JPH03293361A - 電子写真用感光体 - Google Patents
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- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 claims abstract description 177
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 50
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 49
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 35
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 11
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 70
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 61
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 63
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 53
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 37
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 32
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 21
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 21
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- -1 hydrazone compound Chemical class 0.000 description 15
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 14
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 13
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 13
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 13
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 12
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 11
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 11
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 8
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SNRUBQQJIBEYMU-NJFSPNSNSA-N dodecane Chemical class CCCCCCCCCCC[14CH3] SNRUBQQJIBEYMU-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 4
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002382 photo conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000012552 review Methods 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 1-chlorohexane Chemical compound CCCCCCCl MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical group CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical group C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical group ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical group C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 6-[(5S)-5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-2-oxo-1,3-oxazolidin-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical group C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C[C@H]1CN(C(O1)=O)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100433727 Caenorhabditis elegans got-1.2 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 102100024133 Coiled-coil domain-containing protein 50 Human genes 0.000 description 1
- 241000252233 Cyprinus carpio Species 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- 101000910772 Homo sapiens Coiled-coil domain-containing protein 50 Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 244000241838 Lycium barbarum Species 0.000 description 1
- 235000015459 Lycium barbarum Nutrition 0.000 description 1
- 235000015468 Lycium chinense Nutrition 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 241000277269 Oncorhynchus masou Species 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100024773 Zinc finger protein 335 Human genes 0.000 description 1
- 101710146918 Zinc finger protein 335 Proteins 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 1
- SOGXWMAAMKKQCB-UHFFFAOYSA-M chloroalumane Chemical compound Cl[AlH2] SOGXWMAAMKKQCB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 244000144992 flock Species 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940094933 n-dodecane Drugs 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLBIOIRWAYBCKK-UHFFFAOYSA-N pyranthrene-8,16-dione Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=C3C=C4C5=CC=CC=C5C(=O)C5=C4C4=C3C2=C1C=C4C=C5 LLBIOIRWAYBCKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は、有機材料を使用した電子写真用感光体に関し
、詳しくは改善された電子写真特性を与えるポリンラン
プロンクコポリマーを含有する感光層を有する電子写真
用感光体に関するものである。
、詳しくは改善された電子写真特性を与えるポリンラン
プロンクコポリマーを含有する感光層を有する電子写真
用感光体に関するものである。
従来、電子写真用感光体で用いる光導電材料として、ポ
リビニルカルバゾールをはじめとする各種の有機光導電
性ポリマーが提案されている。これらのポリマーは、無
機系光導電材料に較べ成膜性、軽量性などの点で優れて
いるにもがかわらず今日までその実用化が困難であった
のは、未だ十分な成膜性が得られておらず、また感度、
耐久性および環境変化による安定性の点で無機系光導電
材料に較べ劣っているためである。また、電子写真用感
光体の有機光2m材料として、米国特許第4,150,
987号明細書によりヒドラゾン化合物が、米国特許第
3.837,851号明細書によりトリアリールピラゾ
リン化合物が、特開昭51−94828号公報または特
開昭51−94829号公報により9−スチリルアント
ラセン化合物がそれぞれ提案され、それらは低分子のも
のである。
リビニルカルバゾールをはじめとする各種の有機光導電
性ポリマーが提案されている。これらのポリマーは、無
機系光導電材料に較べ成膜性、軽量性などの点で優れて
いるにもがかわらず今日までその実用化が困難であった
のは、未だ十分な成膜性が得られておらず、また感度、
耐久性および環境変化による安定性の点で無機系光導電
材料に較べ劣っているためである。また、電子写真用感
光体の有機光2m材料として、米国特許第4,150,
987号明細書によりヒドラゾン化合物が、米国特許第
3.837,851号明細書によりトリアリールピラゾ
リン化合物が、特開昭51−94828号公報または特
開昭51−94829号公報により9−スチリルアント
ラセン化合物がそれぞれ提案され、それらは低分子のも
のである。
ところがこれらの低分子の有機光導電体は、いずれも、
使用するバインダーを適当に選択することによって、育
機光導電性ポリマーの分野で問題となっていた成膜性の
欠点を一応解消するものではあるものの、感度の点で十
分なものではなく、所望の電子写真用感光体を得るにつ
いては実用に価しないものである。
使用するバインダーを適当に選択することによって、育
機光導電性ポリマーの分野で問題となっていた成膜性の
欠点を一応解消するものではあるものの、感度の点で十
分なものではなく、所望の電子写真用感光体を得るにつ
いては実用に価しないものである。
このようなことから、近年感光層を電荷発生層とt?;
i輸送層にm能分離させた積層構造体が提案されている
。この積層構造を感光層として有する電子写真用感光体
は、可視光に対する感度、電荷保持力、表面強度などの
点で改善できるようになった。このような電子写真用感
光体は、例えば米国特許第3.837,851号明細書
、同第3.871,882号明細書などに開示されてい
る。
i輸送層にm能分離させた積層構造体が提案されている
。この積層構造を感光層として有する電子写真用感光体
は、可視光に対する感度、電荷保持力、表面強度などの
点で改善できるようになった。このような電子写真用感
光体は、例えば米国特許第3.837,851号明細書
、同第3.871,882号明細書などに開示されてい
る。
しかし、従来の低分子の有機光導電材料を使用して前記
電荷輸送層を作製する場合、いずれにしろ該有機光導電
材料は所定のバインダー樹脂に混合して使用される。こ
のため、得られる電子写真用感光体は、該バインダー樹
脂が原因で、電荷のモビリティ−が低く、感度、特性が
必ずしも十分でなり、繰り返し帯電及び露光を行った際
には明部電位と暗部電位の変動が大きく、十分な耐久性
のないものになってしまう。
電荷輸送層を作製する場合、いずれにしろ該有機光導電
材料は所定のバインダー樹脂に混合して使用される。こ
のため、得られる電子写真用感光体は、該バインダー樹
脂が原因で、電荷のモビリティ−が低く、感度、特性が
必ずしも十分でなり、繰り返し帯電及び露光を行った際
には明部電位と暗部電位の変動が大きく、十分な耐久性
のないものになってしまう。
こうしたことから、所望の有機系電子写真用感光体をも
たらす可能性のある光導電材料としてポリシランが注目
されている。
たらす可能性のある光導電材料としてポリシランが注目
されている。
ところで、いわゆるポリシランについては、溶剤不溶の
ものであるとの報告はある〔ザ・ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサエティ(The Journ
al or American ChemicalSo
ciety> 125.2291pp (1924)参
照〕が、近年、ポリシランが溶剤可溶性であり、フィル
ム形成が可能であるとの報告がなされている。〔ザ・ジ
ャーナル・オブ・アメリカン・セラミック・ソサエティ
ー(The Journal ofAmerican
Ceramic 5ociety) 6上、504p
p(197B)参照〕。
ものであるとの報告はある〔ザ・ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサエティ(The Journ
al or American ChemicalSo
ciety> 125.2291pp (1924)参
照〕が、近年、ポリシランが溶剤可溶性であり、フィル
ム形成が可能であるとの報告がなされている。〔ザ・ジ
ャーナル・オブ・アメリカン・セラミック・ソサエティ
ー(The Journal ofAmerican
Ceramic 5ociety) 6上、504p
p(197B)参照〕。
また、ポリシランについては、主鎖のσ−結合によって
!荷の移動が可能な光半導体の特性を持つことが報告さ
れている〔フィジカル・レビュー(Physical
Review)+ B 35.2818pp(198
7)参照〕。
!荷の移動が可能な光半導体の特性を持つことが報告さ
れている〔フィジカル・レビュー(Physical
Review)+ B 35.2818pp(198
7)参照〕。
こうしたことがらポリシランの電子写真用感光体への適
用が期待されるところであるが、ポリシランを光導電材
料に使用して実用に価する所望の電子写真用感光体を得
るについては、該ポリシラン化合物はっぎのような要件
を少なくとも満たすものであることが要求される。即ち
、(1)溶剤可溶性でフィルム形成能があるだけではな
く、微細な欠陥のないフィルムの形成及び均質性の高い
フィルム形成が可能であること、(ii)ii電子写真
用感光体おいては微細な欠陥も許されないため、置換基
についても構造が明確でフィルム形成に異常を発生させ
ない高品位のものであること、などである。
用が期待されるところであるが、ポリシランを光導電材
料に使用して実用に価する所望の電子写真用感光体を得
るについては、該ポリシラン化合物はっぎのような要件
を少なくとも満たすものであることが要求される。即ち
、(1)溶剤可溶性でフィルム形成能があるだけではな
く、微細な欠陥のないフィルムの形成及び均質性の高い
フィルム形成が可能であること、(ii)ii電子写真
用感光体おいては微細な欠陥も許されないため、置換基
についても構造が明確でフィルム形成に異常を発生させ
ない高品位のものであること、などである。
ところで、ポリシランは構造的に一次元をとり昌いため
〔固体物理Vo/22&II、907頁(1987)参
照〕、機械物性面では脆いフィルムである。即ち、ポリ
シランは硬く脆いため、フィルム形成時に、熱収縮を起
こして、クランクを発生したり、折り曲げに対しても弱
く、接触性が悪く、剥離を発生しやすい、また、表面に
接触物があると削れ易(、耐摩耗性も悪い。
〔固体物理Vo/22&II、907頁(1987)参
照〕、機械物性面では脆いフィルムである。即ち、ポリ
シランは硬く脆いため、フィルム形成時に、熱収縮を起
こして、クランクを発生したり、折り曲げに対しても弱
く、接触性が悪く、剥離を発生しやすい、また、表面に
接触物があると削れ易(、耐摩耗性も悪い。
従来からポリシラン化合物の合成についてはい(つかの
報告がなされているが、報告されているそれらのポリシ
ランは、いずれも、電子写真用感光体に用いるには不十
分なものである。即ち、低分子量のポリシランとして、
全てのSi基に有機基が置換した構造のものが報告され
ている〔ザ・ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティー(Journal of Awertc
an ChemicalSociety) 、Vol、
94、磁11.3806pp(1972)及び特公昭
63−38033号公報参照〕。
報告がなされているが、報告されているそれらのポリシ
ランは、いずれも、電子写真用感光体に用いるには不十
分なものである。即ち、低分子量のポリシランとして、
全てのSi基に有機基が置換した構造のものが報告され
ている〔ザ・ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル
・ソサエティー(Journal of Awertc
an ChemicalSociety) 、Vol、
94、磁11.3806pp(1972)及び特公昭
63−38033号公報参照〕。
前者の刊行物に記載のものはジメチルシランの末端基に
メチル基を置換した構造のものであり、後者の刊行物に
記載のものはジメチルシランの末端基にアルコキシ基を
置換した構造のものであるが、いずれも重合度が2〜6
であり、高分子の特徴を示さない、つまり、低分子量の
ためにそのままではフィルム形成能がなく、産業上の利
用は難しい、高分子量のポリシランで全ての53基に有
機基を置換した構造のものが最近報告されている〔日経
ニューマテリアル8月15日号46ページ(1988)
参照〕、シかし特殊な反応中間体を経由するため、合成
収率の低下が予想され工業的な大量生産は困難である。
メチル基を置換した構造のものであり、後者の刊行物に
記載のものはジメチルシランの末端基にアルコキシ基を
置換した構造のものであるが、いずれも重合度が2〜6
であり、高分子の特徴を示さない、つまり、低分子量の
ためにそのままではフィルム形成能がなく、産業上の利
用は難しい、高分子量のポリシランで全ての53基に有
機基を置換した構造のものが最近報告されている〔日経
ニューマテリアル8月15日号46ページ(1988)
参照〕、シかし特殊な反応中間体を経由するため、合成
収率の低下が予想され工業的な大量生産は困難である。
上述の報告の他にも、ポリシランの合成方法が報告され
ている〔ザ・ジャーナル・オプ・オルガノメタリック・
ケミストリー(The J ournalof Org
anometallic Chemistry) 、
198 p pC27(1980)、又はザ・ジャー
ナル・オブ・ポリマー・サイエンス、ポリマー・ケミス
トリー〇エデイジョン(The Journal of
PolymerScience、 Polymer
Chemistry Edition )
、Vol、22,159−170pI)(1984)参
照〕。
ている〔ザ・ジャーナル・オプ・オルガノメタリック・
ケミストリー(The J ournalof Org
anometallic Chemistry) 、
198 p pC27(1980)、又はザ・ジャー
ナル・オブ・ポリマー・サイエンス、ポリマー・ケミス
トリー〇エデイジョン(The Journal of
PolymerScience、 Polymer
Chemistry Edition )
、Vol、22,159−170pI)(1984)参
照〕。
しかし、報告されているいずれの合成方法もポリシラン
主鎖の縮合反応のみで、末端基については全く言及はな
い、そしていずれの合成方法の場合も未反応のクロル基
や副反応による副生物の生成があり、所望のポリシラン
化合物を定常的に得るのは困難である。
主鎖の縮合反応のみで、末端基については全く言及はな
い、そしていずれの合成方法の場合も未反応のクロル基
や副反応による副生物の生成があり、所望のポリシラン
化合物を定常的に得るのは困難である。
前記のポリシランを光導電体として使用する例もいくつ
か報告されているが(米国特許第4.618,551号
明細書、同第4,772,525号明細書、特開昭62
−269964号公報参照)、未反応のクロル基や副反
応による副生物の影響があると考えられる。
か報告されているが(米国特許第4.618,551号
明細書、同第4,772,525号明細書、特開昭62
−269964号公報参照)、未反応のクロル基や副反
応による副生物の影響があると考えられる。
即ち、米国特許第4,618,551号明細書によれば
、前記のポリシランを電子写真用感光体として用いてい
るが、該電子写真用感光体による画像形成は、一般の複
写機の場合印加電位が500〜800vで良いのに対し
て、異常に高い印加電位、即ち、100OVで行われて
いる。これは通常の電位ではポリシランの構造欠陥が原
因で電子写真用感光体に欠陥をもたらし、得られる画像
に斑点状の異常現象が生しる問題を解消させるためと考
えられる。また、特開昭62−269964号公報によ
ると、前記のポリシランを用いて電子写真用感光体を作
製し、光感度を測定しているが、光感度が遅く、従来知
られているセレン感光体や有機感光体に比べ何の利点も
持たないことが理解される。
、前記のポリシランを電子写真用感光体として用いてい
るが、該電子写真用感光体による画像形成は、一般の複
写機の場合印加電位が500〜800vで良いのに対し
て、異常に高い印加電位、即ち、100OVで行われて
いる。これは通常の電位ではポリシランの構造欠陥が原
因で電子写真用感光体に欠陥をもたらし、得られる画像
に斑点状の異常現象が生しる問題を解消させるためと考
えられる。また、特開昭62−269964号公報によ
ると、前記のポリシランを用いて電子写真用感光体を作
製し、光感度を測定しているが、光感度が遅く、従来知
られているセレン感光体や有機感光体に比べ何の利点も
持たないことが理解される。
さらに、米国特許第4,772,525号明細書による
と、前記のポリシランを電子写真用感光体として用いて
いるが、溶剤に対してクランクを発生し易いことが報告
されている。そして、該明細書では、ポリシランの分子
量を大きくして耐溶剤性を向上させているが、この方法
では、ポリシランが本来持っている機械物性を改良でき
るものではなく、硬さ、脆さ、接着不良、耐摩耗性は改
善されていないものと考えられる。
と、前記のポリシランを電子写真用感光体として用いて
いるが、溶剤に対してクランクを発生し易いことが報告
されている。そして、該明細書では、ポリシランの分子
量を大きくして耐溶剤性を向上させているが、この方法
では、ポリシランが本来持っている機械物性を改良でき
るものではなく、硬さ、脆さ、接着不良、耐摩耗性は改
善されていないものと考えられる。
以上述べたように、従来のポリシランについては、それ
を電子写真用感光体に利用するためには、まだ数多くの
問題点を残し、産業上に利用できるものではない。
を電子写真用感光体に利用するためには、まだ数多くの
問題点を残し、産業上に利用できるものではない。
本発明の主たる目的は、電子写真用感光体に要求される
諸要求を満足する、有機光導電材料で構成された感光層
を有する電子写真用感光体を提供することにある。
諸要求を満足する、有機光導電材料で構成された感光層
を有する電子写真用感光体を提供することにある。
本発明の他の目的は、前述の欠点又は不利を解消し、感
度および成型性に優れ、かつ接着性が良く、耐摩耗性に
優れた電子写真用感光体を提供することにある。
度および成型性に優れ、かつ接着性が良く、耐摩耗性に
優れた電子写真用感光体を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、溶媒に対する溶解性が良く、
かつ、優れたフィルム形成能を有するポリシランブロッ
クコポリマーを含有し、構造欠陥のない電子写真用感光
体を提供することにある。
かつ、優れたフィルム形成能を有するポリシランブロッ
クコポリマーを含有し、構造欠陥のない電子写真用感光
体を提供することにある。
本発明は上述の目的を達成するものであって、その骨子
とするところは、導電性基板上に感光層を設けた電子写
真用感光体において感光層が一般式(1)で表されるポ
リシランブロックとビニル系ポリマーブロックで構成さ
れるポリシランブロンクコポリマーを含有することを特
徴とする電子写真用感光体にある。
とするところは、導電性基板上に感光層を設けた電子写
真用感光体において感光層が一般式(1)で表されるポ
リシランブロックとビニル系ポリマーブロックで構成さ
れるポリシランブロンクコポリマーを含有することを特
徴とする電子写真用感光体にある。
R+ R。
−H1EHr−−千−5i→]−・・・ (I)Rt
Ra 〔但シ、式中、R,は炭素数1又は2のアルキル基、R
1は炭素数3乃至8のアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基又はアラルキル基、R2は炭素数1乃至4の
アルキル基、R6は炭素数1乃至4のアルキル基をそれ
ぞれ示す、XとYは、ポリマー中のそれぞれの七ツマー
単位数を示す数である。) 本発明で使用されるポリシランブロックコポリマーにお
けるビニル系ポリマーブロックのモノマー単位としては
、スチレン系、アクリル系、酢酸ビニル系、ブタジェン
系モノマーが好ましい。
Ra 〔但シ、式中、R,は炭素数1又は2のアルキル基、R
1は炭素数3乃至8のアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基又はアラルキル基、R2は炭素数1乃至4の
アルキル基、R6は炭素数1乃至4のアルキル基をそれ
ぞれ示す、XとYは、ポリマー中のそれぞれの七ツマー
単位数を示す数である。) 本発明で使用されるポリシランブロックコポリマーにお
けるビニル系ポリマーブロックのモノマー単位としては
、スチレン系、アクリル系、酢酸ビニル系、ブタジェン
系モノマーが好ましい。
本発明で使用される、ポリシランブロックとビニル系ポ
リマーブロックで構成されるポリシランブロックコポリ
マーは機械物性に優れ、靭性があり、接着性が良く、耐
摩耗性に優れたものであって、毒性がなり、トルエン、
ベンゼン、キシレンなどの芳香族系溶剤、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などの
ハロゲン化溶剤、その他テトラヒドロフラン(THF)
、ジオキサンなどの溶剤に易溶であり、優れたフィルム
形成能を有するものである。そして本発明の該ポリシラ
ンブロックコポリマーをもって形成したフィルムは均質
にして均一膜厚のもので、優れた耐熱性を有する。
リマーブロックで構成されるポリシランブロックコポリ
マーは機械物性に優れ、靭性があり、接着性が良く、耐
摩耗性に優れたものであって、毒性がなり、トルエン、
ベンゼン、キシレンなどの芳香族系溶剤、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などの
ハロゲン化溶剤、その他テトラヒドロフラン(THF)
、ジオキサンなどの溶剤に易溶であり、優れたフィルム
形成能を有するものである。そして本発明の該ポリシラ
ンブロックコポリマーをもって形成したフィルムは均質
にして均一膜厚のもので、優れた耐熱性を有する。
本発明の一般式(1)で表されるポリシランブロックと
ビニル系ポリマーブロックで構成されるポリシランブロ
ックコポリマーは、その重量平均分子量は6,000乃
至1,000,000 (7)もノテあるが、溶剤への
溶解性およびフィルム形成能の観点からするより好まし
いものは、重量平均分子量が8.000乃至2oo、o
ooOもノテあり、最適なものは重量平均分子量が10
,000乃至120.000のものである。
ビニル系ポリマーブロックで構成されるポリシランブロ
ックコポリマーは、その重量平均分子量は6,000乃
至1,000,000 (7)もノテあるが、溶剤への
溶解性およびフィルム形成能の観点からするより好まし
いものは、重量平均分子量が8.000乃至2oo、o
ooOもノテあり、最適なものは重量平均分子量が10
,000乃至120.000のものである。
なお、重量平均分子量について、それが6000以下で
あるものは高分子の特徴を示さず、フィルム形成能がな
い、また、100,0000以上であるものは溶剤に対
しての溶解性が悪く、所望のフィルム形成が困難である
。
あるものは高分子の特徴を示さず、フィルム形成能がな
い、また、100,0000以上であるものは溶剤に対
しての溶解性が悪く、所望のフィルム形成が困難である
。
本発明に使用されるプロ・7クコボリマーのブロックと
なる一般式(T)で表されるポリシランは、ザ・ジャー
ナル・オブ・オルガノメタリック・ケミストリー (T
he Journal of Organometa
llicChemistry) 、 198pp、
C27(1980)またはザ・ジャーナル・オブ・ポ
リマー・サイエンス、ポリマー・ケミストリー・エディ
シタン(The Journal of Pol
ymer 5cience、 PolymerCh
emistry Edition )、 Vol、
22+ 1 59170pp (1984)に記
載されている方法により合成される。特に好ましいポリ
シランを一般式(n)に示す。
なる一般式(T)で表されるポリシランは、ザ・ジャー
ナル・オブ・オルガノメタリック・ケミストリー (T
he Journal of Organometa
llicChemistry) 、 198pp、
C27(1980)またはザ・ジャーナル・オブ・ポ
リマー・サイエンス、ポリマー・ケミストリー・エディ
シタン(The Journal of Pol
ymer 5cience、 PolymerCh
emistry Edition )、 Vol、
22+ 1 59170pp (1984)に記
載されている方法により合成される。特に好ましいポリ
シランを一般式(n)に示す。
R,R。
A −e5i−÷r−千% i−升ゴー A’ −
(U)Rg R4 〔但し、式中、R,は炭素数1又は2のアルキル基、R
1は炭素数3乃至8のアルキル基、シクロアルキル基、
了り−ル基又はアラルキル基、R1は炭素数1乃至4の
アルキル基、R4は炭素数1乃至4のアルキル基をそれ
ぞれ示す、A、A’ は、それぞれ炭素数4乃至12の
アルキル基、シクロアルキル基、了り−ル基又はアラル
キル基であり、両者は同しであっても或いは異なっても
よい。XとYは単量体の重合単位を示す。〕 上述の一般式(n)で示されるポリシランはっぎのよう
にして合成することができる。即ち、酸素及び水分を無
くした高純度不活性雰囲気下で、ジクロロシランモノマ
ーをアルカリ金属からなる縮合触媒に接触させてハロゲ
ン脱離と縮重合を行い中間体ポリマーを合成し、得られ
た該ポリマーを未反応のモノマーと分離し、該ポリマー
に所定のハロゲン化有機試薬をアルカリ金属からなる縮
合触媒の存在下で反応せしめて該ポリマーの末端に有機
基を縮合せしめることにより合成される。
(U)Rg R4 〔但し、式中、R,は炭素数1又は2のアルキル基、R
1は炭素数3乃至8のアルキル基、シクロアルキル基、
了り−ル基又はアラルキル基、R1は炭素数1乃至4の
アルキル基、R4は炭素数1乃至4のアルキル基をそれ
ぞれ示す、A、A’ は、それぞれ炭素数4乃至12の
アルキル基、シクロアルキル基、了り−ル基又はアラル
キル基であり、両者は同しであっても或いは異なっても
よい。XとYは単量体の重合単位を示す。〕 上述の一般式(n)で示されるポリシランはっぎのよう
にして合成することができる。即ち、酸素及び水分を無
くした高純度不活性雰囲気下で、ジクロロシランモノマ
ーをアルカリ金属からなる縮合触媒に接触させてハロゲ
ン脱離と縮重合を行い中間体ポリマーを合成し、得られ
た該ポリマーを未反応のモノマーと分離し、該ポリマー
に所定のハロゲン化有機試薬をアルカリ金属からなる縮
合触媒の存在下で反応せしめて該ポリマーの末端に有機
基を縮合せしめることにより合成される。
上記合成操作にあっては、出発物質たるジクロロシラン
、前記中間体ポリマー、ハロゲン化有機試薬及びアルカ
リ金属縮合触媒は、いずれも酸素や水分との反応性が高
いので、これら酸素や水分が存在する雰囲気の下では目
的とするポリシランは得られない。
、前記中間体ポリマー、ハロゲン化有機試薬及びアルカ
リ金属縮合触媒は、いずれも酸素や水分との反応性が高
いので、これら酸素や水分が存在する雰囲気の下では目
的とするポリシランは得られない。
したがって目的のポリシランを得る上述の操作は、酸素
及び水分のいずれもが存在しない雰囲気下で実施するこ
とが必要である。このため、反応系に酸素及び水分のい
ずれもが存在するところとならないように反応容器及び
使用する試薬の全てについて留意が必要である。例えば
反応容器については、ブローボックス中で真空吸引とア
ルゴンガス置換を行って水分や酸素の系内への吸着がな
いようにする。使用するアルゴンガスは、いずれの場合
にあっても予めシリカゲルカラムに通し脱水し、ついで
銅粉末を100℃に加熱したカラムに通して脱酸素処理
して使用する。
及び水分のいずれもが存在しない雰囲気下で実施するこ
とが必要である。このため、反応系に酸素及び水分のい
ずれもが存在するところとならないように反応容器及び
使用する試薬の全てについて留意が必要である。例えば
反応容器については、ブローボックス中で真空吸引とア
ルゴンガス置換を行って水分や酸素の系内への吸着がな
いようにする。使用するアルゴンガスは、いずれの場合
にあっても予めシリカゲルカラムに通し脱水し、ついで
銅粉末を100℃に加熱したカラムに通して脱酸素処理
して使用する。
出発原料たるジクロロシランモノマーについては、反応
系内への導入直前で脱酸素処理した上述のアルゴンガス
を使用して減圧蒸留を行った後に反応系内に導入する。
系内への導入直前で脱酸素処理した上述のアルゴンガス
を使用して減圧蒸留を行った後に反応系内に導入する。
特定の有機基を導入するための上記ハロゲン化有機試薬
及び使用する上記溶剤についても、ジクロロシランモノ
マーと同様に脱酸素処理した後に反応系内に導入する。
及び使用する上記溶剤についても、ジクロロシランモノ
マーと同様に脱酸素処理した後に反応系内に導入する。
なお、溶剤の脱酸素処理は、上述の脱酸素処理したアル
ゴンガスを使用して減圧蒸留した後、金属ナトリウムで
更に脱酸素処理する。
ゴンガスを使用して減圧蒸留した後、金属ナトリウムで
更に脱酸素処理する。
上記縮合触媒については、ワイヤー化或いはチップ化し
て使用するところ、前記ワイヤー化又はチップ化は無酸
素のパラフィン系溶剤中で行い、酸化が起こらないよう
にして使用する。
て使用するところ、前記ワイヤー化又はチップ化は無酸
素のパラフィン系溶剤中で行い、酸化が起こらないよう
にして使用する。
本発明のブロックコポリマーのブロックとなる一C式(
It)で表されるポリシランを製造するに際して使用す
る出発原料のジクロロシランモノマーは、後述する一般
式: R+RzSiC1gで表されるシラン化合物か又
はこれと一般式:R5Ra5iC1xで表されるシラン
化合物が選択的に使用される。
It)で表されるポリシランを製造するに際して使用す
る出発原料のジクロロシランモノマーは、後述する一般
式: R+RzSiC1gで表されるシラン化合物か又
はこれと一般式:R5Ra5iC1xで表されるシラン
化合物が選択的に使用される。
上述の縮合触媒は、ハロゲン脱離して縮合反応をもたら
しめるアルカリ金属が望ましく使用され、該アルカリ金
属の具体例としてリチウム、ナトリウム、カリウムが挙
げられ、中でもリチウム及びナトリウムが好適である。
しめるアルカリ金属が望ましく使用され、該アルカリ金
属の具体例としてリチウム、ナトリウム、カリウムが挙
げられ、中でもリチウム及びナトリウムが好適である。
上述のハロゲン化を機試薬は、A及びA′で表される置
換基を導入するためのものであって、ハロゲン化アルキ
ル化合物、ハロゲン化シクロアルキル化合物、ハロゲン
化アリール化合物及びハロゲン化アラルキル化合物から
なる群がら選択される適当な化合物、即ち、一般式:
A−X及び/又は一般式:A’−X(但し、Xはcz又
はBr)で表され、後述する具体例の中の適当な化合物
が選択的に使用される。
換基を導入するためのものであって、ハロゲン化アルキ
ル化合物、ハロゲン化シクロアルキル化合物、ハロゲン
化アリール化合物及びハロゲン化アラルキル化合物から
なる群がら選択される適当な化合物、即ち、一般式:
A−X及び/又は一般式:A’−X(但し、Xはcz又
はBr)で表され、後述する具体例の中の適当な化合物
が選択的に使用される。
上述の中間体ポリマーを合成するに際して使用する一般
式: R1RzSiCj!z又はこれと一般式:Rs
Ra S i C1zで表されるジクロロシランモノマ
ーは、所定の溶剤に溶解して反応系に導入されるところ
、該溶剤としては、パラフィン系の無極性炭化水素溶剤
が望ましく使用される。該溶剤の好ましい例としては、
n−ヘキサン、n−オクタン、n−ノナン、n−ドデカ
ン、シクロヘキサン及びシクロオクタンが挙げられる。
式: R1RzSiCj!z又はこれと一般式:Rs
Ra S i C1zで表されるジクロロシランモノマ
ーは、所定の溶剤に溶解して反応系に導入されるところ
、該溶剤としては、パラフィン系の無極性炭化水素溶剤
が望ましく使用される。該溶剤の好ましい例としては、
n−ヘキサン、n−オクタン、n−ノナン、n−ドデカ
ン、シクロヘキサン及びシクロオクタンが挙げられる。
そして生成する中間体ポリマーはこれらの溶剤に不溶で
あることから、該中間体ポリマーを未反応のジクロロシ
ランモノマーから分離するについて好都合である0分離
した中間体ポリマーは、ついで上述のハロゲン化有機試
薬と反応せしめるわけであるが、その際両者は同し溶剤
に溶解せしめて反応に供される。この場合の溶剤として
はベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤が好
適に使用される。
あることから、該中間体ポリマーを未反応のジクロロシ
ランモノマーから分離するについて好都合である0分離
した中間体ポリマーは、ついで上述のハロゲン化有機試
薬と反応せしめるわけであるが、その際両者は同し溶剤
に溶解せしめて反応に供される。この場合の溶剤として
はベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤が好
適に使用される。
上述のシクロロンランモノマーを上述のアルカリ金属触
媒を使用して縮合せしめて所望の中間体を得るについて
は、反応温度と反応時間を調節することにより得られる
中間体ポリマーの重合度を適宜制御できる。しかしなが
らその際の反応温度は60℃〜130℃の間に設定する
のが望ましい。
媒を使用して縮合せしめて所望の中間体を得るについて
は、反応温度と反応時間を調節することにより得られる
中間体ポリマーの重合度を適宜制御できる。しかしなが
らその際の反応温度は60℃〜130℃の間に設定する
のが望ましい。
以上説明の本発明のブロックコポリマーのブロックとな
る一般式(It)で表される上述のポリシランの製造方
法の望ましい−a様を以下に述べる。
る一般式(It)で表される上述のポリシランの製造方
法の望ましい−a様を以下に述べる。
即ち、ポリシラン化合物の製造方法は、(i)中間体ポ
リマーを製造する工程と(ii )該中間体ポリマーの
末端に置換基A及びA′を導入する工程とからなる。
リマーを製造する工程と(ii )該中間体ポリマーの
末端に置換基A及びA′を導入する工程とからなる。
上記(i)の工程はつぎのようにして行われる。
即ち、反応容器の反応系内を酸素及び水分を完全に除い
てアルゴンで支配され所定の内圧に維持した状態にし、
無酸素のパラフィン系溶剤と無酸素の縮合触媒を入れ、
ついで無酸素のジクロロシランモノマーを入れ、全体を
撹拌しながら所定温度に加熱して該モノマーの縮合を行
う、この際前記ジクロロシランモノマーの縮合度合は、
反応温度と反応時間を調節し、所望の重合度の中間体ポ
リマーが生成されるようにする。
てアルゴンで支配され所定の内圧に維持した状態にし、
無酸素のパラフィン系溶剤と無酸素の縮合触媒を入れ、
ついで無酸素のジクロロシランモノマーを入れ、全体を
撹拌しながら所定温度に加熱して該モノマーの縮合を行
う、この際前記ジクロロシランモノマーの縮合度合は、
反応温度と反応時間を調節し、所望の重合度の中間体ポ
リマーが生成されるようにする。
この際の反応は、下記の反応式(i)で表されるように
ジクロロシランモノマーのクロル基と触媒が脱塩反応を
起こしてSi基同志が縮合を繰り返してポリマー化して
中間体ポリマーを生成する。
ジクロロシランモノマーのクロル基と触媒が脱塩反応を
起こしてSi基同志が縮合を繰り返してポリマー化して
中間体ポリマーを生成する。
触媒
nR1R*5iclz +mR3Ra5iC1t=RI
Rり CI −e6i−÷11−−士3ト→−7−− CI
・= (i )Rx Ra なお、具体的反応操作手順は、パラフィン系溶剤中に縮
合触媒(アルカリ金属)を仕込んでおき、加熱下で撹拌
しながらジクロロシランモノマーを滴下して添加する。
Rり CI −e6i−÷11−−士3ト→−7−− CI
・= (i )Rx Ra なお、具体的反応操作手順は、パラフィン系溶剤中に縮
合触媒(アルカリ金属)を仕込んでおき、加熱下で撹拌
しながらジクロロシランモノマーを滴下して添加する。
ポリマー化の度合は、反応液をサンプリングして確認す
る。
る。
ポリマー化の簡単な確認はサンプリング液を揮発させフ
ィルムが形成できるかで判断できる。縮合が進み、ポリ
マーが形成されると白色固体となって反応系から析出し
てくる。ここで冷却し、反応系からモノマーを含む溶媒
をデカンテーションで分離し、中間体ポリマーを得る。
ィルムが形成できるかで判断できる。縮合が進み、ポリ
マーが形成されると白色固体となって反応系から析出し
てくる。ここで冷却し、反応系からモノマーを含む溶媒
をデカンテーションで分離し、中間体ポリマーを得る。
ついで前記色)の工程を行う、即ち、得られた中間体ポ
リマーの末端基のクロル基をハロゲン化有機剤と縮合触
媒(アルカリ金属)を用いて脱塩縮合を行いポリマー末
端基を所定の有機基で置換する。この際の反応は下記の
反応式で表される。
リマーの末端基のクロル基をハロゲン化有機剤と縮合触
媒(アルカリ金属)を用いて脱塩縮合を行いポリマー末
端基を所定の有機基で置換する。この際の反応は下記の
反応式で表される。
R+ Rs
C1−鵠l −i →コーC1
十
(2A−X
A−X+A’
−X>
3
−fsiH−「−一一冊6l−3−f−A′Rz
Ra (11) このところ具体的には、ジクロロシランモノマーの縮合
で得られた中間体ポリマーに芳香族系溶剤を加え熔解す
る0次に縮合触媒(アルカリ金属)を加え、室温でハロ
ゲン化有機剤を滴下する。この時ポリマー末端基同士の
縮合反応と競合するためハロゲン化有機剤を出発モノマ
ーに対して0.01〜0.1倍の過剰量添加する。徐々
に加熱し、80℃〜100℃で1時間加熱撹拌し、目的
の反応を行う。
Ra (11) このところ具体的には、ジクロロシランモノマーの縮合
で得られた中間体ポリマーに芳香族系溶剤を加え熔解す
る0次に縮合触媒(アルカリ金属)を加え、室温でハロ
ゲン化有機剤を滴下する。この時ポリマー末端基同士の
縮合反応と競合するためハロゲン化有機剤を出発モノマ
ーに対して0.01〜0.1倍の過剰量添加する。徐々
に加熱し、80℃〜100℃で1時間加熱撹拌し、目的
の反応を行う。
反応後冷却し、触媒のアルカリ金属を除去するため、メ
タノールを加える0次にポリシランをトルエンで抽出し
、シリカゲルカラムで精製する。
タノールを加える0次にポリシランをトルエンで抽出し
、シリカゲルカラムで精製する。
かくして所望のポリシラン化合物が得られる。
(以下余白)
R+Rz SiCjオ びR5Ra SiCl の注
):下記の化合物の中、a −2〜16,18,20.
21゜23.24がRIRl SiC1Kに用いられ、
a −1゜2、II、17,19,22,23.25が
R3Ra 5ICj xに用いられる。
):下記の化合物の中、a −2〜16,18,20.
21゜23.24がRIRl SiC1Kに用いられ、
a −1゜2、II、17,19,22,23.25が
R3Ra 5ICj xに用いられる。
(α−15iC1*
−1
((CHJzCIDzSifJ。
a−ρ
((013) 3C) zsic l z−25
A−X びA’ −Xの具
(013) rcllc)lzc l
−1
側s (O(z) aC12
−2
CH3(cut) sCf
−3
鮒3(Oh) Iec l
−4
Oh (CHI) 5ir
Oh (OIJ IoBr
−14
−15
触媒としてはアルカリ金属が好ましい。
アルカリ金属としてはリチウム、ナトリウム、カリウム
が使用される。形状はワイヤー状またはチップ状にして
表面積を大きくすることが好ましい。
が使用される。形状はワイヤー状またはチップ状にして
表面積を大きくすることが好ましい。
のポリシーンの
Gl。
CH3
CH3(CI(z) 5−4Si +T−(CHz)
sα3m18 CB(CH3)z Of(01ユ)! Ol。
sα3m18 CB(CH3)z Of(01ユ)! Ol。
aら
部
島
島
島
a′I3
島
島
島
島
注)
二上記構造式中のXとYはいずれも単量体重合単位を示
す。
す。
次に本発明の一般式(+)で表されるポリシランプロ、
りとビニル系ポリマーブロックで構成される新規なポリ
シランブロックコポリマーの製造方法について述べる。
りとビニル系ポリマーブロックで構成される新規なポリ
シランブロックコポリマーの製造方法について述べる。
本発明のブロックコポリマーの製造方法は、ポリシラン
の吸収最大波長以上の波長の光照射でビニル系モノマー
をポリシランにより光開始重合することを特徴としてい
る。
の吸収最大波長以上の波長の光照射でビニル系モノマー
をポリシランにより光開始重合することを特徴としてい
る。
本発明に用いるポリシランブロックコポリマーの製造方
法の一態様を次に述べる。
法の一態様を次に述べる。
まず、ポリシラン、ビニル系モノマ−1および適正な溶
媒を用意する。ポリシランは、前述のごとく、高純度で
、シロキサン残基を含をしないものを用いる。
媒を用意する。ポリシランは、前述のごとく、高純度で
、シロキサン残基を含をしないものを用いる。
また、使用するビニル系モノマーとしては、スチレン系
、アクリル系、酢酸ビニル系、ブタジェン系モノマーが
ある。
、アクリル系、酢酸ビニル系、ブタジェン系モノマーが
ある。
スチレン系モノマーとしては、例えば、スチレン、α−
メチルスチレン、ジビニルベンゼンが挙げられる。
メチルスチレン、ジビニルベンゼンが挙げられる。
アクリル糸上ツマ−としては、例えば、メチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、メチルメタクリレート、エ
チルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート
、n−プロピルメタクリレート。
ート、エチルアクリレート、メチルメタクリレート、エ
チルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート
、n−プロピルメタクリレート。
n−オクチルメタクリレートなどが挙げられる。
酢酸ビニル系モノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、
プロピオン酸ビニル酪酸ビニルなどが挙げられる。
プロピオン酸ビニル酪酸ビニルなどが挙げられる。
ブタジェン系モノマーとしては、例えば、ブタジェン、
イソプレン、クロロプレンなどが挙げられる。
イソプレン、クロロプレンなどが挙げられる。
ビニル系モノマーとして市販のものを用いる場合、重合
禁止剤を含存しているため、蒸留精製することが必要で
ある。
禁止剤を含存しているため、蒸留精製することが必要で
ある。
また、溶媒は、ポリシランおよびビニル系モノマーのい
ずれとも相溶性のあるものを用いることが必要で、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒、
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが好ましい。ハロ
ゲン系の溶媒は溶解性は良いが、重合が抑制されるため
好ましくない。
ずれとも相溶性のあるものを用いることが必要で、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒、
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが好ましい。ハロ
ゲン系の溶媒は溶解性は良いが、重合が抑制されるため
好ましくない。
次にボリンランとビニル系モノマーと溶媒とを重合管に
仕込み、液体チッ素で冷却し、真空ラインで脱気し、こ
の操作をくり返して、反応系から酸素を除去した後、重
合管を封管する。
仕込み、液体チッ素で冷却し、真空ラインで脱気し、こ
の操作をくり返して、反応系から酸素を除去した後、重
合管を封管する。
ポリシランとビニル系モノマーの仕込比は、ポリシラン
の単量体のモル数とビニル系モノマーのモル比との比が
3対7から9対1となるように、特に4対6から8対2
となるようにするのが好ましい。
の単量体のモル数とビニル系モノマーのモル比との比が
3対7から9対1となるように、特に4対6から8対2
となるようにするのが好ましい。
溶媒は、ポリシランとビニル系モノマーが完全混合する
ように適量加えることが好ましい。
ように適量加えることが好ましい。
次に、ポリシランとビニル系モノマーと溶媒を仕込んだ
前記重合管を恒温槽を用いて50〜90℃に加熱し、ポ
リシランの吸収最大波長以上の波長の光照射で光開始重
合を行う。
前記重合管を恒温槽を用いて50〜90℃に加熱し、ポ
リシランの吸収最大波長以上の波長の光照射で光開始重
合を行う。
照射光はポリシランの吸収最大波長以上の波長が用いら
れ、特にポリシランの吸収最大波長よりlQnm以上5
0nm以下の波長の露光が好ましい、露光時間は光量に
より適宜法められるが、通常、10秒から5分位である
。
れ、特にポリシランの吸収最大波長よりlQnm以上5
0nm以下の波長の露光が好ましい、露光時間は光量に
より適宜法められるが、通常、10秒から5分位である
。
露光光源は、紫外光を含む光源ならいずれでも良く、例
えば水銀ランプ、蛍光灯、水素ランプ、重水素ランプが
用いられるが、いずれの場合も、ポリシランの吸収最大
波長より小さい波長の光は紫外線吸収フィルターにより
除去することが必要である。該紫外線吸収フィルターと
しては、例えば5C−37(富士フィルム製)UV−D
36A。
えば水銀ランプ、蛍光灯、水素ランプ、重水素ランプが
用いられるが、いずれの場合も、ポリシランの吸収最大
波長より小さい波長の光は紫外線吸収フィルターにより
除去することが必要である。該紫外線吸収フィルターと
しては、例えば5C−37(富士フィルム製)UV−D
36A。
UV−33(東芝製)などが挙げられる。
露光後は重合管を恒温槽中で温度を50〜90℃に維持
し、振とうしながら30分から5時間重合させる0重合
後、重合管を開管し、内容物を溶媒で希釈する。得られ
た溶解液を重合物を溶かさないがモノマーを溶解する溶
媒を用いて再沈し、重合物を精製する。該再沈溶媒とし
ては、メタノール、エタノールなどのアルコール、n−
ヘキサン、シクロヘキサンなどのパラフィン系溶媒、ジ
エチルエーテル、ジブチルエーテルなどのエーテル系溶
媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒が用
いられる。
し、振とうしながら30分から5時間重合させる0重合
後、重合管を開管し、内容物を溶媒で希釈する。得られ
た溶解液を重合物を溶かさないがモノマーを溶解する溶
媒を用いて再沈し、重合物を精製する。該再沈溶媒とし
ては、メタノール、エタノールなどのアルコール、n−
ヘキサン、シクロヘキサンなどのパラフィン系溶媒、ジ
エチルエーテル、ジブチルエーテルなどのエーテル系溶
媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒が用
いられる。
本発明に用いるポリシランブロックとビニル系ポリマー
ブロックで構成されるポリシランブロックコポリマーを
以下に例示する。
ブロックで構成されるポリシランブロックコポリマーを
以下に例示する。
H3
a(3
G(。
島
島
a(3
島
島
島
島
島
島 −
一→Siモr−+cHz C±1−CE■ω8
αXl0I。
αXl0I。
C11s 島
−+ Stす1−一÷α8−C子1−
CB (CHJ t QXCJs島
H5i±1−一÷α、−σ子1−
GO(GIJ! QMDI。
島
島
島
島
島
島
島
島
Q(s
11s
13
(O(i) x
島
軒、 (αzh CHxなお、ブロック
コポリマーの構成は、ポリシランブロックをA、ビニル
系ポリマーブロックをBとすると、A−B、A−B−A
、B−A−B、A−B−A−Bなどのいずれの構成でも
良い。
コポリマーの構成は、ポリシランブロックをA、ビニル
系ポリマーブロックをBとすると、A−B、A−B−A
、B−A−B、A−B−A−Bなどのいずれの構成でも
良い。
ただし、ポリシランブロック中のシランモノマーが2種
以上の場合、ポリシランブロック内でシランモノマーが
ランダム共重合していても良い。
以上の場合、ポリシランブロック内でシランモノマーが
ランダム共重合していても良い。
ポリシランブロックコポリマー中のポリシランブロック
の単量体の総モル数とビニル系ポリマープロ、りの単量
体のモル数の比は、3対7から9対1が用いられ、なか
でも特に4対6から8対2が好ましい。
の単量体の総モル数とビニル系ポリマープロ、りの単量
体のモル数の比は、3対7から9対1が用いられ、なか
でも特に4対6から8対2が好ましい。
本発明の電子写真用感光体の構成は、積層型感光体およ
び単層型感光体のいずれでも良い。
び単層型感光体のいずれでも良い。
積層型感光体は、第1図および第2図に示すごとく電荷
発生層とポリシランブロックコポリマ層を積層させた構
成であり、第1図に示すものは一次帯電が負であり、第
2図に示すものは一次帯電が正で用いられる。
発生層とポリシランブロックコポリマ層を積層させた構
成であり、第1図に示すものは一次帯電が負であり、第
2図に示すものは一次帯電が正で用いられる。
電荷発生層は、電荷発生物質を蒸着するか、電荷発生物
質をバインダー樹脂中に分散し塗布したものであって、
いずれの場合も電荷発生層の膜厚は、第1図に示す構成
の場合0.1μm以上5μm以下であり、第2図に示す
構成の場合1pm以上10μm以下である。
質をバインダー樹脂中に分散し塗布したものであって、
いずれの場合も電荷発生層の膜厚は、第1図に示す構成
の場合0.1μm以上5μm以下であり、第2図に示す
構成の場合1pm以上10μm以下である。
電荷発生物質の分散液を塗布して電荷発生層を形成する
には、まず1i荷発生物質とバインダー樹脂を有機溶媒
中に仕込み、ボールミル、サンドミル、アトライターな
どの分散機を用いて分散液を調製し、次いで得られた分
散液を、ワイヤーハ−塗布、浸漬塗布、ドクターブレー
ド塗布、スプレ2布、ロール塗布、ビード塗布などによ
り塗布し、乾燥する。
には、まず1i荷発生物質とバインダー樹脂を有機溶媒
中に仕込み、ボールミル、サンドミル、アトライターな
どの分散機を用いて分散液を調製し、次いで得られた分
散液を、ワイヤーハ−塗布、浸漬塗布、ドクターブレー
ド塗布、スプレ2布、ロール塗布、ビード塗布などによ
り塗布し、乾燥する。
電荷発生物質を分散するバインダー樹脂としては、広範
な絶縁性樹脂あるいは有機光導電性ポリマーから選択さ
れるが、ポリビニルブチラール、ポリビニルベンザール
、ボリアリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、
フェノキシ樹脂、セルロース系樹脂、アクリル樹脂、ポ
リウレタンおよびポリシランブロックコポリマーなどが
好ましく、その使用量は電荷発生層中の含有率で80重
量%以下、好ましくは40重量%以下である。
な絶縁性樹脂あるいは有機光導電性ポリマーから選択さ
れるが、ポリビニルブチラール、ポリビニルベンザール
、ボリアリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、
フェノキシ樹脂、セルロース系樹脂、アクリル樹脂、ポ
リウレタンおよびポリシランブロックコポリマーなどが
好ましく、その使用量は電荷発生層中の含有率で80重
量%以下、好ましくは40重量%以下である。
また使用する溶剤は前記の樹脂をを溶解し、後述の電荷
輸送層や下引層を溶解しないものから選択することが好
ましい。
輸送層や下引層を溶解しないものから選択することが好
ましい。
具体的には、テトラヒドロフラン、1.4−ジオキサン
などのエーテル類、シクロヘキサノン、メチルエチルケ
トンなどのケトン類、N、N−ジメチルホルムアミドな
どのアミド類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル
類、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族
類、メタノール、エタノール、2−プロパツールなどの
アルコール類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロル
エチレン、四塩化炭素、トリクロルエチレンなどの脂肪
族ハロゲン化炭化水素類など挙げられる。
などのエーテル類、シクロヘキサノン、メチルエチルケ
トンなどのケトン類、N、N−ジメチルホルムアミドな
どのアミド類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル
類、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族
類、メタノール、エタノール、2−プロパツールなどの
アルコール類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロル
エチレン、四塩化炭素、トリクロルエチレンなどの脂肪
族ハロゲン化炭化水素類など挙げられる。
ポリシランブロックコポリマー層1の形成は、ポリシラ
ンブロックコポリマーを有機溶媒に溶解し、この溶解液
をワイヤーバー塗布、浸漬塗布、ドクターブレード塗布
、スプレー塗布、ロール塗布、ビート塗布などにより塗
布し、乾燥することにより行う、ポリシランブロックコ
ポリマーを溶解する有機溶媒としてはベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族系溶媒、ジクロルメタン、ジ
クロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンが用いられる。形成され
るポリシラン層1の膜厚は4μm以上30μm以下であ
り、好ましくは7μm以上20μm以下である。
ンブロックコポリマーを有機溶媒に溶解し、この溶解液
をワイヤーバー塗布、浸漬塗布、ドクターブレード塗布
、スプレー塗布、ロール塗布、ビート塗布などにより塗
布し、乾燥することにより行う、ポリシランブロックコ
ポリマーを溶解する有機溶媒としてはベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族系溶媒、ジクロルメタン、ジ
クロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンが用いられる。形成され
るポリシラン層1の膜厚は4μm以上30μm以下であ
り、好ましくは7μm以上20μm以下である。
単層型感光体は、第3図に示す構成を有しており、電荷
発生物質3をポリシランブロックコポリマー7に分散さ
せた構成である。該単層型感光体の場合、−次帯電は正
、負いずれでも良い。
発生物質3をポリシランブロックコポリマー7に分散さ
せた構成である。該単層型感光体の場合、−次帯電は正
、負いずれでも良い。
単層型感光体を形成するには、まず、電荷発生物質と有
機溶媒を仕込み、ボールミル、サンドミル、アトライタ
ーなどの分散機を用いて分散する。
機溶媒を仕込み、ボールミル、サンドミル、アトライタ
ーなどの分散機を用いて分散する。
有機溶媒としては、ポリシランプロ、クコポリマーを溶
解するため、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族溶媒、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロホル
ムなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンが用いられる。
解するため、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族溶媒、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロホル
ムなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンが用いられる。
次いでこの分散液にポリシランブロックコポリマーを加
え、溶解して、電荷発生物質分散ポリシランブロックコ
ポリマー溶液を作製する。この溶液をワイヤーバー塗布
、浸漬塗布、ドクターブレード塗布、スプレー塗布、ロ
ール塗布、ビード塗布などにより塗布し、乾燥する。
え、溶解して、電荷発生物質分散ポリシランブロックコ
ポリマー溶液を作製する。この溶液をワイヤーバー塗布
、浸漬塗布、ドクターブレード塗布、スプレー塗布、ロ
ール塗布、ビード塗布などにより塗布し、乾燥する。
電荷発生物質分散ポリシランブロンクコポリマー層の膜
厚は4μm以上30μm以下であり、好ましくは7μm
以上20μm以下である。
厚は4μm以上30μm以下であり、好ましくは7μm
以上20μm以下である。
積層型感光体および単層型感光体のいずれの場合も、電
荷発生物質としては、Se、5eTeSeAsなどの無
機電荷発生物質や、ピリリウム、チアピリリウム系染料
、フタロシアニン系顔料、アントアントロン顔料、ジベ
ンズピレンキノン顔料、ピラントロン顔料、トリスアゾ
顔料、ジスアゾll1il料、アゾ顔料、インジゴ顔料
、キナクリドン系顔料、非対称キノシアニン、キノシア
ニンなどの有機電荷発生物質を用いることができる。
荷発生物質としては、Se、5eTeSeAsなどの無
機電荷発生物質や、ピリリウム、チアピリリウム系染料
、フタロシアニン系顔料、アントアントロン顔料、ジベ
ンズピレンキノン顔料、ピラントロン顔料、トリスアゾ
顔料、ジスアゾll1il料、アゾ顔料、インジゴ顔料
、キナクリドン系顔料、非対称キノシアニン、キノシア
ニンなどの有機電荷発生物質を用いることができる。
感光層を設ける導電性支持体としては、例えばアルミニ
ウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス、チタ
ン、ニッケル、インジウム、金や白金などが用いられる
。またこうした金属あるいは合金を、真空蒸着法によっ
て被膜形成したプラスチック(例えばポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタ
レート、アクリル樹脂など)や、導電性粒子(例えばカ
ーボンブラック、銀粒子など)を適当なバインダー樹脂
と共にプラスチックまたは金属基板上に被覆した支持体
あるいは導電性粒子をプラスチックや紙に含浸した支持
体などを用いることができる。
ウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス、チタ
ン、ニッケル、インジウム、金や白金などが用いられる
。またこうした金属あるいは合金を、真空蒸着法によっ
て被膜形成したプラスチック(例えばポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタ
レート、アクリル樹脂など)や、導電性粒子(例えばカ
ーボンブラック、銀粒子など)を適当なバインダー樹脂
と共にプラスチックまたは金属基板上に被覆した支持体
あるいは導電性粒子をプラスチックや紙に含浸した支持
体などを用いることができる。
導電性支持体と感光層の中間に、バリヤー機能と接着機
能をもつ下引層を設けることもできる。
能をもつ下引層を設けることもできる。
下引層はカゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセル
ロース、ポリアミド(ナイロン6、ナイロン66、ナイ
ロン610、共重合ナイロン、アルコキシメチル化ナイ
ロンなど)、ポリウレタン、酸化アルミニウムなどによ
って形成できる。
ロース、ポリアミド(ナイロン6、ナイロン66、ナイ
ロン610、共重合ナイロン、アルコキシメチル化ナイ
ロンなど)、ポリウレタン、酸化アルミニウムなどによ
って形成できる。
下引層の膜厚は5μm以下、好ましくは0.1〜3μm
が適当である。
が適当である。
また、本発明の電子写真用感光体は保護層を設けてもよ
い、保護層としては、例えば、ポリカーボネートA1ポ
リカーボネートZ1ボリアリレート、ポリエステル、ポ
リメチルメタクリレートなどが用いられる。さらに体積
抵抗を制御するために、保護層に導電性粒子を添加して
も良い、導電性粒子としては、酸化スズ、酸化インジウ
ム、酸化アンチモンなどが挙げられる。導電性粒子を分
散するには導電性粒子とバインダー樹脂を有Il溶媒に
仕込み、ボールミル、サンドミル、アトライターなどの
分散機を用いて分散液を調製する。
い、保護層としては、例えば、ポリカーボネートA1ポ
リカーボネートZ1ボリアリレート、ポリエステル、ポ
リメチルメタクリレートなどが用いられる。さらに体積
抵抗を制御するために、保護層に導電性粒子を添加して
も良い、導電性粒子としては、酸化スズ、酸化インジウ
ム、酸化アンチモンなどが挙げられる。導電性粒子を分
散するには導電性粒子とバインダー樹脂を有Il溶媒に
仕込み、ボールミル、サンドミル、アトライターなどの
分散機を用いて分散液を調製する。
保護層はワイヤーバー塗布、浸漬塗布、ドクターブレー
ド塗布、スプレー塗布、ロール塗布、ビード塗布などに
より塗布し、乾燥することによって形成される。形成さ
れる保護層の膜厚は5μm以下、好ましくは3μm以下
が適当である。
ド塗布、スプレー塗布、ロール塗布、ビード塗布などに
より塗布し、乾燥することによって形成される。形成さ
れる保護層の膜厚は5μm以下、好ましくは3μm以下
が適当である。
本発明の電子写真用感光体は電子写真複写機に利用する
のみならず、レーザービームプリンターCRTプリンタ
ー、LEDプリンター、液晶プリンター、レーザー製版
などの電子写真応用分野にも広く用いることができる。
のみならず、レーザービームプリンターCRTプリンタ
ー、LEDプリンター、液晶プリンター、レーザー製版
などの電子写真応用分野にも広く用いることができる。
以下、ポリシランの製造例(製造例1〜5)およびポリ
シランブロックコポリマーの製造例(製造例6〜21)
を具体的に記載する。
シランブロックコポリマーの製造例(製造例6〜21)
を具体的に記載する。
l遺貫上
真空吸引とアルゴン置換を行ったブローボックスの中に
三ツロフラスコを用意し、これにリフランクスコンデン
サーと温度計と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
三ツロフラスコを用意し、これにリフランクスコンデン
サーと温度計と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
この三ツロフラスコ中に脱水ドデカン100グラムとワ
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。次にジクロロメチルフェニル
シランモノマー(チッソ■製)(a−7)0.1モルを
脱水ドデカン3oグラムに溶解させて、用意した溶液を
反応系にゆっくり滴下した。
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。次にジクロロメチルフェニル
シランモノマー(チッソ■製)(a−7)0.1モルを
脱水ドデカン3oグラムに溶解させて、用意した溶液を
反応系にゆっくり滴下した。
滴下後、100℃で1時間縮重合させることにより、白
色固体を析出させた。この後冷却し、ドデカンをデカン
チーシランして、さらに脱水トルエン100グラムを加
えることにより、白色固体を溶解させ、金属ナトリウム
0−01モルを加えた。
色固体を析出させた。この後冷却し、ドデカンをデカン
チーシランして、さらに脱水トルエン100グラムを加
えることにより、白色固体を溶解させ、金属ナトリウム
0−01モルを加えた。
次に、n−へキシルクロライド(東京化成製)(b−3
)0.01モルをトルエン10mAに溶解させて用意し
た溶液を反応系に撹拌しながらゆっくり滴下して添加し
、100’Cで1時間加熱した。この後冷却し、過剰の
金属ナトリウムを処理するため、メタノール50mlを
ゆっくり滴下した。これにより懸濁層とトルエン層とが
生成した。
)0.01モルをトルエン10mAに溶解させて用意し
た溶液を反応系に撹拌しながらゆっくり滴下して添加し
、100’Cで1時間加熱した。この後冷却し、過剰の
金属ナトリウムを処理するため、メタノール50mlを
ゆっくり滴下した。これにより懸濁層とトルエン層とが
生成した。
次に、トルエン層を分離し、減圧濃縮した後シリカゲル
カラム、クロマトグラフィーで展開して精製し、ボリン
ラン化合e!JNQP−1を得た。収率は65%であっ
た。。
カラム、クロマトグラフィーで展開して精製し、ボリン
ラン化合e!JNQP−1を得た。収率は65%であっ
た。。
このポリシラン化合物の重量平均分子量はGPC法によ
りTHF展開し測定した結果75,000であった(ポ
リスチレンを標準とした)。
りTHF展開し測定した結果75,000であった(ポ
リスチレンを標準とした)。
製1±1
真空吸引とアルゴン置換を行ったブローボックスの中に
三ツロフラスコを用意し、これにリフランクスコンデン
サーと温度計と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
三ツロフラスコを用意し、これにリフランクスコンデン
サーと温度計と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
この三ツロフラスコ中に脱水n−ヘキサン100グラム
と1鶴角の金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌し
ながら80℃に加熱した0次にジクロロメチルシクロへ
キシルシランモノマー(チッソ■製Ha−13)0.1
モルを脱水n−ヘキサンに溶解させて用意した溶液を反
応系にゆっくりと滴下した0滴下後80℃で3時間縮重
合させることにより、白色固体を析出させた。この後冷
却し、n−ヘキサンをデカンテーシヨンして、さらに脱
水トルエン100グラムを加えることにより、白色固体
を溶解させ、金属ナトリウム0.01モルを加えた。次
に、n−へキシルクロライド(東京化成製)(b−3)
0.01モルをトルエン10m1に溶解させて用意した
溶液を反応系に撹拌しながらゆっくり滴下して添加し、
80℃で1時間加熱した。この後冷却し、過剰の金属ナ
トリウムを処理するため、メタノール50 m lをゆ
っくり滴下した。これにより!!Ar75層とトルエン
層とが生成した。
と1鶴角の金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌し
ながら80℃に加熱した0次にジクロロメチルシクロへ
キシルシランモノマー(チッソ■製Ha−13)0.1
モルを脱水n−ヘキサンに溶解させて用意した溶液を反
応系にゆっくりと滴下した0滴下後80℃で3時間縮重
合させることにより、白色固体を析出させた。この後冷
却し、n−ヘキサンをデカンテーシヨンして、さらに脱
水トルエン100グラムを加えることにより、白色固体
を溶解させ、金属ナトリウム0.01モルを加えた。次
に、n−へキシルクロライド(東京化成製)(b−3)
0.01モルをトルエン10m1に溶解させて用意した
溶液を反応系に撹拌しながらゆっくり滴下して添加し、
80℃で1時間加熱した。この後冷却し、過剰の金属ナ
トリウムを処理するため、メタノール50 m lをゆ
っくり滴下した。これにより!!Ar75層とトルエン
層とが生成した。
次に、トルエン層を分離し、減圧濃縮した後、シリカゲ
ルカラム、クロマトグラフィーで展開して精製し、ポリ
シラン化合物&P−2を得た。収率は58%であり、重
量平均分子量は120,000であった。
ルカラム、クロマトグラフィーで展開して精製し、ポリ
シラン化合物&P−2を得た。収率は58%であり、重
量平均分子量は120,000であった。
袈遺斑主二l
製造例2と同様にして第1表に示すポリシランNaP−
3を製造した。また、製造例1と同様にして第1表に示
すポリシラン&P−4,P−5を製造した。
3を製造した。また、製造例1と同様にして第1表に示
すポリシラン&P−4,P−5を製造した。
黒11IL
まず、製造例1で作製したポリシランl1hP−110
重量部(以下、部とする)、減圧蒸留して精製したスチ
レンモノマー10部、蒸留精製したベンゼン30部を用
意する。これらをガラス重合管に仕込み、真空ラインに
取り付ける0重合管を液体チッ素で凍結させ、真空ライ
ンで10−2ツール以下に脱気した後、重合管を室温に
戻し解凍する。
重量部(以下、部とする)、減圧蒸留して精製したスチ
レンモノマー10部、蒸留精製したベンゼン30部を用
意する。これらをガラス重合管に仕込み、真空ラインに
取り付ける0重合管を液体チッ素で凍結させ、真空ライ
ンで10−2ツール以下に脱気した後、重合管を室温に
戻し解凍する。
この操作を3回以上繰り返して、反応系から酸素を除去
する。
する。
解凍後、ポリシランが析出するため超音波槽で再溶解さ
せる。
せる。
次に重合管を恒温槽で80℃に保つ、水銀ランプに紫外
吸収フィルター(UV−D36A、東芝製)をかけ、波
長360nmの照射光を30秒間、重合管に照射してビ
ニルモノマー重合を開始させた。さらに暗所で重合管を
振とうしながら、80℃で2時間重合させた。室温で冷
却後、重合管を開封し、重合物にベンゼンを加えて取り
出す。重合物のベンゼン溶液をメタノールに再沈精製し
て、目的とするポリシランブロックコポリマーmPB−
1を得た。
吸収フィルター(UV−D36A、東芝製)をかけ、波
長360nmの照射光を30秒間、重合管に照射してビ
ニルモノマー重合を開始させた。さらに暗所で重合管を
振とうしながら、80℃で2時間重合させた。室温で冷
却後、重合管を開封し、重合物にベンゼンを加えて取り
出す。重合物のベンゼン溶液をメタノールに再沈精製し
て、目的とするポリシランブロックコポリマーmPB−
1を得た。
このポリシランブロックコポリマーの重量平均分子量は
、GPC法によりTHF展開し、測定した結果、67.
000であった(ポリスチレンを標準とした)。
、GPC法によりTHF展開し、測定した結果、67.
000であった(ポリスチレンを標準とした)。
同定はIRはNa C1l板上にサンプルのトルエン溶
液を塗布、乾燥して、N1colet F T −T
R750にコレ−・ジャパン製)により測定した。
液を塗布、乾燥して、N1colet F T −T
R750にコレ−・ジャパン製)により測定した。
またNMRはサンプルをCD CJ sに溶解し、FT
−NMR,FX−90Q (日本電子源)により測定し
た。
−NMR,FX−90Q (日本電子源)により測定し
た。
ポリシランブロックコポリマーの各モノマーの重合モル
比は、NMRのプロトン数の比より求めた。収率はポリ
シランおよびビニル系モノマーの仕込重量の総量から得
られたポリシランブロックコポリマーの重量の割合をパ
ーセントで示した。
比は、NMRのプロトン数の比より求めた。収率はポリ
シランおよびビニル系モノマーの仕込重量の総量から得
られたポリシランブロックコポリマーの重量の割合をパ
ーセントで示した。
また、サンプルをジクロルメタンに溶解し、紫外吸収ス
ペクトルをスペクトルフォトメーター(U−3400、
日立製作所)により測定し、得られた最大吸収波長(λ
l1lax)を第2表に示した。
ペクトルをスペクトルフォトメーター(U−3400、
日立製作所)により測定し、得られた最大吸収波長(λ
l1lax)を第2表に示した。
NMR,IRデータからサンプルはポリシランのブロッ
クとスチレンブロックの構造を持つことがi=された。
クとスチレンブロックの構造を持つことがi=された。
また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポリシランの
特性を示しており、光照射によりポリソランが低分子化
せず、長鎖構造を保っていることが確認された。
特性を示しており、光照射によりポリソランが低分子化
せず、長鎖構造を保っていることが確認された。
製盈拠に上■
実施例6のビニル系モノマーであるスチレンをα−メチ
ルスチレン、メチルメタクリレート、メチルアクリレー
ト、tert−ブチルメタクリレートにかえた以外は同
様にしてポリシランブロックコポリマー隘PB−2〜P
B−5を合成した。
ルスチレン、メチルメタクリレート、メチルアクリレー
ト、tert−ブチルメタクリレートにかえた以外は同
様にしてポリシランブロックコポリマー隘PB−2〜P
B−5を合成した。
NMR,IRデータよりサンプルはポリシランのブロッ
クと各ビニル系ポリマーブロックの構造を持つことが確
認された。また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポ
リシランの特性を示しており、光照射によりポリシラン
が低分子化せず、長鎖構造を保っていることがt1認さ
れた。
クと各ビニル系ポリマーブロックの構造を持つことが確
認された。また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポ
リシランの特性を示しており、光照射によりポリシラン
が低分子化せず、長鎖構造を保っていることがt1認さ
れた。
髪】本口」−
まず、製造例2で作製したポリシランPkLP−214
部、減圧蒸留して精製したスチレンモノマー6部、蒸留
精製したベンゼン30部を用意する。
部、減圧蒸留して精製したスチレンモノマー6部、蒸留
精製したベンゼン30部を用意する。
これらをガラス重合管に仕込み、実施例1と同様に凍結
、脱気を行う、解凍後、ポリシランが析出するため、超
音波槽で再溶解させる。
、脱気を行う、解凍後、ポリシランが析出するため、超
音波槽で再溶解させる。
次に重合管を恒温槽で80℃に保つ。水銀ランプに紫外
吸収フィルターUV−35とUVD36Sをかけ、波長
350nmの照射光を30秒間、重合管に照射してビニ
ルモノマー重合を開始させた。
吸収フィルターUV−35とUVD36Sをかけ、波長
350nmの照射光を30秒間、重合管に照射してビニ
ルモノマー重合を開始させた。
さらに暗所で重合管を振とうしながら、80℃で2時間
重合させた。室温で冷却後、重合管を開封し、重合物に
ベンゼンを加えて取り出す0重合物のベンゼン溶液をメ
タノールに再沈精製して目的とするポリシランブロック
コポリマーNIPB−6を得た。
重合させた。室温で冷却後、重合管を開封し、重合物に
ベンゼンを加えて取り出す0重合物のベンゼン溶液をメ
タノールに再沈精製して目的とするポリシランブロック
コポリマーNIPB−6を得た。
結果を第2表に示した。
NMRTRデータからサンプルはポリシランのブロック
とポリスチレンブロックの構造を持つことが確認された
。
とポリスチレンブロックの構造を持つことが確認された
。
また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポリシランの
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることが確認された。
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることが確認された。
髪&し二15
製造例11のビニル系モノマーであるスチレンをα−メ
チルスチレン、メチルメタクリレート、メチルアクリレ
ート、tert−ブチルメタクリレートにかえた以外は
同様にしてポリシランブロックコポリマー漱PB−7〜
PB−10を合成した。
チルスチレン、メチルメタクリレート、メチルアクリレ
ート、tert−ブチルメタクリレートにかえた以外は
同様にしてポリシランブロックコポリマー漱PB−7〜
PB−10を合成した。
結果を第2表に示した。
NMR,TRデータよりサンプルはポリシランブロック
と各ビニル系ポリマーブロックの構造を持つことが確認
された。
と各ビニル系ポリマーブロックの構造を持つことが確認
された。
また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポリシランの
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることが確認された。
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることが確認された。
製1」(L影
まず、製造例3で作製したポリシランhhP−38部、
減圧蒸留して精製したエチルアクリレート12部、蒸留
精製したベンゼン30部を用意スル。
減圧蒸留して精製したエチルアクリレート12部、蒸留
精製したベンゼン30部を用意スル。
これらをガラス重合管に仕込み、実施例1と同様に凍結
脱気を行う。
脱気を行う。
解凍後、ポリンランが析出するため、超音波槽で再溶解
させる。
させる。
次に重合管を恒温槽で60℃に保つ、水銀ランプに紫外
吸収フィルター(IJV−35とUV−D363東芝製
)をかけ、波長350nmの照射光を10秒間、重合管
に照射してビニルモノマー重合を開始させた。
吸収フィルター(IJV−35とUV−D363東芝製
)をかけ、波長350nmの照射光を10秒間、重合管
に照射してビニルモノマー重合を開始させた。
さらに暗所で重合管を振とうしながら、60℃で3時間
重合させた。室温で冷却後、重合管を開封し、重合物に
ベンゼンを加えて取り出す0重合物のベンゼン溶液をメ
タノールに再沈精製して、目的とするポリシランブロッ
クコポリマー&PB11を得た。結果を第2表に示した
。
重合させた。室温で冷却後、重合管を開封し、重合物に
ベンゼンを加えて取り出す0重合物のベンゼン溶液をメ
タノールに再沈精製して、目的とするポリシランブロッ
クコポリマー&PB11を得た。結果を第2表に示した
。
NMR,TRデータからサンプルはポリシランのブロッ
クとポリter t−ブチルメタクリレートブロックの
構造を持つことが確認された。
クとポリter t−ブチルメタクリレートブロックの
構造を持つことが確認された。
また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポリシランの
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず、長鎖構造を保っていることがf!認された。
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず、長鎖構造を保っていることがf!認された。
黒1」(LL
製造例16のビニル系モノマーであるエチルアクリレー
トをブタジェンにかえた以外は同様にしてポリンランブ
ロンクコポリマーNIPB−12を合成した。結果を第
2表に示した。
トをブタジェンにかえた以外は同様にしてポリンランブ
ロンクコポリマーNIPB−12を合成した。結果を第
2表に示した。
NMR,TRデータからサンプルはポリシランのブロッ
クとポリブタジェンブロックの構造を持つことが確認さ
れた。
クとポリブタジェンブロックの構造を持つことが確認さ
れた。
また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポリシランの
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず、長鎖構造を保っていることがWLにされた。
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず、長鎖構造を保っていることがWLにされた。
1LeJLLL
先ず、製造例4で作製したポリシラン&P −4゜10
部、減圧蒸留して精製したメチルメタクリレ−ト10部
、蒸留精製したベンゼン30部を用意する。これらをガ
ラス重合管に仕込み、実施例1と同様に凍結脱気を行う
。
部、減圧蒸留して精製したメチルメタクリレ−ト10部
、蒸留精製したベンゼン30部を用意する。これらをガ
ラス重合管に仕込み、実施例1と同様に凍結脱気を行う
。
解凍後、ポリシランが析出するため、超音波槽で再溶解
させる。
させる。
次に重合管を恒温槽で80℃に保つ、水銀ランプに紫外
吸収フィルターUV−33とUVD33S (東芝製)
をかけ、波長330nmの照射光を30秒間、重合管に
照射してビニルモノマー重合を開始させた。
吸収フィルターUV−33とUVD33S (東芝製)
をかけ、波長330nmの照射光を30秒間、重合管に
照射してビニルモノマー重合を開始させた。
さらに暗所で重合管を振とうしながら、80℃で2時間
重合させた。室温で冷却後、重合管を開封し、重合物に
ベンゼンを加えて取り出す0重合物のベンゼン溶液をメ
タノールに再沈し精製して、目的とするポリシランブロ
ックコポリマーNIPB−13を得た。
重合させた。室温で冷却後、重合管を開封し、重合物に
ベンゼンを加えて取り出す0重合物のベンゼン溶液をメ
タノールに再沈し精製して、目的とするポリシランブロ
ックコポリマーNIPB−13を得た。
同定は、実施例1と同様に行い、結果を第2表に示した
。
。
NMR,[Rデータからサンプルはポリシランのブロッ
クとポリメチルメタクリレートブロックの構造を持つこ
とが確認された。
クとポリメチルメタクリレートブロックの構造を持つこ
とが確認された。
また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポリシランの
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることが確認された。
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることが確認された。
l遺勇エエ
実施例13のビニルモノマーであるメチルメタクリレー
トを酢酸ビニルにかえた以外は同様にしてポリシランブ
ロックコポリマーNIPB−14を合成した。
トを酢酸ビニルにかえた以外は同様にしてポリシランブ
ロックコポリマーNIPB−14を合成した。
同定結果を第2表に示した。
NMR,IRデータからサンプルはポリシランのブロッ
クとポリ酢酸ビニルブロックの構造を持つことが!!認
された。
クとポリ酢酸ビニルブロックの構造を持つことが!!認
された。
また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポリシランの
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることが確認された。
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることが確認された。
製造撚11
先ず、製造例5で作製したポリシランIkP−5゜10
部、減圧蒸留して精製したメチルメタクリレート10部
、蒸留精製したベンゼン30部を用意する。これらをガ
ラス重合管に仕込み、実施例]と同様に凍結脱気を行う
。
部、減圧蒸留して精製したメチルメタクリレート10部
、蒸留精製したベンゼン30部を用意する。これらをガ
ラス重合管に仕込み、実施例]と同様に凍結脱気を行う
。
解凍後、ポリシランが析出するため、超音波槽で再溶解
させる。
させる。
次に重合管を恒温槽で80℃に保つ、水銀ランプに紫外
吸収フィルターLIV−33とLIV−D33S (東
芝製)をかけ、波長330nmの照射光を30秒間、重
合管に照射してビニルモノマー重合を開始させた。
吸収フィルターLIV−33とLIV−D33S (東
芝製)をかけ、波長330nmの照射光を30秒間、重
合管に照射してビニルモノマー重合を開始させた。
さらに暗所で重合管を振とうしながら、80℃で2時間
重合させた。室温で冷却後、重合管を開封し、重合物に
ベンゼンを加えて取り出す0重合物のベンゼン溶液をメ
タノールに再沈し精製して、目的とするポリシランブロ
ックコポリマーNaPB−15を得た。
重合させた。室温で冷却後、重合管を開封し、重合物に
ベンゼンを加えて取り出す0重合物のベンゼン溶液をメ
タノールに再沈し精製して、目的とするポリシランブロ
ックコポリマーNaPB−15を得た。
同定は、実施例1と同様に行い、結果を第2表に示した
。
。
NMR,IRデータからサンプルはポリシランのブロッ
クとポリメチルメタクリレートブロックの構造を持つこ
とが確認された。
クとポリメチルメタクリレートブロックの構造を持つこ
とが確認された。
また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポリシランの
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることがn認された。
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることがn認された。
里MdLL上
実施例20のビニルモノマーであるメチルメタクリレー
トを酢酸ビニルにかえた以外は同様にしてポリシランブ
ロックコポリマーNl 16 重合tE シた。
トを酢酸ビニルにかえた以外は同様にしてポリシランブ
ロックコポリマーNl 16 重合tE シた。
同定結果を第2表に示した。
NMR,IRデータからサンプルはポリシランのブロッ
クとポリ酢酸ビニルブロックの構造を持つことが確認さ
れた。
クとポリ酢酸ビニルブロックの構造を持つことが確認さ
れた。
また、紫外吸収スペクトルからサンプルはポリシランの
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることがn認された。
特性を示しており、光照射によりポリシランが低分子化
せず長鎖構造を保っていることがn認された。
止51U1汁上
製造例1と同様にしてジクロロシランモノマー(チッソ
特製)(a−7)を縮合させポリマーの末端基を処理し
ない以外は製造例1と同様に合成しポリシラン1lhB
−1を得た。収率は60%で重量平均分子量は46,0
00であった。同定結果を第2表に示した。
特製)(a−7)を縮合させポリマーの末端基を処理し
ない以外は製造例1と同様に合成しポリシラン1lhB
−1を得た。収率は60%で重量平均分子量は46,0
00であった。同定結果を第2表に示した。
なお、このポリシラン化合物においては末端基には未反
応の5i−Cl、副生成物の5i−ORに帰属されるI
R吸収が認められた。
応の5i−Cl、副生成物の5i−ORに帰属されるI
R吸収が認められた。
ル較製遺■主
真空吸引とアルゴン置換を行ったブローボックスの中に
三ツロフラスコを用意し、これにリフランクスコンデン
サーと温度針と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
三ツロフラスコを用意し、これにリフランクスコンデン
サーと温度針と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
この三ツロフラスコ中に脱水ドデカン100グラムとワ
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。次にジクロロジメチルシラン
モノマー(チッソ特製)ヲ0.1モルを脱水ドデカン3
0グラムに熔解させて用意した溶液を反応系にゆっくり
滴下した。滴下後、100℃で1時間縮重合させること
により、白色固体を析出させた。この後冷却し、過剰の
金属ナトリウムを処理するため、メタノール50m1を
ゆっくり滴下した。
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。次にジクロロジメチルシラン
モノマー(チッソ特製)ヲ0.1モルを脱水ドデカン3
0グラムに熔解させて用意した溶液を反応系にゆっくり
滴下した。滴下後、100℃で1時間縮重合させること
により、白色固体を析出させた。この後冷却し、過剰の
金属ナトリウムを処理するため、メタノール50m1を
ゆっくり滴下した。
次に、白色固体を濾集し、n−ヘキサンとメタノールで
洗浄を繰り返し、ポリシラン化合物NIE−2を得た。
洗浄を繰り返し、ポリシラン化合物NIE−2を得た。
このポリシラン化合物はトルエン、クロロホルム、TH
Fなどの有機溶剤に不溶のため、同定はIRで行った。
Fなどの有機溶剤に不溶のため、同定はIRで行った。
結果を第2表に示す。
1校製盈五主
真空吸引とアルゴン置換を行ったブローボックスの中に
三ツロフラスコを用意し、これにリフランクスコンデン
サーと温度針と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
三ツロフラスコを用意し、これにリフランクスコンデン
サーと温度針と滴下ロートを取り付けて、滴下ロートの
バイパス管からアルゴンガスを通した。
この三ツロフラスコ中に脱水ドデカン100グラムとワ
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。
イヤー状金属ナトリウム0.3モルを仕込み、撹拌しな
がら100℃に加熱した。
次にジフェニルジクロロシランモノマー(チッソ特製)
を0.1モルを脱水ドデカン30グラムに溶解させて用
意した溶液を反応系にゆっくり滴下した0滴下後、10
0℃で1時間縮重合させることにより、白色固体を析出
させた。
を0.1モルを脱水ドデカン30グラムに溶解させて用
意した溶液を反応系にゆっくり滴下した0滴下後、10
0℃で1時間縮重合させることにより、白色固体を析出
させた。
この後冷却し、過剰の金属ナトリウムを処理するため、
メタノール50m1をゆっくり滴下した。
メタノール50m1をゆっくり滴下した。
次に、白色固体を濾集し、n−ヘキサンとメタノールで
洗浄を繰り返し、ポリシラン化合物11hE3を得た。
洗浄を繰り返し、ポリシラン化合物11hE3を得た。
このポリシラン化合物はトルエン、クロロホルム、TH
Fなどの有機溶剤に不溶のため、同定はIRで行った。
Fなどの有機溶剤に不溶のため、同定はIRで行った。
結果を第2表に示す。
大1班上
感光体は、まずアルミニウム基板を用意し、次にit荷
発生層塗液として、クロルアルミニウムフタロシアニン
10重量部(以下、部)、ポリビニルブチラール5部を
MEK90部にボールミル分散し、ワイヤーバー塗工し
て膜厚0.3μmの電荷発生層を設けた。
発生層塗液として、クロルアルミニウムフタロシアニン
10重量部(以下、部)、ポリビニルブチラール5部を
MEK90部にボールミル分散し、ワイヤーバー塗工し
て膜厚0.3μmの電荷発生層を設けた。
電荷発生層の上にポリシランブロックコポリマーNQP
B−1をトルエンに溶解し、ワイヤーバー塗工し、膜厚
10μmのポリシランフロックコポリマー層を設け、感
光体階1を作製した。
B−1をトルエンに溶解し、ワイヤーバー塗工し、膜厚
10μmのポリシランフロックコポリマー層を設け、感
光体階1を作製した。
この電子写真用感光体を川口電機■製静電複写紙試験装
置Model S P −428を用いてスタチック
方式で一5kVでコロナ帯電し、暗所で1秒間保持した
後、照度2.5ルツクスで露光し、帯電特性を調べた。
置Model S P −428を用いてスタチック
方式で一5kVでコロナ帯電し、暗所で1秒間保持した
後、照度2.5ルツクスで露光し、帯電特性を調べた。
さらに強露光(照度20ルツクス・秒)後の残留電位を
調べた。
調べた。
帯電特性としては、表面電位(vo)と1秒間暗減衰さ
せた時の電位(V+ )を1/2に減衰するに必要な露
光量(El/2)を測定した。
せた時の電位(V+ )を1/2に減衰するに必要な露
光量(El/2)を測定した。
また、残留電位VsLを測定した。
さらに、前記をキャノン特製PPC複写11NP150
Zの感光ドラム用シリンダーに貼り付けて、同機でi、
ooo枚複写を行い、1.000枚複写後、画質を検討
した。さらに5p428で残留電位VSLの変動を測定
した。
Zの感光ドラム用シリンダーに貼り付けて、同機でi、
ooo枚複写を行い、1.000枚複写後、画質を検討
した。さらに5p428で残留電位VSLの変動を測定
した。
これらの結果を第3表に示した。
ス1」1しユl
感光体は実施例1と同様に電荷発生層まで設け、ポリシ
ランブロックコポリマー1mPB−2〜PB−5を用い
たポリシランブロックコポリマー層を設け、感光体臘2
〜5を作製し、実施例1と同様に評価し、結果を第3表
に示した。
ランブロックコポリマー1mPB−2〜PB−5を用い
たポリシランブロックコポリマー層を設け、感光体臘2
〜5を作製し、実施例1と同様に評価し、結果を第3表
に示した。
里較■上
電子写真用感光体は実施例1と同様に電荷発生層まで設
け、ポリシラン1kE−1を用いたポリシラン層を設け
、感光体NIF−1を作製し、実施例1と同様に評価し
、結果を第3表に示した。
け、ポリシラン1kE−1を用いたポリシラン層を設け
、感光体NIF−1を作製し、実施例1と同様に評価し
、結果を第3表に示した。
北較■1
電子写真用感光体は実施例1と同様に電荷発生層まで設
け、ポリシラン1mP−1を用いたポリシラン層を設け
、感光体111F−2を作製し、実施例1と同様に評価
し、結果を第3表に示した。
け、ポリシラン1mP−1を用いたポリシラン層を設け
、感光体111F−2を作製し、実施例1と同様に評価
し、結果を第3表に示した。
ル較貫主−↓
ポリシラン1kE−2,E−3をトルエン、ジクロルメ
タン、THF、ジオキサンなどの有機溶媒に混合したが
、ポリシラン&E−2,E−3はこれらの有機溶媒に全
く不溶であり、感光体を作製することは困難であった。
タン、THF、ジオキサンなどの有機溶媒に混合したが
、ポリシラン&E−2,E−3はこれらの有機溶媒に全
く不溶であり、感光体を作製することは困難であった。
ス1」(4二」」。
電子写真用感光体は実施例1と同様に電荷発生層まで設
け、ポリシランブロックコポリマーPkLPB−6〜P
B−12を用いたポリシランブロックコポリマー層を設
け、感光体11h6−12を作製し、実施例1と同様に
評価し、結果を第3表に示した。
け、ポリシランブロックコポリマーPkLPB−6〜P
B−12を用いたポリシランブロックコポリマー層を設
け、感光体11h6−12を作製し、実施例1と同様に
評価し、結果を第3表に示した。
ス1側U−辷ユ16
電子写真用感光体はまず、アルミニウム基板を用意し、
次に電荷発生層塗液として(A)式のジスアゾ顔料10
部、ポリビニルブチラール5部をメチルエチルケトン9
0部にボールミル分散し、ワイヤーバー塗工して膜厚0
.2μmの電荷発生層を設けた。
次に電荷発生層塗液として(A)式のジスアゾ顔料10
部、ポリビニルブチラール5部をメチルエチルケトン9
0部にボールミル分散し、ワイヤーバー塗工して膜厚0
.2μmの電荷発生層を設けた。
電荷発生層の上にポリシランフロンクコポリマー層PB
−13〜PB−16を用いたポリシランブロックコポリ
マー層を設け、感光体部13〜16を作製し、実施例】
と同様に評価し、結果を第4表に示した。
−13〜PB−16を用いたポリシランブロックコポリ
マー層を設け、感光体部13〜16を作製し、実施例】
と同様に評価し、結果を第4表に示した。
電子写真用感光体はまず、アルミニウム基板を用意し、
次に電荷発生層塗液として(B)式のジスアゾ顔料10
部、ポリビニルブチラール5部をメチルエチルケトン9
0部にボールミル分散し、ワイヤーバー塗工して膜厚0
゜2μmの電荷発生層を設けた。
次に電荷発生層塗液として(B)式のジスアゾ顔料10
部、ポリビニルブチラール5部をメチルエチルケトン9
0部にボールミル分散し、ワイヤーバー塗工して膜厚0
゜2μmの電荷発生層を設けた。
電荷発生層の上にはポリシランブロックコポリマー11
!1IPB−1〜PB−16を用いたポリシランフロン
クコポリマー層を設け、感光体部17〜32を作製し、
実施例1と同様に評価し、結果を第5表に示した。
!1IPB−1〜PB−16を用いたポリシランフロン
クコポリマー層を設け、感光体部17〜32を作製し、
実施例1と同様に評価し、結果を第5表に示した。
電子写真用感光体は実施例1と同様に電荷発生層まで設
け、ポリシラン1mB−1を用いたポリシラン層を設け
、感光体mF−5を作製し、実施例1と同様に評価し、
結果を第5表に示した。
け、ポリシラン1mB−1を用いたポリシラン層を設け
、感光体mF−5を作製し、実施例1と同様に評価し、
結果を第5表に示した。
ル較■工
電子写真用感光体は実施例1と同様に電荷発生層まで設
け、ポリシランmP−1を用いたポリシラン層を設け、
感光体1kF−6を作製し、実施例1と同様に評価し、
結果を第5表に示した。
け、ポリシランmP−1を用いたポリシラン層を設け、
感光体1kF−6を作製し、実施例1と同様に評価し、
結果を第5表に示した。
大丘斑1ユ
感光体はまずアルミニウム基板を用意し、次にポリシラ
ンブロックコポリマーNQPB−1をトルエンに溶解し
、ワイヤーバー塗工し、膜厚10μmのポリシラン層を
設けた。
ンブロックコポリマーNQPB−1をトルエンに溶解し
、ワイヤーバー塗工し、膜厚10μmのポリシラン層を
設けた。
次に、ジブロムアントアントロン(C)5部をポリシラ
ンml、10部、トルエン85部にボールミル分散し、
電荷発生層塗液を作製した。
ンml、10部、トルエン85部にボールミル分散し、
電荷発生層塗液を作製した。
ボリシランブロフクコボリマー層の上に電荷発生層塗液
をワイヤーバー塗工し、乾燥して膜厚3μmの電荷発生
層を設け、感光体1に33を作製した。
をワイヤーバー塗工し、乾燥して膜厚3μmの電荷発生
層を設け、感光体1に33を作製した。
この電子写真用感光体を川口電機■製静電複写紙試験装
置Model S P −428を用いてスタチック
方式で+5kVでコロナ帯電し、暗所で1秒間保持した
後、照度2.5ルツクスで露光し、帯電特性を調べた。
置Model S P −428を用いてスタチック
方式で+5kVでコロナ帯電し、暗所で1秒間保持した
後、照度2.5ルツクスで露光し、帯電特性を調べた。
さらに強震光(照度20ルツクス・秒)後の残留電位を
調べた。
調べた。
帯電特性としては、表面電位(V、)と1秒間暗減衰さ
せた時の電位(vl)を1/2に減衰するに必要な露光
量(El/2)を測定した。
せた時の電位(vl)を1/2に減衰するに必要な露光
量(El/2)を測定した。
また、残留電位VSLを測定した。
これらの結果を第6表に示した。
几較拠1
実施例33において使用するポリシランブロンクコポリ
マーをポリシランFkLE−1にとりかえた以外は全く
同様に感光体F−7を作製した。
マーをポリシランFkLE−1にとりかえた以外は全く
同様に感光体F−7を作製した。
評価は実施例33と同様に評価し、結果を第6表に示し
た。
た。
叉l医主↓
感光体はまずアルミニウム基板を用意した。
次に、チアピリリウム塩(D)5部をポリシランブロッ
クコポリマー11mPB−1,20部、トルエン75部
をボールミル分散し、感光層塗液を作製した。
クコポリマー11mPB−1,20部、トルエン75部
をボールミル分散し、感光層塗液を作製した。
アルミニウム基板の上に感光層塗液をワイヤーバーに塗
工し、乾燥して膜厚12μmの単層型感光体部34を作
製した。
工し、乾燥して膜厚12μmの単層型感光体部34を作
製した。
評価は実施例33と同様に行い、結果を第6表に示した
。
。
実施例35において使用するポリシランブロンクコポリ
マーをポリシランE−1にとりかえた以外は全く同様に
単層型感光体F−8を作製した。
マーをポリシランE−1にとりかえた以外は全く同様に
単層型感光体F−8を作製した。
評価は実施例34と同様に結果を第6表に示した。
(以下余白)
第
表
第
2
表
(その1)
第
表
(その2)
第
表
(その3)
第
表
(その4)
第
2
表
(その5)
第
表
第
表
第
表
第
6
表
〔発明の効果の概要〕
実施例と比較例かられかるように、本発明ではポリシラ
ンブロックコポリマーを用いることにより、高感度で残
留電位も少なく、くり返し使用時にも電位変動が少なく
、耐摩耗性と接着性に優れた、しかも画質の安定した電
子写真用感光体を提供できるという利点がある。
ンブロックコポリマーを用いることにより、高感度で残
留電位も少なく、くり返し使用時にも電位変動が少なく
、耐摩耗性と接着性に優れた、しかも画質の安定した電
子写真用感光体を提供できるという利点がある。
第1図、第2図は積層型を光体の略断面図である。
第3図は単層型感光体の略断面図である。
Claims (3)
- (1)導電性基板上に感光層を設けた電子写真用感光体
において感光層が一般式( I )で表されるポリシラン
ブロックとビニル系ポリマーブロックで構成されるポリ
シランブロックコポリマーを含有することを特徴とする
電子写真用感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) 〔但し、式中、R_1は炭素数1又は2のアルキル基、
R_2は炭素数3乃至8のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基又はアラルキル基、R_3は炭素数1乃
至4のアルキル基、R_4は炭素数1乃至4のアルキル
基をそれぞれ示す。XとYは、ポリマー中のそれぞれの
モノマー単位数を示す数である。) - (2)ビニル系ポリマーブロックのモノマー単位がスチ
レン系、アクリル系、酢酸ビニル系、ブタジエン系モノ
マーで構成される請求項(1)に記載のポリシランブロ
ックコポリマーを含有することを特徴とする電子写真用
感光体。 - (3)ポリシランブロックコポリマー中の総モノマー単
位に対するシランモノマー単位のモル比が30%〜90
%であることを特徴とする請求項(1)に記載の電子写
真用感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9393990A JP2855282B2 (ja) | 1990-04-11 | 1990-04-11 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9393990A JP2855282B2 (ja) | 1990-04-11 | 1990-04-11 | 電子写真用感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03293361A true JPH03293361A (ja) | 1991-12-25 |
JP2855282B2 JP2855282B2 (ja) | 1999-02-10 |
Family
ID=14096403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9393990A Expired - Fee Related JP2855282B2 (ja) | 1990-04-11 | 1990-04-11 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2855282B2 (ja) |
-
1990
- 1990-04-11 JP JP9393990A patent/JP2855282B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |