように
ジクロロシランモノマーのクロル基と触媒が脱塩反応を
起こしてSi基同志が縮合を繰り返してポリマー化して
中間体ポリマーを生成する。
ジクロロシランモノマーのクロル基と触媒が脱塩反応を
起こしてSi基同志が縮合を繰り返してポリマー化して
中間体ポリマーを生成する。
触媒
nR+Rz 5iCj!2+mR:+Rn 5iCA、
−IR3 [I Cl−−H手→T−−H4→1−Cl・・い)I R,Ra なお、具体的反応操作手順は、パラフィン系溶剤中に縮
合触媒(アルカリ金属)を仕込んでおき、加熱下で撹拌
しながらジクロロシランモノマーを滴下して添加する。
−IR3 [I Cl−−H手→T−−H4→1−Cl・・い)I R,Ra なお、具体的反応操作手順は、パラフィン系溶剤中に縮
合触媒(アルカリ金属)を仕込んでおき、加熱下で撹拌
しながらジクロロシランモノマーを滴下して添加する。
ポリマー化の度合は、反応液をサンプリングして確認す
る。
る。
ポリマー化の簡単な確認はサンプリング液を揮発させフ
ィルムが形成できるかで判断できる。vM合が進み、ポ
リマーが形成されると白色固体となって反応系から析出
してくる。ここで冷却し、反応系からモノマーを含む溶
媒をデカンチーシランで分離し、中間体ポリマーを得る
。
ィルムが形成できるかで判断できる。vM合が進み、ポ
リマーが形成されると白色固体となって反応系から析出
してくる。ここで冷却し、反応系からモノマーを含む溶
媒をデカンチーシランで分離し、中間体ポリマーを得る
。
ついで前記(blの工程を行う。即ち、得られた中間体
ポリマーの末端基のクロル基を)\ロゲン化有機剤と縮
合触媒(アルカリ金属)を用いて脱塩縮合を行いポリマ
ー末端基を所定のを機基で置換する。この際の反応は下
記の反応式で表される。
ポリマーの末端基のクロル基を)\ロゲン化有機剤と縮
合触媒(アルカリ金属)を用いて脱塩縮合を行いポリマ
ー末端基を所定のを機基で置換する。この際の反応は下
記の反応式で表される。
R1R3
Cl −E5i→了−一−Hi−トj−CII
Rz Ra 触媒+ (2A−X
or A−X+A’ −X) −一→R,R。
or A−X+A’ −X) −一→R,R。
A−H1→コr−−H娼i−テj−A ’ −(ii
)[I Rz R4 このところ具体的には、ジクロロシランモノマーの縮合
で得られた中間体ポリマーに芳香族系溶剤を加え溶解す
る。次に縮合触媒(アルカリ金属)を加え、室温でハロ
ゲン化有機剤を滴下する。
)[I Rz R4 このところ具体的には、ジクロロシランモノマーの縮合
で得られた中間体ポリマーに芳香族系溶剤を加え溶解す
る。次に縮合触媒(アルカリ金属)を加え、室温でハロ
ゲン化有機剤を滴下する。
この時ポリマー末端基同士の縮合反応と競合するためハ
ロゲン化有機剤を出発モノマーに対して0.01〜0.
1倍の過剰量添加する。徐々に加熱し、80〜100℃
で1時間加熱撹拌し、目的の反応4行う。
ロゲン化有機剤を出発モノマーに対して0.01〜0.
1倍の過剰量添加する。徐々に加熱し、80〜100℃
で1時間加熱撹拌し、目的の反応4行う。
反Jj1、後冷却し、触媒のアルカリ金属を除去するた
め、メタ、ノールを加える。次にポリシランを[・ルj
凡2/で抽出し5、ソリ力ゲル力ラムで精製する。
め、メタ、ノールを加える。次にポリシランを[・ルj
凡2/で抽出し5、ソリ力ゲル力ラムで精製する。
かくして所望のポリシラン化合物が得られる。
(以下余白)
、、、、 q、−g 、、、、、、、、、、CL艶
し−T @ とす1Za ;t: ’) > ’
yユ≧′−イLイ1物oH9N・ (13(O12)s←S1−〕1−KC1)7)田(:
l C,−1し2、 じ 可。
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し
CI(1
・
4゜
(CI+3>3C−4Si +−rc(IIm+)i
C−5し C,H。
C−5し C,H。
aaca(z)s−(Sl ト1−(Ob)sob
c−10〈)−+ s山−<L> C−
1,2Hz C[Ia (Qi2) s−壬S+ □(C1lz)s
clL+ C48O!(Olt)z α(C)+3)2 島 01 (Oh) 2 1I CH3αら I 13cH3 可、O12 島CHゴ 側、 島 島 島 I [ Oh >x (Olz) 3 しn3 島 ■ Olz (CH2)3 U+= 注):上記構造式中のXとYは、いずれも華量体重合挙
、位を示ず。そしてnは、X/(X+Y)、またmは、
Y/ (X+y)の計算式によりそれぞれ求められる。
c−10〈)−+ s山−<L> C−
1,2Hz C[Ia (Qi2) s−壬S+ □(C1lz)s
clL+ C48O!(Olt)z α(C)+3)2 島 01 (Oh) 2 1I CH3αら I 13cH3 可、O12 島CHゴ 側、 島 島 島 I [ Oh >x (Olz) 3 しn3 島 ■ Olz (CH2)3 U+= 注):上記構造式中のXとYは、いずれも華量体重合挙
、位を示ず。そしてnは、X/(X+Y)、またmは、
Y/ (X+y)の計算式によりそれぞれ求められる。
本発明の電子写真感光体の構成は積層型感光体、単層型
感光体いずれでも良い。
感光体いずれでも良い。
積層型感光体は、第1M〜第4図のように電荷発生層と
ポリシラン層を積層さゼた構成で、第1図と第3図は一
次帯電が負で用いられ、第2図と第4図は一次帯電が正
で用いられる。
ポリシラン層を積層さゼた構成で、第1図と第3図は一
次帯電が負で用いられ、第2図と第4図は一次帯電が正
で用いられる。
電荷発生層2は、第3.4図に示すごとく電荷発生物質
6を蒸着するか、又は、第142図に示すごとく電荷発
生物質3をバインダー樹脂4中に分散し、塗布したもの
である。後者の場合、電荷発生層2は、電荷発生物質3
とバインダー樹脂4を有機溶媒に仕込み、ボールミル、
サンF′ミル、アトライター等の分散機を用いて分散液
を調製し、該分散液を、ワイヤーバー塗T、浸/Jl塗
工、ドクターブレード塗工、スプレー塗二L、ロール塗
工、ビード塗工等により塗下し、乾燥することによって
形成される。
6を蒸着するか、又は、第142図に示すごとく電荷発
生物質3をバインダー樹脂4中に分散し、塗布したもの
である。後者の場合、電荷発生層2は、電荷発生物質3
とバインダー樹脂4を有機溶媒に仕込み、ボールミル、
サンF′ミル、アトライター等の分散機を用いて分散液
を調製し、該分散液を、ワイヤーバー塗T、浸/Jl塗
工、ドクターブレード塗工、スプレー塗二L、ロール塗
工、ビード塗工等により塗下し、乾燥することによって
形成される。
電荷発生物質を分散するバインダー樹脂は、広範な絶縁
性樹脂あるいは有機光導電性ポリマーから選択されるが
、ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ボリ
アリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、フェノ
キシ樹脂、セルロース系樹脂、アクリル樹脂、ポリウレ
タン及び本発明のポリシラン化合物等が好ましく、その
使用量は電荷発生層中の含有率で80重量%以下、好ま
しくは40重量%以下である。
性樹脂あるいは有機光導電性ポリマーから選択されるが
、ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ボリ
アリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、フェノ
キシ樹脂、セルロース系樹脂、アクリル樹脂、ポリウレ
タン及び本発明のポリシラン化合物等が好ましく、その
使用量は電荷発生層中の含有率で80重量%以下、好ま
しくは40重量%以下である。
また使用する溶剤は前記の樹脂を溶解し、後述の電荷輸
送層や下引層を熔解しないものから選択することが好ま
しい。
送層や下引層を熔解しないものから選択することが好ま
しい。
具体的には、テトラヒドロフラン、1.4−ジオキサン
等のエーテル類、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン等のケトン類、N、N−ジメチルホルムアミド等のア
ミド類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、トル
エン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族類、メタノ
ール、エタノール、2−プロパツール等のアルコール類
、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエチレン、四
塩化炭素、トリクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭
化水素類等挙げられる。
等のエーテル類、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン等のケトン類、N、N−ジメチルホルムアミド等のア
ミド類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、トル
エン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族類、メタノ
ール、エタノール、2−プロパツール等のアルコール類
、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエチレン、四
塩化炭素、トリクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭
化水素類等挙げられる。
電荷発生層の膜厚は、第1図の場合は0.1μm以上5
μm以下、第2図の場合は1μm以ト10μm以F、第
3図の場合は1μm以下、そして第4図の場合は3μm
以下とするのが好ましい。
μm以下、第2図の場合は1μm以ト10μm以F、第
3図の場合は1μm以下、そして第4図の場合は3μm
以下とするのが好ましい。
ポリシラン層1は、ボリンラン化合物及びフタル酸エス
テル類を有機溶媒に溶解し、この溶解液をワイヤーバー
塗工、浸漬塗工、ドクターブレード塗工、スプレー塗工
、ロール塗T、ビード塗Tにより塗工し、乾燥すること
により形成される。
テル類を有機溶媒に溶解し、この溶解液をワイヤーバー
塗工、浸漬塗工、ドクターブレード塗工、スプレー塗工
、ロール塗T、ビード塗Tにより塗工し、乾燥すること
により形成される。
ポリシラン層1の膜厚は、4μm以上30μm以下であ
り、7μm以上26μm以下が好ましい。
り、7μm以上26μm以下が好ましい。
ポリシラン化合物及びフタル酸エステル類を溶解する有
機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロ
ホルム等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等が用いられる。
機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロ
ホルム等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等が用いられる。
また、必要に応してバインダー樹脂を加えることもでき
る。
る。
第5図に示す単層型感光体の場合、電荷発生物質3をポ
リシラン7及びフタル酸エステルに分散させた構成であ
る。この場合、−次帯電は正、負いずれでも良い。該単
層型を光体は、電荷発生物質と有ll溶媒を仕込み、ボ
ールミル、サンドミル、アトライター等の分散機を用い
て分散し、次いでこの分散液にポリシラン化合物及びフ
タル酸エステル類を加え溶解して、電荷発生物質分散ポ
リシラン溶液を作成し、この溶液を導電性支持体5上に
ワイヤーバー塗工、浸漬塗工、ドクターブレード塗工、
スプレー塗工、ロール塗工、ビード塗工等により塗工し
、乾燥することによって形成される。
リシラン7及びフタル酸エステルに分散させた構成であ
る。この場合、−次帯電は正、負いずれでも良い。該単
層型を光体は、電荷発生物質と有ll溶媒を仕込み、ボ
ールミル、サンドミル、アトライター等の分散機を用い
て分散し、次いでこの分散液にポリシラン化合物及びフ
タル酸エステル類を加え溶解して、電荷発生物質分散ポ
リシラン溶液を作成し、この溶液を導電性支持体5上に
ワイヤーバー塗工、浸漬塗工、ドクターブレード塗工、
スプレー塗工、ロール塗工、ビード塗工等により塗工し
、乾燥することによって形成される。
ポリシラン化合物に対するフタル酸エステル添加萱は3
0〜5重量%が望ましい。有機溶媒としては、ポリシラ
ン化合物及びフタル酸エステルを溶解するため、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶
媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が用いられる。
0〜5重量%が望ましい。有機溶媒としては、ポリシラ
ン化合物及びフタル酸エステルを溶解するため、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶
媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が用いられる。
本発明の電子写真感光体において使用される電荷発生物
質は、Se、5eTe、5eAs等の無i電荷発生物質
や、ピリリウム、チアピリリウム系染料、フタロシアニ
ン系顔料、アントアントロン顔料、ジベンズピレンキノ
ン顔料、ビラントロン顔料、トリスアゾ顔料、ジスアゾ
顔料、アゾ顔料、インジゴ顔料、キナクリドン系顔料、
非対称キノシアニン、キノシアニン等の有機′gi荷発
荷物生物質いることができる。
質は、Se、5eTe、5eAs等の無i電荷発生物質
や、ピリリウム、チアピリリウム系染料、フタロシアニ
ン系顔料、アントアントロン顔料、ジベンズピレンキノ
ン顔料、ビラントロン顔料、トリスアゾ顔料、ジスアゾ
顔料、アゾ顔料、インジゴ顔料、キナクリドン系顔料、
非対称キノシアニン、キノシアニン等の有機′gi荷発
荷物生物質いることができる。
感光層を設ける導電性支持体5としては、例えば、アル
ミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス、
チタン、ニッケル、インジウム、金、白金等が用いられ
る。またこうした金属あるいは合金を、真空蒸着法によ
って被膜形成したプラスチ1フク(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテ
レフタレート、アクリル樹脂等)や、導電性粒子(例え
ば、カーボンブランク、銀粒子等)を適当なバインダー
樹脂と共にプラスチック又は合算基板上に被覆した支持
体あるいは導電性粒子をプラスチックや紙に含浸した支
持体等を用いることができる。
ミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス、
チタン、ニッケル、インジウム、金、白金等が用いられ
る。またこうした金属あるいは合金を、真空蒸着法によ
って被膜形成したプラスチ1フク(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテ
レフタレート、アクリル樹脂等)や、導電性粒子(例え
ば、カーボンブランク、銀粒子等)を適当なバインダー
樹脂と共にプラスチック又は合算基板上に被覆した支持
体あるいは導電性粒子をプラスチックや紙に含浸した支
持体等を用いることができる。
導電性支持体と感光層の中間に、バリヤー機能と接着機
能をもつ下引層を設けることもできる。
能をもつ下引層を設けることもできる。
下引層は、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセ
ルロース、ポリアミド(ナイロン6、ナイロン66、ナ
イロン610、共重合ナイロン、アルコキシメチル化ナ
イロン等)、ポリウレタン、酸化アルミニウム等によっ
て形成できる。
ルロース、ポリアミド(ナイロン6、ナイロン66、ナ
イロン610、共重合ナイロン、アルコキシメチル化ナ
イロン等)、ポリウレタン、酸化アルミニウム等によっ
て形成できる。
下引層の膜厚は5μm以下、好ましくは0,1〜3μm
が適当である。
が適当である。
本発明の電子写真感光体は、電子写真複写機に利用する
のみならず、レーザービームプリンター、CRTプリン
ター、LEDプリンター、液晶プリンター、レーザー製
版等の電子写真応用分野にも広く用いることができる。
のみならず、レーザービームプリンター、CRTプリン
ター、LEDプリンター、液晶プリンター、レーザー製
版等の電子写真応用分野にも広く用いることができる。
以下、本発明において好ましく用いられる一般式〔I〕
で表されるポリシラン化合物の製造例を具体的に記載す
る。
で表されるポリシラン化合物の製造例を具体的に記載す
る。
1遺炎工
真空吸引とアルゴン置換を行ったブローボックスの中に
三ツロフラスコを用意し、これにリフランクスコンデン
サーと温度針と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
三ツロフラスコを用意し、これにリフランクスコンデン
サーと温度針と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
この三ツロフラスコ中に脱水ドデカン100グラムとワ
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した1次にジクロロシランモノマー
(チッソ株製)(a −7) 0.1モルを脱水ドデカ
ン30グラムに熔解させて、用意した溶液を反応系にゆ
っくり滴下した。
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した1次にジクロロシランモノマー
(チッソ株製)(a −7) 0.1モルを脱水ドデカ
ン30グラムに熔解させて、用意した溶液を反応系にゆ
っくり滴下した。
滴下後、100℃で1時間縮重合させることにより、白
色固体を析出させた。この後冷却し、ドデカンをデカン
テーションして、さらに脱水トルエン100グラムを加
えることにより、白色固体を溶解させ、金属ナトリウム
0.01モルを加えた。
色固体を析出させた。この後冷却し、ドデカンをデカン
テーションして、さらに脱水トルエン100グラムを加
えることにより、白色固体を溶解させ、金属ナトリウム
0.01モルを加えた。
次に、n−へキシルクロライド(東京化成製)(b−3
)0.01モルをトルエン10mlに溶解させて用意し
たWI液を反応系に撹拌しながらゆっくり滴下して添加
し、100℃で1時間加熱した。
)0.01モルをトルエン10mlに溶解させて用意し
たWI液を反応系に撹拌しながらゆっくり滴下して添加
し、100℃で1時間加熱した。
この後冷却し、過剰の金属ナトリウムを処理するため、
メタノール50m1tをゆっくり滴下した。
メタノール50m1tをゆっくり滴下した。
これにより懸濁層とトルエン層とが生成しまた。
次に、トルエン層を分離し、減圧濃縮した後シリカゲル
カラム、クロマトグラフィーで展開して精製し、ポリシ
ラン化合物M1を得た。収率は65%であった。
カラム、クロマトグラフィーで展開して精製し、ポリシ
ラン化合物M1を得た。収率は65%であった。
このポリシラン化合物の重量平均分子量はG PC法に
よりTIIF展開し測定した結果75,000であった
(ボリスチレニ/を標準とした)。
よりTIIF展開し測定した結果75,000であった
(ボリスチレニ/を標準とした)。
同[は、IRはKBrベレットを作成し7、N1col
et FT−T PF 750 にコレ−・ジャパ
ン製)により測定した。また、NMRはサンプルをCD
(1!3に溶解し、FT−NMR,FX−90Q(日本
電子製)により測定した。
et FT−T PF 750 にコレ−・ジャパ
ン製)により測定した。また、NMRはサンプルをCD
(1!3に溶解し、FT−NMR,FX−90Q(日本
電子製)により測定した。
なお、本発明で得られたポリシラン化合物においては、
未反応のS i−Cρ、副生成物の5i−0−3i、S
i =O−Rに帰属されるI R吸収は全く存在しなか
った。結果を第4表に示した。
未反応のS i−Cρ、副生成物の5i−0−3i、S
i =O−Rに帰属されるI R吸収は全く存在しなか
った。結果を第4表に示した。
製−造−例−?−
真空吸引とアルゴン置換を行ったブローボックスの中に
]ニノロフラスコを用意し、これにリフラックスコンデ
ンサーと温度言1と滴FローFを取り付Bノで、滴下ロ
ートのバイパス管からアルゴンガスを通した。
]ニノロフラスコを用意し、これにリフラックスコンデ
ンサーと温度言1と滴FローFを取り付Bノで、滴下ロ
ートのバイパス管からアルゴンガスを通した。
このニッロフラスコ中に脱水ドデカン100グラ1、と
1u角の金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。次ムこジクロロシランモノマ
ー(チッソ側製)(a 7)0.1モルを脱水ドデカ
ン30グラムに溶解させて用意しまた溶液を反応系にゆ
っくり滴下した。滴下後、100℃で2時間縮重合させ
ることにより、白色固体を析出させた。この後冷却し、
ドデカンをデカンテーションして、さらに脱水トルエン
100グラムを加えることにより白色固体を溶解させ、
金属リチウム0.02モルを加えた。
1u角の金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。次ムこジクロロシランモノマ
ー(チッソ側製)(a 7)0.1モルを脱水ドデカ
ン30グラムに溶解させて用意しまた溶液を反応系にゆ
っくり滴下した。滴下後、100℃で2時間縮重合させ
ることにより、白色固体を析出させた。この後冷却し、
ドデカンをデカンテーションして、さらに脱水トルエン
100グラムを加えることにより白色固体を溶解させ、
金属リチウム0.02モルを加えた。
次に、クロルヘンゼン(東京化成製)(b−5)0.0
2モルをトルエンlQm1に熔解さゼて用意した溶液を
反応系に撹拌しながらゆっくり滴下して添加し2.1.
00℃で1時間加熱した。この後冷却し、過剰の金属ナ
トリウムを処理するため、メタノール50m1をゆっく
り滴下した。これにより懸濁層とトルエン層とが生成し
た。
2モルをトルエンlQm1に熔解さゼて用意した溶液を
反応系に撹拌しながらゆっくり滴下して添加し2.1.
00℃で1時間加熱した。この後冷却し、過剰の金属ナ
トリウムを処理するため、メタノール50m1をゆっく
り滴下した。これにより懸濁層とトルエン層とが生成し
た。
次に、トルエン層を分離し、減圧濃縮した後、シリカゲ
ルカラム、クロマトグラフィーで展開して精製し7、ポ
リシラン化合41171階2 (e−3)を得た。収率
は72%であり、重量平均分子量は92.000であっ
た。結果を第4表に示U7た。
ルカラム、クロマトグラフィーで展開して精製し7、ポ
リシラン化合41171階2 (e−3)を得た。収率
は72%であり、重量平均分子量は92.000であっ
た。結果を第4表に示U7た。
−製造例−λ
真空吸引とアルゴン置換を行ったブローボックスの中に
二ソロフラスコを用意し、これにリフラックスコンデン
サーと温度耐と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
二ソロフラスコを用意し、これにリフラックスコンデン
サーと温度耐と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
この二ソロフラスコ中に脱水n−ヘキサン100グラム
とlWM角の金属ナトリウム03モルを仕込み、撹拌し
ながら80℃に加熱した。次にジクロロシランモノマー
(チッソ株製)(a−7)0.1モルを脱水n−ヘキサ
ンに溶解させて用意した溶液を反応系にゆっくりと滴下
した。滴下後80℃で3時間縮重合させることにより、
白色固体を析出させた。この後冷却し、n−ヘキサンを
デカンテーションして、さらに脱水トルエン100グラ
ムを加えることにより白色固体を溶解させ、金属ナトリ
ウム0.01モルを加えた。次に、ヘンシルクロライド
(東京化成製)(b−12>0.01モルをトルエン1
0m/に溶解さセで用意した溶液を反応系に撹拌しなが
らゆっくり滴下して添加し、80℃で1時間加熱した。
とlWM角の金属ナトリウム03モルを仕込み、撹拌し
ながら80℃に加熱した。次にジクロロシランモノマー
(チッソ株製)(a−7)0.1モルを脱水n−ヘキサ
ンに溶解させて用意した溶液を反応系にゆっくりと滴下
した。滴下後80℃で3時間縮重合させることにより、
白色固体を析出させた。この後冷却し、n−ヘキサンを
デカンテーションして、さらに脱水トルエン100グラ
ムを加えることにより白色固体を溶解させ、金属ナトリ
ウム0.01モルを加えた。次に、ヘンシルクロライド
(東京化成製)(b−12>0.01モルをトルエン1
0m/に溶解さセで用意した溶液を反応系に撹拌しなが
らゆっくり滴下して添加し、80℃で1時間加熱した。
この後冷却し、過剰の金属ナトリウムを処理するため、
メタノール5 Q m、 1をゆっくり滴下した。これ
により懸濁層とトルエン層とが生成した6 次に、トルエン層を分離し、減圧濃縮した後、シリカゲ
ルカラム、クロマトグラフィーで展開して精製し、ポリ
シラン化合物階3を得た。収率は61%であり、重量平
均分子量は47,000であった。結果を第4表に示し
た。
メタノール5 Q m、 1をゆっくり滴下した。これ
により懸濁層とトルエン層とが生成した6 次に、トルエン層を分離し、減圧濃縮した後、シリカゲ
ルカラム、クロマトグラフィーで展開して精製し、ポリ
シラン化合物階3を得た。収率は61%であり、重量平
均分子量は47,000であった。結果を第4表に示し
た。
なお、このポリシラン化合物においては未反応のS i
−C12、副生成物のSi −0−3i、 5i−0
−Rに帰属されるIR吸収は全く存在しなかった。
−C12、副生成物のSi −0−3i、 5i−0
−Rに帰属されるIR吸収は全く存在しなかった。
第1表に示すジクロロシランモノマーと末端基処理剤を
用いて実施例3と同様に合成を行った。
用いて実施例3と同様に合成を行った。
合成したポリシランの収率、重量平均分子量を第4表に
示す。
示す。
なお、このポリシラン化合物においては未反応の5i−
Cj、副生成物のSi −0−3i、5i−C1−Rに
帰属されるTR吸収は全く存在しなかった。
Cj、副生成物のSi −0−3i、5i−C1−Rに
帰属されるTR吸収は全く存在しなかった。
ル較製遺五上
実施例3と同様にしてジクロロシランモノマー(チッソ
部製)(a−7)を縮合させポリマーの末端基を処理し
ない以外は実施例3と同様に合成しポリシラン化合物1
&D−1を得た。収率は60%で重量平均分子量は46
,000であった。結果を第4表に示した。
部製)(a−7)を縮合させポリマーの末端基を処理し
ない以外は実施例3と同様に合成しポリシラン化合物1
&D−1を得た。収率は60%で重量平均分子量は46
,000であった。結果を第4表に示した。
なお、このポリシラン化合物においては末端基には未反
応の5i−Cf、副生成物の5i−0−Rに帰属される
TR吸収が認められた。
応の5i−Cf、副生成物の5i−0−Rに帰属される
TR吸収が認められた。
製」十〇レ−10
第2表に示すジクロロシランモノマーを用いて反応時間
を第2表のように変化させて実施例3と同様に縮重合を
行い、さらに末端基処理は第2表の化合物を用いて製造
例3と同様にポリシランを合成し、精製してポリシラン
化合物階6〜10を得た。
を第2表のように変化させて実施例3と同様に縮重合を
行い、さらに末端基処理は第2表の化合物を用いて製造
例3と同様にポリシランを合成し、精製してポリシラン
化合物階6〜10を得た。
合成したポリシラン化合物の収率、重量平均分子量を第
4表に示す。
4表に示す。
なお、このポリシラン化合物においては未反応の5i−
C1l、副生成物のSl−○−3i、5i−C)−Rに
帰属されるTR吸収は全くなかった。
C1l、副生成物のSl−○−3i、5i−C)−Rに
帰属されるTR吸収は全くなかった。
ル較製造貞1
製造例6においてジクロロシランモノマーの反応時間を
10分とする以外は製造例6と全く同様に合成し、ポリ
シラン化合物NlID−2を得た。
10分とする以外は製造例6と全く同様に合成し、ポリ
シラン化合物NlID−2を得た。
合成したポリシランの収率、重量平均分子量、IRおよ
びNMRを第4表に示す。
びNMRを第4表に示す。
なお、このポリシラン化合物においては、未反応の3l
−CI、副生成物の5i−0−3i。
−CI、副生成物の5i−0−3i。
5i−0−Rに帰属されるTR吸収は全く存在しなかっ
た。
た。
11遺り−L二F±
第3表に示すジクロロシランモノマーと未815処理剤
を用いて製造例1と同様に合成を行った。
を用いて製造例1と同様に合成を行った。
合成したポリシランの収率、重量平均分子量を第4表に
示す。
示す。
なお、シランモノマーの共重合比はNMRのプロトン数
より求めた。
より求めた。
几較製造拠主
真空吸引とアルゴン置換を行ったブローボックスの中に
三ンロフラスコを用意し、これにリフラックスコンデン
サーと温度針と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
三ンロフラスコを用意し、これにリフラックスコンデン
サーと温度針と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
この三フロフラスコ中に脱水ドデカン100グラムとワ
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。次にジクロロシランモノマー
(チッソ部製)ヲO,1モルを脱水ドデカン30グラム
に溶解させて用意した溶液を反応系にゆっくり滴下した
。滴下後、100℃で1時間縮重合させることにより、
白色固体を析出させた。この後冷却し、過剰の金属ナト
リウムを処理するため、メタノール50mlをゆっくり
滴下した。
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。次にジクロロシランモノマー
(チッソ部製)ヲO,1モルを脱水ドデカン30グラム
に溶解させて用意した溶液を反応系にゆっくり滴下した
。滴下後、100℃で1時間縮重合させることにより、
白色固体を析出させた。この後冷却し、過剰の金属ナト
リウムを処理するため、メタノール50mlをゆっくり
滴下した。
次に、白色固体を濾葉し、n−ヘキサンとメタノールで
洗浄を繰り返し、ポリシラン化合物mD〜3を得た。
洗浄を繰り返し、ポリシラン化合物mD〜3を得た。
このポリシラン化合物はトルエン、クロロホルム、TH
F等の有機溶剤に不溶であった。結果を第4表に示す。
F等の有機溶剤に不溶であった。結果を第4表に示す。
ル較袈遺炎↓
真空吸引とアルゴン置換を行ったブローボックスの中に
三ソロフラスコを用意し、これにリフラックスコンデン
サーと温度計と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
三ソロフラスコを用意し、これにリフラックスコンデン
サーと温度計と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
この三ンロフラスコ中に脱水ドデカン100グラムとワ
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。
次にジフェニルジクロロシランモノマー(チッソ部製)
を0,1モルを脱水ドデカン30グラムに溶解させて用
意した溶液を反応系にゆっくり滴下した。滴下後、10
0℃で1時間縮重合させることにより、白色固体を析出
させた。
を0,1モルを脱水ドデカン30グラムに溶解させて用
意した溶液を反応系にゆっくり滴下した。滴下後、10
0℃で1時間縮重合させることにより、白色固体を析出
させた。
この後冷却し、過剰の金属ナトリウムを処理するため、
メタノール50 m l!をゆっくり滴下した。
メタノール50 m l!をゆっくり滴下した。
次に、白色固体を濾葉し、n−一・キサンとメタノール
で洗浄を繰り返し、ポリシラン化合物1m、 I)−4
を得た。
で洗浄を繰り返し、ポリシラン化合物1m、 I)−4
を得た。
このポリシラン化合物はl・ルエン、クロロホルム、T
HF等の有機溶剤に不溶であった。結果を第4表に示す
。
HF等の有機溶剤に不溶であった。結果を第4表に示す
。
以下、実施例及び比較例を用いて本発明をより詳しく説
明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるもの
ではない。
明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるもの
ではない。
X徒貫」−
感光体は、まず、アルミニウム基板を用意し1、次に電
荷発生層塗液として、クロルアルミニウムフタ11シア
ニン10重量部(以ド、部)、ポリビニルブチラール5
部をMEK90部にボールミル分散し、ワイヤーバー塗
布して、乾燥刹膜厚0.3μmの電荷発生層を設けた。
荷発生層塗液として、クロルアルミニウムフタ11シア
ニン10重量部(以ド、部)、ポリビニルブチラール5
部をMEK90部にボールミル分散し、ワイヤーバー塗
布して、乾燥刹膜厚0.3μmの電荷発生層を設けた。
電荷発生層の上にボリンラン(1,9部、ジフェニルフ
タレート1部をトルエンに溶解し5、ワイヤーバー塗布
し、乾燥後膜r¥10.+rmのポリンラン層を設け、
感光体音1を作成した。
タレート1部をトルエンに溶解し5、ワイヤーバー塗布
し、乾燥後膜r¥10.+rmのポリンラン層を設け、
感光体音1を作成した。
この電子写真感光体を川口電機■製 静電複写紙試験装
夏Model SP 42Bを用いてスタナンク方
式で一5kVでコロナ帯電し、暗所で1秒間保持した後
、照度2.5ルツクスで露光し、帯電特性を調べた。更
Cご強露光(照度20ルツクス・秒)後の残留電位を調
べた。
夏Model SP 42Bを用いてスタナンク方
式で一5kVでコロナ帯電し、暗所で1秒間保持した後
、照度2.5ルツクスで露光し、帯電特性を調べた。更
Cご強露光(照度20ルツクス・秒)後の残留電位を調
べた。
帯電特性としては、表面電位(■。)と1秒間暗減衰さ
せた時の電位(VI)を1/2に減衰するに必要な露光
量(El/2)を測定した。また、残留電位■、1を測
定した。
せた時の電位(VI)を1/2に減衰するに必要な露光
量(El/2)を測定した。また、残留電位■、1を測
定した。
さらに、前記をキャノン部製I″P C?11部NP−
1502の感光ドラム用シリンダーに貼り付けて、同機
で500枚複写を行い、500枚複写後、5P428で
残留電位V3Lの変動を測定した。これらの結果を第5
表に示した。
1502の感光ドラム用シリンダーに貼り付けて、同機
で500枚複写を行い、500枚複写後、5P428で
残留電位V3Lの変動を測定した。これらの結果を第5
表に示した。
スMJi 2−ご−9−
感光体は、実施例1と同様に電荷発生層まで設け、ポリ
シラン隘2〜9及び第5表に示したフタル酸エステルを
用いたポリシラン層を設け、感光体音2〜9を作成し、
実施例Iと同様に評価し、結果を第5表に示した。
シラン隘2〜9及び第5表に示したフタル酸エステルを
用いたポリシラン層を設け、感光体音2〜9を作成し、
実施例Iと同様に評価し、結果を第5表に示した。
比較−1−男
フタル酸エステルを用いずにポリシラン層を設けた以外
は実施例1〜9と同様にして、ポリシラン隘1〜9を用
いて怒光体隊10〜18を作成し、評価を行った。結果
を第5表に示す。
は実施例1〜9と同様にして、ポリシラン隘1〜9を用
いて怒光体隊10〜18を作成し、評価を行った。結果
を第5表に示す。
i慰−例−j、−、−Q、−
ボリノラン7部とフタル酸エステル3部を用いてポリシ
ラン層を設けた以外は実施例1と同様にし、て感光体を
作成し、評価を行った。結果を第5表に示す6 比較貫」−1− ポリシラン95部とフタル酸エステル5部を用い−ζポ
リシラン層を設けた以外は実施例1と同様にして感光体
を作成し、評価を行った。結果を第5表に示す。
ラン層を設けた以外は実施例1と同様にし、て感光体を
作成し、評価を行った。結果を第5表に示す6 比較貫」−1− ポリシラン95部とフタル酸エステル5部を用い−ζポ
リシラン層を設けた以外は実施例1と同様にして感光体
を作成し、評価を行った。結果を第5表に示す。
此較」−1
ポリンラン7部とフタル酸エステル3部を用いてポリシ
ラン層を設けた以外は実施例4と同様にして感光体を作
成し、評価を行った。結果4第5表に示す。
ラン層を設けた以外は実施例4と同様にして感光体を作
成し、評価を行った。結果4第5表に示す。
几煎仮」−1−
ポリ・ンラン95部とフタル酸エステル5部を用いてポ
リシラン層を設けた以外は実施例4と同様にして感光体
を作成し、評価を行った。結果を第5表に示す。
リシラン層を設けた以外は実施例4と同様にして感光体
を作成し、評価を行った。結果を第5表に示す。
比較例−1−1
ポリシラン7部とフタル酸エステル3部を用いてポリシ
ラン層を設けた以外は実施例7と同様にして感光体を作
成し、評価を行った。結果を第5表に示す。
ラン層を設けた以外は実施例7と同様にして感光体を作
成し、評価を行った。結果を第5表に示す。
ル献−桝−1−】
ポリシラン95部とフタル酸エステル5部を用いてポリ
シラン層を設けた以外は実施例7と同様にして感光体を
作成し、評価を行った。結果を第5表に示す。
シラン層を設けた以外は実施例7と同様にして感光体を
作成し、評価を行った。結果を第5表に示す。
1較炎上1
ポリシラン磁1に代えてポリシラン1IkLD−[ヲ用
いてポリシラン層を設けた以外は実施例1と同様にして
感光体を作成し、評価を行った。結果を第5表に示す。
いてポリシラン層を設けた以外は実施例1と同様にして
感光体を作成し、評価を行った。結果を第5表に示す。
1較炎上1
ポリシラン隘7に代えてポリシラン&D−2を用いてポ
リシラン層を設けた以外は実施例7と同様にして感光体
を作成したが、ポリシラン層がひび割れてしまい、感光
体としての評価はできなかった。
リシラン層を設けた以外は実施例7と同様にして感光体
を作成したが、ポリシラン層がひび割れてしまい、感光
体としての評価はできなかった。
大隻斑上に上1
感光体はまずアルミニウム基板を用意し、次に電荷発生
N塗液として(A)式のジスアゾ顔料10部、ポリブチ
ルブチラール5部をMEK90部にボールミル分散し、
ワイヤーバー塗工して、膜厚0.2μmの電荷発生層を
設けた。
N塗液として(A)式のジスアゾ顔料10部、ポリブチ
ルブチラール5部をMEK90部にボールミル分散し、
ワイヤーバー塗工して、膜厚0.2μmの電荷発生層を
設けた。
電荷発生層の上にポリシランll&llo、11.12
及び第6表に示したフタル酸エステルを用いたポリシラ
ン層をそれぞれ設け、怒光体覧27〜29を作成し、実
施例1と同様に評価し、結果を第6表に示した。
及び第6表に示したフタル酸エステルを用いたポリシラ
ン層をそれぞれ設け、怒光体覧27〜29を作成し、実
施例1と同様に評価し、結果を第6表に示した。
(A)
スm二」」−
感光体はまずアルミニウム基板を用意し、次に電荷発生
層塗液として(B)式のジスアゾ顔料10部、ポリカー
ボネート5部をTHF90部にボールミル分散し、ワイ
ヤーバー塗工して、膜厚0.3μmの電荷発生層を設け
た。
層塗液として(B)式のジスアゾ顔料10部、ポリカー
ボネート5部をTHF90部にボールミル分散し、ワイ
ヤーバー塗工して、膜厚0.3μmの電荷発生層を設け
た。
電荷発生層の上にポリシラン11h1〜6及び第6表に
示したフタル酸エステルを用いたポリシラン層をそれぞ
れ設け、感光体階30〜35を作成し、実施例1と同様
に評価し、結果を第6表に示した。
示したフタル酸エステルを用いたポリシラン層をそれぞ
れ設け、感光体階30〜35を作成し、実施例1と同様
に評価し、結果を第6表に示した。
感光体はまずアルミニウム基板を用意し、次にポリシラ
ンlkl、10部、ジフェニルフタレート2部をトルエ
ンに溶解しワイヤーバー塗工し、膜厚10μmのポリシ
ラン層を設けた。
ンlkl、10部、ジフェニルフタレート2部をトルエ
ンに溶解しワイヤーバー塗工し、膜厚10μmのポリシ
ラン層を設けた。
次にジブロムアントアントロン(C)(ヘキスト製)5
部をポリシラン−1,10部、ジフェニルフタレート2
部、トルエン100部にボールミル分散し、電荷発生層
塗液を作成した。
部をポリシラン−1,10部、ジフェニルフタレート2
部、トルエン100部にボールミル分散し、電荷発生層
塗液を作成した。
ポリシラン層の上に電荷発生層塗液をワイヤーバー塗工
し、乾燥して膜厚3μmの電荷発生層を設け、感光体−
36を作成した。
し、乾燥して膜厚3μmの電荷発生層を設け、感光体−
36を作成した。
この電子写真感光体を川口it機■製 静ii?jl写
祇試験装置Model S P −428を用いてス
タチック方式で+5kVでコロナ帯電し、暗所で1秒間
保持した後、照度2.5ルンクスで露光し、帯電特性を
調べた。更に強露光(照度20ルツクス・秒)後の残留
電位を調べた。
祇試験装置Model S P −428を用いてス
タチック方式で+5kVでコロナ帯電し、暗所で1秒間
保持した後、照度2.5ルンクスで露光し、帯電特性を
調べた。更に強露光(照度20ルツクス・秒)後の残留
電位を調べた。
帯電特性としては、表面電位(Vo)と1秒間暗減衰さ
せた時の電位(V+ )を1/2に減衰するに必要な露
光量(El/2)を測定した。また、残留電位V3Lを
測定した。これらの結果を第6表に示した。
せた時の電位(V+ )を1/2に減衰するに必要な露
光量(El/2)を測定した。また、残留電位V3Lを
測定した。これらの結果を第6表に示した。
此較炎上工
実施例19において使用するポリシランをポリシランD
−1に取り替えた以外は全く同様に感光体音37を作成
した。評価は実施例19と同様に評価し、結果を第6表
に示した。
−1に取り替えた以外は全く同様に感光体音37を作成
した。評価は実施例19と同様に評価し、結果を第6表
に示した。
天1刊−A−功−
感光体は、まずアルミニウム基板を用意し、次にペリレ
ン(D) (ノボバームレ、・ドBl−ヘキスト製)5
部をポリシラン&14..20部、ジフェニルフタI5
・−L 5部、トルエン100部をボールミル分散し5
、感光層塗液を作成した。
ン(D) (ノボバームレ、・ドBl−ヘキスト製)5
部をポリシラン&14..20部、ジフェニルフタI5
・−L 5部、トルエン100部をボールミル分散し5
、感光層塗液を作成した。
アルミニウム基板の上に感光層塗液をワイヤーバー塗J
し、乾燥して膜11[12μmの単層型感光体音38を
作成した。評価は実施例19と同様に行い、結果4第6
表に示した。
し、乾燥して膜11[12μmの単層型感光体音38を
作成した。評価は実施例19と同様に行い、結果4第6
表に示した。
比較−例−1−9
実施例20において使用するポリシランをポリシランi
〕−iに取り替えた以外は全く同様に単層型感光体階3
9を作成した。評価’*’L実施例20と同様に評価し
、結果を第6表に示した。
〕−iに取り替えた以外は全く同様に単層型感光体階3
9を作成した。評価’*’L実施例20と同様に評価し
、結果を第6表に示した。
(C)
第 1 表
第2表
第 4 表 (その1)
第 4 表 (その2)
(発明の効果)
以−1−のように本発明は、ボリンラン化合物とフタル
酸エステル類とを含有する感光層を設けることにより、
高感度で残留電位も少なく、繰り返し使用時にも電位変
動が少なく、耐摩耗性と接着性に優れた、し2かも画質
の安定した電子写真感光体を擢供することができる。
酸エステル類とを含有する感光層を設けることにより、
高感度で残留電位も少なく、繰り返し使用時にも電位変
動が少なく、耐摩耗性と接着性に優れた、し2かも画質
の安定した電子写真感光体を擢供することができる。
第1図、第2図は、電5i発生物質をハイ〉・グー中に
分散した電荷発生層とボリンラン層を積層した感光体の
断面図である。 第3図、第4図は、電荷発住!!!71質を謂着した電
荷発生層とポリシラン層を積層した感光体の断面図であ
る。 第5図は、電荷発生物質をボリンラン中に分散した崖層
型感光体の断面図である。 図において、1・・・ポリシラン層、2・・・電荷発生
層、3・・・電荷発生物質、4・ハイ゛・ダー、5・・
導電性支持体、6・・・遂=着電tj発牛層、7 ボリ
ンラン及びフタル酸ニスデル、7・・・感光層。 第1図 3、第2図 第5図 第3図 第4図 丁2−フZ乙)5
分散した電荷発生層とボリンラン層を積層した感光体の
断面図である。 第3図、第4図は、電荷発住!!!71質を謂着した電
荷発生層とポリシラン層を積層した感光体の断面図であ
る。 第5図は、電荷発生物質をボリンラン中に分散した崖層
型感光体の断面図である。 図において、1・・・ポリシラン層、2・・・電荷発生
層、3・・・電荷発生物質、4・ハイ゛・ダー、5・・
導電性支持体、6・・・遂=着電tj発牛層、7 ボリ
ンラン及びフタル酸ニスデル、7・・・感光層。 第1図 3、第2図 第5図 第3図 第4図 丁2−フZ乙)5
Claims (2)
- (1)導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体
において、感光層がポリシラン化合物と融点が20℃以
上であるフタル酸エステル類を含有することを特徴とす
る電子写真感光体。 - (2)上記ポリシラン化合物が、下記の一般式〔 I 〕
で表される重量平均分子量が6000乃至200000
であるポリシランである請求項(1)記載の電子写真感
光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 〔但し、式中、R_1は炭素数1又は2のアルキル基、
R_2は炭素数3乃至8のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基又はアラルキル基、R_3は炭素数1乃
至4のアルキル基、R_4は炭素数1乃至4のアルキル
基をそれぞれ示す。A、A′は、それぞれ炭素数4乃至
12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は
アラルキル基であり、両者は同じであっても或いは異な
ってもよい。nとmは、ポリマー中の総モノマーに対す
るそれぞれのモノマー数の割合を示すモル比であり、n
+m=1となり、0<n≦1、0≦m<1である。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30268990A JPH04175762A (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30268990A JPH04175762A (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04175762A true JPH04175762A (ja) | 1992-06-23 |
Family
ID=17912010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30268990A Pending JPH04175762A (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04175762A (ja) |
-
1990
- 1990-11-09 JP JP30268990A patent/JPH04175762A/ja active Pending
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